JPS61214161A - 光学記録媒体に保護膜を形成する方法 - Google Patents
光学記録媒体に保護膜を形成する方法Info
- Publication number
- JPS61214161A JPS61214161A JP5491785A JP5491785A JPS61214161A JP S61214161 A JPS61214161 A JP S61214161A JP 5491785 A JP5491785 A JP 5491785A JP 5491785 A JP5491785 A JP 5491785A JP S61214161 A JPS61214161 A JP S61214161A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- protective film
- fine particles
- silica fine
- substrate
- metal alcoholate
- Prior art date
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、光ディスク、ビデオディスク、ディジタルオ
ーディオディスク等に用いられる、光学的に情報の記録
を行なう媒体の製造法に関するものである。
ーディオディスク等に用いられる、光学的に情報の記録
を行なう媒体の製造法に関するものである。
従来の技術
レーザ光で記録再生を行なう光ディスクは、ポリカーボ
ネート基板上に例えばＴｏおよびＴ ｅ Ｏ２を主成分
とする薄膜を記録膜として設けた構成をとっているが、
記録膜の多くは水分により腐食し、記録再生能の低下を
きたす欠点をもっていた。そ −の対策とし
て、基板表面にエポキシ樹脂、塩化ビニＩＪデン等の有
機保護膜（特開昭５６−１９５３１号公報、特開昭５７
−６０５４２号公報）、あるいはシリカをスパッタ法に
より付着した保護膜（特開昭５７−１７６５４８号公報
）を用いている。
ネート基板上に例えばＴｏおよびＴ ｅ Ｏ２を主成分
とする薄膜を記録膜として設けた構成をとっているが、
記録膜の多くは水分により腐食し、記録再生能の低下を
きたす欠点をもっていた。そ −の対策とし
て、基板表面にエポキシ樹脂、塩化ビニＩＪデン等の有
機保護膜（特開昭５６−１９５３１号公報、特開昭５７
−６０５４２号公報）、あるいはシリカをスパッタ法に
より付着した保護膜（特開昭５７−１７６５４８号公報
）を用いている。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら、従来の光ディスクの構成では、記録膜に
容易に水分が到達してしまうという問題があ７た。なぜ
ならば、有機物中では低い透湿率をもつ塩化ビニリデン
であっても、ｌＸ１０”−”ｑ−ｃｍ ／ａｌ ｅ ｓ
ｅｃ ｍ ｃｍ Ｈｇ であり、この膜を１×１σ１
０ｇ ＊ ｃｍ ／ｃｔＩａ ｓｅｃ ＋＋ ｃｍ Ｈ
ｇ の透湿率をもつポリカーボネート（厚さ１．２ｍ
）の基板上に１０μｍ程度付着シテモ複合透湿率は、０
．９ Ｘ １０−” ｇ −ｃｍ／ｃｔｌ斌・ｃｍ Ｈ
ｇまでしか低下しない。一方、スパッタによるシリカ膜
は基板と物理的吸着により付着しているにすぎず、高湿
下において剥離を生じ、そこから水分が浸入し記録膜が
劣化する。また、このスパッタ膜の熱膨張係数は６ Ｘ
１０” ｃｍ／ｃｍ／Ｃであり、これは、基板の熱膨
張係数１×１σ５ｃｒｎ／ｃｍ ／ ’Ｃとの差が大き
いため、周囲温度の変化により膜に亀裂が生じ、そこか
らも水分が浸入し記録膜が劣化する。
容易に水分が到達してしまうという問題があ７た。なぜ
ならば、有機物中では低い透湿率をもつ塩化ビニリデン
であっても、ｌＸ１０”−”ｑ−ｃｍ ／ａｌ ｅ ｓ
ｅｃ ｍ ｃｍ Ｈｇ であり、この膜を１×１σ１
０ｇ ＊ ｃｍ ／ｃｔＩａ ｓｅｃ ＋＋ ｃｍ Ｈ
ｇ の透湿率をもつポリカーボネート（厚さ１．２ｍ
）の基板上に１０μｍ程度付着シテモ複合透湿率は、０
．９ Ｘ １０−” ｇ −ｃｍ／ｃｔｌ斌・ｃｍ Ｈ
ｇまでしか低下しない。一方、スパッタによるシリカ膜
は基板と物理的吸着により付着しているにすぎず、高湿
下において剥離を生じ、そこから水分が浸入し記録膜が
劣化する。また、このスパッタ膜の熱膨張係数は６ Ｘ
１０” ｃｍ／ｃｍ／Ｃであり、これは、基板の熱膨
張係数１×１σ５ｃｒｎ／ｃｍ ／ ’Ｃとの差が大き
いため、周囲温度の変化により膜に亀裂が生じ、そこか
らも水分が浸入し記録膜が劣化する。
本発明は上記問題点に鑑み、光学記録媒体において防湿
性に優れ、なおかつ剥離、亀裂等の生じない保護膜を作
成する方法を提供するものである０問題点を解決するた
めの手段 本発明の光学記録媒体に保護膜を形成する方法は、透明
基板上に設けられた、光学的に情報の記録を行なう記録
面およびもしくはこの記録面とは反対面となる基板表面
にシリカ微粒子と少なくともＳｉ、Ｚｒ、Ｔｉのいずれ
かひとつの金属のアルコレートを含む混合液を塗装した
のち金属アルコレートを加水分解するものである。
性に優れ、なおかつ剥離、亀裂等の生じない保護膜を作
成する方法を提供するものである０問題点を解決するた
めの手段 本発明の光学記録媒体に保護膜を形成する方法は、透明
基板上に設けられた、光学的に情報の記録を行なう記録
面およびもしくはこの記録面とは反対面となる基板表面
にシリカ微粒子と少なくともＳｉ、Ｚｒ、Ｔｉのいずれ
かひとつの金属のアルコレートを含む混合液を塗装した
のち金属アルコレートを加水分解するものである。
作 用
本発明の製造方法では、防湿性に優れ、なおかつ剥離、
亀裂等の生じない保護膜の形成ができる。
亀裂等の生じない保護膜の形成ができる。
すなわち防湿性に関しては、保護膜となるべき層にシリ
カ微粒子を含有するため、金属アルコレートが加水分解
の際にシリカ微粒子と縮合し、−８ｔ−０−Ｍ−０−（
ただｌ、ＭハＳ ｉ 、 Ｚ ｒ 、 Ｔ ｉノイずれ
か）の様な緻密な網目構造をとるため、透湿率を１ｘ
ｌｏ−１５ｇ ｅｃｍ／ｃｄ＠５ｆｌＣ＠、ｍ）（９、
すなわち従来の塩化ビニリデン保護膜の１／１００００
に下げることができる０ またこの保護膜となるべき層は、金属アルコレートを含
むため、加熱により保護膜表面にＯＨ基が形成される。
カ微粒子を含有するため、金属アルコレートが加水分解
の際にシリカ微粒子と縮合し、−８ｔ−０−Ｍ−０−（
ただｌ、ＭハＳ ｉ 、 Ｚ ｒ 、 Ｔ ｉノイずれ
か）の様な緻密な網目構造をとるため、透湿率を１ｘ
ｌｏ−１５ｇ ｅｃｍ／ｃｄ＠５ｆｌＣ＠、ｍ）（９、
すなわち従来の塩化ビニリデン保護膜の１／１００００
に下げることができる０ またこの保護膜となるべき層は、金属アルコレートを含
むため、加熱により保護膜表面にＯＨ基が形成される。
このＯＨ基は基板上の極性基と水素結合するため基板と
の接着性が増し、剥離を防止することができる。
の接着性が増し、剥離を防止することができる。
さらに、本発明の製造方法で作成した保護膜は、線膨張
係数がＩ Ｘ １０−５ｃｍ／ｃｍ／ ℃であり、基板
として用いられるポリカーボネートの線膨張係数７ Ｘ
１０−５ｃｍ／ｃｍ／ Ｃに近いため７０℃、８０％
ＲＨの高温高湿中で２００時間保存しても保護膜に亀裂
がはいることはない。
係数がＩ Ｘ １０−５ｃｍ／ｃｍ／ ℃であり、基板
として用いられるポリカーボネートの線膨張係数７ Ｘ
１０−５ｃｍ／ｃｍ／ Ｃに近いため７０℃、８０％
ＲＨの高温高湿中で２００時間保存しても保護膜に亀裂
がはいることはない。
実施例
図に示す様に、例えばポリカーボネートからなる透明基
板１の片面にレーザ光により反射率が変化するような光
記録膜２を設け、この光記録膜２面を内側として他のポ
リカーボネートからなる基板３とＵＶ硬化樹脂からなる
接着層４を用いて貼り合わせたものに、以下の方法で、
保護膜を形成する。
板１の片面にレーザ光により反射率が変化するような光
記録膜２を設け、この光記録膜２面を内側として他のポ
リカーボネートからなる基板３とＵＶ硬化樹脂からなる
接着層４を用いて貼り合わせたものに、以下の方法で、
保護膜を形成する。
保護膜の原料となるべきシリカ微粒子としては、直径５
００Å以下のものを用いることができる０６ｏＯ人より
大きくなると、保護膜の透明性が低下するので使用でき
ない。
００Å以下のものを用いることができる０６ｏＯ人より
大きくなると、保護膜の透明性が低下するので使用でき
ない。
このシリカ微粒子は、水に分散させてコロイド水溶液と
して用いるが、この場合、濃度は３゜ωｔ％以下が適切
である。３ｏωｔ％より濃度の高い場合、均一なコロイ
ド水溶液を得ることが困紐 １嘩七、 １ もうひとつの原料である金属アルコレートとし−４（ハ
、Ｓｉ（ＯＲ）４．Ｚｒ（ＯＲ）４．Ｔｔ（ＯＲ）４等
から選んで少なくとも１種を用いることができる。
して用いるが、この場合、濃度は３゜ωｔ％以下が適切
である。３ｏωｔ％より濃度の高い場合、均一なコロイ
ド水溶液を得ることが困紐 １嘩七、 １ もうひとつの原料である金属アルコレートとし−４（ハ
、Ｓｉ（ＯＲ）４．Ｚｒ（ＯＲ）４．Ｔｔ（ＯＲ）４等
から選んで少なくとも１種を用いることができる。
ここでＲとしては、０１〜Ｃ８のアルキル基を用いるこ
とができるが、溶液の粘性が高すぎると塗布の際に不均
一が生じるので、０１〜Ｃ４が最適である０ この金属アルコレートは、溶媒に溶かして用いることが
できる。溶媒としては、エタノール、２−フロパノール
等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類、ジクロロエタン、クロロホルム等
、金属アルコレートを溶かすものを用いることができる
。金属アルコレートの濃度としては、３０ωｔ％以下が
適切である。３ｏωｔ％より大きくなると、加水分解速
度が増し、シリカ微粒子水溶液と混合するだけで反応を
起こして高分子状になってしまうため不都合である。
とができるが、溶液の粘性が高すぎると塗布の際に不均
一が生じるので、０１〜Ｃ４が最適である０ この金属アルコレートは、溶媒に溶かして用いることが
できる。溶媒としては、エタノール、２−フロパノール
等のアルコール類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン等のエーテル類、ジクロロエタン、クロロホルム等
、金属アルコレートを溶かすものを用いることができる
。金属アルコレートの濃度としては、３０ωｔ％以下が
適切である。３ｏωｔ％より大きくなると、加水分解速
度が増し、シリカ微粒子水溶液と混合するだけで反応を
起こして高分子状になってしまうため不都合である。
シリカ微粒子と金属アルコレートの配合割合は、重量比
で２：１０〜６：１０の範囲内が最適である。この範囲
よりもシリカ微粒子の量が少ないと、−Ｓ ｉ −０−
Ｍ −０−（タだしＭはＳＬ、Ｚｒ、Ｔｉのいずれか）
の様な緻密な網目構造が部分的にくずれ、透湿率が上昇
してしまう。またこの範囲よりもシリカ微粒子の量が多
いと、できあがった保護膜の透明性が低下する。
で２：１０〜６：１０の範囲内が最適である。この範囲
よりもシリカ微粒子の量が少ないと、−Ｓ ｉ −０−
Ｍ −０−（タだしＭはＳＬ、Ｚｒ、Ｔｉのいずれか）
の様な緻密な網目構造が部分的にくずれ、透湿率が上昇
してしまう。またこの範囲よりもシリカ微粒子の量が多
いと、できあがった保護膜の透明性が低下する。
シリカ微粒子と金属アルコレートとの混合液の基板への
塗布方法としては、へケ塗り、スピンコード、ディップ
法部任意の塗布方法をとることができるが、膜の均一性
を得るためには、スピンコードまたは、ディップ法が適
している。
塗布方法としては、へケ塗り、スピンコード、ディップ
法部任意の塗布方法をとることができるが、膜の均一性
を得るためには、スピンコードまたは、ディップ法が適
している。
加熱条件としては、４０℃以上、８時間以上であればよ
い。４０℃よりも低いと金属アルコレートの加水分解が
不充分となり、シリカ微粒子と橋かけしにくい。また加
熱時間が８時間未満であっても、シリカ微粒子と金属ア
ルコレートとの橋か１．２ｙ厚のポリカーボネート基板
の片面にＴ・およびＴ ｅ Ｏ２を主成分とする化合物
を真空蒸着することによシ、厚さ１０００人の光記録膜
を設け、蒸着面を内側として他のポリカーボネート基板
と、エポキシ系光硬化樹脂を用いて貼シ合わせた。この
貼り合わセタ基板ニ、Ｓ ｉ （ＱＣ２Ｈ５） ４ｆ７
） ２０ωｔ％２−グロバノール溶液１０ｑに、直径約
１００人のシリカ微粒子の２０ωｔ％コロイド水溶液（
塩酸でｐＨ３に調整）５Ｆを滴下した溶液をスピンコー
ドして、７０℃、２４時間加熱して厚さ約６００ｏ人の
保護膜を両面に設けて光学記録媒体を作成した。
い。４０℃よりも低いと金属アルコレートの加水分解が
不充分となり、シリカ微粒子と橋かけしにくい。また加
熱時間が８時間未満であっても、シリカ微粒子と金属ア
ルコレートとの橋か１．２ｙ厚のポリカーボネート基板
の片面にＴ・およびＴ ｅ Ｏ２を主成分とする化合物
を真空蒸着することによシ、厚さ１０００人の光記録膜
を設け、蒸着面を内側として他のポリカーボネート基板
と、エポキシ系光硬化樹脂を用いて貼シ合わせた。この
貼り合わセタ基板ニ、Ｓ ｉ （ＱＣ２Ｈ５） ４ｆ７
） ２０ωｔ％２−グロバノール溶液１０ｑに、直径約
１００人のシリカ微粒子の２０ωｔ％コロイド水溶液（
塩酸でｐＨ３に調整）５Ｆを滴下した溶液をスピンコー
ドして、７０℃、２４時間加熱して厚さ約６００ｏ人の
保護膜を両面に設けて光学記録媒体を作成した。
実施例２
実施例１と同様に作成した貼り合わせ基板に、Ｚｒ（Ｑ
Ｃ２Ｈ６）４ ｔｙ）１ｏｍｔ ％２−７’Ｏパ／−ル
溶液２０Ｆに、実施例１で用いたシリカのコロイド水溶
液２．６Ｆを滴下した溶液をスピンコードして、７０Ｃ
１２４時間加熱して厚さ約４０００人の保護膜を両面に
設けて光学記録媒体を作成した。
Ｃ２Ｈ６）４ ｔｙ）１ｏｍｔ ％２−７’Ｏパ／−ル
溶液２０Ｆに、実施例１で用いたシリカのコロイド水溶
液２．６Ｆを滴下した溶液をスピンコードして、７０Ｃ
１２４時間加熱して厚さ約４０００人の保護膜を両面に
設けて光学記録媒体を作成した。
実施例３
実施例１と同様に作成した貼シ合わせ基板に、Ｔｉ（Ｑ
Ｃ２Ｈ６）４ｏ１Ｑωｔ １２−プｏバ／−ル溶液２０
２に実施例１で用いたシリカのコロイド水溶液２．６１
を滴下した溶液をスピンコードして、７０℃、２４時間
加熱して厚さ約４０００人の保護膜を両面に設けて光学
記録媒体を作成した。
Ｃ２Ｈ６）４ｏ１Ｑωｔ １２−プｏバ／−ル溶液２０
２に実施例１で用いたシリカのコロイド水溶液２．６１
を滴下した溶液をスピンコードして、７０℃、２４時間
加熱して厚さ約４０００人の保護膜を両面に設けて光学
記録媒体を作成した。
実施例４
実施例１と同様に作成した貼り合わせ基板にＺｒ（ＯＣ
２Ｈ６）４と５ｌ（ｏＣ２Ｈ６）４をモル比で２：６に
混合したものの、１０ωｔ％２−グロパノール溶液２０
ｐに実施例１で用いたシリカのコロイド水溶液２．６ｙ
−を滴下した溶液をスピンコードして、７０℃、２４時
間加熱して厚さ約４０００人の保護膜を両面に設けて光
学記録媒体を作成した。
２Ｈ６）４と５ｌ（ｏＣ２Ｈ６）４をモル比で２：６に
混合したものの、１０ωｔ％２−グロパノール溶液２０
ｐに実施例１で用いたシリカのコロイド水溶液２．６ｙ
−を滴下した溶液をスピンコードして、７０℃、２４時
間加熱して厚さ約４０００人の保護膜を両面に設けて光
学記録媒体を作成した。
これらの実施例により作成した媒体と保護膜をもたない
媒体について、７０℃、８０４ＲＨの環境下で水分重量
増ならびに８３０ ｎｍでの記録膜の光透過率の時間変
化の比較をした。その結果を表に示す。この結果より、
本発明の媒体は、６０日後でも水分による重量増がわず
かで、透過率も＃１とんど変化せず、記録膜の劣化が起
こっていな成した貼り合せ基板にポリ塩化ビニルで被覆
（厚さ約５μｍ）としたもの、比較例２として実施例１
と同様に作成した貼り合せ基板に、スパッタ法によって
シリカ膜を被覆（厚さ約５ｏｏｏ人）したものについて
は、実施例１〜４に比べ、７０℃、ａ ｏ ％ ＲＨの
環境下で水分により記録膜が劣化し、６０日後の光透過
率、が著しく低下している。また、実施例１〜４の光学
記録媒体は、７０℃、８０％ＲＨ環境下で１００日経過
しても保護膜の剥離、亀裂等が起こらなかったが比較例
２では保護膜の端部が剥離し、亀裂が生じていた。
媒体について、７０℃、８０４ＲＨの環境下で水分重量
増ならびに８３０ ｎｍでの記録膜の光透過率の時間変
化の比較をした。その結果を表に示す。この結果より、
本発明の媒体は、６０日後でも水分による重量増がわず
かで、透過率も＃１とんど変化せず、記録膜の劣化が起
こっていな成した貼り合せ基板にポリ塩化ビニルで被覆
（厚さ約５μｍ）としたもの、比較例２として実施例１
と同様に作成した貼り合せ基板に、スパッタ法によって
シリカ膜を被覆（厚さ約５ｏｏｏ人）したものについて
は、実施例１〜４に比べ、７０℃、ａ ｏ ％ ＲＨの
環境下で水分により記録膜が劣化し、６０日後の光透過
率、が著しく低下している。また、実施例１〜４の光学
記録媒体は、７０℃、８０％ＲＨ環境下で１００日経過
しても保護膜の剥離、亀裂等が起こらなかったが比較例
２では保護膜の端部が剥離し、亀裂が生じていた。
発明の効果
以上の様に本発明の光学記録媒体に保護膜を形成する方
法は、シリカ微粒子と金属アルコレートを含む混合物を
塗装したのち金属アルコレートを加水分解して酸化物被
膜を作成したことにより、防湿性に優れ、膜には剥離、
亀裂等が生じず、記録膜の長期安定性を確保することが
できる。
法は、シリカ微粒子と金属アルコレートを含む混合物を
塗装したのち金属アルコレートを加水分解して酸化物被
膜を作成したことにより、防湿性に優れ、膜には剥離、
亀裂等が生じず、記録膜の長期安定性を確保することが
できる。
図は本発明の実施例における光学記録媒体の断面図であ
る。 １・・・・・・透明基板、２・・・・・・光記録膜、３
・・・・・・基板、４・・・・・・接着層、５・・・・
・・保護膜。
る。 １・・・・・・透明基板、２・・・・・・光記録膜、３
・・・・・・基板、４・・・・・・接着層、５・・・・
・・保護膜。
Claims (2)
- （１）透明基板上に設けられた、光学的に情報の記録を
行なう記録面およびもしくはこの記録面とは反対面とな
る基板表面に、シリカ微粒子と少なくともＳｉ、Ｚｒ、
Ｔｉのいずれかひとつの金属のアルコレートを含む液を
塗装したのち、金属アルコレートを加水分解することに
より保護膜を形成することを特徴とする光学記録媒体に
保護膜を形成する方法。 - （２）シリカ微粒子と金属アルコレートの重量比が２：
１０〜６：１０である特許請求の範囲第１項記載の光学
記録媒体に保護膜を形成する方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5491785A JPS61214161A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 光学記録媒体に保護膜を形成する方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5491785A JPS61214161A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 光学記録媒体に保護膜を形成する方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61214161A true JPS61214161A (ja) | 1986-09-24 |
Family
ID=12983960
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5491785A Pending JPS61214161A (ja) | 1985-03-19 | 1985-03-19 | 光学記録媒体に保護膜を形成する方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61214161A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4737444A (en) * | 1985-12-12 | 1988-04-12 | Ricoh Company, Ltd. | Optical information recording medium |
-
1985
- 1985-03-19 JP JP5491785A patent/JPS61214161A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4737444A (en) * | 1985-12-12 | 1988-04-12 | Ricoh Company, Ltd. | Optical information recording medium |
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