JPH03248337A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、長期信頼性に極めて優れたＡｌ反射膜を有す
る光ディスクに関するものである。

〔従来の技術およびその課題〕

デジタルオーディオディスク、光学式ビデオディスク、
ＣＤ−ＲＯＭが再生専用型光ディスクとして広く用いら
れている。

これらの光ディスクは、通常、情報を書き込んだ透明樹
脂基板に金属反射膜、その保護層を形成した構成であり
、金属反射膜は通常、アルミニラＡ（ＡＡ）をスパッタ
リングや蒸着などにより、また、保護層は紫外線硬化型
樹脂を主に用いて形成されている。

ところで、再生専用型光ディスクは市販されるようにな
ってから数年を経、これら市販品の一部の、１反射膜の
反射率低下やピンホールの増加などが見られる。また、
デジタルオーディオディスクは車載されるようになり、
より過酷な条件下での使用も増えつつある。

その結果、このような長期成いは過酷環境下での使用に
おいても劣化の実質的にない光ディスクが求められるよ
うに成って来ている。

ＡＩ２反射膜の腐食は、主に基板樹脂側から浸透して来
た水、樹脂中に含まれる遊離塩素などによって、ＡＩｌ
が水酸化物、酸化物、塩化物などに変化することによる
ものであり、また、基盤と１反射膜との密着力が低下す
ると、この間隙に水などが拡散浸透し易くなり、腐食を
促進する。

樹脂と金属との密着力は通常弱い。しかし光ディスクの
場合、密着力改善のための表面粗化処理などは出来ない
ものである。そこで解決策としては、腐食性の低い金（
Ａｕ）などを用いる方法、水透過性の低い基盤を選択す
る方法などが提案されているが、いずれの方法もコスト
、量産性の点に課題があるものであった。

〔課題を解決するための手段〕

本発明者らは、この解決策について鋭意検討した結果、
アンダーコート層を形成する方法を光ディスクに応用す
ることによりこの問題が大幅に解決されることを見出し
、本発明を完成させた。

すなわち、本発明は、ポリカーボネート樹脂基盤とＡｌ
反射膜との間に、ケイ素或いはケイ素化合物と金属酸化
物との混合膜が形成された光ディスクであり、該ケイ素
或いはケイ素化合物がケイ素又は酸化ケイ素であること
、該金属酸化物が酸化チタンであること、該混合膜の厚
さが　１０八〜１００八であることであり、さらに該混
合膜が基盤からＡＡ反射膜へと連続的にケイ素化合物層
、ケイ素化合物と金属酸化物との混合層、金属酸化物層
の順で移行するように形成されたものであることからな
る光ディスクである。

以下、本発明の構成について説明する。

本発明のポリカーボネート樹脂基盤とは、光デイスク基
盤用として用いられ、予めビットなどの情報が刻まれた
ものであり、特に限定はなく、ホモ−、コーポリカーボ
ネートは無論、グラフトポリカーボネートなどであって
もよい。

本発明の蒸着に用いるＡｌは純度９９％以上のものを用
い反射率及び経済性から厚さ５００八〜２０００人とな
るようにするのが好ましい。

本発明の上記したアルミニウム蒸着膜と基盤との間に中
間層を形成するケイ素化合物と金属酸化物との混合膜と
は、ポリカーボネート樹脂基盤上に、ケイ素或いはケイ
素化合物層、ケイ素或いはケイ素化合物と金属酸化物き
の混合層、金属酸化物層と順次形成したものである。そ
の厚さはピットの形状、特に深さを考慮し、その形状が
実質的に変化しない範囲とすることが好ましく、１０Å
〜１００　Ａの範囲から選択するのが好適である。又、
ケイ素或いはケイ素化合物としてはケイ素又は酸化ケイ
素が好ましく、金属酸化物としては酸化チタンが好適で
ある。

この中間層の蒸着膜は、通常、真空蒸着装置中にケイ素
或いはケイ素化合物と金属酸化物の蒸発部並びにＡｌの
蒸発部とを設け、基盤をセットし、まず、ケイ素或いは
ケイ素化合物上金属酸化物の蒸発源を加熱して融点の低
いケイ素或いはケイ素化合物を蒸着し、ついで温度を上
げてケイ素或いはケイ素化合物と金属酸化物とを同時に
蒸着し、ケイ素或いはケイ素化合物の蒸発終了後も金属
酸化物が残存するようにして金属酸化物を蒸着すること
によって形成する。この中間層の蒸着膜は一例を挙げれ
ば、ケイ素化合物として酸化ケイ素を、金属酸化物とし
て酸化チタンを用い、ポリカーボネート基盤側から順次
、酸化ケイ素層、酸化ケイ素と酸化チタンとの混合層、
酸化チタン層とする。

ついで、Ａｌの蒸発部を加熱して、ｌを蒸着することに
より所望の蒸着を完了する。この後、蒸着膜の保護層を
形成して本発明の光ディスクを得る。

〔実施例〕

以下、実施例および比較例によって具体的に説明する。

実施例　１ タングステン（Ｗ）製の蒸着源を２極持つ真空蒸着装置
（真空槽、直径６５０ｍｍ、高さ７５０＋ｎｍ）を用い
、蒸発源の一方に０．２ｇの純度９９％酸化ケイ素とＯ
，Ｉｇの純度９９％酸化チタンを、他方に３ｇの純度９
９．９９％のＡｌ２を乗せ、直径１３ＩＩＪのポリカー
ボネート樹脂製光デイスク基盤をセットし、真空度ｚｘ
１ｏ−’　ｔｏｒｒになるまで真空化した。

まず、酸化ケイ素と酸化チタンとを乗せた蒸発源を加熱
し、１．２００℃で融点の低い酸化ケイ素を蒸発を開始
し、１．５００℃に上げて酸化ケイ素と酸化チタンとを
同時に蒸発させ、先に酸化ケイ素が無くなり、ついで残
りの酸化チタンを蒸発させることによりアンダーコート
層を形成した。次に、Ａβを乗せた蒸発源を７００℃に
加熱してＡＡを蒸発させることにより蒸着を完了した。

蒸着膜を形成した基盤を取り出し、市販のコンパクトデ
ィスク用紫外線硬化塗料をＡＩ２膜上にスピンコード法
により塗布し、硬化させて光ディスクとした。

この光ディスクの膜厚は、膜厚計による測定並びに計算
からＡＡ膜約１．５００人、アンダーコート要約　５０
八であった。

この光ディスクの性能を、下記した密着性（ポリカーボ
ネート基盤とＡｌ膜との間）と耐腐食性の試験を行うこ
とにより評価した結果を第１表および第２表に示した。

・密着性試験。

光ディスクを、温度８０℃、相対湿度８５％の雰囲気下
で２４時間放置後、セロハンテープによる基盤目ピーリ
ングテストを行い、次式に基づいて評価した。

・耐腐食性試験。

光ディスクを、温度８０℃、相対湿度８５％の雰囲気下
で５００時間まで所定の時間毎に光線透過率を測定し、
次式に基づいて評価した。

比較例　１ 実施例１において、酸化ケイ素と酸化チタンとを用いた
アンダーコート層の蒸着を行わない他は全く同様にした
結果を第１表および第２表に示した。

比較例　２ 実施例１において、酸化ケイ素と酸化チタンの量を１Ａ
ｌ０として蒸着を行い、５人のアンダーコート層を形成
する他は全く同様にした結果を第１表および第２表に示
した。

第１表（密着性） 第２表 （腐食性） 〔発明の作用および効果〕 以上、発明の詳細な説明、実施例、比較例から明らかな
ように、本発明の基盤とＡＡ膜との間にケイ素或いはケ
イ素化合物と金属酸化物との膜を有する光ディスクは、
Ａｊ２膜の基板への密着性を向上させると共に腐食性が
大幅に減少し、大幅に寿命の長いものとなる。

しかも、本発明のこの中間層の蒸着法は、コストが比較
的安価で容易に量産化可能であることから、再生専用型
光ディスクの製造に好適に使用可能なものである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １　ポリカーボネート樹脂基盤とＡｌ反射膜との間に、
   ケイ素或いはケイ素化合物と金属酸化物との混合膜が形
   成された光ディスク。 ２　該ケイ素或いはケイ素化合物がケイ素又は酸化ケイ
   素である請求項１記載の光ディスク。 ３　該金属酸化物が酸化チタンである請求項１記載の光
   ディスク。 ４　該混合膜の厚さが１０Å〜１００Åである請求項１
   記載の光ディスク。 ５　該混合膜が基盤からＡｌ反射膜へと連続的にケイ素
   化合物層、ケイ素化合物と金属酸化物との混合層、金属
   酸化物層の順で移行するように形成されたものである請
   求項４記載の光ディスク。