JPH0322657B2 - - Google Patents
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Description
（技術分野）
本発明はレーザー光の反射または透過により信
号の記録・再生を行う光学式情報記録体に関す
る。 （従来技術） 従来、ビデオデイスク、オーデイオデイスク、
情報フアイルボツクス等の光学式デイスクの基板
用材料としては、ポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネート等の透明性に優れた合成樹脂が使
われている。 しかしながら、ポリメチルメタクリレートは、
成型加工性と強度に優れているが、耐透湿性に劣
り、片面に記録層が設けられ、該記録層上にアル
ミニウム等の反射膜が設けられた光学式デイスク
の記録層からの侵入は反射膜により阻止される
が、記録層が設けられていない方の片面から水分
の侵入があるため、高湿下では、成形品に反りが
生じ信号の読み取りに誤差が生じたり、また、吸
湿と乾燥との繰返しにより、ポリメチルメタクリ
レートと反射膜との間に剥離が生じるという欠点
がある。 この点を改善するため、例えば特開昭58−
32238号公報に記載の如く、透明樹脂基板の一面
に、不透湿性の記録媒体層または反射膜を、他面
にCaF2、SiO2の不透湿膜を設けることにより、
デイスク周囲の温度、湿度変形に対し安定化させ
ることが提案されているが、耐透湿性は十分でな
く、前記欠点を解消するに至つていない。 また、ポリカーボネートは、成形加工性が悪
く、成形時の歪が樹脂中に残り、複屈折が生じや
すく、大形のデイスクには使用できないという欠
点がある。 （発明の目的） 本発明は、叙上の如き従来の欠点を解消し、透
明性、成形性に優れ、複屈折がなく、且つ耐透湿
性に優れた光学式情報記録体を提供することを目
的としてなされたものである。 （発明の要旨） 本発明の要旨は、一面に記録層が設けられた透
明な合成樹脂基板の記録層が設けられていない方
の面に、透明合成樹脂フイルム上にマグネシウム
酸化物の透明薄膜層が形成され、該透明薄膜層上
にSiO2、B2O3、BaO、Al2O3がモル比で、
（SiO2）：（B2O3）：（BaO＋Al2O3）＝２〜４：１
〜２：0.3〜１とされた組成物のアモルフアス状
透明薄膜層が形成されている透明防湿フイルムが
接着されてなる光学式情報記録体に存する。 （発明の構成） 第１図に図示する如く、ポリメチルメタクリレ
ート等の透明な合成樹脂基板１の一面に信号トラ
ツク溝が形成された如き、記録層２上にアルミニ
ウム等の反射膜３が形成され、反射膜３上に保護
膜４が形成されている。合成樹脂板１の記録層２
が設けられていない方の面に、透明防湿フイルム
５が接着されている。透明防湿フイルム５は、ポ
リアクリロニトリル等の透明合成樹脂フイルム５
１の片面上にマグネシウム酸化物の透明薄膜層５
２が形成され、該透明薄膜層５２上にSiO2、
B2O3、BaO、Al2O3がモル比で、（SiO2）：
（B2O3）：（BaO＋Al2O3）＝２〜４：１〜２：0.3
〜１とされた組成物のアモルフアス状透明薄膜層
５３が形成されたものからなり、合成樹脂板１の
記録層５が設けられていない方の面には、透明合
成樹脂フイルム５１の透明薄膜層５２及びアモル
フアス状透明薄膜層５３が形成されていない方の
面が接着されている。尚、両層５２，５３が形成
された面が接着されていてもよい。 透明合成樹脂フイルムとしては、透明で且つ複
屈折がなくフイルムに形成できるものである必要
があり、ポリアクリロニトリルからなるものが好
適に使用されるが、これに限定されることなく、
同様の性能を有する材料のものであればよい。 透明合成樹脂フイルム上に形成されるマグネシ
ウム酸化物の透明薄膜層は、真空蒸着やマグネシ
ウムの反応蒸着により形成される。真空蒸着で
は、蒸着物質として酸化マグネシウムが採用さ
れ、これが電子銃で加熱蒸着される。反応蒸着の
方法は、真空槽内に酸素ガスを導入しながら金属
マグネシウムを加熱蒸発させ、マグネシウム酸化
物薄膜層を形成する。いずれの場合も、耐透湿性
を向上させるためにH2Oなどのガスを導入しな
がら、マグネシウム酸化物の透明薄膜層を形成す
ることも可能である。 マグネシウム酸化物の透明薄膜層上に形成され
るアモルフアス状透明薄膜層はSiO2、B2O3、
BaO、Al2O3がモル比で（SiO2）：（B2O3）：
（BaO＋Al2O3）＝２〜４：１〜２：0.3〜１となさ
れた組成物からなる。BaOとAl2O3は、その一方
が実質的に含まれなくてもよい。 アモルフアス状透明薄膜層の上記の組成に
Na2Oなどのアルカリ金属の酸化物が多量に入る
と、その親水性のために耐透湿性は損われ、真空
蒸着を行うにも組成が変動しやすい欠点が生じ
る。 また、アモルフアス状透明薄膜層のモル比が、
上記の範囲を外れると、層分離を起しやすくな
り、耐透湿性が悪化し、（BaO＋Al2O3）の量が
小さくなると耐透湿性が劣る傾向となる。 上記酸化物組成物を酸化マグネシウムの透明薄
膜層上に形成する方法として最も好ましいのはス
パツタリングであり、スパツタリングのターゲツ
トを上記の組成とすることでほぼ同じ組成のアモ
ルフアス状透明薄膜層を形成することができる。
また、真空蒸着法、イオンプレーテイング法によ
つても、上記組成のアモルフアス状透明薄膜層を
形成することができる。真空蒸着の場合は、蒸気
圧の異なる混合物質をそのままの組成で薄膜層を
形成するのは困難であるとされている。しかし、
本発明者は上記組成物を予め電気炉で熔融しガラ
ス化したものを蒸発剤として使用し、電気銃方式
で蒸発させれば、略同じ組成の蒸発膜が得られる
ことを確認した。また、一般に混合物を真空蒸着
する時に用いられるフラツシユ蒸着法によつて
も、上記の組成の蒸着膜を形成することができ
る。 透明合成樹脂フイルム上に、酸化マグネシウム
の透明薄膜層とSiO2、B2O3、BaO、Al2O3がモ
ル比で（SiO2）：（B2O3）：（BaO＋Al2O3）＝２〜
４：１〜２：0.3〜１とされた組成物からなるア
モルフアス状透明薄膜層が順次形成されて透明防
湿フイルムが形成されている。 透明合成樹脂基板の記録層が設けられていない
方の面に、透明防湿フイルムが接着されている。
尚、透明防湿フイルムの接着は、酸化マグネシウ
ムの透明薄膜層及びアモルフアス状透明薄膜層の
両層が形成された面或いは両層が形成されていな
い面のいずれを接着面としてもよいが、酸化マグ
ネシウムは水分と接触すると水酸化マグネシウム
に変化する可能性があり、またアモルフアス状透
明薄膜層は耐引つ掻き強度が強く、前記の両層が
形成されていない面を接着するのが好ましい。叙
上の構成において、酸化マグネシウムの透明薄膜
は、Ｘ線回折、RHEED（反射型高速電子線回
折）、SEM（走査電子顕微鏡）等の観察結果から、
多結晶薄膜となつており、水や酸素等は結晶の粒
界を拡散して透過すると推定できるが、そこにア
モルフアス状透明薄膜層が積層されているため、
その粒界の通路が遮蔽されて、耐透湿性、耐ガス
透過性が格段改善されるものと推察される。 マグネシウム酸化物の透明薄膜層及びアモルフ
アス状透明薄膜層の厚みは、それぞれ100Å以上
でなければ一様な連続膜が形成されにくいため、
100Å以上必要である。また両層の合計厚みが
5000Åを越えると透明性を損うことはないが、亀
裂や剥離が生じやすくなるので好ましくない。 （発明の効果） 本発明光学式情報記録体は、叙上の如き構成と
されているので、透明合成樹脂基板の諸特性を害
することなく、しかも、耐透湿性は著しく小さ
く、高温、高湿化においても反りが生じることは
殆んどなく、合成樹脂基板上に直接蒸着等により
透明防湿層を形成するという低生産性手段を取る
ことなく、高性能の透明防湿フイルムを別途生産
性よく製造しておいて、これを透明合成樹脂基板
上に接着するという簡便な手段により能率よく生
産することができる。 （実施例） 以下に本発明の実施例を示す。 実施例 １ 厚み50μｍの透明なポリアクリロニトリルフイ
ルム上に、真空槽内で真空度５×10-5TORRに排
気した状態で、純度99.9％の酸化マグネシウムを
電子ビーム加熱方式により、成膜速度約100Å／
secで厚み500Åのマグネシウム酸化物の透明薄膜
層を形成した。 マグネシウム酸化物の透明薄膜層上に、SiO2、
B2O3、BaO、Al2O3がモル比で（SiO2）：
（B2O3）：（BaO）：（Al2O3）＝３：１：0.67：0.33
とした酸化物の混合物を電気炉で溶解しガラス化
したものを、真空度５×10-5TORRの状態で、電
子ビーム加熱方式により、成膜速度約100Å／sec
で厚み500Åのアモルフアス状透明薄膜層を形成
した。 しかして、透明なポリアクリロニトリルの一方
の面上に、マグネシウム酸化物の透明薄膜層及び
アモルフアス状透明薄膜層が順次形成された透明
防湿フイルムを作成した。 この透明防湿フイルムを、前記両層が形成され
ていない方の面を接着面とし、厚み２mm、縦120
mm、横120mmの大きさの透明なポリメチルメタク
リレート基板の一面に、感光性接着剤（明星チヤ
ーチル株式会社製の商品名「フオートボンド」）
により接着した。 このポリメチルメタクリレート基板の透明防湿
フイルムが接着されていない方の面及び周囲にア
ルミニウムを1500Åの厚みに蒸着し、その上に保
護層をコートし、透明防湿フイルムが接着された
面以外の部分からの水の侵入を遮断した試料を作
成した。 この試料の吸水後の反り、全光線透過率、量
価、および複屈折率を測定した。その結果を第１
表に示す。 尚、各層の厚みは水晶発信式のモニターにより
計測した。アモルフアス状透明薄膜層の組成は、
Ｘ線マイクロアナライザーで分析したところ、当
初の混合物の組成と略同等であつた。 また、吸水後の反りは、試料を20℃の水中に浸
漬し、72時間後の中央部の反りを測定した。ま
た、全光線透過率はASTMD−1003の方法によ
り測定した。また量化は、ASTMD−1003の方
法により測定した。また、複屈折の有無は試料を
２枚の偏光板の間にはさみ、可視光を透過して干
渉稿を観察することにより調べた。 実施例 ２ 実施例１に準じて、厚み50μｍの透明なポリア
クリロニトリルフイルムの一方の面上に、厚み
500Åのマグネシウム酸化物の透明薄膜層を形成
し、その層上に厚み1000Åのアモルフアス状透明
薄膜層を形成した透明防湿フイルムを作成した以
外は実施例１と同様とした試料を作成し、この試
料について実施例１と同様の測定を行つた。その
結果を第１表に併せて示す。 実施例 ３ 実施例１に準じて、厚み50μｍの透明なポリア
クリロニトリルフイルムの一方の面上に、厚み
500Åのマグネシウム酸化物の透明薄膜層を形成
し、その層上に、SiO2、B2O3、BaO、Al2O3が
モル比で、（SiO2）：（B2O3）：（BaO）：（Al2O3）
＝４：２：0.75：0.25とした酸化物の混合物によ
り実施例１に準じて厚み500Åのアモルフアス状
透明薄膜層を形成し、それ以外は実施例１と同様
とした試料を作成し、この試料について実施例１
と同様の測定を行つた。その結果を第１表に併せ
て示す。 実施例 ４ 厚み50μｍの透明なポリアクリロニトリルフイ
ルム上に、SiO2、B2O3、BaO、Al2O3がモル比
で（SiO2）：（B2O3）：（BaO）：（Al2O3）＝３：
１：0.67：0.33とした酸化物の混合物を電気炉で
熔解しガラス化したものを、真空度５×
10-5TORRの状態で、電子ビーム方式により、成
膜速度約100Å／secで厚み500Åのアモルフアス
状透明薄膜層を形成して、透明防湿フイルムを作
成した以外は実施例１と同様とした試料を作成
し、この試料について、実施例１と同様の測定を
行つた。その結果を第１表に併せて示す。 比較例 １ 厚み２mm、縦120mm、横120mmの大きさのポリメ
チルメタアクリレート基板の向も処理していない
試料について、実施例１と同様の測定を行つた。
その結果を第１表に併せて示す。 実施例 ２ 厚み50μｍの透明なアクリロニトリルフイルム
を、一面を接着面とし、厚み２mm、縦120mm、横
120mmの透明なポリメチルメタアクリレート基板
の一面に、感光性接着剤（明星チヤーチル株式会
社製の商品名「フオートボンド」）により接着し
た。 このポリメチルメタアクリレート基板を実施例
１と同様に透明防湿フイルムが接着された面以外
の部分からの水の侵入を遮断した試料を作成し、
実施１と同様の測定を行つた。その結果を第１表
に併せて示す。
号の記録・再生を行う光学式情報記録体に関す
る。 （従来技術） 従来、ビデオデイスク、オーデイオデイスク、
情報フアイルボツクス等の光学式デイスクの基板
用材料としては、ポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネート等の透明性に優れた合成樹脂が使
われている。 しかしながら、ポリメチルメタクリレートは、
成型加工性と強度に優れているが、耐透湿性に劣
り、片面に記録層が設けられ、該記録層上にアル
ミニウム等の反射膜が設けられた光学式デイスク
の記録層からの侵入は反射膜により阻止される
が、記録層が設けられていない方の片面から水分
の侵入があるため、高湿下では、成形品に反りが
生じ信号の読み取りに誤差が生じたり、また、吸
湿と乾燥との繰返しにより、ポリメチルメタクリ
レートと反射膜との間に剥離が生じるという欠点
がある。 この点を改善するため、例えば特開昭58−
32238号公報に記載の如く、透明樹脂基板の一面
に、不透湿性の記録媒体層または反射膜を、他面
にCaF2、SiO2の不透湿膜を設けることにより、
デイスク周囲の温度、湿度変形に対し安定化させ
ることが提案されているが、耐透湿性は十分でな
く、前記欠点を解消するに至つていない。 また、ポリカーボネートは、成形加工性が悪
く、成形時の歪が樹脂中に残り、複屈折が生じや
すく、大形のデイスクには使用できないという欠
点がある。 （発明の目的） 本発明は、叙上の如き従来の欠点を解消し、透
明性、成形性に優れ、複屈折がなく、且つ耐透湿
性に優れた光学式情報記録体を提供することを目
的としてなされたものである。 （発明の要旨） 本発明の要旨は、一面に記録層が設けられた透
明な合成樹脂基板の記録層が設けられていない方
の面に、透明合成樹脂フイルム上にマグネシウム
酸化物の透明薄膜層が形成され、該透明薄膜層上
にSiO2、B2O3、BaO、Al2O3がモル比で、
（SiO2）：（B2O3）：（BaO＋Al2O3）＝２〜４：１
〜２：0.3〜１とされた組成物のアモルフアス状
透明薄膜層が形成されている透明防湿フイルムが
接着されてなる光学式情報記録体に存する。 （発明の構成） 第１図に図示する如く、ポリメチルメタクリレ
ート等の透明な合成樹脂基板１の一面に信号トラ
ツク溝が形成された如き、記録層２上にアルミニ
ウム等の反射膜３が形成され、反射膜３上に保護
膜４が形成されている。合成樹脂板１の記録層２
が設けられていない方の面に、透明防湿フイルム
５が接着されている。透明防湿フイルム５は、ポ
リアクリロニトリル等の透明合成樹脂フイルム５
１の片面上にマグネシウム酸化物の透明薄膜層５
２が形成され、該透明薄膜層５２上にSiO2、
B2O3、BaO、Al2O3がモル比で、（SiO2）：
（B2O3）：（BaO＋Al2O3）＝２〜４：１〜２：0.3
〜１とされた組成物のアモルフアス状透明薄膜層
５３が形成されたものからなり、合成樹脂板１の
記録層５が設けられていない方の面には、透明合
成樹脂フイルム５１の透明薄膜層５２及びアモル
フアス状透明薄膜層５３が形成されていない方の
面が接着されている。尚、両層５２，５３が形成
された面が接着されていてもよい。 透明合成樹脂フイルムとしては、透明で且つ複
屈折がなくフイルムに形成できるものである必要
があり、ポリアクリロニトリルからなるものが好
適に使用されるが、これに限定されることなく、
同様の性能を有する材料のものであればよい。 透明合成樹脂フイルム上に形成されるマグネシ
ウム酸化物の透明薄膜層は、真空蒸着やマグネシ
ウムの反応蒸着により形成される。真空蒸着で
は、蒸着物質として酸化マグネシウムが採用さ
れ、これが電子銃で加熱蒸着される。反応蒸着の
方法は、真空槽内に酸素ガスを導入しながら金属
マグネシウムを加熱蒸発させ、マグネシウム酸化
物薄膜層を形成する。いずれの場合も、耐透湿性
を向上させるためにH2Oなどのガスを導入しな
がら、マグネシウム酸化物の透明薄膜層を形成す
ることも可能である。 マグネシウム酸化物の透明薄膜層上に形成され
るアモルフアス状透明薄膜層はSiO2、B2O3、
BaO、Al2O3がモル比で（SiO2）：（B2O3）：
（BaO＋Al2O3）＝２〜４：１〜２：0.3〜１となさ
れた組成物からなる。BaOとAl2O3は、その一方
が実質的に含まれなくてもよい。 アモルフアス状透明薄膜層の上記の組成に
Na2Oなどのアルカリ金属の酸化物が多量に入る
と、その親水性のために耐透湿性は損われ、真空
蒸着を行うにも組成が変動しやすい欠点が生じ
る。 また、アモルフアス状透明薄膜層のモル比が、
上記の範囲を外れると、層分離を起しやすくな
り、耐透湿性が悪化し、（BaO＋Al2O3）の量が
小さくなると耐透湿性が劣る傾向となる。 上記酸化物組成物を酸化マグネシウムの透明薄
膜層上に形成する方法として最も好ましいのはス
パツタリングであり、スパツタリングのターゲツ
トを上記の組成とすることでほぼ同じ組成のアモ
ルフアス状透明薄膜層を形成することができる。
また、真空蒸着法、イオンプレーテイング法によ
つても、上記組成のアモルフアス状透明薄膜層を
形成することができる。真空蒸着の場合は、蒸気
圧の異なる混合物質をそのままの組成で薄膜層を
形成するのは困難であるとされている。しかし、
本発明者は上記組成物を予め電気炉で熔融しガラ
ス化したものを蒸発剤として使用し、電気銃方式
で蒸発させれば、略同じ組成の蒸発膜が得られる
ことを確認した。また、一般に混合物を真空蒸着
する時に用いられるフラツシユ蒸着法によつて
も、上記の組成の蒸着膜を形成することができ
る。 透明合成樹脂フイルム上に、酸化マグネシウム
の透明薄膜層とSiO2、B2O3、BaO、Al2O3がモ
ル比で（SiO2）：（B2O3）：（BaO＋Al2O3）＝２〜
４：１〜２：0.3〜１とされた組成物からなるア
モルフアス状透明薄膜層が順次形成されて透明防
湿フイルムが形成されている。 透明合成樹脂基板の記録層が設けられていない
方の面に、透明防湿フイルムが接着されている。
尚、透明防湿フイルムの接着は、酸化マグネシウ
ムの透明薄膜層及びアモルフアス状透明薄膜層の
両層が形成された面或いは両層が形成されていな
い面のいずれを接着面としてもよいが、酸化マグ
ネシウムは水分と接触すると水酸化マグネシウム
に変化する可能性があり、またアモルフアス状透
明薄膜層は耐引つ掻き強度が強く、前記の両層が
形成されていない面を接着するのが好ましい。叙
上の構成において、酸化マグネシウムの透明薄膜
は、Ｘ線回折、RHEED（反射型高速電子線回
折）、SEM（走査電子顕微鏡）等の観察結果から、
多結晶薄膜となつており、水や酸素等は結晶の粒
界を拡散して透過すると推定できるが、そこにア
モルフアス状透明薄膜層が積層されているため、
その粒界の通路が遮蔽されて、耐透湿性、耐ガス
透過性が格段改善されるものと推察される。 マグネシウム酸化物の透明薄膜層及びアモルフ
アス状透明薄膜層の厚みは、それぞれ100Å以上
でなければ一様な連続膜が形成されにくいため、
100Å以上必要である。また両層の合計厚みが
5000Åを越えると透明性を損うことはないが、亀
裂や剥離が生じやすくなるので好ましくない。 （発明の効果） 本発明光学式情報記録体は、叙上の如き構成と
されているので、透明合成樹脂基板の諸特性を害
することなく、しかも、耐透湿性は著しく小さ
く、高温、高湿化においても反りが生じることは
殆んどなく、合成樹脂基板上に直接蒸着等により
透明防湿層を形成するという低生産性手段を取る
ことなく、高性能の透明防湿フイルムを別途生産
性よく製造しておいて、これを透明合成樹脂基板
上に接着するという簡便な手段により能率よく生
産することができる。 （実施例） 以下に本発明の実施例を示す。 実施例 １ 厚み50μｍの透明なポリアクリロニトリルフイ
ルム上に、真空槽内で真空度５×10-5TORRに排
気した状態で、純度99.9％の酸化マグネシウムを
電子ビーム加熱方式により、成膜速度約100Å／
secで厚み500Åのマグネシウム酸化物の透明薄膜
層を形成した。 マグネシウム酸化物の透明薄膜層上に、SiO2、
B2O3、BaO、Al2O3がモル比で（SiO2）：
（B2O3）：（BaO）：（Al2O3）＝３：１：0.67：0.33
とした酸化物の混合物を電気炉で溶解しガラス化
したものを、真空度５×10-5TORRの状態で、電
子ビーム加熱方式により、成膜速度約100Å／sec
で厚み500Åのアモルフアス状透明薄膜層を形成
した。 しかして、透明なポリアクリロニトリルの一方
の面上に、マグネシウム酸化物の透明薄膜層及び
アモルフアス状透明薄膜層が順次形成された透明
防湿フイルムを作成した。 この透明防湿フイルムを、前記両層が形成され
ていない方の面を接着面とし、厚み２mm、縦120
mm、横120mmの大きさの透明なポリメチルメタク
リレート基板の一面に、感光性接着剤（明星チヤ
ーチル株式会社製の商品名「フオートボンド」）
により接着した。 このポリメチルメタクリレート基板の透明防湿
フイルムが接着されていない方の面及び周囲にア
ルミニウムを1500Åの厚みに蒸着し、その上に保
護層をコートし、透明防湿フイルムが接着された
面以外の部分からの水の侵入を遮断した試料を作
成した。 この試料の吸水後の反り、全光線透過率、量
価、および複屈折率を測定した。その結果を第１
表に示す。 尚、各層の厚みは水晶発信式のモニターにより
計測した。アモルフアス状透明薄膜層の組成は、
Ｘ線マイクロアナライザーで分析したところ、当
初の混合物の組成と略同等であつた。 また、吸水後の反りは、試料を20℃の水中に浸
漬し、72時間後の中央部の反りを測定した。ま
た、全光線透過率はASTMD−1003の方法によ
り測定した。また量化は、ASTMD−1003の方
法により測定した。また、複屈折の有無は試料を
２枚の偏光板の間にはさみ、可視光を透過して干
渉稿を観察することにより調べた。 実施例 ２ 実施例１に準じて、厚み50μｍの透明なポリア
クリロニトリルフイルムの一方の面上に、厚み
500Åのマグネシウム酸化物の透明薄膜層を形成
し、その層上に厚み1000Åのアモルフアス状透明
薄膜層を形成した透明防湿フイルムを作成した以
外は実施例１と同様とした試料を作成し、この試
料について実施例１と同様の測定を行つた。その
結果を第１表に併せて示す。 実施例 ３ 実施例１に準じて、厚み50μｍの透明なポリア
クリロニトリルフイルムの一方の面上に、厚み
500Åのマグネシウム酸化物の透明薄膜層を形成
し、その層上に、SiO2、B2O3、BaO、Al2O3が
モル比で、（SiO2）：（B2O3）：（BaO）：（Al2O3）
＝４：２：0.75：0.25とした酸化物の混合物によ
り実施例１に準じて厚み500Åのアモルフアス状
透明薄膜層を形成し、それ以外は実施例１と同様
とした試料を作成し、この試料について実施例１
と同様の測定を行つた。その結果を第１表に併せ
て示す。 実施例 ４ 厚み50μｍの透明なポリアクリロニトリルフイ
ルム上に、SiO2、B2O3、BaO、Al2O3がモル比
で（SiO2）：（B2O3）：（BaO）：（Al2O3）＝３：
１：0.67：0.33とした酸化物の混合物を電気炉で
熔解しガラス化したものを、真空度５×
10-5TORRの状態で、電子ビーム方式により、成
膜速度約100Å／secで厚み500Åのアモルフアス
状透明薄膜層を形成して、透明防湿フイルムを作
成した以外は実施例１と同様とした試料を作成
し、この試料について、実施例１と同様の測定を
行つた。その結果を第１表に併せて示す。 比較例 １ 厚み２mm、縦120mm、横120mmの大きさのポリメ
チルメタアクリレート基板の向も処理していない
試料について、実施例１と同様の測定を行つた。
その結果を第１表に併せて示す。 実施例 ２ 厚み50μｍの透明なアクリロニトリルフイルム
を、一面を接着面とし、厚み２mm、縦120mm、横
120mmの透明なポリメチルメタアクリレート基板
の一面に、感光性接着剤（明星チヤーチル株式会
社製の商品名「フオートボンド」）により接着し
た。 このポリメチルメタアクリレート基板を実施例
１と同様に透明防湿フイルムが接着された面以外
の部分からの水の侵入を遮断した試料を作成し、
実施１と同様の測定を行つた。その結果を第１表
に併せて示す。
【表】
第１表からも明らかな如く、実施例１〜４の場
合は、比較例１、２の場合と比べて、反りが著し
く小さく、且つ全光線透過率、量価、複屈折等は
劣ることがない。
合は、比較例１、２の場合と比べて、反りが著し
く小さく、且つ全光線透過率、量価、複屈折等は
劣ることがない。
第１図は本発明の一例を示す断面図である。
符号の説明、１……透明な合成樹脂基板、２…
…記録層、３……反射膜、４……保護層、５……
透明防湿フイルム、５１……透明な合成樹脂フイ
ルム、５２……マグネシウム酸化物の透明薄膜
層、５３……アモルフアス状透明薄膜層。
…記録層、３……反射膜、４……保護層、５……
透明防湿フイルム、５１……透明な合成樹脂フイ
ルム、５２……マグネシウム酸化物の透明薄膜
層、５３……アモルフアス状透明薄膜層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一面に記録層が設けられた透明な合成樹脂基
板の、記録層が設けられていない方の面に、透明
合成樹脂フイルム上にマグネシウム酸化化物の透
明薄膜層が形成され、該透明薄膜層上にSiO2、
B2O3、BaO、Al2O3がモル比で、（SiO2）：
（B2O3）：（BaO＋Al2O3）＝２〜４：１〜２：0.3
〜１とされた組成物のアモルフアス状透明薄膜層
が形成されている透明防湿フイルムが接着されて
なる光学式情報記録体。 ２ 合成樹脂基板がポリメチルメタクリレートで
ある特許請求の範囲第１項記載の光学式情報記録
体。 ３ 透明合成樹脂フイルムがポリアクリロニトリ
ルからなるものである特許請求の範囲第１項記載
の光学式情報記録体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14550484A JPS6124040A (ja) | 1984-07-12 | 1984-07-12 | 光学式情報記録体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14550484A JPS6124040A (ja) | 1984-07-12 | 1984-07-12 | 光学式情報記録体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6124040A JPS6124040A (ja) | 1986-02-01 |
| JPH0322657B2 true JPH0322657B2 (ja) | 1991-03-27 |
Family
ID=15386784
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14550484A Granted JPS6124040A (ja) | 1984-07-12 | 1984-07-12 | 光学式情報記録体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6124040A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63281689A (ja) * | 1987-05-13 | 1988-11-18 | 金澤 政男 | 超音波、オゾン併用洗濯機 |
| JPH04335231A (ja) * | 1991-05-10 | 1992-11-24 | Nec Corp | 光磁気記録用単板光ディスク |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5175523A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-06-30 | Canon Kk | |
| JPS56156940A (en) * | 1980-05-02 | 1981-12-03 | Toshiba Corp | Optical recording element |
| JPS5948838A (ja) * | 1982-09-10 | 1984-03-21 | Toshiba Corp | 情報記憶媒体 |
| JPS59160843A (ja) * | 1983-03-02 | 1984-09-11 | T S B:Kk | 光学信号記録用媒体およびその製造方法 |
-
1984
- 1984-07-12 JP JP14550484A patent/JPS6124040A/ja active Granted
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5175523A (ja) * | 1974-12-26 | 1976-06-30 | Canon Kk | |
| JPS56156940A (en) * | 1980-05-02 | 1981-12-03 | Toshiba Corp | Optical recording element |
| JPS5948838A (ja) * | 1982-09-10 | 1984-03-21 | Toshiba Corp | 情報記憶媒体 |
| JPS59160843A (ja) * | 1983-03-02 | 1984-09-11 | T S B:Kk | 光学信号記録用媒体およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6124040A (ja) | 1986-02-01 |
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