JPH0662319B2 - 高透過率で低放射率の製品およびその製法 - Google Patents
高透過率で低放射率の製品およびその製法Info
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- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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- C23C14/08—Oxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は金属酸化物フィルムのカソードスパッタリング
の技術に関する。さらに詳しくは、金属および金属酸化
物の多層フィルムの磁気スパッタリング(magnetic sput
tering) の技術に関する。
の技術に関する。さらに詳しくは、金属および金属酸化
物の多層フィルムの磁気スパッタリング(magnetic sput
tering) の技術に関する。
［従来の技術および発明が解決しようとする問題点］ ギラリー(Gillery) らの米国特許第4,049,763 号明細書
には、調節された量の酸素を含有する低圧雰囲気中、約
204℃(400゜F) より高い温度で、スズ、インジウムな
どの金属をガラスなどの対熱（火）性基材上にカソード
スパッタリングすることによって、透明かつ電気伝導性
の製品を製造することが開示されている。
には、調節された量の酸素を含有する低圧雰囲気中、約
204℃(400゜F) より高い温度で、スズ、インジウムな
どの金属をガラスなどの対熱（火）性基材上にカソード
スパッタリングすることによって、透明かつ電気伝導性
の製品を製造することが開示されている。
ギラリーの米国特許第 4,113,599号明細書には、酸化イ
ンジウムの反応性溶着のためのカソードスパッタリング
法が教示されている。該方法では、酸素の流速は一定の
放電電流(discharge current) が維持されるように調節
され、一方、アルゴンの流速はスパッタリングチャンバ
中の圧力を一定に維持するように調節される。
ンジウムの反応性溶着のためのカソードスパッタリング
法が教示されている。該方法では、酸素の流速は一定の
放電電流(discharge current) が維持されるように調節
され、一方、アルゴンの流速はスパッタリングチャンバ
中の圧力を一定に維持するように調節される。
チャピン(chapin)の米国特許第 4,166,018号明細書に
は、スパッタリング装置が記載されている。該装置にお
いては、平らなスパッタリング面に隣接して磁場がかけ
られる。該磁場はスパッタリング面上で閉ループのエロ
ージョン領域にわたる磁束のアーチ状のラインからなっ
ている。
は、スパッタリング装置が記載されている。該装置にお
いては、平らなスパッタリング面に隣接して磁場がかけ
られる。該磁場はスパッタリング面上で閉ループのエロ
ージョン領域にわたる磁束のアーチ状のラインからなっ
ている。
ギラリーの米国特許第 4,201,649号明細書には、低抵抗
酸化インジウムの薄層を形成する方法が開示されてい
る。該薄層は、典型的に高いカソードスパッタリング温
度でカソードスパッタリングすることによって大部分の
厚さの酸化インジウムの導電性の層を付着させるため
に、基材を加熱する前にまず低温で酸化インジウムの非
常に薄いプライマー層を付着させることによって形成さ
れる。
酸化インジウムの薄層を形成する方法が開示されてい
る。該薄層は、典型的に高いカソードスパッタリング温
度でカソードスパッタリングすることによって大部分の
厚さの酸化インジウムの導電性の層を付着させるため
に、基材を加熱する前にまず低温で酸化インジウムの非
常に薄いプライマー層を付着させることによって形成さ
れる。
グロス(Groth) の米国特許第 4,327,967号明細書には、
くすんだ色の(neutral-color) 外観を有する熱反射パネ
ルが開示されている。該パネルは板ガラス(glass pane)
と、該ガラス表面上の２より大きい屈折率を有する干渉
フィルムと、該干渉フィルムにわたって形成される熱を
反射する金層と、該金層にわたって形成されるクロム、
鉄、ニッケル、チタンまたはその合金からなる中和フィ
ルムとからなる。
くすんだ色の(neutral-color) 外観を有する熱反射パネ
ルが開示されている。該パネルは板ガラス(glass pane)
と、該ガラス表面上の２より大きい屈折率を有する干渉
フィルムと、該干渉フィルムにわたって形成される熱を
反射する金層と、該金層にわたって形成されるクロム、
鉄、ニッケル、チタンまたはその合金からなる中和フィ
ルムとからなる。
ミヤケ(Miyake)らの米国特許第 4,349,425号明細書に
は、低い電気抵抗率でかつ高い光学的透明度を有するカ
ドミウム−スズの酸化物フィルムを形成するための、ア
ルゴン−酸素混合物中でのカドミウム−スズ合金の直流
反応性のスパッタリングが開示されている。
は、低い電気抵抗率でかつ高い光学的透明度を有するカ
ドミウム−スズの酸化物フィルムを形成するための、ア
ルゴン−酸素混合物中でのカドミウム−スズ合金の直流
反応性のスパッタリングが開示されている。
ハート(Hart)の米国特許第 4,462,883号明細書には、ガ
ラスなどの透明基材上に、銀と銀以外の少量の金属との
層および金属酸化物の反射防止層をカソードスパッタリ
ングすることによって製造される低放射率のコーティン
グが開示されている。該反射防止層は酸化スズ、酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ビスマスまたは
酸化ジルコニウムであってよい。
ラスなどの透明基材上に、銀と銀以外の少量の金属との
層および金属酸化物の反射防止層をカソードスパッタリ
ングすることによって製造される低放射率のコーティン
グが開示されている。該反射防止層は酸化スズ、酸化チ
タン、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化ビスマスまたは
酸化ジルコニウムであってよい。
マウアー(Mauer) の再発行特許第27,473号明細書には、
種々の金属、酸化チタン、酸化鉛または酸化ビスマスな
どの透明な材料からなる２つの層のあいだにはさまれた
金または銅の薄層からなる多層の透明製品が開示されて
いる。
種々の金属、酸化チタン、酸化鉛または酸化ビスマスな
どの透明な材料からなる２つの層のあいだにはさまれた
金または銅の薄層からなる多層の透明製品が開示されて
いる。
２重にガラスをはめた窓ユニットのエネルギー効率を改
良するためには、ガラス面の１つに、放射熱の伝達を減
ずることによってユニットの絶縁性を大きくするコーテ
ィングを設けることが望ましい。それゆえ、該コーティ
ングは放射線スペクトルの赤外線波長域の低放射率を有
していなければならない。実際的な理由から、該コーテ
ィングは可視波長域で高い透過率を有していなければな
らない。審美的な理由から、該コーティングは低い光反
射率を有し、かつ好ましくは本質的に無色でなければな
らない。
良するためには、ガラス面の１つに、放射熱の伝達を減
ずることによってユニットの絶縁性を大きくするコーテ
ィングを設けることが望ましい。それゆえ、該コーティ
ングは放射線スペクトルの赤外線波長域の低放射率を有
していなければならない。実際的な理由から、該コーテ
ィングは可視波長域で高い透過率を有していなければな
らない。審美的な理由から、該コーティングは低い光反
射率を有し、かつ好ましくは本質的に無色でなければな
らない。
叙上の高透過率で低放射率のコーティングは、一般に可
視反射率を下げるために、金属酸化物の誘電層間にはさ
まれた、（高）赤外線反射率でかつ低放射率のための薄
い金属層からなる。これらの多層フィルムは、典型的に
カソードスパッタリング、特にマグネトロンスパッタリ
ングによって製造される。その金属層は金または銅であ
ってよいが、通常は銀である。従来記述で述べた金属酸
化物層には酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸
化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび酸化鉛
が含まれる。いくつかのばあいにおいては、これらの酸
化物は、耐久性が乏しい、または放射率に限界があるな
どの不利を克服するために少量の他の金属を取りこんで
いる。たとえば酸化ビスマス中にマンガンを取りこみ酸
化スズ中にインジウムを取りこみ、その逆に酸化ビスマ
ス中にインジウムを取りこみ、酸化スズ中にマンガンを
取りこむなどである。しかしながら、これらの金属酸化
物はすべてある欠陥を有している。
視反射率を下げるために、金属酸化物の誘電層間にはさ
まれた、（高）赤外線反射率でかつ低放射率のための薄
い金属層からなる。これらの多層フィルムは、典型的に
カソードスパッタリング、特にマグネトロンスパッタリ
ングによって製造される。その金属層は金または銅であ
ってよいが、通常は銀である。従来記述で述べた金属酸
化物層には酸化スズ、酸化インジウム、酸化チタン、酸
化ビスマス、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムおよび酸化鉛
が含まれる。いくつかのばあいにおいては、これらの酸
化物は、耐久性が乏しい、または放射率に限界があるな
どの不利を克服するために少量の他の金属を取りこんで
いる。たとえば酸化ビスマス中にマンガンを取りこみ酸
化スズ中にインジウムを取りこみ、その逆に酸化ビスマ
ス中にインジウムを取りこみ、酸化スズ中にマンガンを
取りこむなどである。しかしながら、これらの金属酸化
物はすべてある欠陥を有している。
使用に際し、コーティングは２重にガラスをはめた窓ユ
ニットの内部の一面に保持されてよいけれども、コーテ
ィングの劣化、変質を惹き起こすであろう要素および環
境因子から保護されているところでは、取扱い、包装、
洗浄および製造(manufacture) と立付け(installation)
とのあいだに遭遇する他の加工工程に耐えうる耐久性の
ある効果的なコーティングが特に望ましい。これらの性
質は金属酸化物において求められている。しかしなが
ら。機械的な耐久性を与える硬さ、化学的な耐久性を与
える不活性さ、およびガラスと金属層との両方に対する
良好な付着性に加えて、金属酸化物はつぎの性質をも有
していなければならない。
ニットの内部の一面に保持されてよいけれども、コーテ
ィングの劣化、変質を惹き起こすであろう要素および環
境因子から保護されているところでは、取扱い、包装、
洗浄および製造(manufacture) と立付け(installation)
とのあいだに遭遇する他の加工工程に耐えうる耐久性の
ある効果的なコーティングが特に望ましい。これらの性
質は金属酸化物において求められている。しかしなが
ら。機械的な耐久性を与える硬さ、化学的な耐久性を与
える不活性さ、およびガラスと金属層との両方に対する
良好な付着性に加えて、金属酸化物はつぎの性質をも有
していなければならない。
すなわち、金属酸化物は金属層の反射を減ずるために、
適度に高い屈折率、好ましくは 2.0より大きい屈折率を
有していなければならない。それにより、コーティング
された製品の透過性が高められる。また、金属酸化物
は、コーティングされた製品の透過性を最大にするため
に、最小限の吸収(absorption)を有していなければなら
ない。商業的な理由から、金属酸化物は適当な価格でな
ければならず、マグネトロンスパッタリングで比較的速
い付着速度を有していなければならず、また毒性のない
ものでなければならない。
適度に高い屈折率、好ましくは 2.0より大きい屈折率を
有していなければならない。それにより、コーティング
された製品の透過性が高められる。また、金属酸化物
は、コーティングされた製品の透過性を最大にするため
に、最小限の吸収(absorption)を有していなければなら
ない。商業的な理由から、金属酸化物は適当な価格でな
ければならず、マグネトロンスパッタリングで比較的速
い付着速度を有していなければならず、また毒性のない
ものでなければならない。
金属酸化物フィルムの最も重要でかつ満足いくようにす
るのが最も困難な要求は、金属フィルムとの相互作用に
関するものである。金属酸化物フィルムは、下層の金属
フィルムを外的因子から保護するために低い有孔率(por
osity)を、また分離層の一体性を維持するために金属に
対する低い拡散率を有していなければならない。最後
に、とりわけ、金属酸化物は金属層の付着に対する良好
な核生成(nucleation)表面を与えなければならず、それ
により連続的な金属フィルムが最小の（電気）抵抗と最
大の透過率で付着されうる。連続な銀フィルムおよび不
連続な銀フィルムの特性がギレリーらの米国特許第 4,4
62,884号明細書に記載されている。
るのが最も困難な要求は、金属フィルムとの相互作用に
関するものである。金属酸化物フィルムは、下層の金属
フィルムを外的因子から保護するために低い有孔率(por
osity)を、また分離層の一体性を維持するために金属に
対する低い拡散率を有していなければならない。最後
に、とりわけ、金属酸化物は金属層の付着に対する良好
な核生成(nucleation)表面を与えなければならず、それ
により連続的な金属フィルムが最小の（電気）抵抗と最
大の透過率で付着されうる。連続な銀フィルムおよび不
連続な銀フィルムの特性がギレリーらの米国特許第 4,4
62,884号明細書に記載されている。
通常用いられる金属酸化物フィルムのうちで、酸化亜鉛
と酸化ビスマスとは充分には耐久性がなく、酸およびア
ルカリの両方に可溶であり、指紋によって分解され、か
つ塩中、２酸化イオウ中および湿度試験中で破壊され
る。酸化インジウム、好ましくはスズでドーピングされ
た酸化インジウムはより一層の耐久性を有する。しかし
ながら、インジウムはゆっくりとスパッタリングされ、
比較的高価である。また、インジウムまたはアンチモン
でドーピングされてもよい酸化スズもまたより一層の耐
久性を有するが、銀フィルムの核生成に好適な表面を与
えず、高抵抗でかつ低透過率となる。ひきつづき付着さ
れた銀層が適当な核生成をするような金属フィルムの性
質は確立されていない。しかしながら、叙上の金属酸化
物に関して試行錯誤の実験が広く行なわれている。
と酸化ビスマスとは充分には耐久性がなく、酸およびア
ルカリの両方に可溶であり、指紋によって分解され、か
つ塩中、２酸化イオウ中および湿度試験中で破壊され
る。酸化インジウム、好ましくはスズでドーピングされ
た酸化インジウムはより一層の耐久性を有する。しかし
ながら、インジウムはゆっくりとスパッタリングされ、
比較的高価である。また、インジウムまたはアンチモン
でドーピングされてもよい酸化スズもまたより一層の耐
久性を有するが、銀フィルムの核生成に好適な表面を与
えず、高抵抗でかつ低透過率となる。ひきつづき付着さ
れた銀層が適当な核生成をするような金属フィルムの性
質は確立されていない。しかしながら、叙上の金属酸化
物に関して試行錯誤の実験が広く行なわれている。
［問題点を解決するための手段］ 本発明は、合金の酸化物からなる新規なフィルム組成物
だけでなく、高透過率で低放射率のコーティングとして
用いるための、金属層および合金酸化物層からなる新規
な多層フィルムを提供する。さらに、本発明は金属層と
金属酸化物層とのあいだの付着性を改善するプライマー
層によって、多層のコーティングに改良された耐久性を
与える。
だけでなく、高透過率で低放射率のコーティングとして
用いるための、金属層および合金酸化物層からなる新規
な多層フィルムを提供する。さらに、本発明は金属層と
金属酸化物層とのあいだの付着性を改善するプライマー
層によって、多層のコーティングに改良された耐久性を
与える。
［作 用］ 合金の酸化物からなる新規なフィルム組成物は、カソー
ドスパッタリング、好ましくはマグネトロンスパッタリ
ングによって付着されるのが好ましい。所望の割合の合
金元素からなるカソードターゲットが製造される。つい
で、該ターゲットを反応性の雰囲気中、好ましくは酸素
を含有する雰囲気中でスパッタリングし、合金酸化物フ
ィルムを基材面上に付着させる。
ドスパッタリング、好ましくはマグネトロンスパッタリ
ングによって付着されるのが好ましい。所望の割合の合
金元素からなるカソードターゲットが製造される。つい
で、該ターゲットを反応性の雰囲気中、好ましくは酸素
を含有する雰囲気中でスパッタリングし、合金酸化物フ
ィルムを基材面上に付着させる。
本発明による好ましい合金酸化物は、亜鉛とスズとから
なる合金の酸化物である。亜鉛／スズ合金酸化物フィル
ムは、本発明にしたがってカソードスパッタリング、好
ましくは磁気的に高められたカソードスパッタリングに
よって付着されてよい。また、カソードスパッタリング
は本発明による高透過率で低放射率のフィルムを付着さ
せるための好ましい方法である。そのようなフィルムは
典型的に多層、好ましくは酸化インジウムまたは酸化チ
タンなどの反射防止の金属酸化物層間にはさまれた金、
銀または銅などの高反射性金属の層からなる。本発明に
よれば、反射防止の金属酸化物層は亜鉛とスズとの合金
の酸化物からなるのが好ましく、また亜鉛のスズ酸塩(z
inc stannate) からなるのが好ましい。合金酸化物フィ
ルムの性質は、高透過率で低放射率のコーティングを形
成するために金属フィルム層と組み合わせたそれの性能
に関して、つねに予言できるものではなく、それの耐久
性およびさらに重要なことに銀層の核生成に関する有効
度を決定するために、種々の試験が行なわれてよい。
なる合金の酸化物である。亜鉛／スズ合金酸化物フィル
ムは、本発明にしたがってカソードスパッタリング、好
ましくは磁気的に高められたカソードスパッタリングに
よって付着されてよい。また、カソードスパッタリング
は本発明による高透過率で低放射率のフィルムを付着さ
せるための好ましい方法である。そのようなフィルムは
典型的に多層、好ましくは酸化インジウムまたは酸化チ
タンなどの反射防止の金属酸化物層間にはさまれた金、
銀または銅などの高反射性金属の層からなる。本発明に
よれば、反射防止の金属酸化物層は亜鉛とスズとの合金
の酸化物からなるのが好ましく、また亜鉛のスズ酸塩(z
inc stannate) からなるのが好ましい。合金酸化物フィ
ルムの性質は、高透過率で低放射率のコーティングを形
成するために金属フィルム層と組み合わせたそれの性能
に関して、つねに予言できるものではなく、それの耐久
性およびさらに重要なことに銀層の核生成に関する有効
度を決定するために、種々の試験が行なわれてよい。
耐久性のために、長期間の安定性をあらわすものとして
コーティングの色、透過率および反射率の変化を評価す
る熱試験、紫外線、湿度および塩（指紋または海に近い
環境）のような環境条件の影響を評価する促進された耐
候性および暴露試験(accelerated weathering and expo
sure test)、酸性の環境汚染物質による損傷に対するコ
ーティングの感受性を評価する２酸化イオウ試験、なら
びにコーティングが従来から知られているガラス洗浄機
および酸性もしくはアルカリ性の洗浄剤によって損傷を
受けるかどうかを評価する試験がある。
コーティングの色、透過率および反射率の変化を評価す
る熱試験、紫外線、湿度および塩（指紋または海に近い
環境）のような環境条件の影響を評価する促進された耐
候性および暴露試験(accelerated weathering and expo
sure test)、酸性の環境汚染物質による損傷に対するコ
ーティングの感受性を評価する２酸化イオウ試験、なら
びにコーティングが従来から知られているガラス洗浄機
および酸性もしくはアルカリ性の洗浄剤によって損傷を
受けるかどうかを評価する試験がある。
さらに重要なことは、銀などの金属層の付着物上での合
金酸化物の影響を評価するために、核生成試験が行なわ
れてもよい。核生成試験を行なうために、基材表面上に
合金酸化物の層を付着させる。ついで基材表面の単位面
積あたりに所与の重量の銀を合金酸化物層にわたって付
着させる。最後に、合金酸化物の第２の層を銀層にわた
って付着させる。評価されるべき第１の効果は、銀を付
着させたときの透過率の減少である。すなわち、透過率
の減少が小さければ小さいほど吸収が低く、核生成が良
好である。第２の効果は多層コーティングの表面抵抗で
ある。すなわち、該抵抗が小さければ小さいほど、核生
成は良好である。第３の効果は多層コーティングの最終
透過率である。すなわち透過率が高ければ高いほど核生
成は良好である。
金酸化物の影響を評価するために、核生成試験が行なわ
れてもよい。核生成試験を行なうために、基材表面上に
合金酸化物の層を付着させる。ついで基材表面の単位面
積あたりに所与の重量の銀を合金酸化物層にわたって付
着させる。最後に、合金酸化物の第２の層を銀層にわた
って付着させる。評価されるべき第１の効果は、銀を付
着させたときの透過率の減少である。すなわち、透過率
の減少が小さければ小さいほど吸収が低く、核生成が良
好である。第２の効果は多層コーティングの表面抵抗で
ある。すなわち、該抵抗が小さければ小さいほど、核生
成は良好である。第３の効果は多層コーティングの最終
透過率である。すなわち透過率が高ければ高いほど核生
成は良好である。
本発明による好ましい高透過率および低放射率の多層フ
ィルムを製造するために、種々の合金が合金酸化物フィ
ルムを形成するためにスパッタリングされてよいが、ス
ズと亜鉛の合金類が好ましい。とくに好ましい合金は、
亜鉛が10〜90% に対しスズが90〜10% の割合である亜鉛
とスズからなる。好ましい亜鉛／スズ合金は亜鉛が30〜
60% の範囲にあり、好ましくは40:60から60: 40の亜鉛
／スズ比を有する。最も好ましいのは、重量比で亜鉛に
対するスズの比が46:54 から50:50 の範囲である。酸化
力のある雰囲気中で反応的にスパッタリングされた亜鉛
／スズ合金のカソードにより、亜鉛、スズおよび酸素か
らなる、好ましくは亜鉛のスズ酸塩またはZn２SnO4から
なる合金酸化物層が付着する。
ィルムを製造するために、種々の合金が合金酸化物フィ
ルムを形成するためにスパッタリングされてよいが、ス
ズと亜鉛の合金類が好ましい。とくに好ましい合金は、
亜鉛が10〜90% に対しスズが90〜10% の割合である亜鉛
とスズからなる。好ましい亜鉛／スズ合金は亜鉛が30〜
60% の範囲にあり、好ましくは40:60から60: 40の亜鉛
／スズ比を有する。最も好ましいのは、重量比で亜鉛に
対するスズの比が46:54 から50:50 の範囲である。酸化
力のある雰囲気中で反応的にスパッタリングされた亜鉛
／スズ合金のカソードにより、亜鉛、スズおよび酸素か
らなる、好ましくは亜鉛のスズ酸塩またはZn２SnO4から
なる合金酸化物層が付着する。
従来のマグネトロンスパッタリング法では、基材はスパ
ッタリングされるべき材料のターゲット面を有するカソ
ードと対面してコーティングチャンバ内に位置づけられ
る。本発明による好ましい基材には、コーティング工程
の操作条件によって有害な影響を受けることのないプラ
スチック類、ガラスおよびセラミック類が含まれる。
ッタリングされるべき材料のターゲット面を有するカソ
ードと対面してコーティングチャンバ内に位置づけられ
る。本発明による好ましい基材には、コーティング工程
の操作条件によって有害な影響を受けることのないプラ
スチック類、ガラスおよびセラミック類が含まれる。
カソードは従来から知られているいずれの構成をしてい
てもよいが、好ましくは長くされた長方形状の構成をし
ているのが好ましく、電圧源(a source of electrical
potential)に接続されうる。またカソードはスパッタリ
ング工程を高めるために磁場と組み合わせて用いるのが
好ましい。少なくとも１つのカソードのターゲット面
は、合金酸化物フィルムを形成するために反応性の雰囲
気中でスパッタリングされる亜鉛／スズなどの合金から
なる。アノードは、ギラリーらの米国特許第4、478、702
号明細書中に教示されているような、対称性を有して構
成され位置決めされたアセンブリであるのが好ましい。
てもよいが、好ましくは長くされた長方形状の構成をし
ているのが好ましく、電圧源(a source of electrical
potential)に接続されうる。またカソードはスパッタリ
ング工程を高めるために磁場と組み合わせて用いるのが
好ましい。少なくとも１つのカソードのターゲット面
は、合金酸化物フィルムを形成するために反応性の雰囲
気中でスパッタリングされる亜鉛／スズなどの合金から
なる。アノードは、ギラリーらの米国特許第4、478、702
号明細書中に教示されているような、対称性を有して構
成され位置決めされたアセンブリであるのが好ましい。
本発明の好ましい実施態様においては、多層フィルムが
サソードスパッタリングすることによって付着され、高
透過率で低放射率のコーティングが形成される。合金タ
ーゲットに加えて、少なくとも１つの他のカソードター
ゲット面は、反射性金属層を形成するためにスパッタリ
ングされるべき金属からなる。反射防止の合金酸化物と
組み合わせて反射性金属層を有する多層コーティング
は、つぎのようにして製造される。
サソードスパッタリングすることによって付着され、高
透過率で低放射率のコーティングが形成される。合金タ
ーゲットに加えて、少なくとも１つの他のカソードター
ゲット面は、反射性金属層を形成するためにスパッタリ
ングされるべき金属からなる。反射防止の合金酸化物と
組み合わせて反射性金属層を有する多層コーティング
は、つぎのようにして製造される。
清浄なガラス基材を、好ましくは10-4トル未満、より好
ましくは 2×10-5トル未満に減圧したコーティングチャ
ンバ中に位置づける。不活性ガスと反応性ガスとの選択
された雰囲気、好ましくはアルゴンと酸素との選択され
た雰囲気を該チャンバ内に約 5×10-4〜10-2トルの圧力
で確立する。亜鉛／スズ合金のターゲット面を有するカ
ソードをコーティングされるべき基材の表面にわたって
働かせる。ターゲットの金属をスパッタリングし、チャ
ンバ中の雰囲気と反応させ、ガラス基材上に亜鉛／スズ
合金酸化物コーティング層を付着させる。
ましくは 2×10-5トル未満に減圧したコーティングチャ
ンバ中に位置づける。不活性ガスと反応性ガスとの選択
された雰囲気、好ましくはアルゴンと酸素との選択され
た雰囲気を該チャンバ内に約 5×10-4〜10-2トルの圧力
で確立する。亜鉛／スズ合金のターゲット面を有するカ
ソードをコーティングされるべき基材の表面にわたって
働かせる。ターゲットの金属をスパッタリングし、チャ
ンバ中の雰囲気と反応させ、ガラス基材上に亜鉛／スズ
合金酸化物コーティング層を付着させる。
亜鉛／スズ合金の酸化物との最初の層を付着させたあ
と、コーティングチャンバを減圧し、純粋なアルゴンな
どの不活性雰囲気を約 5×10-4×10-2トルの圧力で確立
する。銀のターゲット面を有するカソードを亜鉛／スズ
合金の酸化物のコーティングされた表面にわたって働か
せる。ターゲット金属はスパッタリングされ、亜鉛／ス
ズ合金の酸化物がコーティングされたガラス表面上に反
射性でかつ導電性の金属層を付着させる。亜鉛／スズ合
金酸化物の第２の層を、第１の亜鉛／スズ合金酸化物層
を付着させるために用いたのと本質的に同じ条件で銀層
上に付着させる。
と、コーティングチャンバを減圧し、純粋なアルゴンな
どの不活性雰囲気を約 5×10-4×10-2トルの圧力で確立
する。銀のターゲット面を有するカソードを亜鉛／スズ
合金の酸化物のコーティングされた表面にわたって働か
せる。ターゲット金属はスパッタリングされ、亜鉛／ス
ズ合金の酸化物がコーティングされたガラス表面上に反
射性でかつ導電性の金属層を付着させる。亜鉛／スズ合
金酸化物の第２の層を、第１の亜鉛／スズ合金酸化物層
を付着させるために用いたのと本質的に同じ条件で銀層
上に付着させる。
さらに少なくとも１つのカソードターゲット面がプライ
マー層として付着されるべき金属からなるのが好まし
い。反射防止の合金酸化物フィルムと組み合わせて、反
射性金属フィルムを有する耐久性のある多層コーティン
グは、金属フィルムと金属酸化物フィルムとの接着性を
改良するためのプライマー層を用いてつぎのようにして
製造される。
マー層として付着されるべき金属からなるのが好まし
い。反射防止の合金酸化物フィルムと組み合わせて、反
射性金属フィルムを有する耐久性のある多層コーティン
グは、金属フィルムと金属酸化物フィルムとの接着性を
改良するためのプライマー層を用いてつぎのようにして
製造される。
すなわち、清浄なガラス基材を、好ましくは10-4トル未
満、さらに好ましくは 2×10-5トル未満の圧力に減圧し
たコーティングチャンバ内に位置づける。不活性ガスと
反応性ガス、好ましくはアルゴンと酸素の選択された雰
囲気を、チャンバ中で約 5×10-4〜10-2トルの圧力にす
る。亜鉛／スズ合金のターゲット面を有するカソードを
コーティングされるべき基材表面にわたって働かせる。
ターゲット金属をスパッタリングし、チャンバ中の雰囲
気と反応させ、ガラス基材表面上に亜鉛／スズ合金酸化
物を付着させる。
満、さらに好ましくは 2×10-5トル未満の圧力に減圧し
たコーティングチャンバ内に位置づける。不活性ガスと
反応性ガス、好ましくはアルゴンと酸素の選択された雰
囲気を、チャンバ中で約 5×10-4〜10-2トルの圧力にす
る。亜鉛／スズ合金のターゲット面を有するカソードを
コーティングされるべき基材表面にわたって働かせる。
ターゲット金属をスパッタリングし、チャンバ中の雰囲
気と反応させ、ガラス基材表面上に亜鉛／スズ合金酸化
物を付着させる。
亜鉛／スズ合金酸化物の最初の層を付着させたあと、コ
ーティングチャンバを減圧し、純粋なアルゴンなどの不
活性ガスを約 5×10-4〜10-2トルの圧力にする。銅など
の金属ターゲット面を有するカソードをスパッタリング
し、亜鉛／スズ合金酸化物層にわたってプライマー層を
付着させる。ついで、銀のターゲット面を有するカソー
ドをスパッタリングし、下層の金属酸化物フィルムに対
する銀フィルムの接着性を改良するプライマー層にわた
って金属銀の反射層を付着させる。ついで、銀フィルム
とそれにひきつづいて付着される上層の金属酸化物フィ
ルムとのあいだの接着性を改良するために、反射性の銀
層にわたって、銅などの金属をスパッタリングすること
によって、さらにプライマー層を付着させる。最後に、
第１の亜鉛／スズ合金酸化物層を付着させるのに用いた
のと本質的に同じ条件で、亜鉛／スズ合金酸化物の第２
の層を第２のプライマー層にわたって付着させる。
ーティングチャンバを減圧し、純粋なアルゴンなどの不
活性ガスを約 5×10-4〜10-2トルの圧力にする。銅など
の金属ターゲット面を有するカソードをスパッタリング
し、亜鉛／スズ合金酸化物層にわたってプライマー層を
付着させる。ついで、銀のターゲット面を有するカソー
ドをスパッタリングし、下層の金属酸化物フィルムに対
する銀フィルムの接着性を改良するプライマー層にわた
って金属銀の反射層を付着させる。ついで、銀フィルム
とそれにひきつづいて付着される上層の金属酸化物フィ
ルムとのあいだの接着性を改良するために、反射性の銀
層にわたって、銅などの金属をスパッタリングすること
によって、さらにプライマー層を付着させる。最後に、
第１の亜鉛／スズ合金酸化物層を付着させるのに用いた
のと本質的に同じ条件で、亜鉛／スズ合金酸化物の第２
の層を第２のプライマー層にわたって付着させる。
本発明の最も好ましい実施態様においては、最終の金属
酸化物フィルムにわたって、保護膜(protective overco
at) が付着される。保護膜は、ギラリーらの米国特許第
４、５９４、１３７号明細書に記載されているような金
属層を、金属酸化物フィルムにわたってスパッタリング
させることによって付着させるのが好ましい。保護膜の
ための好ましい金属には、ステンレス鋼またはインコネ
ルなどの鉄またはニッケルの合金が含まれる。チタンは
高い透過率を有するので保護膜としては最も好ましい。
酸化物フィルムにわたって、保護膜(protective overco
at) が付着される。保護膜は、ギラリーらの米国特許第
４、５９４、１３７号明細書に記載されているような金
属層を、金属酸化物フィルムにわたってスパッタリング
させることによって付着させるのが好ましい。保護膜の
ための好ましい金属には、ステンレス鋼またはインコネ
ルなどの鉄またはニッケルの合金が含まれる。チタンは
高い透過率を有するので保護膜としては最も好ましい。
［実施例］ つぎに記載する特定の実施例から、本発明は一層その理
解が深められるであろう。実施例においては、亜鉛／ス
ズ合金酸化物を亜鉛のスズ酸塩と呼ぶが、該フィルム組
成物は正確にZn２SnO4である必要はない。
解が深められるであろう。実施例においては、亜鉛／ス
ズ合金酸化物を亜鉛のスズ酸塩と呼ぶが、該フィルム組
成物は正確にZn２SnO4である必要はない。
実施例１ 横43.2cm（17インチ）、縦12.7cm（ 5インチ）の寸法の
静置型カソードは、52.4重量% の亜鉛と47.6重量% のス
ズとからなる亜鉛／スズ合金のスパッタリング面からな
っていた。50/50 のアルゴン／酸素の雰囲気中で 4ミリ
トルの圧力を確立するように減圧したコーティングチャ
ンバ中に、ソーダ石灰のシリカガラスを位置づけた。カ
ソードを 1.7Kwの出力の磁場の中でスパッタリングする
と共に、ガラスを 2.8m/分(110インチ／分)の速度でス
パッタリング面を通るようにして運搬させた。ガラス表
面上に亜鉛のスズ酸塩を付着させた。３度の通過により
約 340Åの厚さのフィルムを形成した。該フィルムは透
過率を減少させる結果となった。すなわち、ガラス基材
の透過率は90% であったのに対し、亜鉛のスズ酸塩をコ
ーティングしたガラス基材の透過率は81% であった。
静置型カソードは、52.4重量% の亜鉛と47.6重量% のス
ズとからなる亜鉛／スズ合金のスパッタリング面からな
っていた。50/50 のアルゴン／酸素の雰囲気中で 4ミリ
トルの圧力を確立するように減圧したコーティングチャ
ンバ中に、ソーダ石灰のシリカガラスを位置づけた。カ
ソードを 1.7Kwの出力の磁場の中でスパッタリングする
と共に、ガラスを 2.8m/分(110インチ／分)の速度でス
パッタリング面を通るようにして運搬させた。ガラス表
面上に亜鉛のスズ酸塩を付着させた。３度の通過により
約 340Åの厚さのフィルムを形成した。該フィルムは透
過率を減少させる結果となった。すなわち、ガラス基材
の透過率は90% であったのに対し、亜鉛のスズ酸塩をコ
ーティングしたガラス基材の透過率は81% であった。
実施例２ 高透過率で低放射率のコーティングされた製品をつくる
ために、ソーダ石灰のシリカガラス上に多層フィルムを
付着させた。まず亜鉛のスズ酸塩を実施例１と同じよう
にして付着させた。つぎに、 4ミリトルの圧力のアルゴ
ンガス雰囲気中で銀のカソードターゲットをスパッタリ
ングすることによって、銀層を亜鉛のスズ酸塩にわたっ
て付着させた。基材を実施例１と同じ速度で銀カソード
ターゲットを２回通過させて、約90Åの厚さのフィルム
に相当する11μg/cm２の銀を付着させた。透過率はさら
に減少した。すなわち、亜鉛のスズ酸塩の第１のフィル
ムをコーティングした基材の透過率が81% であったのに
対して、さらに銀層をコーティングした基材の透過率は
72% であった。亜鉛のスズ酸塩の最終反射防止層を付着
させる前に、銀層との接着性および銀層の保護を改善す
るため、銀は亜鉛／スズ合金でコーティングされるのが
好ましい。その合金は透過率をさらに減少させるもので
あるため、その厚さは最小限にとどめておくのが好まし
い。 4ミリトルの圧力のアルゴン中、最小出力で亜鉛／
スズ合金ターゲットをスパッタリングすることによっ
て、該金属層を付着させた。該試料の透過率は１回の通
過後60% に減少した。最後に、亜鉛のスズ酸塩のフィル
ムを形成するため、実施例１のような酸化力のある雰囲
気中で、亜鉛／スズ合金カソードターゲットをスパッタ
リングした。 2.8m/分(110インチ／分)の速度で４回通
過させることにより、約 430Åの厚さのフィルムを形成
した。これにより、コーティング製品の透過率は60% か
ら87% に増加した。最終コーティング製品は表面抵抗が
10Ω／□であり、両側からわずかに青味がかった反射光
を発していた。コーティングした側の光反射率は5%で、
コーティングしていない側の光反射率は6%であった。
ために、ソーダ石灰のシリカガラス上に多層フィルムを
付着させた。まず亜鉛のスズ酸塩を実施例１と同じよう
にして付着させた。つぎに、 4ミリトルの圧力のアルゴ
ンガス雰囲気中で銀のカソードターゲットをスパッタリ
ングすることによって、銀層を亜鉛のスズ酸塩にわたっ
て付着させた。基材を実施例１と同じ速度で銀カソード
ターゲットを２回通過させて、約90Åの厚さのフィルム
に相当する11μg/cm２の銀を付着させた。透過率はさら
に減少した。すなわち、亜鉛のスズ酸塩の第１のフィル
ムをコーティングした基材の透過率が81% であったのに
対して、さらに銀層をコーティングした基材の透過率は
72% であった。亜鉛のスズ酸塩の最終反射防止層を付着
させる前に、銀層との接着性および銀層の保護を改善す
るため、銀は亜鉛／スズ合金でコーティングされるのが
好ましい。その合金は透過率をさらに減少させるもので
あるため、その厚さは最小限にとどめておくのが好まし
い。 4ミリトルの圧力のアルゴン中、最小出力で亜鉛／
スズ合金ターゲットをスパッタリングすることによっ
て、該金属層を付着させた。該試料の透過率は１回の通
過後60% に減少した。最後に、亜鉛のスズ酸塩のフィル
ムを形成するため、実施例１のような酸化力のある雰囲
気中で、亜鉛／スズ合金カソードターゲットをスパッタ
リングした。 2.8m/分(110インチ／分)の速度で４回通
過させることにより、約 430Åの厚さのフィルムを形成
した。これにより、コーティング製品の透過率は60% か
ら87% に増加した。最終コーティング製品は表面抵抗が
10Ω／□であり、両側からわずかに青味がかった反射光
を発していた。コーティングした側の光反射率は5%で、
コーティングしていない側の光反射率は6%であった。
実施例３ 高透過率で低放射率のコーティングされた製品をつくる
ために、ソーダ石灰のシリカガラス基材上に多層フィル
ムを付着した。横43.2cm（17インチ）、縦12.7cm（ 5イ
ンチ）の寸法の静置型カソードは、52.4重量% の亜鉛と
47.6重量% のスズとからなる亜鉛／スズ合金のスパッタ
リング面からなっていた。50/50 のアルゴン／酸素雰囲
気中で 4ミリトルの圧力となるように減圧したコーティ
ングチャンバ中に、ソーダ石灰のシリカガラス基材を位
置づけた。1.7Kwの出力で磁場中でカソードをスパッタ
リングすると共に、スパッタリング面を通るようにして
2.8m/分(110インチ／分) の速度でガラスを運搬した。
ガラス表面上に亜鉛のスズ酸塩フィルムを付着させた。
３回通過させることにより、約 340Åの厚さのフィルム
を形成した。その結果、通過率は減少した。すなわち、
ガラス基材の透過率が90% であったのに対し、亜鉛のス
ズ酸塩でコーティングしたガラス基材の透過率は83% で
あった。ついで、亜鉛のスズ酸塩にわたって銅のプライ
マー層を形成するために、銅のターゲットを備えた静置
型カソードをスパッタリングした。透過率は約80.6% に
減少した。つぎに、 4ミリトルの圧力のアルゴンガス雰
囲気中で銀のカソードターゲットをスパッタリングする
ことによって、銀層を銅のプライマー層にわたって付着
させた。同じ速度で基材を銀カソードのターゲットの下
を通過させた。約90Åの厚さのフィルムに相当する11μ
g/cm２の銀を付着させるためには、２回通過させる必要
があった。コーティングした基材の透過率は約70.3% に
減少した。亜鉛のスズ酸塩の最終反射防止層を付着させ
る前に、銀層との接着性および銀層の保護を改善するた
めに、銀層にわたって銅の第２のプライマー層をスパッ
タリングした。銅のプライマー層は透過率を減少させる
ので、それらの厚さは最小限にとどめるのが好ましい。
4ミリトルの圧力のアルゴン中で、最小出力で銅のター
ゲットをスパッタリングすることによって、銅のプライ
マー層を付着させた。銅の第２のプライマー層を付着さ
せたあと、試料の透過率は68.3% に減少した。最後に、
亜鉛のスズ酸塩のフィルムを形成するために、酸化力が
ある雰囲気中で亜鉛／スズ合金のカソードのターゲット
をスパッタリングした。 2.8m/分(110インチ／分) の速
度で４回通過させることにより、約 430Åの厚さのフィ
ルムを形成した。コーティングされた製品の透過率は6
8.3% から83.2% に増加した。最終のコーティングされ
た製品は表面抵抗が10Ω／□であり、両側からわずかに
青味がかった反射光を発していた。コーティングした側
の光反射率は5%で、コーティングしていない側の光反射
率は6%であった。
ために、ソーダ石灰のシリカガラス基材上に多層フィル
ムを付着した。横43.2cm（17インチ）、縦12.7cm（ 5イ
ンチ）の寸法の静置型カソードは、52.4重量% の亜鉛と
47.6重量% のスズとからなる亜鉛／スズ合金のスパッタ
リング面からなっていた。50/50 のアルゴン／酸素雰囲
気中で 4ミリトルの圧力となるように減圧したコーティ
ングチャンバ中に、ソーダ石灰のシリカガラス基材を位
置づけた。1.7Kwの出力で磁場中でカソードをスパッタ
リングすると共に、スパッタリング面を通るようにして
2.8m/分(110インチ／分) の速度でガラスを運搬した。
ガラス表面上に亜鉛のスズ酸塩フィルムを付着させた。
３回通過させることにより、約 340Åの厚さのフィルム
を形成した。その結果、通過率は減少した。すなわち、
ガラス基材の透過率が90% であったのに対し、亜鉛のス
ズ酸塩でコーティングしたガラス基材の透過率は83% で
あった。ついで、亜鉛のスズ酸塩にわたって銅のプライ
マー層を形成するために、銅のターゲットを備えた静置
型カソードをスパッタリングした。透過率は約80.6% に
減少した。つぎに、 4ミリトルの圧力のアルゴンガス雰
囲気中で銀のカソードターゲットをスパッタリングする
ことによって、銀層を銅のプライマー層にわたって付着
させた。同じ速度で基材を銀カソードのターゲットの下
を通過させた。約90Åの厚さのフィルムに相当する11μ
g/cm２の銀を付着させるためには、２回通過させる必要
があった。コーティングした基材の透過率は約70.3% に
減少した。亜鉛のスズ酸塩の最終反射防止層を付着させ
る前に、銀層との接着性および銀層の保護を改善するた
めに、銀層にわたって銅の第２のプライマー層をスパッ
タリングした。銅のプライマー層は透過率を減少させる
ので、それらの厚さは最小限にとどめるのが好ましい。
4ミリトルの圧力のアルゴン中で、最小出力で銅のター
ゲットをスパッタリングすることによって、銅のプライ
マー層を付着させた。銅の第２のプライマー層を付着さ
せたあと、試料の透過率は68.3% に減少した。最後に、
亜鉛のスズ酸塩のフィルムを形成するために、酸化力が
ある雰囲気中で亜鉛／スズ合金のカソードのターゲット
をスパッタリングした。 2.8m/分(110インチ／分) の速
度で４回通過させることにより、約 430Åの厚さのフィ
ルムを形成した。コーティングされた製品の透過率は6
8.3% から83.2% に増加した。最終のコーティングされ
た製品は表面抵抗が10Ω／□であり、両側からわずかに
青味がかった反射光を発していた。コーティングした側
の光反射率は5%で、コーティングしていない側の光反射
率は6%であった。
本発明のプライマー層により金属フィルムと金属酸化物
フィルムとのあいだの改良された接着性に起因するコー
ティングされた製品の改良された耐久性は、コーティン
グされた表面に湿った布をこすりつける簡単な摩耗試験
で容易に証明された。本発明によるプライマー層を有さ
ない亜鉛のスズ酸塩／銀／亜鉛のスズ酸塩でコーティン
グされた表面の反射率は、湿った布を数回通過させたあ
とには、約6%から約18% まで増加した。一番上層の亜鉛
のスズ酸塩およびその下層の銀フィルムの両方が除去さ
れた。逆に、湿った布を長いあいだ力強くこすりつける
ことによって、本発明のプライマー層からなる亜鉛のス
ズ酸塩／銅／銀／銅／亜鉛のスズ酸塩をコーティングし
た製品になんら目に見える変化は生じなかった。
フィルムとのあいだの改良された接着性に起因するコー
ティングされた製品の改良された耐久性は、コーティン
グされた表面に湿った布をこすりつける簡単な摩耗試験
で容易に証明された。本発明によるプライマー層を有さ
ない亜鉛のスズ酸塩／銀／亜鉛のスズ酸塩でコーティン
グされた表面の反射率は、湿った布を数回通過させたあ
とには、約6%から約18% まで増加した。一番上層の亜鉛
のスズ酸塩およびその下層の銀フィルムの両方が除去さ
れた。逆に、湿った布を長いあいだ力強くこすりつける
ことによって、本発明のプライマー層からなる亜鉛のス
ズ酸塩／銅／銀／銅／亜鉛のスズ酸塩をコーティングし
た製品になんら目に見える変化は生じなかった。
叙上の実施例は本発明を説明するために提供したもので
ある。本発明には該製品および方法に種々の修正がほど
こされてよい。たとえば、本発明の範囲には他のコーテ
ィング組成物が含まれる。亜鉛／スズ合金をスパッタリ
ングするときの亜鉛とスズとの割合に依存して、コーテ
ィングは亜鉛のスズ酸塩に加えて、広く種々の量の酸化
亜鉛および酸化マグネシウムを含有していてもよい。該
方法はあまり高温が要求されないので、種々のプラスチ
ックなどのガラス以外の基材をコーティングすることも
できる。走査型カソードを静置型基材に用いてもよい
し、また両方とも静置型であってもよい。ガスの圧力お
よび濃度などのパラメータは広範囲にわたって種々変化
させてもよい。種々の金属フィルムと金属酸化物フィル
ムとのあいだの接着性は、本発明によるプライマー層に
よって改良されてもよい。プライマー層はインジウムな
どの他の金属、または酸化銅もしくは酸化インジウムな
どの酸化物からなっていてもよい。本発明の範囲は特許
請求の範囲の記載によって定められる。
ある。本発明には該製品および方法に種々の修正がほど
こされてよい。たとえば、本発明の範囲には他のコーテ
ィング組成物が含まれる。亜鉛／スズ合金をスパッタリ
ングするときの亜鉛とスズとの割合に依存して、コーテ
ィングは亜鉛のスズ酸塩に加えて、広く種々の量の酸化
亜鉛および酸化マグネシウムを含有していてもよい。該
方法はあまり高温が要求されないので、種々のプラスチ
ックなどのガラス以外の基材をコーティングすることも
できる。走査型カソードを静置型基材に用いてもよい
し、また両方とも静置型であってもよい。ガスの圧力お
よび濃度などのパラメータは広範囲にわたって種々変化
させてもよい。種々の金属フィルムと金属酸化物フィル
ムとのあいだの接着性は、本発明によるプライマー層に
よって改良されてもよい。プライマー層はインジウムな
どの他の金属、または酸化銅もしくは酸化インジウムな
どの酸化物からなっていてもよい。本発明の範囲は特許
請求の範囲の記載によって定められる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−184745（ＪＰ，Ａ) 特公 昭33−2982（ＪＰ，Ｂ１) 米国特許4166018（ＵＳ，Ａ) 米国特許4113599（ＵＳ，Ａ) 米国特許4049763（ＵＳ，Ａ) 米国特許4201649（ＵＳ，Ａ) 米国特許4349425（ＵＳ，Ａ) 米国特許4462883（ＵＳ，Ａ)
Claims (21)
- 【請求項１】(a)透明な非金属基材と、 (b)該基材表面上に付着された亜鉛とスズとかからなる
合金の酸化反応生成物からなる透明な第１の透明フィル
ムと、 (c)該第１の合金酸化物フィルム上に付着された金、銀
または銅からなる透明な金属フィルムと、 (d)該金属フィルム上に付着された亜鉛とスズとからな
る合金の酸化反応生成物からなる第２の透明フィルム とからなる高透過率で低放射率の製品。 - 【請求項２】前記基材がガラスである特許請求の範囲第
１項記載の製品。 - 【請求項３】前記金属フィルムが銀である特許請求の範
囲第２項記載の製品。 - 【請求項４】前記合金が本質的に亜鉛とスズとからなる
特許請求の範囲第３項記載の製品。 - 【請求項５】前記合金が約10〜約90％の亜鉛からなる特
許請求の範囲第４項記載の製品。 - 【請求項６】前記合金が約30〜60％の亜鉛からなる特許
請求の範囲第５項記載の製品。 - 【請求項７】前記合金が約50〜54％の亜鉛からなる特許
請求の範囲第６項記載の製品。 - 【請求項８】合金の酸化反応生成物からなる透明なフィ
ルムが亜鉛のスズ酸塩からなる特許請求の範囲第４項記
載の製品。 - 【請求項９】(a)スパッタリングチャンバ内に透明で非
金属性の基材を位置づける工程と、 (b)酸素からなる反応性雰囲気中で、亜鉛とスズとの合
金からなるカソードターゲットをスパッタリングし、該
基材表面上に透明な合金酸化物フィルムを付着させる工
程と、 (c)不活性雰囲気中で銀のカソードターゲットをスパッ
タリングし、該合金酸化物フィルム上に透明な銀フィル
ムを付着させる工程と、 (d)酸素からなる反応性雰囲気中で亜鉛とスズとからな
る合金からなるカソードターゲットをスパッタリング
し、該銀フィルム上に合金酸化物フィルムを付着させる
工程 とからなる多層の高透過率で低放射率のコーティングさ
れた製品をつくる方法。 - 【請求項１０】前記基材がガラスである特許請求の範囲
第９項記載の方法。 - 【請求項１１】前記合金が本質的に亜鉛とスズとからな
る特許請求の範囲第10項記載の方法。 - 【請求項１２】前記合金酸化物フィルムが亜鉛のスズ酸
塩からなる特許請求の範囲第11項記載の方法。 - 【請求項１３】(a)透明な非金属性の基材と、 (b)該基材上に付着された亜鉛とスズとからなる合金の
酸化反応生成物からなる第１の透明フィルムと、 (c)該第１の合金酸化物フィルム上に付着された第１の
透明なプライマー層と、 (d)該プライマー層上に付着された金、銀または銅から
なる透明な反射性金属フィルムと、 (e)該反射性金属フィルム上に付着された第２の透明な
プライマー層と、 (f)該第２のプライマー層上に付着された亜鉛とスズと
からなる合金の酸化反応生成物からなる第２の透明なフ
ィルム とからなる高透過率で低放射率の製品。 - 【請求項１４】前記基材がガラスである特許請求の範囲
第13項記載の製品。 - 【請求項１５】前記反射性金属フィルムが銀である特許
請求の範囲第14項記載の製品。 - 【請求項１６】前記合金の酸化反応生成物からなる透明
なフィルムが亜鉛のスズ酸塩からなる特許請求の範囲第
13項記載の製品。 - 【請求項１７】前記反射性金属フィルムと前記透明な金
属酸化物フィルムとのあいだに付着させた前記プライマ
ーフィルムが銅、インジウムおよびその酸化物よりなる
群から選ばれたものである特許請求の範囲第13項記載の
製品。 - 【請求項１８】前記プライマーフィルムが銅からなる特
許請求の範囲第17項記載の製品。 - 【請求項１９】各プライマー層が製品の透過率を0.5 〜
10％減少させる厚さである特許請求の範囲第17項記載の
製品。 - 【請求項２０】各プライマー層によって製品の透過率が
１〜５％減少した特許請求の範囲第19項記載の製品。 - 【請求項２１】前記プライマー層が酸化銅からなる特許
請求の範囲第20項記載の製品。
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| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |