PL203325B1

PL203325B1 - Sposób wytwarzania oszklenia oraz zagiętego albo zahartowanego oszklenia wyposażonego w wielowarstewkową powłokę i oszklenie oraz zagięte albo zahartowane oszklenie wyposażone w powłokę wielowarstewkową

Info

Publication number: PL203325B1
Application number: PL373454A
Authority: PL
Inventors: Daniel Decroupet; Jean-Michel Depauw
Original assignee: Agc Flat Glass Europe Sa
Priority date: 2002-06-17
Filing date: 2003-06-13
Publication date: 2009-09-30
Also published as: PL373454A1; AU2003250246A1; KR20050016559A; ES2362286T3; US20050208281A1; AU2003250246A8; EP1375445A1; WO2003106363A3; CN1314611C; EP1517866B2; EP1517866B1; KR100996329B1; WO2003106363A2; EP1517866A2; CN1668544A; RU2334706C2; DE60335368D1; RU2005100958A; ATE491676T1

Abstract

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania oszklenia wyposażonego w wielowarstewkową powłokę osadzoną drogą rozpylania katodowego, oszklenie wyposażone w powłokę wielowarstewkową i wygięte albo zahartowane oszklenie wyposażone w powłokę wielowarstewkową. Zgodnie z wynalazkiem osadza się co najmniej jedną pierwszą przezroczystą warstewkę dielektryczną, a następnie warstewkę funkcyjną opartą na materiale, który odbija promieniowanie podczerwone. Z kolei osadza się pierwszą warstewkę ochronną za pomocą materiału o grubości co najwyżej 3 nm, który ma różnicę elektroujemności względem tlenu mniejszą niż 1,9, a następnie drugą warstewkę ochronną za pomocą materiału o grubości co najwyżej 7 nm, który ma różnicę elektroujemności względem tlenu większą niż 1,4. Z kolei osadza się co najmniej jedną drugą przezroczystą warstewkę dielektryczną. Wynalazek jest szczególnie korzystny przy wytwarzaniu oszkleń o niskiej emisyjności albo oszkleń do ochrony przeciwsłonecznej, które wygina się albo hartuje po osadzeniu powłoki.

Description

Opis wynalazku

Przedmiotem wynalazku jest sposób wytwarzania oszklenia oraz zagiętego albo zahartowanego oszklenia wyposażonego w wielowarstewkową powłokę, a także oszklenie oraz zagięte albo zahartowane oszklenie wyposażone w wielowarstewkową powłokę, zwłaszcza podatną na obróbkę cieplną w podwyższonej temperaturze, przy czym wielowarstewkową powłokę osadza się na podłożu szklanym drogą napylania katodowego pod zmniejszonym ciśnieniem i jest ona podatna na obróbkę cieplną w podwyższonej temperaturze, taką jak operacja zginania, wyżarzania albo hartowania termicznego albo odpuszczania termicznego.

Znane są jednostki oszklenia wyposażone w wielowarstewkową powłokę, które stosuje się do polepszenia izolacji cieplnej dużych oszklonych powierzchni, a zatem zmniejszają one straty energii i koszty ogrzewania w okresie zimnej pogody. Powłoka wielowarstewkową jest powłoką o niskiej emisyjności i zmniejsza straty ciepła na skutek promieniowania podczerwonego o dużej długości fali. Takie jednostki oszklenia można stosować także jako ochronę przeciwsłoneczną w celu zmniejszenia ryzyka nadmiernego przegrzania na skutek promieniowania słonecznego w zamkniętej przestrzeni, która ma duże oszklone powierzchnie, a zatem pozwalają na zmniejszenie stosowania latem klimatyzacji powietrza.

Te jednostki oszklenia są przeznaczone do montażu w budynkach, jak również w pojazdach silnikowych. Czasami jest konieczne poddawanie oszklenia operacji wzmacniania mechanicznego, takiej jak hartowanie termiczne albo odpuszczanie termiczne, w celu polepszenia jego wytrzymałości na naprężenia mechaniczne. W sektorze samochodowym często konieczne jest na przykład zginanie oszklenia, zwłaszcza w celu nadania kształtu szybie przedniej.

W sposobach wytwarzania i kształtowania jednostek oszklenia zauważono korzyści wynikające z prowadzenia operacji odpuszczania i hartowania na podł o ż u, gdy jest ono już powleczone, zamiast powlekania podłoża, które zostało przedtem ukształtowane. Takie operacje prowadzi się jednak w stosunkowo wysokiej temperaturze, w której powłoka ma skłonność do uszkodzenia i traci swoje właściwości optyczne oraz swoje właściwości w odniesieniu do promieniowania podczerwonego.

Ustalono, że uszkodzenie powłoki wielowarstewkowej jest spowodowane czasami utlenianiem warstwy przeznaczonej do odbijania promieniowania podczerwonego w czasie obróbki cieplnej. Rozwiązanie, które często proponuje się w próbach uniknięcia tego problemu i utworzenia oszklenia, które ma wymagane cechy charakterystyczne po obróbce cieplnej, polega na zapewnieniu protektorowej warstewki metalu osadzonej korzystnie wewnątrz powłoki. Ten metal protektorowy utlenia się zamiast warstwy przeznaczonej do odbijania promieniowania podczerwonego i w ten sposób chroni ją.

Przykład tego rodzaju rozwiązania proponuje się w europejskim opisie patentowym nr EP 233 003 B1, z którego jest znane laminowanie warstewek opartych na srebrze, jako reflektorów podczerwieni, otoczonych przez tlenek cyny. Zgodnie z tym opisem przewiduje się dodatkową warstewkę metalu wybraną spośród glinu, tytanu, cynku i tantalu, osadzoną na warstewce srebra i ewentualnie także pod warstwą srebra. Ten dodatkowy metal wychwytuje tlen i utlenia się w czasie obróbki cieplnej, chroniąc zatem srebro przed utlenianiem.

W swojej postaci metalicznej dodatkowy metal wykazuje własnoś ci pochłaniające, co jest związane ze skłonnością do zmniejszania przepuszczalności powłoki. Pod kątem uzyskania wykończonego produktu o wysokiej przepuszczalności światła proponuje się zatem według rozwiązania przedstawionego w tym opisie patentowym stosowanie odpowiednio dostatecznej ilości metalu do ochrony warstewki srebra w czasie obróbki cieplnej, zapobiegając jednocześnie pozostawaniu dodatkowego metalu absorpcyjnego w wykończonym produkcie. Przewidywana ilość dodatkowego metalu zależy zatem od temperatury i czasu trwania obróbki cieplnej.

Za pomocą rozwiązania proponowanego w powyższym europejskim opisie patentowym nr EP 233 003 B1 trudno jest uzyskać produkt o stałej jakości w ciągu długiego okresu czasu, a w przypadku oszklenia o złożonym kształcie trudno jest uzyskać jednolitą jakość na całej powierzchni. Co więcej, gdy jest konieczne zginanie albo hartowanie jednostek oszklenia o różnych grubościach albo kształtach, to warunki temperaturowe i czasowe obróbki cieplnej muszą być modyfikowane, a zatem konieczna jest zmiana grubości warstwy dodatkowego metalu w celu przystosowania jej do tych zmian warunków obróbki.

Znane jest oszklenie ujawnione według patentu nr PL 190 502 posiadające wielowarstwową powłokę zawierającą liczne warstwy odbijające, na bazie srebra oraz dielektryczne warstwy tlenków metali naniesione na podłożu szklanym. Na każdej z warstw odbijających zawierających srebro nałoPL 203 325 B1 żona jest warstwa barierowa w celu zabezpieczenia tej warstwy przed utlenieniem. Taka warstwa barierowa może być utworzona z Ti, Nb, NiCr lub Zn, przy czym zgodnie z zalecanym przykładem wykonania na warstwę barierową stosuje się w szczególności tytan Ti.

Zgodnie z innym znanym rozwiązaniem według europejskiego zgłoszenia patentowego nr EP 304 234 A2 oszklenie pokryte jest przezroczystą powłoką ochronną, zawierająca folię tlenku metalu mającego właściwości barierowe, przy czym warstwę srebra lub tym podobną, stanowiącego jedną z wielu warstw tej powłoki w celu jej ochrony przed korozją pokrywa się warstwą barierową , stanowią cą część warstwy dielektrycznej, która zawiera tlenki co najmniej dwu metali, z których jeden Me (1) jest tytanem, cyrkonem lub hafnem, a drugi Me (2) jest cynkiem, cyną, indem lub bizmutem. Warstwa barierowa według tego rozwiązania nie jest przepuszczalna dla wilgoci i innych środków korozyjnych oraz jest amorficzna. Pomiędzy warstwami dielektrycznymi a warstwą funkcyjną (srebro) umieszczona jest cienka warstwa protektorowa tytanu w postaci metalicznej, która służy do ochrony warstwy srebra podczas nakładania warstw dielektrycznych zawierających tlenki metali, które to warstwy tlenków metali nakładane są drogą nanoszenia ze źródła metalicznego w atmosferze utleniającej. Naniesiona warstwa metalu protektorowego jest utleniania w miejsce warstwy srebra podczas nanoszenia dalszych warstw dielektrycznych i w ten sposób ochrania warstwę srebra przed jej utlenieniem podczas tej obróbki. Następnie formowana jest warstwa barierowa zawierająca dwa tlenki metali na tej warstwie metalu protektorowego w celu ochrony warstwy srebra przed korozją podczas transportu i składowania.

Zgodnie z tym rozwiązaniem warstwa barierowa jest warstwą amorficzną utworzoną w powłoce dielektrycznej, która nie jest zasadniczo przepuszczalna dla wilgoci i środków aktywnych chemicznie, na przykład korozyjnych. Jednakże powłoka według tego rozwiązania nie zapewnia możliwości poddawania oszklenia dalszej obróbce termicznej w podwyższonej temperaturze takiej jak zginanie lub odpuszczanie.

Kolejnym przykładem znanego oszklenia jest oszklenie ujawnione w amerykańskim opisie patentowym nr US 5,279,722, w którym ujawniono sposób wytwarzania szyby o wysokiej przezroczystości w zakresie światła widzialnego oraz wysokiej zdolności do odbijania promieniowania cieplnego (podczerwonego), w którym to sposobie nakłada się na podłoże pierwszą powłokę o grubości 20-60 nm z materiału grup tlenków ZnO, SnO2, In2O3, TiO2, SiO2, Al2O3 lub ich mieszanin albo jednego z azotków AlN,Si3N4, lub ich mieszanin, albo utlenionych azotków glinu, tytanu, cyrkonu, krzemu lub ich mieszanin. Następnie nakładana jest druga powłoka z jednego z metali, srebra lub miedzi lub ich mieszaniny, o grubości 5-30 nm, dalej trzecia powłoka składająca się z metali takich jak pallad i platyna lub ich mieszaniny o grubości 0,2-5 nm, następnie czwarta powłoka w postaci metalicznej lub subutlenionej zawierająca jeden z metali tytan lub chrom lub stop tych metali o zawartości co najmniej 15% jednego z nich o grubości 0,5-5 nm. Na koniec na oszkleniu osadza się piątą warstwę z metalu, która jest taką samą warstwą jak warstwa pierwsza.

Sposób wytwarzania oszklenia wyposażonego w wielowarstewkową powłokę, przy czym wielowarstewkową powłokę osadza się na podłożu szklanym drogą napylania katodowego pod zmniejszonym ciśnieniem, przy czym na podłożu osadza się co najmniej pierwszą przezroczystą warstewkę dielektryczną, a następnie osadza się warstewkę funkcyjną opartą na materiale odbijającym podczerwień, ponadto na tej warstewce funkcyjnej osadza się dwie warstewki ochronne, przy czym, korzystnie, co najmniej jedna z warstewek ochronnych zawiera nikiel względnie tytan, a następnie osadza się drugą przezroczystą warstewkę dielektryczną, według wynalazku charakteryzuje się tym, że w atmosferze zawierającej maksymalnie 20% tlenu pierwszą warstewkę ochronną o grubości geometrycznej maksymalnie 3 nm, składającą się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,9 i którego wartość elektroujemności jest mniejsza niż wartość elektroujemności materiału odbijającego podczerwień osadza się na warstewce funkcyjnej, a następnie w atmosferze zawierającej maksymalnie 50% tlenu osadza się drugą warstewkę ochronną o grubości geometrycznej maksymalnie 7 nm i składającą się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,4.

Korzystnie, stosuje się pierwszą warstewkę ochronną, która składa się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,8, a zwłaszcza mniejsza niż 1,7.

Korzystnie, stosuje się drugą warstewkę ochronną składającą się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,6, a zwłaszcza większa niż 1,8.

Korzystnie, wartość elektroujemności materiału pierwszej warstewki ochronnej jest co najmniej o 0,05 mniejsza niż wartość elektroujemnoś ci materiał u odbijają cego podczerwień .

PL 203 325 B1

Korzystnie, stosuje się materiał drugiej warstewki ochronnej mający wartość elektroujemności mniejszą niż wartość elektroujemności materiału pierwszej warstewki ochronnej.

Korzystnie, stosuje się materiał drugiej warstewki ochronnej mający wartość elektroujemności co najmniej o 0,1, a zwłaszcza co najmniej o 0,2 mniejszą niż wartość elektroujemności materiału pierwszej warstewki ochronnej.

Korzystnie, stosuje się warstewkę funkcyjną opartą na materiale odbijającym podczerwień, która jest warstewką opartą na Ag.

Korzystnie, stosuje się pierwszą warstewkę ochronną, która jest oparta na Ni.

Korzystnie, stosuje się pierwszą warstewkę ochronną, która jest oparta na NiCr, a zwłaszcza oparta na stopie NiCr 80/20.

Korzystnie, materiał drugiej warstewki ochronnej wybiera się spośród tytanu, glinu albo tantalu, a zwł aszcza tytanu.

Korzystnie, pierwszą warstewkę ochronną osadza się przy grubości wynoszącej od 0,5 do 2,5 nm, korzystnie od 0,5 do 2 nm, a zwłaszcza od 0,6 do 1,5 nm.

Korzystnie, drugą warstewkę ochronną osadza się przy grubości wynoszącej od 2 do 6 nm.

Korzystnie, materiał drugiej warstewki ochronnej osadza się w postaci metalu albo w postaci subutlenionej, przy czym jest ona wtedy utleniana za pomocą utleniającej plazmy następnej osadzonej warstewki.

Korzystnie, stosuje się drugą przezroczystą warstewkę dielektryczną, która jest oparta na pierwiastku innym niż materiał drugiej warstewki ochronnej.

Korzystnie, stosuje się co najmniej jedną z pierwszej i drugiej przezroczystej warstewki dielektrycznej zawierającą tlenek metalu oparty na cynku.

Korzystnie, tlenek metalu jest tlenkiem stopu opartego na cynku i cynie.

Korzystnie, stosuje się co najmniej jedną z pierwszej i drugiej warstewki dielektrycznej zawierającą dwie warstewki tlenku stopów opartych na cynku i cynie w różnych proporcjach.

Korzystnie, każda z pierwszej i drugiej warstewki dielektrycznej zawiera tlenek metalu oparty na cynku.

Korzystnie, osadza się co najmniej dwie warstewki funkcyjne oparte na materiale odbijającym podczerwień, a następnie osadza pierwszą i drugą warstewkę ochronną, przy czym pomiędzy warstewkami funkcyjnym osadza się co najmniej jedną pośrednią warstewkę dielektryczną.

Korzystnie, końcową warstewkę ochronną opartą na tytanie osadza się w celu zakończenia powłoki wielowarstewkowej.

Sposób wytwarzania zagiętego albo zahartowanego oszklenia wyposażonego w powłokę wielowarstewkową, według wynalazku charakteryzuje się tym, że powleczone podłoże otrzymane sposobem opisanym powyżej poddaje się następnie operacji zginania albo hartowania.

Oszklenie wyposażone w powłokę wielowarstewkową, oszklenie składa się z podłoża szklanego, na którym osadzona jest co najmniej jedna warstewka funkcyjna oparta na materiale odbijającym podczerwień, przy czym warstewka funkcyjna albo co najmniej jedna z warstewek funkcyjnych jest zamknięta co najmniej jedną przezroczystą warstewką dielektryczną, oraz warstewka funkcyjna jest pokryta dwiema warstewkami ochronnymi na swojej stronie licowej przeciwnej względem podłoża i stykają cej się z nią bezpoś rednio, przy czym, korzystnie, co najmniej jedna z warstewek ochronnych zawiera nikiel względnie tytan, według wynalazku charakteryzuje się tym, że pierwsza warstewka ochronna ma grubość geometryczną 3 nm maksymalnie i składa się z materiału opartego na metalu albo półmetalu w postaci metalu, azotku albo w postaci subutlenionej, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,9 i którego wartość elektroujemności jest mniejsza niż wartość elektroujemności materiału odbijającego podczerwień, zaś druga warstewka ochronna ma grubość geometryczną 7 nm maksymalnie i składa się z materiału opartego na metalu albo półmetalu w zasadzie w całkowicie utlenionej postaci, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,4 i który różni się od materiału przylegającej bezpośrednio do niej przezroczystej warstewki dielektrycznej.

Korzystnie, oszklenie zawiera co najmniej dwie warstewki funkcyjne, przy czym każda z warstewek funkcyjnych jest pokryta pierwszą i drugą warstewką ochronną.

Korzystnie, pierwsza warstewka ochronna albo co najmniej jedna z pierwszych warstewek ochronnych składa się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,8, a zwłaszcza mniejsza niż 1,7.

PL 203 325 B1

Korzystnie, druga warstewka ochronna albo co najmniej jedna z drugich warstewek ochronnych składa się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,6, a zwłaszcza większa niż 1,8.

Korzystnie, wartość elektroujemności materiału pierwszej warstewki ochronnej albo co najmniej jednej z pierwszych warstewek ochronnych jest co najmniej o 0,05 mniejsza niż wartość elektroujemności przylegającego do niej materiału odbijającego podczerwień.

Korzystnie, materiał drugiej warstewki ochronnej albo co najmniej jednej z drugich warstewek ochronnych ma wartość elektroujemności niższą niż wartość elektroujemności przylegającego do niej materiału pierwszej warstewki ochronnej.

Korzystnie, materiał drugiej warstewki ochronnej albo co najmniej jednej z drugich warstewek ochronnych ma wartość elektroujemności co najmniej o 0,1, a zwłaszcza o 0,2 mniejszą niż wartość elektroujemności przylegającego do niej materiału pierwszej warstewki ochronnej.

Korzystnie, warstewka funkcyjna albo co najmniej jedna z warstewek funkcyjnych jest oparta na Ag, zaś pierwsza warstewka ochronna albo warstewki ochronne są oparte na stopie Ni i Cr, a druga warstewka ochronna albo drugie warstewki ochronne są utworzone z tlenku tytanu.

Korzystnie, co najmniej jedna z warstewek dielektrycznych jest oparta na tlenku cynku.

Korzystnie, co najmniej jedna z warstewek dielektrycznych zawiera tlenek stopu cynku i cyny.

Korzystnie, każda z warstewek dielektrycznych zawiera tlenek stopu cynku i cyny.

Zagięte albo zahartowane oszklenie wyposażone w powłokę wielowarstewkową zawierające podłoże szklane, na którym jest osadzona co najmniej jedna warstewka funkcyjna oparta na materiale odbijającym podczerwień, przy czym warstewka funkcyjna albo co najmniej jedna z warstewek funkcyjnych jest zamknięta przezroczystymi warstewkami dielektrycznymi, według wynalazku charakteryzuje się tym, że na swojej stronie licowej przeciwnej względem podłoża i stykającej się z nią bezpośrednio warstewka funkcyjna jest pokryta pierwszą warstewką ochronną o grubości geometrycznej 3 nm maksymalnie i składającą się z materiału opartego na metalu albo półmetalu w postaci utlenionej albo subutlenionej, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,9, na której osadzona jest następnie druga warstewka ochronna o grubości geometrycznej 7 nm maksymalnie, składająca się z materiału opartego na metalu albo półmetalu w zasadzie w całkowicie utlenionej postaci, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,4 i który różni się od materiału przylegającej do niej bezpośrednio przezroczystej warstewki dielektrycznej.

Korzystnie, wartość elektroujemności materiału pierwszej albo co najmniej jednej z pierwszych warstewek ochronnych jest mniejsza niż wartość elektroujemności przylegającego do niej materiału odbijającego podczerwień, korzystnie co najmniej o 0,05.

Korzystnie, materiał drugiej albo co najmniej jednej z drugich warstewek ochronnych ma wartość elektroujemności niższą niż wartość elektroujemności materiału przylegającej do niej pierwszej warstewki ochronnej.

Korzystnie, materiał drugiej albo co najmniej jednej z drugich warstewek ochronnych ma wartość elektroujemności co najmniej o 0,1, a zwłaszcza co najmniej o 0,2 mniejszą niż wartość elektroujemności materiału przywierającej do niej pierwszej warstewki ochronnej.

Korzystnie, warstewka funkcyjna jest oparta na Ag, zaś pierwsza albo pierwsze warstewki ochronne są oparte na stopie Ni i Cr, a druga albo drugie warstewki ochronne są utworzone z tlenku tytanu, a ponadto co najmniej jedna z warstewek dielektrycznych zawiera tlenek oparty na cynku, a zwłaszcza tlenek oparty na stopie cynkowo-cynowym.

Oszklenie wyposażone w powłokę wielowarstewkową, zawierające podłoże szklane, na którym jest osadzona kolejno co najmniej pierwsza przezroczysta warstewka dielektryczna, warstewka funkcyjna oparta na srebrze, dwie warstewki ochronne oraz druga przezroczysta warstewka dielektryczna, przy czym, korzystnie, co najmniej jedna z warstewek ochronnych zawiera nikiel względnie tytan, według wynalazku charakteryzuje się tym, że pierwsza warstewka ochronna w bezpośredniej styczności

PL 203 325 B1 z warstewką funkcyjną jest oparta na stopie niklu w postaci metalu, azotku, utlenionej albo subutlenionej, druga warstewka ochronna naniesiona na pierwszą warstewkę ochronną i będąca z nią w bezpośredniej styczności jest oparta na tlenku tytanu, zaś druga przezroczysta warstewka dielektryczna składa się z materiału różniącego się od materiału przylegającej bezpośrednio do niej drugiej warstewki ochronnej.

Korzystnie, druga warstewka ochronna ma grubość geometryczną 7 nm maksymalnie.

Korzystnie, pierwsza warstewka ochronna ma grubość geometryczną 3 nm maksymalnie.

Korzystnie, pierwsza warstewka ochronna jest oparta na stopie niklu i chromu.

Korzystnie, co najmniej jedna z przezroczystych warstewek dielektrycznych jest oparta na tlenku cynku.

Korzystnie, co najmniej jedna z przezroczystych warstewek dielektrycznych jest oparta na tlenku cynku i cyny.

Korzystnie, oszklenie jest poddane obróbce cieplnej, takiej jak hartowanie albo zginanie, przy czym pierwsza warstewka ochronna oparta na stopie niklowym, a zwłaszcza na niklu i chromie, jest utleniona przynajmniej częściowo na skutek tej obróbki cieplnej.

Korzystnie, na podłożu szklanym osadzone są co najmniej dwie warstewki funkcyjne oparte na srebrze i oddzielone za pomocą co najmniej jednej pośredniej warstewki dielektrycznej, przy czym pierwsza i druga warstewka ochronna jest osadzona na i w bezpośredniej styczności z każdą z warstewek funkcyjnych.

Korzystne skutki rozwiązania według wynalazku w odniesieniu do sposobu wytwarzania oszklenia wyposażonego w powłokę wielowarstewkową, w którym wymienioną powłokę wielowarstewkową osadza się na podłożu szklanym drogą napylania katodowego pod zmniejszonym ciśnieniem, wynikają z faktu, że na podłożu osadza się co najmniej pierwszą przezroczystą warstewkę dielektryczną, a nastę pnie warstewkę funkcyjną opartą na materiale odbijają cym podczerwień oraz w atmosferze zawierającej maksymalnie 20% tlenu na wymienionej warstewce funkcyjnej osadza się pierwszą warstewkę ochronną o grubości geometrycznej maksymalnie 3 nm i składającą się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,9 i którego wartość elektroujemności jest mniejsza niż wartość wymienionego materiału odbijającego podczerwień, a następnie w atmosferze zawierającej maksymalnie 50% tlenu osadza się drugą warstewkę ochronną o grubości geometrycznej maksymalnie 7 nm i składającą się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,4, przy czym osadza się wtedy co najmniej drugą przezroczystą warstewkę dielektryczną.

Wartości elektroujemności pierwiastków, takich jak pierwiastki stosowane zgodnie z niniejszym wynalazkiem, są średnimi wartościami według skali Paulinga, i uzyskuje się je z danych termochemicznych. Dla jasności wartości elektroujemności dla niektórych pierwiastków są zebrane niżej, jak następuje:

Ag	1,93	Au 2,54	Pd 2,20	Pt 2,28
Al	1,61	O2 3,44	Si 1,90	Ti 1,54
Cr	1,66	Ni 1,90	Cu 1,65	Zn 1,81
Zr	1,33	Sn 1,96	Sb 2,05	Pb 2,33
Bi	2,02	Ta 1,5	Hf 1,3	In 1,78

Zaletą zastosowania przezroczystych warstewek dielektrycznych jest po pierwsze zmniejszenie odbijania światła przez powłokę na skutek zjawiska interferencji, ponieważ warstewka funkcyjna oparta na materiale, który odbija promieniowanie podczerwone, ma skłonność do odbijania także promieniowania widzialnego. Sprzyjają one tworzeniu oszklenia odbijającego podczerwień z wysoką przepuszczalnością światła. Te przezroczyste warstewki dielektryczne zapewniają także pewną ochronę warstewki funkcyjnej przed zewnętrznymi fizycznymi albo chemicznymi naprężeniami, a warstewka osadzona na podłożu przyczynia się korzystnie do poprawy przyczepności powłoki do oszklenia. Te przezroczyste warstewki dielektryczne mają także wpływ na odcień przy przepuszczaniu i odbijaniu promieniowania przez otrzymany produkt.

PL 203 325 B1

Zgodnie z wynalazkiem materiał pierwszej warstewki ochronnej osadzonej bezpośrednio na warstewce funkcyjnej ma ograniczone powinowactwo względem tlenu, ponieważ różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,9, zachowując jednocześnie wyższe powinowactwo względem tlenu niż materiał odbijający promieniowanie podczerwone, zapobiegając przechodzeniu tlenu do wymienionego materiału. Jest to sprzeczne z wiedzą według stanu techniki, ponieważ informuje ona nas, że warstewka funkcyjna musi być zabezpieczona przez warstewkę o większym powinowactwie do tlenu, taką jak Ti albo Ta, które będą pochłaniać tlen zapobiegając utlenianiu warstewki funkcyjnej, a zatem tracąc swoje istotne właściwości.

Nieoczekiwanie ustalono, że wynalazek umożliwia sposób wytwarzania, który sprzyja tworzeniu oszklenia o trwałej i jednolitej jakości. Sposób według wynalazku umożliwia otrzymywanie oszklenia wyposażonego w wielowarstewkową powłokę, które nadaje się szczególnie do zasilania linii produkcyjnej, w której musi być ono poddawane obróbce cieplnej w wyższej temperaturze, takiej jak operacja zginania, wyżarzania albo hartowania termicznego. W rzeczywistości, nawet jeżeli warunki czasowe i temperaturowe obróbki cieplnej musia ł yby być znacznie zmienione w czasie przebiegu produkcji albo z jednego cyklu produkcyjnego do drugiego, to te zmiany miałyby znacznie mniejszy wpływ na optyczne i termiczne właściwości wykończonego oszklenia niż według stanu techniki, a faktycznie bez żadnego wpływu, jeżeli dobiera się odpowiednio strukturę powłoki. Stąd sposób według wynalazku eliminuje konieczność modyfikowania struktury powłoki zgodnie z cechami charakterystycznymi obróbki cieplnej, której musi podlegać oszklenie.

Inna zaleta wynalazku polega na tym, że przez odpowiedni dobór przezroczystych warstewek dielektrycznych sposób według wynalazku umożliwia otrzymanie oszklenia wyposażonego w wielowarstewkową powłokę, w której istnieje mała albo nieznaczna zmiana właściwości optycznych w czasie obróbki cieplnej. Zatem oszklenie, które poddano obróbce cieplnej mogłoby być umieszczone oprócz oszklenia, które pochodziło z tego samego sposobu wytwarzania według wynalazku, lecz nie podlegało obróbce cieplnej, nie różniąc się estetycznie w sposób niepożądany.

Przyczyna tego nieoczekiwanego zjawiska nie jest w pełni zrozumiała, przy czym jednak uważa się, że dołączenie pierwszej i drugiej warstewki ochronnej do warstewki funkcyjnej w warunkach podanych zgodnie z wynalazkiem odgrywa fundamentalną rolę. Uważa się zwłaszcza, że ponieważ materiał pierwszej warstewki ochronnej ma stosunkowo niskie powinowactwo do tlenu, to stopień jego utlenienia nie zmienia się nagle, nie osiąga zbyt szybko nasycenia i tworzy stabilny ekran dla warstwy funkcyjnej. Ponieważ jest ona cienka, a jej grubość nie przekracza 3 nm, to pierwsza warstewka ochronna może mieć ograniczony wpływ na absorpcję powłoki i łatwiej jest uzyskać poziom utlenienia, który jest wystarczający dla dobrej przezroczystości. Zatem pierwsza warstewka ochronna odgrywa stabilizujący wpływ na właściwości powłoki, a materiał drugiej warstewki ochronnej ma wystarczające powinowactwo do tlenu, aby mieć skłonność do zatrzymywania swojego tlenu i nie oddzielać się od niego zbyt łatwo, co umożliwia stosowanie małej grubości pierwszej warstewki ochronnej.

Pierwsza warstewka ochronna składa się korzystnie z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,8, a zwłaszcza mniejsza niż 1,7. Przez dostosowanie takich różnic elektroujemności względem tlenu istnieje skłonność do zwiększania stabilizującego efektu pierwszej warstewki.

Druga warstewka ochronna składa się korzystnie z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,6, a zwłaszcza większa niż 1,8, co zwiększa przyciąganie drugiej warstewki do tlenu, tak że zatrzymuje ona łatwiej swój tlen w czasie obróbki cieplnej, a zatem zapobiega dyfuzji tlenu w kierunku warstewki funkcyjnej.

Wartość elektroujemności materiału pierwszej warstewki ochronnej jest korzystnie co najmniej o 0,05 mniejsza niż materiał u odbijającego podczerwień , co zmniejsza ryzyko przechodzenia tlenu z pierwszej warstewki ochronnej w kierunku warstewki funkcyjnej w czasie obróbki cieplnej.

Materiał drugiej warstewki ochronnej ma wartość elektroujemności co najmniej o 0,1, a zwłaszcza co najmniej o 0,2 mniejszą niż wartość elektroujemności materiału pierwszej warstewki ochronnej.

Ustalono, że fakt, iż materiał, którego wartość elektroujemności jest mniejsza niż wartość elektroujemności pierwszej warstewki ochronnej, stosuje się jako materiał drugiej warstewki ochronnej, zwiększa korzystny efekt wynalazku. Uważa się, że różnica wartości elektroujemności pomiędzy tymi dwoma materiałami zmniejsza ryzyko przechodzenia tlenu w kierunku warstewki funkcyjnej w czasie obróbki termicznej, ponieważ druga warstewka ochronna ma wyższe powinowactwo do tlenu niż pierwsza warstewka ochronna oraz ponieważ druga warstewka ochronna ma zatem skłonność do łatwiejszego zatrzymywania tlenu.

PL 203 325 B1

Warstewka funkcyjna oparta na materiale odbijającym podczerwień jest warstewką metaliczną, na przykład opartą na glinie, miedzi, cynku, niklu albo na metalu szlachetnym, takim jak złoto, srebro, platyna albo pallad. Materiał odbijający podczerwień jest korzystnie materiałem opartym na srebrze. Srebro jest materiałem, który dobrze nadaje się jako warstewka funkcyjna, ponieważ ma doskonałe właściwości związane z odbijaniem podczerwieni w stosunku do swojej ceny sprzedaży i łatwości stosowania w urządzeniach do osadzania warstewki drogą rozpylania katodowego pod zmniejszonym ciśnieniem. Srebro może być srebrem czystym, stopem srebra, na przykład z miedzią, glinem, albo srebrem z małą ilością, rzędu od 0,5 do 5% palladu, miedzi, glinu, złota albo platyny, a zwłaszcza palladu.

Pierwsza warstewka ochronna może być materiałem wybranym na przykład spośród cynku, miedzi, niklu, chromu, indu, stali nierdzewnej albo cyny i ich stopów, w stanie metalicznym albo subutlenionym.

Pierwsza warstewka ochronna jest stopem opartym na Ni, a zwłaszcza opartym na NiCr. Stopem, który jest szczególnie dobrze przydatny, jest stop NiCr 80/20. Stop Ni można osadzać w stanie czystego metalu albo w stanie subutlenionym albo w postaci azotku albo w postaci tlenoazotku. Ustalono, że ten materiał szczególnie dobrze nadawał się do tworzenia stabilizującej pierwszej warstewki ochronnej o bardzo małej grubości, która sprzyja tworzeniu oszklenia o bardzo wysokiej przepuszczalności światła.

Materiał drugiej warstewki ochronnej wybiera się korzystnie spośród tytanu, glinu albo tantalu i ich stopów, a zwł aszcza tytanu. Te pierwiastki silnie zatrzymują tlen i tworzą przezroczyste tlenki, a zatem dla celów niniejszego wynalazku są najbardziej odpowiednie jako druga warstewka ochronna.

Pierwszą warstewkę ochronną osadza się korzystnie przy grubości wynoszącej od 0,5 do 2,5 nm, jeszcze korzystniej od 0,5 do 2 nm, a zwłaszcza od 0,6 do 1,5 nm, co zapewnia najlepszy efekt stabilizujący, który omówiono wyżej.

Drugą warstewkę ochronną osadza się korzystnie przy grubości wynoszącej od 2 do 6 nm. Ustalono, że ten przedział grubości materiału drugiej warstewki ochronnej był korzystny dla zatrzymywania tlenu i ochrony warstewki funkcyjnej.

Materiał drugiej warstewki funkcyjnej można osadzać w postaci metalu albo podtlenku z tarczy metalowej w obojętnej albo lekko utleniającej atmosferze. Materiał można osadzać także z tarczy ceramicznej utworzonej przez tlenek metalu w stosunkowo obojętnej atmosferze, na przykład w atmosferze zawierającej od 10 do 20% tlenu przy czym resztę stanowi argon. Materiał jest wtedy korzystnie w zasadzie cał kowicie utleniany przez plazmę utleniaj ą c ą w czasie osadzania tlenku metalu stanowią cego część drugiej przezroczystej warstewki dielektrycznej, tak że jest on przezroczysty po osadzeniu, co ułatwia uzyskanie wysokiej przepuszczalności światła. Po osadzeniu całej powłoki drugą warstewkę ochronną tworzy się korzystnie z TiO2, Ta2O5 albo AI2O3.

Jeżeli następna warstewka jest warstewką dielektryczną osadzoną w aktywnej atmosferze azotu albo mieszaniny azot-tlen, to druga warstewka ochronna mogłaby być azotkiem albo tlenoazotkiem, na przykład po osadzeniu powłoki, takiej jak AIN albo AlNxOy, które są przezroczyste.

Jeżeli zamierzonym celem pod kątem końcowych właściwości optycznych wytworzonego oszklenia jest niższa przepuszczalność światła, to druga warstewka ochronna może pozostawać częściowo pochłaniające i zawierać związki pochłaniające, takie jak TiN albo CrN, albo związki odbijające, takie jak ZrN.

Pierwiastki opisane dla drugiej warstewki ochronnej mają wyższe powinowactwo względem tlenu niż względem azotu. Nawet wtedy, gdy są one częściowo albo całkowicie przekształcone w azotek, to zachowują swoje powinowactwo względem tlenu, a zatem mogą wychwytywać i zatrzymywać tlen.

Materiał drugiej warstewki ochronnej osadza się jednak korzystnie w postaci metalu albo postaci subutlenionej i jest on utleniany całkowicie przez utleniającą plazmę osadzonej następnej warstewki. Stąd możliwe jest osadzanie tlenku z tarczy metalowej z utworzeniem drugiej przezroczystej warstewki dielektrycznej.

Druga przezroczysta warstewka dielektryczna jest oparta korzystnie na innym pierwiastku niż materiał drugiej warstewki ochronnej, co ułatwia wybór pierwiastków, które specyficznie nadają się lepiej do pełnienia różnych ról przez dwie różne warstewki.

Pierwszą i drugą przezroczystą warstewkę dielektryczną można tworzyć z zastosowaniem każdego przezroczystego tlenku, węglika, tlenowęglika, azotku albo tlenoazotku, stosowanych w sposób znany jako taki w dziedzinie powłok tworzonych drogą napylania katodowego pod zmniejszonym ciśnieniem. W szczególności można wymienić następujące związki: azotki, tlenoazotki albo tlenki krzePL 203 325 B1 mu, chromu, cyrkonu albo glinu, węgliki albo tlenowęgliki tytanu, tantalu albo krzemu, węgliki albo tlenowęgliki chromu, tlenki cyny, cynku, tytanu, bizmutu, magnezu, tantalu, niobu, indu, a także stopy tych różnych pierwiastków. Niektóre pierwiastki można także korzystnie domieszkować, na przykład tlenek cynku albo krzemu domieszkować za pomocą glinu.

Co najmniej jedna spośród pierwszej i drugiej przezroczystej warstewki dielektrycznej zawiera tlenek metalu oparty na cynku. Gdy jako materiał odbijający podczerwień stosuje się srebro, to ten tlenek metalu ma korzystny efekt pasywacji srebra, co powoduje na przykład większą odporność warstewki funkcyjnej na rozkład chemiczny w czasie obróbki termicznej. Cynk jest także metalem, który dobrze nadaje się do napylania katodowego pod zmniejszonym ciśnieniem.

Wymieniony tlenek metalu jest korzystnie tlenkiem stopu opartego na cynku i cynie. Jak wskazano wyżej, szczególnie korzystny jest tlenek cynku, przy czym jednak przy większej grubości ma on skłonność do porowatości. Szczególnie korzystny jest stop cynkowo-cynowy, ponieważ zmniejsza on tę skłonność. Co najmniej jedna z pierwszej i drugiej warstewki dielektrycznej zawiera korzystnie dwie warstewki stopów opartych na cynku i cynie w różnych proporcjach, co umożliwia pożądane przystosowanie udziału cynku w stopie, tak że dielektryk położony najbliżej warstewki funkcyjnej ma najwyższą koncentrację cynku, co sprzyja korzystnemu efektowi stosowania cynku, oraz że druga część dielektryku ma niższą koncentrację cynku, co zmniejsza ryzyko porowatości warstewki.

Każda z pierwszej i drugiej warstewki dielektrycznej zawiera tlenek metalu oparty na cynku, a zatem korzystny efekt stosowania cynku rozciąga się lepiej na całą powłokę.

W powyższym tekście odniesienie nastę puje tylko do pojedynczej warstewki funkcyjnej. Ten rodzaj powłoki umożliwia otrzymanie jednostek oszklenia o niskiej emisyjności, które są bardzo użyteczne przy łatwym otrzymywaniu izolacji cieplnej w okresach zimnej pogody. Tworząc grubszą warstewkę funkcyjną możliwe jest także otrzymanie oszklenia dla większej ochrony przeciwsłonecznej. Przy tym jednak, gdy wymaga się zwiększenia ochrony przeciwsłonecznej, zachowując jednocześnie wysoką przepuszczalność z estetycznym wyglądem, jak jest to na ogół w przypadku przedniej szyby pojazdu silnikowego, to konieczne jest osadzanie dwóch, a nawet trzech warstewek funkcyjnych. Stąd w korzystnym rozwiązaniu sposobu według wynalazku osadza się co najmniej dwie warstewki funkcyjne oparte na materiale odbijającym podczerwień, a następnie pomiędzy wymienionymi warstewkami dielektrycznymi osadza się co najmniej jedną pośrednią warstewkę dielektryczną.

Powłokę wielowarstewkową kończy się korzystnie osadzeniem cienkiej końcowej warstewki ochronnej opartej na chromie, molibdenie, stali nierdzewnej, niklu albo tytanie oraz ich stopach, a zwłaszcza opartej na tytanie, co zapewnia skuteczną ochronę przed zadrapaniami.

Wynalazek obejmuje także sposób wytwarzania wygiętego albo zahartowanego oszklenia wyposażonego w wielowarstewkową powłokę, charakteryzujący się tym, że podłoże powleczone opisanym wyżej sposobem poddaje się następnie operacji zginania albo hartowania.

Przedmiotem wynalazku jest również oszklenie wyposażone w powłokę wielowarstewkową, charakteryzujące się tym, że oszklenie zawiera podłoże szklane, na którym osadza się co najmniej jedną warstewkę funkcyjną opartą na materiale odbijającym podczerwień, przy czym warstewka funkcyjna albo co najmniej jedna z warstewek funkcyjnych jest zamknięta co najmniej jedną przezroczystą warstewką dielektryczną, oraz że na swojej powierzchni licowej przeciwnej względem podłoża i stykającą się z nią bezpośrednio wymieniona warstewka funkcyjna jest pokryta pierwszą warstewką ochronną o maksymalnej grubości geometrycznej 3 nm i składającą się z materiału opartego na metalu albo półmetalu w postaci metalicznej, w postaci azotku albo w postaci subutlenionej, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,9 i którego wartość elektroujemności jest mniejsza niż wartość elektroujemności materiału odbijającego podczerwień, a następnie osadza drugą warstewkę ochronną o maksymalnej grubości geometrycznej 7 nm i składającą się z materiału opartego na metalu albo półmetalu w zasadzie w całkowicie utlenionej postaci, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,4 i który różni się od materiału przylegającej bezpośrednio do niej przezroczystej warstewki dielektrycznej.

Przedmiotem wynalazku jest także wygięte albo zahartowane oszklenie wyposażone w wielowarstewkową powłokę, charakteryzujące się tym, że oszklenie ma podłoże szklane, na którym osadza się co najmniej jedną warstewkę funkcyjną opartą na materiale odbijającym podczerwień, przy czym warstewka funkcyjna albo co najmniej jedna z warstewek funkcyjnych jest zamknięta co najmniej jedną przezroczystą warstewką dielektryczną, ponadto na swojej powierzchni licowej, przeciwnej względem podłoża i stykającej się z nią bezpośrednio, wymieniona warstewka funkcyjna jest pokryta pierwszą warstewką ochronną o maksymalnej grubości geometrycznej i składającą się z materiału opartego

PL 203 325 B1 na metalu albo półmetalu w utlenionej albo subutlenionej postaci, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,9, a następnie osadza drugą warstewkę ochronną o maksymalnej grubości geometrycznej 7 nm składającą się z materiału opartego na metalu albo półmetalu w zasadzie w całkowicie utlenionej postaci, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,4 i który różni się od materiału przywierającej do niej bezpośrednio przezroczystej warstewki dielektrycznej. Zgodnie z tym aspektem wynalazku przez wygięte albo zahartowane oszklenie wyposażone w powłokę wielowarstewkową należ y rozumieć obróbkę cieplną przy hartowaniu albo zginaniu, która miała miejsce po operacji osadzania warstewki, a zatem procesowi hartowania albo zginania poddano podłoże, które jest już powleczone.

Omówione wyżej cechy dotyczące struktury, składu i kolejności różnych warstewek w odniesieniu do sposobu według wynalazku stosują się także do szczegółów dotyczących jednostek oszklenia przed i po obróbce cieplnej.

Korzystne i zalecane praktyczne przykłady wykonania według wynalazku zostały opisane poniżej jako kilka nieograniczających rozwiązań przykładów.

P r z y k ł a d 1

Taflę ze zwykłego szkła sodowo-wapniowego o wielkości 2 m x 1 m i grubości 4 mm umieszcza się w urządzeniu do katodowego napylania pod zmniejszonym ciśnieniem typu magnetronu. Szkło wprowadza się najpierw do pierwszej komory napylającej, w której atmosfera jest utworzona z 20% argonu i 80% tlenu pod silnie zmniejszonym ciśnieniem w porównaniu do ciśnienia atmosferycznego. Na tafli szklanej osadza się najpierw pierwszą przezroczystą warstewkę dielektryczną. Stosując katodę ze stopu cynkowo-cynowego zawierającego 53% cynku i 48% cyny osadza się najpierw warstewkę ZnSnOx o grubości 20 nm. W podobnej atmosferze osadza się wtedy na warstewce ZnSnOx drugą warstewkę ZnSnOx o grubości 12 nm, pracując elektrodą ze stopu cynkowo-cynowego utworzonego z 90% cynku i 10% cyny. Tafla szklana przechodzi wtedy do drugiej komory napylają cej, w której atmosfera składa się ze 100% argonu. Na warstewce ZnSnOx osadza się warstewkę funkcyjną utworzoną z 10 nm srebra, pracując z elektrodą wykonaną praktycznie z czystego srebra. W tej samej atmosferze na srebrze osadza się następnie pierwszą warstewkę ochronną, przy czym w niniejszym przykładzie ta pierwsza warstewka ochronna jest warstewką NiCr o grubości 1 nm, pracując z elektrodą ze stopu utworzonego z 80% Ni i 20% Cr. Z kolei w atmosferze 10% tlenu i 90% argonu na warstewce NiCr osadza się drugą warstewkę ochronną utworzoną w tym przypadku z warstewki TiOx o grubości 5 nm, pracując z elektrodą ceramiczną z TiOx, przy czym x wynosi od 1,6 do 1,9. W innej komorze, w której atmosfera jest atmosferą utleniającą, to jest składającą się z 80% tlenu i 20% argonu, na warstewce TiOx osadza się wtedy drugą przezroczystą warstewkę dielektryczną. W tym celu osadza się najpierw warstewkę ZnSnOx o grubości 10 nm, pracując z metalową elektrodą ze stopu ZnSn utworzonego z 90% Zn i 10% Sn. Należy nadmienić, że utlenianie dolnej warstewki TiOx uzupełnia utleniająca atmosfera plazmy, tak że pod koniec procesu osadzania warstewki ZnSnOx tytan jest w zasadzie całkowicie utleniony tworząc zwartą barierę TiO2. Po osadzeniu drugiej przezroczystej warstewki dielektrycznej następuje osadzanie warstewki ZnSnOx o grubości 15 nm w atmosferze 80% tlenu i 20% argonu, pracując z elektrodą ze stopu ZnSn utworzonego z 52% Zn i 48% Sn. Następnie powłokę wykończa się drogą osadzenia końcowej warstewki ochronnej TiOx o grubości 3 nm. Należy nadmienić, że wszystkie warstewki ZnSnOx utleniają się dostatecznie, tak aby były możliwie przezroczyste.

Gdy oszklenie wychodzi z urządzenia do osadzania warstewki, to świeżo powleczone oszklenie ma następujące właściwości, patrząc od strony warstewki:

TL = 80%, L = 23%, a = -2, b = -13, emisyjność = 0,08

Powleczone oszklenie poddaje się operacji hartowania termicznego, w czasie której poddaje się je działaniu temperatury 690°C w ciągu 4 minut, a następnie chłodzi nagle strumieniami zimnego powietrza. W czasie tej obróbki cieplnej warstewka NiCr utlenia się dostatecznie, aby być przezroczysta, tworząc także jednocześnie skuteczny i trwały ekran zabezpieczający srebro. Wydaje się, że warstewka TiO2 zatrzymuje z kolei swój tlen, ponieważ, jak będzie widać niżej we właściwościach powłoki po hartowaniu, warstewka srebra nie utlenia się pomimo bardzo cienkiej warstewki NiCr. Stąd połączenie pierwszej i drugiej warstewki ochronnej ma szczególnie korzystny wpływ na funkcyjną warstewkę srebra.

Po tej obróbce powleczone i zahartowane oszklenie ma następujące właściwości patrząc od strony warstewki:

PL 203 325 B1

TL = 88%, L = 24,4, a = -1,6, b = -8,6, emisyjność = 0,05. Elektryczna powierzchniowa rezystywność powłoki wynosi 3,8 oma na kwadrat (jednostkę pola powierzchni), a współczynnik k (wartość U) jest mniejszy niż 1,2 W/m².K.

To powleczone oszklenie montuje się następnie jako oszklenie podwójne z inną taflą przezroczystego szkła o grubości 4 mm, przy czym powłokę umieszcza się po stronie wewnętrznej przestrzeni podwójnego oszklenia. Następujące właściwości notuje się, gdy na podwójne oszklenie patrzy się od strony warstewki umieszczonej w położeniu 3, to jest gdy widzi się najpierw taflę szkła przezroczystego bez warstewki, a następnie oszklenie wyposażone w powłokę, patrząc od strony warstewki:

TL = 79,2%, L = 34,5, a = -1,4, b = -4.

W tym przykł adzie, tak jak w nastę pnie opisanych przykł adach, jeż eli nie wskazano inaczej, przepuszczalności światła (TL) ustala się w odniesieniu do źródła oświetlenia C, a wartości L, a i b są wartościami według systemu Lab Huntera.

Jako wariant drugą warstewkę ochronną TiO2 osadzano z elektrody metalowej w atmosferze 20% tlenu zamiast stosowania elektrody ceramicznej, przy czym wszystkie pozostałe czynniki pozostają takie same. Właściwości uzyskane dla powlekanego oszklenia są identyczne.

P r z y k ł a d 2

Osadzanie powłoki prowadzi się drogą procesu osadzania identycznego we wszystkich przykładach wykonania procesu opisanego w przykładzie 1 z tym wyjątkiem, że prowadzi się go na tafli szklanej, która ma grubość 6 mm zamiast 4 mm.

Oszklenie wyposażone w swoją powłokę poddaje się operacji hartowania termicznego, w czasie której poddaje się je działaniu temperatury 690°C w ciągu 6 minut, a następnie nagle chłodzi strumieniami zimnego powietrza. Po tej obróbce powleczone i zahartowane oszklenie ma następujące właściwości patrząc od strony warstewki:

TL = 87,4%, L = 23,1, a = -1,3, b = -8,9, emisyjność = 0,05, przy czym elektryczna rezystywność powierzchniowa powłoki wynosi 3,7 oma na kwadrat (na jednostkę pola powierzchni).

To powleczone oszklenie montuje się następnie jako podwójne oszklenie z inną taflą przezroczystego szkła o grubości 4 mm, przy czym powłokę umieszcza się po stronie wewnętrznej przestrzeni podwójnego oszklenia. Następujące właściwości notuje się, gdy patrzy się na podwójne oszklenie od strony warstewki osadzonej w położeniu 3:

TL = 77,8%, L = 34,0, a = -1,2, b = -4,2

Porównując przykłady 1 i 2 ustalono, że z tym samym procesem osadzania warstewki, z tą samą strukturą powłoki zmiana warunków temperatury i czasu trwania operacji hartowania termicznego pomiędzy dwoma porównywalnymi przykładami nie zmieniła w sposób znaczący właściwości optycznych, kolorymetrycznych i termicznych. Sposób według wynalazku umożliwia zatem tworzenie trwałej powłoki, która jest w małym stopniu zależna od obróbki cieplnej, której się ją poddaje.

P r z y k ł a d 3

Osadzanie powłoki prowadzi się drogą procesu osadzania identycznego we wszystkich przykładach z procesem opisanym w przykładzie 1 z tym wyjątkiem, że prowadzi się go na tafli szklanej, która ma grubość 8 mm zamiast 4 mm.

Oszklenie wyposażone w powłokę poddaje się operacji hartowania termicznego, w czasie której poddaje się je działaniu temperatury 690°C w ciągu 8 minut, a następnie nagle chłodzi strumieniami zimnego powietrza. Po tej obróbce powleczone i zahartowane szkło ma następujące właściwości patrząc od strony warstewki:

TL = 96,4%, L = 33,2, a = -1,6, b = -9,4, emisyjność = 0,05, przy czym elektryczna rezystywność powierzchniowa powłoki wynosi 3,6 oma na kwadrat (na jednostkę powierzchni).

To powleczone oszklenie montuje się wtedy jako oszklenie podwójne z inną taflą przezroczystego szkła o grubości 4 mm, przy czym powłokę umieszcza się po stronie wewnętrznej przestrzeni podwójnego oszklenia. Następujące właściwości notuje się, gdy na podwójne oszklenie patrzy się od strony warstewki umieszczonej w położeniu 3:

TL = 77,4%, L = 34,0, a = -1,2, b = -4,0.

Porównując przykłady 1 i 3 ustalono, że z tym samym procesem osadzania warstewki o tej samej strukturze powłoki zmiana warunków temperatury i czasu trwania operacji hartowania termicznego pomiędzy dwoma przykładami nie zmieniła znacząco właściwości optycznych, kolorymetrycznych i termicznych, chociaż okres działania wyż szej temperatury był podwojony. Sposób według wynalazku

PL 203 325 B1 umożliwia zatem tworzenie trwałej powłoki, która jest w małym stopniu zależna od obróbki cieplnej, której się ją poddaje.

P r z y k ł a d 4

W urządzeniu typu magnetronu do napylania katodowego pod zmniejszonym ciśnieniem powłokę osadza się na tafli szkła o grubości 6 mm w następującej kolejności. Osadza się pierwszą przezroczystą warstewkę dielektryczną, którą tworzy się z warstewki azotku glinu o grubości 10 nm, a następnie warstewkę tlenku cynku o grubości 20 nm domieszkowanego za pomocą 5% glinu. Azotek glinu osadza się z elektrody glinowej w atmosferze złożonej z 60% argonu i 40% azotu. Tlenek cynku osadza się z elektrody cynkowej domieszkowanej za pomocą 5% glinu w atmosferze utworzonej z 70% tlenu i 30% argonu. Nastę pnie w atmosferze oboję tnej, utworzonej z 95% argonu i 5% tlenu, osadza się warstewkę funkcyjną, która jest utworzona z 10,5 nm srebra domieszkowanego za pomocą 1% palladu. W tej samej obojętnej atmosferze osadza się pierwszą warstewkę ochronną utworzoną z 0,8 nm cynku, a następnie drugą warstewkę ochronną utworzoną z 4 nm tantalu. Z kolei osadza się drugą przezroczystą warstewkę dielektryczną utworzoną z 15 nm tlenku cynkowego domieszkowanego za pomocą 5% glinu, a następnie 17 nm azotku krzemu. Tlenek cynku domieszkowany glinem osadza się w atmosferze utleniającej złożonej z 70% O2 i 30% Ar, a Si3N4 osadza się w atmosferze 40% argonu i 60% azotu.

Właściwości powleczonego oszklenia po osadzeniu są jak następuje patrząc od strony warstewki:

TL = 84%, L = 25, a = 0, b = -12, emisyjność = 0,06.

To powleczone oszklenie montuje się następnie w postaci oszklenia podwójnego z inną taflą przezroczystego szkła o grubości 6 mm, przy czym powłokę umieszcza się po stronie wewnętrznej przestrzeni podwójnego oszklenia. Notuje się następujące właściwości patrząc na oszklenie od strony warstewki umieszczonej w położeniu 3:

TL = 75%, L = 36, a = 0, b = -6.

Pojedyncze oszklenie wyposażone w swoją powłokę poddaje się operacji hartowania termicznego, w czasie której poddaje się je działaniu temperatury 690°C w ciągu 6 minut, a następnie gwałtownie chłodzi strumieniami zimnego powietrza. Po tej obróbce powleczone i zahartowane oszklenie ma następujące właściwości patrząc od strony warstewki:

TL = 86%, L = 23, a = -1, b = -10, emisyjność = 0,04, przy czym elektryczna rezystywność powierzchniowa powłoki wynosi 3,4 oma na kwadrat (jednostkę pola powierzchni).

Analizując właściwości oszklenia ustalono, że powłoka zniosła bardzo dobrze operację hartowania bez jakiegokolwiek zniszczenia warstewki funkcyjnej.

To powleczone i zahartowane oszklenie zestawia się następnie w postaci podwójnego oszklenia z inną taflą przezroczystego szkła o grubości 6 mm, przy czym powłokę umieszcza się po stronie wewnętrznej przestrzeni podwójnego oszklenia. Następujące właściwości notuje się patrząc na podwójne oszklenie od strony warstewki umieszczonej w położeniu 3:

TL = 77%, L = 34, a = -1, b = -5.

Godne uwagi jest to, że właściwości optyczne praktycznie nie zmieniły się oraz że jednostki oszklenia, niezależnie od tego, czy były zahartowane, czy nie, można łatwo umieszczać razem na tym samym budynku.

P r z y k ł a d 5

W urządzeniu typu magnetronu do napylania katodowego pod zmniejszonym ciśnieniem osadza się powłokę na tafli szklanej o grubości 2 mm w następującej kolejności. Najpierw osadza się pierwszą przezroczystą warstewkę dielektryczną o grubości 30 nm, która jest utworzona z mieszanego tlenku cynkowo-cynowego osadzonego z tarczy metalowej ze stopu cynkowo-cynowego o zawartości 90% cynku i 10% cyny w atmosferze 100% tlenu. Następnie osadza się warstewkę funkcyjną 10 nm srebra w obojętnej atmosferze 100% argonu. Pierwszą warstewkę ochronną 0,7 nm NiCr 80/20 osadza się na warstewce srebra w atmosferze 100% argonu. Na tej pierwszej warstewce ochronnej osadza się drugą warstewkę ochronną zawierającą 3 nm TiO2, pracując z elektrodą z metalicznego tytanu w atmosferze 20% tlenu. Następnie osadza się pośrednią przezroczystą warstewkę dielektryczną utworzoną z 70 nm ZnSnOx w taki sam sposób jak pierwszą przezroczystą warstewkę dielektryczną. Warstewka TiOx jest całkowicie utleniana przez plazmę osadzonego ZnSnOx. Następnie osadza się drugą warstewkę funkcyjną z 10 nm srebra, a po niej pierwszą warstewkę ochronną NiCr o gruboś ci 1,5 nm, przy czym obydwie warstewki osadza się w atmosferze 5% tlenu. Z kolei osadza

PL 203 325 B1 się 2,5 nm drugą warstewkę ochronną TiOx z elektrody metalowej w atmosferze 20% tlenu. Drugi przezroczysty dielektryk jest utworzony z 20 nm ZnSnOx osadzonego w 100% tlenu. Plazma osadzonego drugiego dielektryku utlenia całkowicie leżącą bezpośrednio pod nią warstewkę TiOx. W celu ochrony powłoki osadza się końcową, opartą na tytanie warstewkę ochronną o grubości 3 nm.

Właściwości powleczonego oszklenia po osadzeniu są jak następuje, patrząc od strony warstewki:

TL = 60%, L = 45, a = +3, B = +11, emisyjność = 0,05.

Oszklenie według tego przykładu jest przeznaczone do tworzenia przedniej szyby w pojeździe silnikowym, w której powłoka zapewnia ochronę przeciwsłoneczną w celu zapobieżenia nadmiernemu przegrzaniu w kabinie pasażerskiej.

Powleczone oszklenie poddaje się operacji zginania w temperaturze 690°C w ciągu 12 minut nadając mu kształt, jaki musi mieć przednia szyba.

TL = 74%, L = 39, a = +5, B = +9, emisyjność = 0,02, przy czym elektryczna rezystywność powierzchniowa powłoki wynosi 2,4 oma na kwadrat i jest to korzystna wartość dla jej stosowania jako warstwy grzejnej.

Otrzymane powleczone i wygięte oszklenie montuje się z utworzeniem laminowanego oszklenia z taflą przezroczystego szkł a o gruboś ci 2 mm za pomocą 0,76 mm folii PWB.

Właściwości laminowanego oszklenia z warstewką w położeniu 2 (położenie 1 jest zewnętrzną powierzchnią licową względem przedniej szyby zainstalowanej w pojeździe) są jak następuje:

TL = 75,5%, L = 35, a = -3, b = -4, przenoszenie energii TE według Moona = 45%, odbicie energii według Moona = 34%, przy czym przepuszczalność światła określa się tu względem źródła oświetlenia A.

Ustalono, że powłoka zniosła bardzo dobrze operację zginania.

Claims

Zastrzeżenia patentowe

1. Sposób wytwarzania oszklenia wyposażonego w wielowarstewkową powłokę, przy czym wielowarstewkową powłokę osadza się na podłożu szklanym drogą napylania katodowego pod zmniejszonym ciśnieniem, przy czym na podłożu osadza się co najmniej pierwszą przezroczystą warstewkę dielektryczną, a następnie osadza się warstewkę funkcyjną opartą na materiale odbijającym podczerwień, ponadto na tej warstewce funkcyjnej osadza się dwie warstewki ochronne, przy czym, korzystnie, co najmniej jedna z warstewek ochronnych zawiera nikiel względnie tytan, a następnie osadza się drugą przezroczystą warstewkę dielektryczną, znamienny tym, że w atmosferze zawierającej maksymalnie 20% tlenu pierwszą warstewkę ochronną o grubości geometrycznej maksymalnie 3 nm, składającą się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,9 i którego wartość elektroujemności jest mniejsza niż wartość elektroujemności materiału odbijającego podczerwień osadza się na warstewce funkcyjnej, a następnie w atmosferze zawierającej maksymalnie 50% tlenu osadza się drugą warstewkę ochronną o grubości geometrycznej maksymalnie 7 nm i składającą się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,4.
2. Sposób według zastrz. 1, znamienny tym, że stosuje się pierwszą warstewkę ochronną, która składa się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,8, a zwłaszcza mniejsza niż 1,7.
3. Sposób według zastrz. 1 albo 2, znamienny tym, że stosuje się drugą warstewkę ochronną składającą się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,6, a zwłaszcza większa niż 1,8.
4. Sposób według jednego z zastrz. 1 do 3, znamienny tym, że wartość elektroujemności materiału pierwszej warstewki ochronnej jest co najmniej o 0,05 mniejsza niż wartość elektroujemności materiału odbijającego podczerwień.
5. Sposób według jednego z zastrz. 1 do 4, znamienny tym, że stosuje się materiał drugiej warstewki ochronnej mający wartość elektroujemności mniejszą niż wartość elektroujemności materiału pierwszej warstewki ochronnej.

PL 203 325 B1
6. Sposób według zastrz. 5, znamienny tym, że stosuje się materiał drugiej warstewki ochronnej mający wartość elektroujemności co najmniej o 0,1, a zwłaszcza co najmniej o 0,2 mniejszą niż wartość elektroujemności materiału pierwszej warstewki ochronnej.
7. Sposób według jednego z zastrz. 1 do 6, znamienny tym, że stosuje się warstewkę funkcyjną opartą na materiale odbijającym podczerwień, która jest warstewką opartą na Ag.
8. Sposób według jednego z zastrz. 1 do 7, znamienny tym, że stosuje się pierwszą warstewkę ochronną, która jest oparta na Ni.
9. Sposób według zastrz. 8, znamienny tym, że stosuje się pierwszą warstewkę ochronną, która jest oparta na NiCr, a zwłaszcza oparta na stopie NiCr 80/20.
10. Sposób według jednego z zastrz. 1 do 9, znamienny tym, że materiał drugiej warstewki ochronnej wybiera się spośród tytanu, glinu albo tantalu, a zwłaszcza tytanu.
11. Sposób według jednego z zastrz. 1 do 10, znamienny tym, że pierwszą warstewkę ochronną osadza się przy grubości wynoszącej od 0,5 do 2,5 nm, korzystnie od 0,5 do 2 nm, a zwłaszcza od 0,6 do 1,5 nm.
12. Sposób według jednego z zastrz. 1 do 11, znamienny tym, że drugą warstewkę ochronną osadza się przy grubości wynoszącej od 2 do 6 nm.
13. Sposób według jednego z zastrz. 1 do 12, znamienny tym, że materiał drugiej warstewki ochronnej osadza się w postaci metalu albo w postaci subutlenionej, przy czym jest ona wtedy utleniana za pomocą utleniającej plazmy następnej osadzonej warstewki.
14. Sposób według jednego z zastrz. 1 do 13, znamienny tym, że stosuje się drugą przezroczystą warstewkę dielektryczną, która jest oparta na pierwiastku innym niż materiał drugiej warstewki ochronnej.
15. Sposób według jednego z zastrz. 1 do 14, znamienny tym, że stosuje się co najmniej jedną z pierwszej i drugiej przezroczystej warstewki dielektrycznej zawierającą tlenek metalu oparty na cynku.
16. Sposób według zastrz. 15, znamienny tym, że tlenek metalu jest tlenkiem stopu opartego na cynku i cynie.
17. Sposób według zastrz. 16, znamienny tym, że stosuje się co najmniej jedną z pierwszej i drugiej warstewki dielektrycznej zawierają cą dwie warstewki tlenku stopów opartych na cynku i cynie w różnych proporcjach.
18. Sposób według jednego z zastrz. 15 do 17, znamienny tym, że każda z pierwszej i drugiej warstewki dielektrycznej zawiera tlenek metalu oparty na cynku.
19. Sposób według jednego z zastrz. 1 do 18, znamienny tym, że osadza się co najmniej dwie warstewki funkcyjne oparte na materiale odbijającym podczerwień, a następnie osadza pierwszą i drugą warstewkę ochronną, przy czym pomiędzy warstewkami funkcyjnymi osadza się co najmniej jedną pośrednią warstewkę dielektryczną.
20. Sposób według jednego z zastrz. 1 do 19, znamienny tym, że końcową warstewkę ochronną opartą na tytanie osadza się w celu zakończenia powłoki wielowarstewkowej.
21. Sposób wytwarzania zagiętego albo zahartowanego oszklenia wyposażonego w powłokę wielowarstewkową, znamienny tym, że powleczone podłoże otrzymane sposobem według jednego z zastrz. 1 do 20 poddaje się nastę pnie operacji zginania albo hartowania.
22. Oszklenie wyposażone w powłokę wielowarstewkową, oszklenie składa się z podłoża szklanego, na którym osadzona jest co najmniej jedna warstewka funkcyjna opartą na materiale odbijającym podczerwień, przy czym warstewka funkcyjna albo co najmniej jedna z warstewek funkcyjnych jest zamknięta co najmniej jedną przezroczystą warstewką dielektryczną, oraz warstewka funkcyjna jest pokryta dwiema warstewkami ochronnymi na swojej stronie licowej przeciwnej względem podłoża i stykają cej się z nią bezpoś rednio, przy czym, korzystnie, co najmniej jedna z warstewek ochronnych zawiera nikiel względnie tytan, znamienne tym, że pierwsza warstewka ochronna ma grubość geometryczną 3 nm maksymalnie i składa się z materiału opartego na metalu albo półmetalu w postaci metalu, azotku albo w postaci subutlenionej, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,9 i którego wartość elektroujemności jest mniejsza niż wartość elektroujemności materiału odbijającego podczerwień, zaś druga warstewka ochronna ma grubość geometryczną 7 nm maksymalnie i składa się z materiału opartego na metalu albo półmetalu w zasadzie w całkowicie utlenionej postaci, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,4 i który różni się od materiału przylegającej bezpośrednio do niej przezroczystej warstewki dielektrycznej.
23. Oszklenie według zastrz. 22, znamienne tym, że zawiera co najmniej dwie warstewki funkcyjne, przy czym każda z warstewek funkcyjnych jest pokryta pierwszą i drugą warstewką ochronną.

PL 203 325 B1
24. Oszklenie według zastrz. 22 albo 23, znamienne tym, że pierwsza warstewka ochronna albo co najmniej jedna z pierwszych warstewek ochronnych składa się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,8, a zwłaszcza mniejsza niż 1,7.
25. Oszklenie według jednego z zastrz. 22 do 24, znamienne tym, że druga warstewka ochronna albo co najmniej jedna z drugich warstewek ochronnych składa się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,6, a zwłaszcza większa niż 1,8.
26. Oszklenie według jednego z zastrz. 22 do 25, znamienne tym, że wartość elektroujemności materiału pierwszej warstewki ochronnej albo co najmniej jednej z pierwszych warstewek ochronnych jest co najmniej o 0,05 mniejsza niż wartość elektroujemności przylegającego do niej materiału odbijającego podczerwień.
27. Oszklenie według jednego z zastrz. 22 do 26, znamienne tym, że materiał drugiej warstewki ochronnej albo co najmniej jednej z drugich warstewek ochronnych ma wartość elektroujemności niższą niż wartość elektroujemności przylegającego do niej materiału pierwszej warstewki ochronnej.
28. Oszklenie według zastrz. 27, znamienne tym, że materiał drugiej warstewki ochronnej albo co najmniej jednej z drugich warstewek ochronnych ma wartość elektroujemności co najmniej o 0,1, a zwłaszcza o 0,2 mniejszą niż wartość elektroujemności przylegającego do niej materiału pierwszej warstewki ochronnej.
29. Oszklenie według jednego z zastrz. 22 do 28, znamienne tym, że warstewka funkcyjna albo co najmniej jedna z warstewek funkcyjnych jest oparta na Ag, zaś pierwsza warstewka ochronna albo warstewki ochronne są oparte na stopie Ni i Cr, a druga warstewka ochronna albo drugie warstewki ochronne są utworzone z tlenku tytanu.
30. Oszklenie według jednego z zastrz. 22 do 29, znamienne tym, że co najmniej jedna z warstewek dielektrycznych jest oparta na tlenku cynku.
31. Oszklenie według zastrz. 30, znamienne tym, że co najmniej jedna z warstewek dielektrycznych zawiera tlenek stopu cynku i cyny.
32. Oszklenie według zastrz. 31, znamienne tym, że każda z warstewek dielektrycznych zawiera tlenek stopu cynku i cyny.
33. Zagięte albo zahartowane oszklenie wyposażone w powłokę wielowarstewkową zawierające podłoże szklane, na którym jest osadzona co najmniej jedna warstewka funkcyjna oparta na materiale odbijającym podczerwień, przy czym warstewka funkcyjna albo co najmniej jedna z warstewek funkcyjnych jest zamknięta przezroczystymi warstewkami dielektrycznymi, znamienne tym, że na swojej stronie licowej przeciwnej względem podłoża i stykającej się z nią bezpośrednio warstewka funkcyjna jest pokryta pierwszą warstewką ochronną o grubości geometrycznej 3 nm maksymalnie i składającą się z materiału opartego na metalu albo półmetalu w postaci utlenionej albo subutlenionej, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,9, na której osadzona jest następnie druga warstewka ochronna o grubości geometrycznej 7 nm maksymalnie, składająca się z materiał u opartego na metalu albo pół metalu w zasadzie w cał kowicie utlenionej postaci, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,4 i który różni się od materiału przylegającej do niej bezpośrednio przezroczystej warstewki dielektrycznej.
34. Oszklenie według zastrz. 33, znamienne tym, że zawiera co najmniej dwie warstewki funkcyjne, przy czym każda z warstewek funkcyjnych jest pokryta pierwszą i drugą warstewką ochronną.
35. Oszklenie według zastrz. 33 albo 34, znamienne tym, że pierwsza warstewka ochronna albo co najmniej jedna z pierwszych warstewek ochronnych składa się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest mniejsza niż 1,8, a zwłaszcza mniejsza niż 1,7.
36. Oszklenie według jednego z zastrz. 33 do 35, znamienne tym, że druga warstewka ochronna albo co najmniej jedna z drugich warstewek ochronnych składa się z materiału, którego różnica elektroujemności względem tlenu jest większa niż 1,6, a zwłaszcza większa niż 1,8.
37. Oszklenie według jednego z zastrz. 33 do 36, znamienne tym, że wartość elektroujemności materiału pierwszej albo co najmniej jednej z pierwszych warstewek ochronnych jest mniejsza niż wartość elektroujemności przylegającego do niej materiału odbijającego podczerwień, korzystnie co najmniej o 0,05.
38. Oszklenie według jednego z zastrz. 33 do 37, znamienne tym, że materiał drugiej albo co najmniej jednej z drugich warstewek ochronnych ma wartość elektroujemności niższą niż wartość elektroujemności materiału przylegającej do niej pierwszej warstewki ochronnej.
39. Oszklenie według zastrz. 38, znamienne tym, że materiał drugiej albo co najmniej jednej z drugich warstewek ochronnych ma wartość elektroujemności co najmniej o 0,1, a zwłaszcza co naj16

PL 203 325 B1 mniej o 0,2 mniejszą niż wartość elektroujemności materiału przywierającej do niej pierwszej warstewki ochronnej.
40. Oszklenie według jednego z zastrz. 33 do 39, znamienne tym, że warstewka funkcyjna jest oparta na Ag, zaś pierwsza albo pierwsze warstewki ochronne są oparte na stopie Ni i Cr, a druga albo drugie warstewki ochronne są utworzone z tlenku tytanu, a ponadto co najmniej jedna z warstewek dielektrycznych zawiera tlenek oparty na cynku, a zwłaszcza tlenek oparty na stopie cynkowo-cynowym.
41. Oszklenie wyposażone w powłokę wielowarstewkową, zawierające podłoże szklane, na którym jest osadzona kolejno co najmniej pierwsza przezroczysta warstewka dielektryczna, warstewka funkcyjna oparta na srebrze, dwie warstewki ochronne oraz druga przezroczysta warstewka dielektryczna, przy czym, korzystnie, co najmniej jedna z warstewek ochronnych zawiera nikiel względnie tytan, znamienne tym, że pierwsza warstewka ochronna w bezpośredniej styczności z warstewką funkcyjną jest oparta na stopie niklu w postaci metalu, azotku, utlenionej albo subutlenionej, druga warstewka ochronna naniesiona na pierwszą warstewkę ochronną i będąca z nią w bezpośredniej styczności jest oparta na tlenku tytanu, zaś druga przezroczysta warstewka dielektryczna składa się z materiału róż niącego się od materiału przylegają cej bezpoś rednio do niej drugiej warstewki ochronnej.
42. Oszklenie według zastrz. 41, znamienne tym, że druga warstewka ochronna ma grubość geometryczną 7 nm maksymalnie.
43. Oszklenie według zastrz. 41 albo 42, znamienne tym, że pierwsza warstewka ochronna ma grubość geometryczną 3 nm maksymalnie.
44. Oszklenie według jednego z zastrz. 41 do 43, znamienne tym, że pierwsza warstewka ochronna jest oparta na stopie niklu i chromu.
45. Oszklenie według jednego z zastrz. 41 do 44, znamienne tym, że co najmniej jedna z przezroczystych warstewek dielektrycznych jest oparta na tlenku cynku.
46. Oszklenie według jednego z zastrz. 41 do 45, znamienne tym, że co najmniej jedna z przezroczystych warstewek dielektrycznych jest oparta na tlenku cynku i cyny.
47. Oszklenie według jednego z zastrz. 41 do 46, znamienne tym, że oszklenie jest poddane obróbce cieplnej, takiej jak hartowanie albo zginanie, przy czym pierwsza warstewka ochronna oparta na stopie niklowym, a zwłaszcza na niklu i chromie, jest utleniona przynajmniej częściowo na skutek tej obróbki cieplnej.
48. Oszklenie według jednego z zastrz. 41 do 47, znamienne tym, że na podłożu szklanym osadzone są co najmniej dwie warstewki funkcyjne oparte na srebrze i oddzielone za pomocą co najmniej jednej pośredniej warstewki dielektrycznej, przy czym pierwsza i druga warstewka ochronna jest osadzona na i w bezpośredniej styczności z każdą z warstewek funkcyjnych.