DE4414107A1 - Korrosionsbeständige Silber-Legierung und Erzeugnisse unter Verwendung dieser Legierung - Google Patents
Korrosionsbeständige Silber-Legierung und Erzeugnisse unter Verwendung dieser LegierungInfo
- Publication number
- DE4414107A1 DE4414107A1 DE19944414107 DE4414107A DE4414107A1 DE 4414107 A1 DE4414107 A1 DE 4414107A1 DE 19944414107 DE19944414107 DE 19944414107 DE 4414107 A DE4414107 A DE 4414107A DE 4414107 A1 DE4414107 A1 DE 4414107A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- magnesium
- silver
- alloy
- layer
- atomic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22C—ALLOYS
- C22C5/00—Alloys based on noble metals
- C22C5/06—Alloys based on silver
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31678—Of metal
Description
Die Erfindung betrifft eine korrosionsbeständige Silber-
Legierung und insbesondere eine gegen Schwefel und Ozon
beständige Silberlegierung. Sie betrifft auch
Erzeugnisse unter Verwendung einer solchen Legierung und
Verfahren zu ihrer Herstellung.
Silber besitzt eine hervorragende Glanzeigenschaft und
ist ausgezeichnet dehnfähig und biegsam. Silber läßt
sich besonders gut verformen und gehört zu den Metallen
mit hoher Leitfähigkeit. Außerdem reflektiert Silber
fast 100%-ig Lichtwellen über einen weiten Wellenlängen
bereich und besitzt bakterizide Eigenschaften in Wasser.
Silber ist außerdem stabil und in Hochtemperatur
atmosphäre kaum oxidierbar. Diese Eigenschaften sind für
die Industrie besonders attraktiv. Silber wird daher auf
die verschiedenste Weise verwendet, z. B. als
reflektierender Film laminiert auf einem magneto
optischen oder optischen Aufzeichnungsmedium oder auch
auf einem Tafelset.
Schwefel oder die Schwefelkomponente eines Sulfides
korrodiert Silber leicht bei Raumtemperatur, wobei
Silbersulfid Ag₂S entsteht. Silbersulfid ist braun oder
schwarz und beeinträchtigt den Silberglanz. Ozon, das
nicht weniger aktiv ist als Schwefel korrodiert Silber
zu schwarzem AgO.
Braune oder schwarze Silbersulfide bzw. Silberoxide
mögen für dekorative Zwecke wünschenswert sein. Gewöhn
lich sind solche Sulfide bzw. Oxide aber unerwünscht,
und es sind die verschiedensten Maßnahmen zum Schutz von
Silber gegen Korrosion bekannt. Hierzu gehört auch die
Behandlung von Produkten aus Silber mit Chromsäure oder
ihre Beschichtung mit transparenten Kunststoffüberzügen
oder Harzen. Der effektivste Korrosionsschutz ist die
Beschichtung von Silberprodukten mit Rhodium. Die Be
schichtung mit Rhodium ist aber sehr kostspielig und die
noch bekannten Korrosionsschutzmaßnahmen sind gegen
Einflüsse von Schwefel und Ozon wenig effektiv. Außerdem
neigen die aufgetragenen Korrosionsschutz schichten bzw.
Korrosionsschutzfilme leicht zum Ablösen oder Abblättern
von den Silberprodukten.
Wenn beschichtetes Silber als eine Reflexionsschicht auf
einem magneto-optischen Aufzeichnungsmedium verwendet
ist, strahlt das beschichtete Silber bzw. die
Reflexionsschicht Wärmestrahlen ab, die auf einen
Magnetfilm aufgefallen sind und der magnetische Film
übersteigt kaum die Curie-Temperatur.
Es ist daher Aufgabe der Erfindung, eine Silberlegierung
anzugeben, die eine niedrige Wärmeleitfähigkeit besitzt,
eine hohe Reflexionsfähigkeit aufweist und weitgehend
frei ist von einer Beeinträchtigung des Silberglanzes
durch Korrosionseinflüsse.
Es ist weiter Aufgabe der Erfindung, die Verwendbarkeit
von Silber zu verbessern und zu erweitern und ein
einfaches Verfahren zur Herstellung der Legierung
anzugeben.
Zur Lösung der vorstehenden Aufgabe haben sich die
hiesigen Erfinder ihrer Beobachtung zunutze gemacht, daß
Magnesium hochglänzend ist und außerdem eine hohe
Biegsamkeit und Verformbarkeit besitzt. Außerdem beein
trächtigt Magnesium nicht die bevorzugten Eigenschaften
des Silbers. Dabei oxidiert Magnesium bei Raumtemperatur
während Magnesiumoxid so stabil ist, daß es durch
Schwefel oder Ozon im wesentlichen nicht beeinträchtigt
wird.
Auf der Grundlage dieser Beobachtung und in Verbindung
mit der vorstehenden Aufgabe wird diese dadurch gelöst,
daß Silber mit Magnesium legiert wird. Erfindungsgemäß
wird eine Silbermagnesiumlegierung vorgeschlagen, die 1
bis 10 Atom-Gew-% Magnesium enthält.
Für Reflexionsschichten von magneto-optischen Auf
zeichnungsmedien kann der maximale Magnesiumgehalt auf
8 Atom-Gew-% begrenzt sein. Er kann für
Reflexionsschichten eines optischen Aufzeichnungs mediums, eines Reflektors, eines Designs oder eines Illuminators auf 5 Atom-Gew.-% begrenzt sein, wobei die hier genannten Gegenstände für Anwendung erfindungsgemäßer Reflexionsschichten nur beispielsweise genannt sind.
Reflexionsschichten eines optischen Aufzeichnungs mediums, eines Reflektors, eines Designs oder eines Illuminators auf 5 Atom-Gew.-% begrenzt sein, wobei die hier genannten Gegenstände für Anwendung erfindungsgemäßer Reflexionsschichten nur beispielsweise genannt sind.
Merkmale und Vorteile der erfindungsgemäßen Legierungen
können der nachstehenden Beschreibung in Verbindung mit
der beigefügten Zeichnung entnommen werden. Hierin
zeigt:
Fig. 1 in einer Graphik die Zusammensetzung
einer auf ein Substrat aufgebrachten er
findungsgemäßen Schicht einer Silber
magnesiumlegierung über ihre Tiefe, er
mittelt durch zeitabhängiges Ätzen der
Schicht;
Fig. 2 in einer Graphik die Zusammensetzung der
unter veränderten Bedingungen auf das
Substrat aufgebrachten Schicht;
Fig. 3 eine Graphik zur Veranschaulichung der
Beziehung zwischen dem Reflexionsvermögen
der erfindungsgemäßen Legierung in Ab
hängigkeit vom Magnesiumgehalt in
Atom-Gew.-%;
Fig. 4 eine Graphik zur Veranschaulichung der
Veränderung des Reflexionsvermögens in
Abhängigkeit von der Zeit bei einem
Korrosionstest;
Fig. 5 eine Graphik zur Veranschaulichung der
Beziehung zwischen Wärmeleitfähigkeit und
dem Gehalt an Magnesium in Atom-Gew.-%
einer erfindungsgemäßen Legierung;
Fig. 6 die perspektivische Ansicht eines Teiles
einer magneto-optischen Aufzeichnungs
scheibe mit einer Reflexionsschicht aus
einer Silbermagnesiumlegierung gemäß der
Erfindung;
Fig. 7 einen Querschnitt der magneto-optischen
Aufzeichnungsscheibe zur Veranschau
lichung ihres strukturellen Aufbaus;
Fig. 8 einen Querschnitt einer anderen magneto
optischen Aufzeichnungsscheibe mit einer
erfindungsgemäßen Reflexionsschicht;
Fig. 9 eine perspektivische Ansicht eines Teils
einer optischen Aufzeichnungsscheibe mit
einer erfindungsgemäßen Reflexions
schicht;
Fig. 10 einen Querschnitt eines Illuminators bzw.
Beleuchtungskörpers mit einer erfindungs
gemäßen Reflexionsschicht zur Verdeut
lichung seines strukturellen Aufbaus;
Fig. 11 eine perspektivische Darstellung eines
Spiegels mit einer erfindungsgemäßen
Reflexionsschicht;
Fig. 12 eine perspektivische Darstellung eines
Behälters für Kosmetika, teilweise be
schichtet mit einem erfindungsgemäßen
Reflexionsfilm;
Fig. 13 einen Querschnitt durch den Behälter
nach Fig. 12;
Fig. 14 eine Grundrißansicht bzw. Draufsicht auf
eine Sputtering-Kammer eines Co-
Sputtering-Systems zum Auftragen einer
Silbermagnesiumlegierung nach der Er
findung;
Fig. 15 eine Seitenansicht einer Sputtering-
Kammer; und
Fig. 16 A bis 16C Seitenansichten der Sputtering-Kammer mit
einem Silbermagnesium-Target.
Der Gehalt an Magnesium in der erfindungsgemäßen Silber
magnesiumlegierung beträgt 1 bis 10 Atom-Gew.-%
Magnesium. Magnesium besitzt einen mit Silber
vergleichbaren hohen Glanz, ist biegsam und läßt sich in
dünnen Schichten bzw. Filmen herstellen. Diese
Eigenschaften macht es für eine Silbermagnesiumlegierung
besonders geeignet. Magnesium ist wesentlich leichter
als Silber bei Raumtemperatur oxidierbar und
Magnesiumoxid bildet sich über der gesamten Fläche.
Dabei ist Magnesiumoxid stabil und dient als ein
Schutzfilm gegen Schwefel und Ozon. Magnesiumoxid ist
transparent und die erfindungsgemäße
Silbermagnesiumlegierung bewahrt den Silberglanz über
eine lange Zeitspanne.
Der Grund für den erfindungsgemäßen Magnesiumgehalt ist
der, daß bei einem Magnesiumgehalt von weniger als 1
Atom-Gew-% ein wirksamer Schutzfilm gegen Schwefel und
Ozon nicht mehr in befriedigender Weise erreichbar ist.
Wenn der Magnesiumgehalt größer als 10 Atom-Gew.-% ist,
bilden Magnesium und Silber eine intermetallische
Verbindung innerhalb der auftragenen Schicht, die bei
Raumtemperatur nicht ausreichend oxidiert. Mit anderen
Worten, die magnesiumreiche Legierung kann keinen aus
reichenden Schutzfilm bilden.
Wenn die Silbermagnesiumlegierung in einer
Hochtemperatur-Hochfeuchtigkeitsatmosphäre gebildet
wird, wird die Oxidation wesentlich beschleunigt und der
Magnesiumoxidfilm bedeckt beschleunigt die Silber
magnesiumlegierung. Das Magnesium in dem aufgetragenen
Flächenbereich ist oxidiert und der Flächenbereich wird
somit aus reinem Silber und Magnesiumoxid gebildet. Die
Reflexionsfähigkeit des verbleibenden Silbers liegt bei
90 bis 95% und liegt somit nahe an der Reflexionsfähig
keit von reinem Silber von 98%.
Andererseits ist unter dem legierten Flächenbereich
keine Silbermagnesiumlegierung, und der Wärmeübergangs
koeffizient beträgt in dem Legierungsbereich ein Drittel
des von reinem Silber.
Die erfindungsgemäße Silbermagnesiumlegierung auf bzw.
in einem Körper weist eine hohe Reflexionsfähigkeit und
einen relativ niedrigen wärmeübergangskoeffizienten auf,
und ist als Reflexionsschicht bzw. Reflexionsfilm von
magneto-optischen oder optischen Aufzeichnungsmedien
besonders geeignet.
Erfindungsgemäß wird die Silbermagnesiumlegierung auf
einem Substrat unter Sputtering-Techniken aufgebracht.
Ein Silbertarget und ein Magnesiumtarget werden in einer
Sputtering-Anlage angeordnet. Die angelegte elektrische
Hochfrequenzenergie wird derart gesteuert, daß die
erfindungsgemäße Legierung in der Oberfläche des
Substrates gebildet wird. Der Magnesiumgehalt beträgt
für viele Anwendungsfälle durchschnittlich 6.18 Atom-
Gew.-%. Das Substrat kann in der Sputtering-Kammer
vorteilhafterweise zwischen zwei Positionen bewegt
werden, wobei sich zur Steuerung des Silber- und
Magnesiumgehaltes der Silber- und Magnesiumfluß ändert.
Die Silbermagnesiumlegierung wurde analysiert, wobei ein
AUGER-Analysator verwendet wurde.
Fig. 1 zeigt die Beziehung der Silbermagnesiumlegierung
unmittelbar nach der Aufbringung auf ein Substrat und
die Analyse der Legierung über der aufgebrachte
Schichttiefe durch Ätzung der Schicht.
Die Kurven A1, M1 und O1 zeigen den jeweiligen Gehalt an
Silber, Magnesium bzw. Sauerstoff über die Tiefe der auf
ein Substrat aufgebrachten Silbermagnesiumschicht, wie
er durch Ätzung der Schicht ermittelt wurde. Die Gehalte
zur Ätzzeit Null entsprechen den jeweiligen Gehalten im
obersten Flächenbereich und die Gehalte nach einer Ätz
zeit von 10 min entsprechen den jeweiligen Gehalten
einer Schichttiefe der aufgetragenen Silbermagnesium
legierung von etwa 1000 Å. Die aufgetragene Silber
magnesiumschicht bzw. der aufgetragene Silbermagnesium
film wurde in Intervallen geätzt. Die in Minuten
angegebenen Ätzzeit entspricht der 100-fachen Tiefe der
Ätzung in Å gemessen.
Die Silbermagnesiumschicht wurde in einer oxidierenden
Atmosphäre bei 80°C bei einer relativen Luftfeuchtigkeit
von 85% während 24 h auf das Substrat aufgetragen. Da
bei wurde die Atmosphäre in einem Feuchtbehälter herge
stellt, der auf konstante Temperatur eingestellt war.
Die Silbermagnesiumlegierung wurde nach der Oxidation
durch Ätzung über die Tiefe analysiert. Der Silbergehalt
A2, der Magnesiumgehalt M2 und der Sauerstoffgehalt O2
sind in der Graphik in Fig. 2 dargestellt.
Vergleicht man die Kurven A1 und M1 mit A2 und M2 in
Fig. 1 und 2, so ist der Silbergehalt in der äußersten
Schicht von 70 Atom-Gew.-% auf 50 Atom-Gew.-% erniedrigt
und der Magnesiumgehalt ist von 20 auf 30 Atom-Gew.-%
erhöht. Die Erhöhung des Magnesiumgehalts leitet sich
von der Bildung von Magnesiumoxid in der aufgebrachten
Schicht ab, und die Oxidation erhöht den Silbergehalt in
der Fläche.
Erfindungsgemäß wird die Silbermagnesiumlegierung durch
Co-Sputtering auf ein Substrat aufgebracht. Dabei wurde
der Magnesiumgehalt variert. Ein Laserstrahl mit einer
Wellenlänge von 632.8 nm wurde auf die Silbermagnesium
legierung abgestrahlt und die Reflexion wurde mit einem
Ellipsometer gemessen. Die gemessene Reflexion ist in
Abhängigkeit vom Magnesiumgehalt in Fig. 3 dargestellt.
Weitere erfindungsgemäße Silbermagnesiumlegierungen
wurden durch Co-Sputtering auf Substrate aufgebracht.
Die Legierungen bestanden dabei aus AgMg1.28, AgNg1.467
und AgMg6.18. Die Silbermagnesiumlegierungen und Silber
wurden in nasser Atmosphäre mit einer relativen
Feuchtigkeit von 85% bei 80°C korrodiert. Die Korrosion
wurde durch einen Ellipsometer aufgenommen und das
Reflexionsverhalten der Schichten in Abhängigkeit von
der Korrosionszeit wurde in Fig. 4 zusammengestellt. Bei
der Silbermagnesiumlegierung AgMg6.18 steigt das
Reflexionsvermögen über die Zeit an und bleibt nach 8 h
über die Zeit im wesentlichen konstant.
Die Reinheit des Silbers nahm durch die Korrosion ab.
Auf der anderen Seite hielten die Silbermagnesium
legierungen das Reflexionsvermögen aufrecht oder
erhöhten es. Dies läßt sich aus den Schutzfilmen von
Magnesiumoxid folgern, und der Korrosionstest bestätigt
die Wirksamkeit des Magnesiumoxid-Schutzfilms.
Die Wärmeleitfähigkeit von Silbermagnesiumlegierungen in
Abhängigkeit vom Magnesiumgehalt ist in Fig. 5 darge
stellt. Zunächst wurden Silbermagnesiumlegierungen von
1000 Å-Schichtstärken auf Substrate aufgetragen. Die
elektrische Leitfähigkeit (Sigma) wurde entlang den auf
getragenen Filmen gemessen, wobei jede Messung vierfach
kontrolliert wurde. Die Wärmeleitfähigkeit K wurde nach
Wiedenmann-Franz wie folgt gemessen
K = L × (Sigma) × T,
wobei L der Lorenzfaktor und T die absolute Temperatur
ist. Fig. 5 zeigt, daß bei einem Magnesiumgehalt von
größer 8 Atom-Gew.-% die Wärmeleitfähigkeit stark
verringert wird.
Von einer Reflexionsschicht eines magneto-optischen Auf
zeichnungsmediums wird nicht nur eine niedrigere Wärme
leitfähigkeit, sondern auch ein hohes Reflexionsvermögen
erwartet. Die maximale Wärmeleitfähigkeit ist 213 der
Wärmeleitfähigkeit von Silber, und das minimale
Reflexionsvermögen beträgt 80%. Die Wärmeleitfähigkeit
von Silber ist 3.204 Watt/cmK, und die maximale Wärme
leitfähigkeit der Silbermagnesiumlegierung ist 2.14
Watt/cmK. Der maximale Magnesiumgehalt ist in Fig. 3 an
gegeben und beträgt etwa 8 Atom-Gew.-%. Auf der anderen
Seite ist die Wärmeleitfähigkeit begrenzt, und nach Fig. 5
liegt der minimale Magnesiumgehalt bei 1 Atom-Gew.-%.
Der Magnesiumgehalt bei 1 Atom-Gew.-% ist auch der
minimale Gehalt zur Bildung von Magnesiumoxid, wie oben
beschrieben. Hieraus folgt, daß der Magnesiumgehalt zwi
schen 1 bis 8 Atom-Gew.-% für eine Reflexionsschicht für
magneto-optische Aufzeichnungsmedien wünschenswert sind.
Fig. 6 zeigt einen Teil eines Polycarbonatsubstrats 11
und konzentrische Vertiefungen 12 in einem Flächenteil
des Substrates 11. Die Vertiefungen 12 trennen
konzentrische Regionen 13 voneinander.
Die Schutzschicht 14 aus SiAlON oder Si₃N₄ bedeckt die
Hauptfläche des Polycarbonat-Substrats 11 (siehe Fig. 7)
und eine Aufzeichnungsschicht 15 aus TbFeCo oder
TbFeCoCr ist auf der Schicht 14 laminiert. Hierbei ist
die Dicke der Aufzeichnungsschicht 15 etwa 200 bis 250
Å. Eine weitere Schutzschicht 16 bedeckt die Auf
zeichnungsschicht 15, und eine Reflexionsschicht 17 ist
auf der Schutzschicht 16 laminiert. Die Reflexions
schicht besteht aus einer erfindungsgemäßen Silber
magnesiumlegierung. Der Magnesiumgehalt liegt zwischen 1
Atom-Gew.-% und 8 Atom-Gew.-%, und die Schichtdicke
beträgt 500 bis 1000 Å. Ein Schutzfilm 18 ist auf die
Reflexionsschicht 17 und die Rückseite des Polycarbon-
Substrates 11 laminiert. Ausgenommen die
Reflexionsschicht 17 können die übrigen Schichten analog
den Schichten bekannter magneto-optischer
Auszeichnungsscheiben ausgebildet sein.
Beide oder einer der Schutzschichten 14 und 16 können
bei der magneto-optischen Aufzeichnungsscheibe entfal
len, und eine andere Komponentenschicht, wie eine
Buffer-Schicht kann in der magneto-optischen Scheibe
enthalten sein.
In einem Aufzeichnungsmodus erwärmt ein Laserstrahl die
Aufzeichnungsschicht 15 über die Curie-Temperatur, so
daß ein magnetisches Feld die Orientierung von jeder
magnetischen Domäne in der Aufzeichnungsschicht ändern
kann. Auf der anderen Seite ist die Orientierung von
jeder magnetischen Domäne von einem geeigneten Detektor
in einem Ablesemodus erfaßt, um die Datenbits abzurufen.
Konzentrische Aufzeichnungsregionen der Aufzeichnungs
schicht 15 sind durch die konzentrischen Regionen 13 be
stimmt und sind zur Datenaufzeichnung verfügbar. Daten
bits werden über kleine Teilbereiche 13a in den
konzentrischen Regionen 13 (siehe Fig. 6) übertragen.
Dabei entsprechen die kleinen Teilbereiche magnetischen
Domänen.
Die Reflexionsschicht 17 kann in einer 5.25 Inch
magneto-optischen Aufzeichnungsscheibe eingeschlossen
sein, wie es in Fig. 8 gezeigt ist, wobei gleiche Be
zugszeichen in den Fig. 6 bis 8 entsprechende Teile bzw.
Schichten bezeichnen.
Eine Reflexionsschicht ist auch für ein optisches Auf
zeichnungsmedium geeignet, z. B. eine optische Auf
zeichnungsscheibe oder eine optische Aufzeichnungskarte.
Fig. 9 zeigt eine optische Aufzeichnungsscheibe, die aus
einem transparenten Substrat aus plastischem Kunststoff
21 mit einer Reflexionsschicht 22 besteht, die von einer
Schutzschicht 23 aus SiAION oder Si₃N₄ überdeckt ist.
Die optische Aufzeichnungsscheibe wird auch als "Compact
Disk", z. B. zur Wiedergabe von Musik und Sprache
bezeichnet. Die Reflexionsschicht 22 ist 500 bis 1000 Å
dick, und die Silbermagnesiumschicht enthält Magnesium
von 1 bis 5 Atom-Gew.-%. Die Reflektierbarkeit der
Reflexionsschicht ist nicht niedriger als 90%, und Fig.
3 zeigt einen maximalen Magnesiumgehalt von 5
Atom-Gew.-%. Bei optischen Aufzeichnungsscheiben ist
eine niedrigere Wärmeleitfähigkeit nicht gefragt, so daß
der minimale Magnesiumgehalt in der
Silbermagnesiumschicht verwendbar ist.
Die optische Aufzeichnungsscheibe rotiert in Richtung
des Pfeils AR, und ein Laserstrahl 24 liest über eine
optische Linse 25 Daten aus, die in Form von
Vertiefungen 26 (Pits) auf der Scheibe gespeichert sind.
Fig. 10 zeigt im Querschnitt eine Reflexionsschicht, die
in einem Illuminator (Beleuchtungsgerät) eingeschlossen
ist, der aus einer Basisplatte 31 aus einem
synthetischen Harz oder Kunststoff, einer Adhäsions
schicht 32, einer Dichtungsschicht 33, der
erfindungsgemäßen Reflexionsschicht 34 aus einer
Silbermagnesiumlegierung und einer Deckschicht 35
besteht. Der Magnesiumgehalt der erfindungsgemäßen
Reflexionsschicht 34 liegt hier bei 1 bis 5 Atom-Gew.-%,
und die Dicke der Reflexionsschicht beträgt 1000 bis
1000 Å, weil der Anti-Korrosionswiderstand und das
Reflexionsvermögen für die Anwendung wichtig sind. Das
Reflexionsvermögen der erfindungsgemäßen Schicht ist
größer als von Aluminium und liegt nicht unter 90%.
Die Reflexionsschicht kann auf einer dünnen Platte aus
einem Polycarbonat oder Kunstharz bestehen.
Fig. 11 zeigt eine erfindungsgemäße Reflexionsschicht 41
aus einer Silbermagnesiumlegierung auf einer Glasplatte
42. Die Schichtdicke beträgt 1000 Å bis 1 µm. Eine
Schutzschicht 43 aus synthetischem Harz überdeckt die
Reflexionsschicht 41. Der Magnesiumgehalt der Silberma
gnesiumlegierung liegt zwischen 1 bis 5 Atom-Gew.-%,
wobei das Reflexionsvermögen höher ist als von
Aluminium. Die Silbermagnesiumlegierung ist in ihrem
Reflexionsvermögen ähnlich dem von Chrom und der
Korrosionswiderstand ist gegenüber Chrom wesentlich
höher.
Fig. 12 und 13 zeigen ein Behältnis, insbesondere einen
Kosmetikbehälter aus einem Aufnahmekörper 51 und einer
Verschlußkappe 52. Der Behälter 51 ist teilweise mit
einem erfindungsgemäßen Reflexionsfilm 51a versehen, und
die Kappe 52 ist vollständig mit einem erfindungsgemäßen
Reflexionsfilm 52a versehen. Die Reflexionsfilme
befinden sich zwischen einer inneren Polycarbonat- bzw.
Kunstharzschicht 53 und einer äußeren Polycarbonat- bzw.
Kunstharzschicht 54 und die Schichtenstruktur 51a/52a,
53 und 54 bedeckt einen tubenartigen Kunststoff- bzw.
Kunstharzkörper 55.
Der Magnesiumgehalt der Silbermagnesiumlegierung der Re
flexionsfilme 51a und 52a beträgt 1 bis 5 Atom-Gew.-%
und ist etwa 1000 Å bis 1 µm dick. Das hohe
Reflexionsvermögen ist nicht niedriger als 90% und der
Grund für das hohe Reflexionsvermögen ist identisch mit
dem der Reflexionsschichten 34 und 41.
Die erfindungsgemäße Silbermagnesiumlegierung wird durch
Sputtering-Technik, Vakuumverdampfungs-Technik und
Ionen-Plating-Technik auf ein Substrat aufgebracht.
Magnetron-Sputtering ist zur Auftragung besonders ge
eignet, weil der Schichtenaufbau und die Struktur der
Schicht genau steuerbar ist, die Legierung sich nur
schwer ablöst, d. h. eine hohe Haftfähigkeit erzielbar
ist und Substrate in den verschiedensten Abmessungen
verwendbar sind. Die erfindungsgemäße Silbermagnesium
legierung kann durch ein Magnetron-Sputtering-System auf
ein magneto-optisches Aufzeichnungsmedium (Compact-Disk)
verwendet werden. Andererseits kann eine CVD-Technik und
ein Ionen-Plating zum Aufbringen der erfindungsgemäßen
Legierung auch auf Produkte aus Kunststoff oder Metall
für den Hausgebrauch und auf Spiegel verwendet werden.
Die Fig. 14 und 15 zeigen schematisch eine Sputtering-
Kammer eines Co-Sputtering-Systems. Ein 5 Inch
Magnesiumtarget 61 ist in einem Winkel von 62 bis 120°C
von einem 5 Inch Silbertarget entfernt. Beide Targets 61
und 62 liegen auf einem Kreisbogen 63 mit einem Radius
von 14 cm, dessen Mittelpunkt mit 64 im Zentrum der
Sputtering-Kammer liegt. Im Abstand von 70 mm befindet
sich oberhalb der Targets 61 und 62 eine
Substrathalterungsvorrichtung 65 mit einer zentralen
Achse 65a, um die die Halterungsvorrichtung drehbar ist.
Diese ist außerdem entlang dem Kreisbogen 63 bewegbar,
so daß der Winkel R zwischen der Halterungsvorrichtung
und einem Target einstellbar ist. Der Aufbau der
erfindungsgemäßen Silbermagnesiumlegierung ist abhängig
von dem Winkel R. Ist z. B. der Winkel R Null, beträgt
der Magnesiumgehalt der Silbermagnesiumlegierung 1.28
Atom-Gew.-%. Beträgt der Winkel R 20° wird der
Magnesiumgehalt auf 6.18 Atom-Gew.-% erhöht.
Beim Sputtering der Targets 61 und 62 wird in der Kammer
ein Vakuum von 5 × 10-7 Torr hergestellt und Argongas
zugeleitet, wobei ein Druck von 1 × 10-3 eingestellt
wird. Eine elektrische Hochfrequenz von 100 Watt wird an
das Silbertarget und eine elektrische
Hochfrequenzenergie von 150 Watt wird an das
Magnesiumtarget angelegt. Die Hochfrequenz ist
einstellbar, um den gewünschten Aufbau der
Silbermagnesiumlegierung zu erzielen. Die gewählte Hoch
frequenzenergie kann fest eingestellt sein, während der
laterale Abstand geändert wird. Wenn die Hochfrequenz
energie geändert wird, kann der Schichtenaufbau mit
hoher Genauigkeit bzw. empfindlich geändert werden.
In den Fig. 16A bis 16C ist ein Legierungstarget 71 in
einer anderen Sputtering-Kammer eingesetzt. Das
Legierungstarget 71 besteht aus einer Silbermagnesium
legierung mit einem Magnesiumgehalt von 3.5 Atom-Gew.-%.
Der vertikale Abstand zwischen dem Legierungstarget 71
und der Substrat-Halterungsvorrichtung 72 ist auf 7 cm
fest eingestellt. Der laterale Abstand ist dagegen
einstellbar, wie die Fig. 16A bis 16C verdeutlichen. So
kann das Zentrum des Targets mit der Drehachse der
Halterungsvorrichtung zusammenfallen (Fig. 16A).
In Fig. 16B ist das Target mit einem Durchmesser von 12
cm beispielsweise um 6 cm und in Fig. 16C ist das Target
um beispielsweise 12 cm seitlich verschoben.
Das Sputtering erfolgte bei einer Hochfrequenz von 200
Watt. In die Vakuumkammer mit einem Vakuum 5×10-7 Torr
wurde Argongas bis zu einem Druck von 1×10-3 Torr ein
geleitet. Die auf das Substrat aufgetragene Schichtdicke
betrug 1000 Å. In der Stellung gemäß Fig. 16A betrug der
Gehalt an Silber 98.533 Atom-Gew.-% und der
Magnesiumgehalt lag bei 1.467 Atom-Gew.-%. Das
Reflexionsvermögen unmittelbar nach dem Sputtering-
Verfahren betrug 96.15%. In der Stellung gemäß Fig. 16B
betrug der Silbergehalt 98.764 Atom-Gew.-% und der
Magnesiumgehalt lag bei 1.236 Atom-Gew.-%. Das
Reflexionsvermögen lag nach dem Sputtering bei 96.68%.
Die Silbermagnesiumlegierung bei einer Stellung gemäß
Fig. 16C enthielt einen Silbergehalt von 98.962 Atom-
Gew.-% und einem Magnesiumgehalt von 1.038 Atom-Gew.-%.
Das Reflexionsvermögen nach dem Sputtering betrug 96.94
%. Das Reflexionsvermögen wurde mit einem Ellipsometer
gemessen.
Der Aufbau bzw. die Zusammensetzung der Silbermagnesium
legierung ist daher in Abhängigkeit von der seitlichen
Verschiebung des Targets gegenüber der Substrathalterung
einstellbar.
Wie vorstehend erläutert, weist die erfindungsgemäße
Silbermagnesiumlegierung eine niedrige Korrosionsfähig
keit auf, wofür Magnesiumoxid verantwortlich ist. Der
Silberglanz kann daher über eine wesentlich verlängerte
Zeit aufrechterhalten werden.
Obwohl die Erfindung anhand von ausgewählten Aus
führungsbeispielen beschrieben ist, ist es für den Fach
mann klar, daß sich Änderungen bzw. veränderte
Bedingungen leicht vornehmen lassen. So ist die er
findungsgemäße Legierung für jedes Produkt anwendbar,
das vor Korrosionseinflüssen einer Atmosphäre zu
schützen ist, die Schwefel und/oder Ozon enthält.
Claims (14)
1. Silbermagnesiumlegierung, gekennzeichnet
durch einem Magnesiumgehalt von 1 Atom-Gew.-% bis 10
Atom-Gew.-%.
2. Legierung nach Anspruch 1, in der
Magnesiumoxid als Schutz vor Korrosionseinflüssen der
Legierung, insbesondere Schwefel und/oder Ozon gebildet
ist.
3. Legierung nach Anspruch 2, bei der der
Magnesiumgehalt zwischen 1 Atom-Gew.-% und 8 Atom-Gew.-%
liegt.
4. Legierung nach Anspruch 3, dadurch gekenn
zeichnet, daß sie eine Reflexionsschicht (17) bildet,
die innerhalb eines magneto-optischen Aufzeichnungs
mediums (11, 14, 15, 16, 17, 18) Licht gegenüber einer
Aufzeichnungsschicht (15) reflektiert.
5. Legierung nach Anspruch 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Reflexionsschicht (17) eine Dicke von
500 bis 1000 Å aufweist.
6. Legierung nach Anspruch 2, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Magnesiumgehalt zwischen
1 Atom-Gew.-% und 5 Atom-Gew.-% liegt.
7. Legierung nach Anspruch 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß sie eine Reflexionsschicht (22) bildet,
die in einem optischen Aufzeichnungsmedium, insbesondere
einer Compact Disk, angeordnet ist.
8. Legierung nach Anspruch 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Reflexionsschicht eine Dicke von 500
bis 1000 Å aufweist.
9. Legierung nach Anspruch 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß sie eine Reflexionsschicht (34; 41; 51a,
52a) bildet, die in bzw. an einem Beleuchtungskörper
(31, 32, 33, 34, 45), einem Spiegel (41, 42, 43) und
einem Behältnis (51, 52), insbesondere für Kosmetika an
geordnet ist.
10. Legierung nach Anspruch 9, dadurch gekenn
zeichnet, daß sie eine Schichtdicke von 1000 Å bis 1 µm
aufweist.
11. Verfahren zur Herstellung der Legierung nach
einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekenn
zeichnet, daß eine Sputtering-Technik in einer Vakuum
kammer mit Hochfrequenzenergie angewendet wird, wobei
ein Vakuum von 5 × 10-7 Torr hergestellt wird und
Argongas zugeführt wird, bis in der Kammer ein Druck von
1×10⁻3 Torr erreicht ist.
12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekenn
zeichnet, daß in die Kammer ein Silbertarget und ein
Magnesiumtarget eingesetzt wird.
13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekenn
zeichnet, daß in die Kammer ein Silbermagnesium
legierungstarget eingesetzt wird.
14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekenn
zeichnet, daß der Magnesiumgehalt des Target
3,5 Atom-Gew.-% beträgt.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12068993 | 1993-04-22 | ||
JP9804694A JPH073435A (ja) | 1993-04-22 | 1994-04-12 | 高耐食性Ag−Mg合金、および、その薄膜 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4414107A1 true DE4414107A1 (de) | 1994-10-27 |
DE4414107C2 DE4414107C2 (de) | 1998-03-19 |
Family
ID=26439241
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19944414107 Expired - Fee Related DE4414107C2 (de) | 1993-04-22 | 1994-04-22 | Verwendung einer korrosionsbeständigen Silber-Magnesium-Legierung |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5612133A (de) |
JP (1) | JPH073435A (de) |
DE (1) | DE4414107C2 (de) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1253373A2 (de) | 2001-04-24 | 2002-10-30 | Mitsui Chemicals, Inc. | Lampen- Reflektoreinheit und Reflektor |
EP1560704A1 (de) * | 2003-04-18 | 2005-08-10 | Target Technology Company, LLC. | Metalllegierungen für die reflektierende oder semireflektierendeschicht eines optischen speichermediums |
US7291374B2 (en) | 1998-06-22 | 2007-11-06 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7314659B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7314657B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7314660B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7316837B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-08 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7374805B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-05-20 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0470546B1 (de) * | 1990-08-07 | 1998-11-04 | Hitachi Maxell Ltd. | Magnetooptischer Aufzeichnungsträger |
WO2001044534A1 (fr) * | 1999-12-16 | 2001-06-21 | Hitachi, Ltd | Procede et appareil de depot de couches minces |
US7465424B2 (en) * | 2001-03-16 | 2008-12-16 | Ishifuku Metal Industry Co., Ltd. | Sputtering target material |
US20070095661A1 (en) * | 2005-10-31 | 2007-05-03 | Yi Wang | Method of making, and, analyte sensor |
WO2020070824A1 (ja) * | 2018-10-03 | 2020-04-09 | 三菱マテリアル株式会社 | 積層膜、及び、Ag合金スパッタリングターゲット |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2161254A (en) * | 1939-03-18 | 1939-06-06 | Mallory & Co Inc P R | Silver-magnesium contact |
US4786559A (en) * | 1985-12-25 | 1988-11-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | Magnetooptical storage element |
JPS62239349A (ja) * | 1986-04-09 | 1987-10-20 | Konika Corp | 光磁気記録媒体 |
JPH081709B2 (ja) * | 1989-06-23 | 1996-01-10 | 帝人株式会社 | 光磁気記録媒体 |
JPH0438737A (ja) * | 1990-06-04 | 1992-02-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 光磁気ディスク |
JPH0461045A (ja) * | 1990-06-29 | 1992-02-27 | Dainippon Ink & Chem Inc | 光磁気記録媒体 |
-
1994
- 1994-04-12 JP JP9804694A patent/JPH073435A/ja active Pending
- 1994-04-22 DE DE19944414107 patent/DE4414107C2/de not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-04-05 US US08/631,623 patent/US5612133A/en not_active Expired - Fee Related
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
DE-B.: Raub, Ernst: Die Edelmetalle und ihre Le- gierungen, Springer, 1940, S.132,133 * |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7291374B2 (en) | 1998-06-22 | 2007-11-06 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7384677B2 (en) | 1998-06-22 | 2008-06-10 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7316837B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-08 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7314659B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7314657B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7314660B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-01-01 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US7374805B2 (en) | 2000-07-21 | 2008-05-20 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
US6906863B2 (en) | 2001-04-24 | 2005-06-14 | Mitsui Chemicals Inc. | Lamp reflector and reflector |
EP1253373A2 (de) | 2001-04-24 | 2002-10-30 | Mitsui Chemicals, Inc. | Lampen- Reflektoreinheit und Reflektor |
EP1253373A3 (de) * | 2001-04-24 | 2005-03-16 | Mitsui Chemicals, Inc. | Lampen- Reflektoreinheit und Reflektor |
EP1560704A1 (de) * | 2003-04-18 | 2005-08-10 | Target Technology Company, LLC. | Metalllegierungen für die reflektierende oder semireflektierendeschicht eines optischen speichermediums |
EP1560704A4 (de) * | 2003-04-18 | 2006-09-06 | Target Technology Co Llc | Metalllegierungen für die reflektierende oder semireflektierendeschicht eines optischen speichermediums |
US7645500B2 (en) | 2003-04-18 | 2010-01-12 | Target Technology Company, Llc | Metal alloys for the reflective or the semi-reflective layer of an optical storage medium |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4414107C2 (de) | 1998-03-19 |
US5612133A (en) | 1997-03-18 |
JPH073435A (ja) | 1995-01-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE4414107C2 (de) | Verwendung einer korrosionsbeständigen Silber-Magnesium-Legierung | |
DE3534571C2 (de) | ||
KR920001263B1 (ko) | 정보의 기록 · 소거방법 | |
DE69920458T2 (de) | Metalllegierungen für die reflektions- oder halbreflektierende schicht eines optischen speichermediums | |
DE3619601C2 (de) | Optisches Aufzeichnungsmittel | |
DE3902596C2 (de) | ||
DE60311804T2 (de) | Datenaufzeichnungsmedium und herstellungsverfahren hierfür | |
DE4440006A1 (de) | Magneto-optisches Aufzeichnungsmedium | |
DE19530997A1 (de) | Korrosionsbeständiger Film zum Schutz von Ag-Oberflächen und korrosionsbeständige Verbundstrukturen | |
JP3558301B2 (ja) | 高耐食性Ag−Mg合金の薄膜 | |
US4973520A (en) | Optical recording medium | |
DE3903484A1 (de) | Magnetooptischer duennschichtfilm | |
DE4137427C1 (de) | ||
US5166034A (en) | Optical recording media and process for preparing same | |
US4960627A (en) | Optical recording media and process for preparing same | |
DE4008075A1 (de) | Magnetooptische datenplatte | |
DE4231160A1 (de) | Magneto-optisches informations-aufzeichnungsmedium | |
JPH04219619A (ja) | 薄層透明な腐食防止膜およびその製造法 | |
DE4023884A1 (de) | Magnetooptisches aufzeichnungsmedium | |
EP0476465A1 (de) | Magnetooptische Datenplatte mit Pt-haltiger Leseschicht | |
DE4126498A1 (de) | Verfahren zur herstellung von magnetischen aufzeichnungsmedien | |
Sella et al. | Structure and optical properties of Au Cr sputtered films used in digital optical recording media | |
DE3817708A1 (de) | Magnetoptisches informationsspeichermedium und verfahren zu seiner herstellung | |
JPH01205740A (ja) | 光記録媒体 | |
JPH0248990A (ja) | 光記録媒体およびその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
D2 | Grant after examination | ||
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |