JPH0218729A - 光記録媒体及び光記録媒体の製造方法 - Google Patents
光記録媒体及び光記録媒体の製造方法Info
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- JPH0218729A JPH0218729A JP63168306A JP16830688A JPH0218729A JP H0218729 A JPH0218729 A JP H0218729A JP 63168306 A JP63168306 A JP 63168306A JP 16830688 A JP16830688 A JP 16830688A JP H0218729 A JPH0218729 A JP H0218729A
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Landscapes
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分骨]
本発明は光記録媒体の表面処理及び製造方法に関する。
[従来の技術]
光記録媒体の表面処理には、従来より紫外線硬化樹脂に
よるデイピング、スピンフート、アルイはスパッタ、蒸
着法による無機透明膜の成膜等がある。これらは全て、
プラスチック基板を用いた光記録媒体のハードコートを
目的としているものである。
よるデイピング、スピンフート、アルイはスパッタ、蒸
着法による無機透明膜の成膜等がある。これらは全て、
プラスチック基板を用いた光記録媒体のハードコートを
目的としているものである。
[発明が解決しようとする課題]
ところが、前述の技術のうち紫外線硬化樹脂にヨルティ
ピング、スピンコードは、塗布むらが生じるため基板を
通して信号を見るだめのレーザー光の形状が変動すると
いう欠点を持っている。又スパッタ、蒸着法による無機
透明膜の成膜では媒体の全面にわたって成膜するには工
程が、2工程にも3工程にもなりコストアップの要因に
もなり好ましくない。
ピング、スピンコードは、塗布むらが生じるため基板を
通して信号を見るだめのレーザー光の形状が変動すると
いう欠点を持っている。又スパッタ、蒸着法による無機
透明膜の成膜では媒体の全面にわたって成膜するには工
程が、2工程にも3工程にもなりコストアップの要因に
もなり好ましくない。
そこで本発明はこのような課題を解決するもので、その
目的とするところは、均一な膜厚のハードコート膜を光
記録媒体全面にわたって膜付けし信号品質の劣化なく、
耐擦蕩性に富んだ光記録媒体を提供するところにある。
目的とするところは、均一な膜厚のハードコート膜を光
記録媒体全面にわたって膜付けし信号品質の劣化なく、
耐擦蕩性に富んだ光記録媒体を提供するところにある。
[課題を解決するための手段]
(1)透明プラスチック基板上に、少なくとも誘電体膜
と光記録膜が存在する光記録媒体において光記録媒体全
面を析出法によるSiO2膜でコーティングしたことを
特徴とする。
と光記録膜が存在する光記録媒体において光記録媒体全
面を析出法によるSiO2膜でコーティングしたことを
特徴とする。
(2) 析出法によるSiO□膜でコーティングした
後に、ハブを超音波あるいはty / v硬化樹脂にて
接着したことを特徴とする。
後に、ハブを超音波あるいはty / v硬化樹脂にて
接着したことを特徴とする。
[実施例]
(実施例1)
透明プラスチック基板として、ポリカーボネー1− (
P○)基板を用い、スパッタ法にて光磁気記録媒体を作
成し、た。
P○)基板を用い、スパッタ法にて光磁気記録媒体を作
成し、た。
本発明媒体の断面構造図を第1図に示す。1が溝付きP
C基板で、2がAt5iN保護膜、3がNaDyTbF
eC!O光磁気記録膜、4がAt51N保護膜である。
C基板で、2がAt5iN保護膜、3がNaDyTbF
eC!O光磁気記録膜、4がAt51N保護膜である。
そして5が溝無しPO基板で6がkts i N保護膜
である。これらを7のU/V接着樹脂で接着し、出来上
がった光磁気記録媒体を、工業材料、1987年Vot
、55Na9P54に示される析出(LPD)法による
SiO2で全面をコーティングした。8がLPD法によ
るSiO2膜である。その後に9のハブを超音波により
接着した。
である。これらを7のU/V接着樹脂で接着し、出来上
がった光磁気記録媒体を、工業材料、1987年Vot
、55Na9P54に示される析出(LPD)法による
SiO2で全面をコーティングした。8がLPD法によ
るSiO2膜である。その後に9のハブを超音波により
接着した。
LPD−3in2膜を成膜した後にハブをイ・月Jるの
は、LPD−8in、が、ケイふっ化水素酸の水溶液で
あるため、先にハブ付けしてしまうとハブの金属部分が
溶けてしまうからである。そのため、ハブ付は工程は後
でする必要がある。
は、LPD−8in、が、ケイふっ化水素酸の水溶液で
あるため、先にハブ付けしてしまうとハブの金属部分が
溶けてしまうからである。そのため、ハブ付は工程は後
でする必要がある。
この様にしてLPD−3iO□膜を成膜し、た媒体の、
表面硬度、信号特性、を従来技術であるU / V硬化
樹脂のスピンコード法と比較l−だ。次表の結果がそれ
である。
表面硬度、信号特性、を従来技術であるU / V硬化
樹脂のスピンコード法と比較l−だ。次表の結果がそれ
である。
表 1
この結果からもわかる様に、LPD−3in2膜による
ハードコートが最もすぐれていることがわかる。ty
/ v硬化樹脂スピンフートのo / Nが3dBはど
落ちているのは、スピンフートの塗布むらによるもので
ある。
ハードコートが最もすぐれていることがわかる。ty
/ v硬化樹脂スピンフートのo / Nが3dBはど
落ちているのは、スピンフートの塗布むらによるもので
ある。
ハブ付けを超音波でなく、U / V硬化樹脂による接
着でも、同じ結果が得られたことは言うまでもないこと
である。
着でも、同じ結果が得られたことは言うまでもないこと
である。
(実施例2)
次に単板媒体による効果をみた。単板媒体の断面構造図
を第2図に示す。21が溝付きpc基板で、22がAt
s i N保護膜、23がT b F o 00光磁気
記録膜、24がA I S i N保護膜で、25がU
/ V硬化樹脂である。この媒体をT、 P D法に
よるSiO2膜で被覆した。26がLPD−3i O,
膜である。そしてその後、27のハブを超音波にて接着
した。
を第2図に示す。21が溝付きpc基板で、22がAt
s i N保護膜、23がT b F o 00光磁気
記録膜、24がA I S i N保護膜で、25がU
/ V硬化樹脂である。この媒体をT、 P D法に
よるSiO2膜で被覆した。26がLPD−3i O,
膜である。そしてその後、27のハブを超音波にて接着
した。
この様にしてL P D−8I O2膜を成膜した単板
媒体の反り角度を80℃9o%RH恒温恒湿槽中に20
00時間放置し、その変化をみた。次表の結果がそれで
ある。
媒体の反り角度を80℃9o%RH恒温恒湿槽中に20
00時間放置し、その変化をみた。次表の結果がそれで
ある。
表 2
この結果からもわかる様にLPD−sto、11(によ
る防湿効果が最もすぐれていることがわかる0時間の時
に全てのサンプルとも反り角度は2mrad であっ
た。
る防湿効果が最もすぐれていることがわかる0時間の時
に全てのサンプルとも反り角度は2mrad であっ
た。
尚、本発明は本実施例のみに限定されるものですく、基
板はPC以外にPMMA 、アモルファスポリオレフィ
ンetcでも問題なく、又光磁気記録媒体以外に、Te
−0x、Te−0,etcの相変化型、穴開は型光記録
媒体に適用できるのは言うまでもない。
板はPC以外にPMMA 、アモルファスポリオレフィ
ンetcでも問題なく、又光磁気記録媒体以外に、Te
−0x、Te−0,etcの相変化型、穴開は型光記録
媒体に適用できるのは言うまでもない。
[発明の効果]
この様に、本発明法を用いれば、光記録媒体の信号品質
を劣化させることなく耐擦傷性を向上させることができ
、しかも防湿性の面からもすぐれた媒体を提供できるも
のである。
を劣化させることなく耐擦傷性を向上させることができ
、しかも防湿性の面からもすぐれた媒体を提供できるも
のである。
第1図は、本発明媒体の断面構造図。
第2図は、単板媒体の断面構造図。
1・・・・・・・・・溝付きPC基板
2・・・・・・・・・AtS i N保護膜5−−−−
− N d D y T b IF e
O4・・・・・・・・・At5iN保護膜5・・・・
・・・・・溝無しPC基板 6・・・・・・・・・At5iN保護膜7・・・・・・
・・・U / v接着樹脂8・・・・・・・・・LPD
法SiO2膜9・・・・・・・・・ハフ 21・・・・・・溝付きpo基板 22・・・・・・AtS I N保護膜23・・・・・
・TbFθOo光磁気記録膜24・・・・・・At5i
N保護膜 25・・・・・・ry / v硬化樹脂2 6−・・−
L P D −S i O、膜27・・・・・・ハ
ブ 0光磁気記録膜 以
− N d D y T b IF e
O4・・・・・・・・・At5iN保護膜5・・・・
・・・・・溝無しPC基板 6・・・・・・・・・At5iN保護膜7・・・・・・
・・・U / v接着樹脂8・・・・・・・・・LPD
法SiO2膜9・・・・・・・・・ハフ 21・・・・・・溝付きpo基板 22・・・・・・AtS I N保護膜23・・・・・
・TbFθOo光磁気記録膜24・・・・・・At5i
N保護膜 25・・・・・・ry / v硬化樹脂2 6−・・−
L P D −S i O、膜27・・・・・・ハ
ブ 0光磁気記録膜 以
Claims (2)
- (1)透明プラスチック基板上に、少なくとも誘電体膜
と光記録膜が存在する光記録媒体において、前記光記録
媒体全面を析出法によるSiO_2膜でコーティングし
たことを特徴とする光記録媒体。 - (2)前記析出法によるSiO_2膜でコーティングし
た後に、ハブを超音波あるいはU/V硬化樹脂にて接着
したことを特徴とする光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63168306A JPH0218729A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 光記録媒体及び光記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63168306A JPH0218729A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 光記録媒体及び光記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0218729A true JPH0218729A (ja) | 1990-01-23 |
Family
ID=15865578
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63168306A Pending JPH0218729A (ja) | 1988-07-05 | 1988-07-05 | 光記録媒体及び光記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0218729A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0294146A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 | Ricoh Co Ltd | 光磁記録媒体 |
US5450380A (en) * | 1990-05-15 | 1995-09-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Optical disk having an SiO2 coating |
US5490131A (en) * | 1990-07-20 | 1996-02-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical disk |
-
1988
- 1988-07-05 JP JP63168306A patent/JPH0218729A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0294146A (ja) * | 1988-09-30 | 1990-04-04 | Ricoh Co Ltd | 光磁記録媒体 |
US5450380A (en) * | 1990-05-15 | 1995-09-12 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Optical disk having an SiO2 coating |
US5490131A (en) * | 1990-07-20 | 1996-02-06 | Sharp Kabushiki Kaisha | Optical disk |
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