JPS62239349A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

光磁気記録媒体

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Publication number
JPS62239349A
JPS62239349A JP8166686A JP8166686A JPS62239349A JP S62239349 A JPS62239349 A JP S62239349A JP 8166686 A JP8166686 A JP 8166686A JP 8166686 A JP8166686 A JP 8166686A JP S62239349 A JPS62239349 A JP S62239349A
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JP
Japan
Prior art keywords
magneto
optical recording
film
reflective film
recording layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP8166686A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiromichi Enomoto
洋道 榎本
Shozo Ishibashi
正三 石橋
Katsuyuki Takeda
竹田 克之
Takahiro Matsuzawa
孝浩 松沢
Yoshitaka Takahashi
佳孝 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Konica Minolta Inc
Original Assignee
Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPS62239349A publication Critical patent/JPS62239349A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は光磁気記録媒体、特に磁気光学記憶素子に関す
るものである。
口、従来技術。
光ディスクは、高密度、大容量、高速アクセスの特徴を
持ち、種々の研究開発が行われている。
このうち、一度だけ追加記録できる光ディスクの記録媒
体としては、TeOx、TeC,Te−3n−3e等が
知られ、一部商品化されている。
一方、書き換えが可能である光記録としては、光磁気配
t、★が注目されでいる。
光磁気記録媒体としては、MnB i、MnCuB i
などの多結晶薄膜、TbFe、GdFe、GdCo、D
yFe、GdTbFe、、TbDyFeなどの非晶質薄
膜などが知られている。例えば、特開昭59−1710
55号公報には、希土類−遷移金属アモルファス合金薄
膜(例えばGdTbFa)と、酸素を含有しないAIN
又はSi3N4からなる透明誘電体膜と、Ti又はT 
i Nからなる反射膜とをこの順にて基板上に積層せし
めた磁気光学記憶素子が示されている。
しかしながら、上記のように、磁性層に希土類金属を用
いた場合、非常に酸化されやすり、磁気光学特性が劣化
しやすい。ところが、これまでの媒体においては、そう
した酸化による経時変化を十分には防止できていない。
ハ0発明の目的 本発明の目的は、酸化による経時変化が防止され、再生
信号の品質の向上した光磁気記録媒体を提供することに
ある。
二0発明の構成及びその作用効果 即ち、本発明は、金属薄膜からなる光磁気記録層と、反
射膜とが積層されている光磁気記録媒体において、前記
反射膜がアルミニウム系合金(特に、ANが80a t
oa+ ic%以上)によって形成されていることを特
徴とする光磁気記録媒体に係るものである。
本発明によれば、上記組成の反射膜を設けているので、
カー回転角の増大に加え、光磁気記録層の酸化防止効果
が十分となることが判明した。これは、上記反射膜を構
成する合金元素が酸素の拡散を阻止する作用をもつから
であると考えられる。
本発明の目的を達成する上で、上記反射膜は、AI含有
量が80atomic%(以下「%」はatomic%
を表わす。)以上であるのが望ましく、例えば、ジュラ
ルミン系合金(4,0%Cu 、 0.5%Mg。
0.5%M n %残部Al) 、An!−Mg−3i
合金(0,7%Si、1.3%M g 、 0.25%
Cr %残部AZ)、Aβ−Si合金(5〜12%Si
、残部Al)、AJ−Mg合金(3,8〜10%M g
、残部Al1)、A N−Mn合金(Mn52%、残部
AJ)などがあり、これらはほぼ同等の効果を示す。
他方、上記光磁気記録層は、膜面に垂直方向に磁化容易
軸を有するものであって、公知の材質、即ちTbFe、
GdFe、、GdTbFeCo。
GdCo等の希土類−遷移金属アモルファス合金で構成
することができる。その製膜には、公知のようにスパッ
タリングを採用してよい。
また、この光磁気記録層上には、上記反射膜との間に透
明誘電体膜が設けられるが、こうした誘電体としては、
Si、N、をはじめAIN、S  io、  、 Zn
S、  I  TO(Indium   Tin   
0xide)等が挙げられる。この誘電体膜はスパッタ
リングによって光磁気記録層上に積層して設けることが
できるが、光磁気記録層と基板との間にも設けて光磁気
記録層を誘電体膜でサンドインチした構造としてもよい
。このサンドイッチ構造にすれば、基板として樹脂基板
を用いるときに生じがちな基板からの酸素の取り込みが
膜形成時に生じ難くなるので、有利であると考えられる
また、基板の構成材料は種々のものが採用可能であるが
、ポリエチレンテレフタレート、ポリ塩化ビニル、三酢
酸セルロース、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリア
ミド、ポリメチルメタクリレートの如きプラスチックス
がある。ガラス等、セラミックス等からなる基板も使用
可能である。或いは金属基板も使用してもよい。基板又
は基体の形状はシート、カード、ディスク、ドラムの他
、長尺テープ状でもよい。
第1図は、基板l上に、誘電体膜5と光磁気記録層2と
誘電体膜3と反射膜4とが順次積層された、本発明に基
づく光磁気記録媒体の一例を示すものである。
ここで、各層の厚みは誘電体膜5が1000〜2000
人、光磁気記録層2が200〜400人、誘電体膜3が
300〜700人、反射膜4が250〜1000人であ
るのがよい。この反射膜4の存在によって、耐蝕性の向
上に加えてカー回転角の増大、S/Nの向上が得られる
ホ、実施例 以下、本発明を実施例について更に詳細に説明する。
災施勇 透明ポリカーボネート基板上に、膜厚1400人のsi
、N4fi電体膜と膜厚250人のGdTbFeC。
非晶質合金薄膜とがスパッタリングによって順次形成さ
れ、その上に、膜厚500人のSi、N4誘電体膜(保
護膜)が窒素雰囲気中での反応性スパッタリングによっ
て形成された。更にその上に、1000人のA1−Mn
系合金膜(Mn52%、残部Al)がスパッタリングに
よって反射膜として形成された。
このようにして作製された光磁気記録媒体を温度60℃
、相対温度80%の恒温恒湿槽に入れて、耐腐蝕性試験
を行った。
ル較■ 実施例において、反射膜としてTi膜を用いた以外は同
様の記録媒体を作成し、これを上記した耐腐蝕性試験に
供した。
以上の結果を第2図に示したが、θk(カー回転角)に
ついては両者ともそれ程度化がないが、Hc(保磁力)
については反射膜がTiの場合よりも本発明に基づ<A
N系合金の場合の方が変化がずっと少ないことが分かる
以上、本発明を例示したが、上述の例は本発明の技術的
思想に基づいて更に変形可能である。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の実施例を示すものであって、第1図は光
磁気記録媒体の断面図、 第2図は耐腐蝕試験の結果を比較して示すグラフ である。 なお、図面に示す符号に於いて、 l・・・・・基板 2・・・・・光磁気記録層 3.5・・・誘電体膜 4・・・・・反射膜 である。 代理人  弁理士  逢 坂   宏 第1図 第2図

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、金属薄膜からなる光磁気記録層と、反射膜とが積層
    されている光磁気記録媒体において、前記反射膜がアル
    ミニウム系合金によって形成されていることを特徴とす
    る光磁気記録媒体。
JP8166686A 1986-04-09 1986-04-09 光磁気記録媒体 Pending JPS62239349A (ja)

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