JPS60136043A - 情報記録用デイスクの製造方法 - Google Patents
情報記録用デイスクの製造方法Info
- Publication number
- JPS60136043A JPS60136043A JP58241877A JP24187783A JPS60136043A JP S60136043 A JPS60136043 A JP S60136043A JP 58241877 A JP58241877 A JP 58241877A JP 24187783 A JP24187783 A JP 24187783A JP S60136043 A JPS60136043 A JP S60136043A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- epoxy
- varnish
- cured
- epoxy resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/241—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material
- G11B7/252—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers
- G11B7/257—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material characterised by the selection of the material of layers other than recording layers of layers having properties involved in recording or reproduction, e.g. optical interference layers or sensitising layers or dielectric layers, which are protecting the recording layers
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は光学的に情報を記録する元メモリー装置におい
て、記録時のトラッキングを容易に、且つ高い信号雑音
比が得られる光メモリーに関するものである。
て、記録時のトラッキングを容易に、且つ高い信号雑音
比が得られる光メモリーに関するものである。
従来このような光メモリー媒体としてはガラスあるいは
グラスチックディスク基板の上に、記録層として、Ｔｏ
Ｓ Ｂ１などの金１に４鳩を形成すること軟化点が１０
５℃と低く、また吸湿性があシ、Ｔｅ。
グラスチックディスク基板の上に、記録層として、Ｔｏ
Ｓ Ｂ１などの金１に４鳩を形成すること軟化点が１０
５℃と低く、また吸湿性があシ、Ｔｅ。
８１などの金楓薄膜をスパッタリング法によ多形成する
場合、基板表向が軟化、平滑度が損われたり、吸湿して
いた水分及び未反応ＩＡ存モノマーなどを放出してピン
ホール等の欠陥を生ずる。これらの基板表面のピンホー
ルや傷は、情報再生においては光学的欠陥となり、ビッ
トエラーなどのメモリー媒体としての性能を低下させる
原因となるものである。また機能膜蒸着時に、ＰＭＭＡ
中の未反応モノｉ−および吸湿水分が発生するため、機
能膜とディスク基板の密着性が悪くなる欠点がある。
場合、基板表向が軟化、平滑度が損われたり、吸湿して
いた水分及び未反応ＩＡ存モノマーなどを放出してピン
ホール等の欠陥を生ずる。これらの基板表面のピンホー
ルや傷は、情報再生においては光学的欠陥となり、ビッ
トエラーなどのメモリー媒体としての性能を低下させる
原因となるものである。また機能膜蒸着時に、ＰＭＭＡ
中の未反応モノｉ−および吸湿水分が発生するため、機
能膜とディスク基板の密着性が悪くなる欠点がある。
これらの欠点を改良するため機能膜層とディスク基板と
の間にアンダーコート層を形成することが提案されてい
る。本発明では、ます熱可疎性樹脂ディスク基板に三次
元可能な樹脂層を基板表開に形成した後、三次元硬化樹
脂としての必要条件は、ディスク基板（１）との密着性
、吸湿防止性、硬化被堕の彼さ、（３）の酸化物薄膜と
の警宥性がめげられる。記録媒体であるＴ・、Ｂｉなど
の機能膜を形成することを特徴としている。このような
必賛条件からエポキシ系樹脂、ウレタン樹脂、ポリシロ
キサン樹脂などの三次元硬化樹脂が好ましい。
の間にアンダーコート層を形成することが提案されてい
る。本発明では、ます熱可疎性樹脂ディスク基板に三次
元可能な樹脂層を基板表開に形成した後、三次元硬化樹
脂としての必要条件は、ディスク基板（１）との密着性
、吸湿防止性、硬化被堕の彼さ、（３）の酸化物薄膜と
の警宥性がめげられる。記録媒体であるＴ・、Ｂｉなど
の機能膜を形成することを特徴としている。このような
必賛条件からエポキシ系樹脂、ウレタン樹脂、ポリシロ
キサン樹脂などの三次元硬化樹脂が好ましい。
エポキシ樹脂としては、たとえばポリグリシジルメタア
クリレートのような紫外線硬化エポキシアクリレート樹
脂が、進展性や常温硬化性などの点でより好ましい。通
常透明エポキシ樹脂ぽとして用いられるビスフェノール
Ａ糸樹脂プレポリマーと酸無水物硬化剤糸の配合は、１
０〜３０μｍオーダーの被膜形成には、加熱時に酸無水
物の一部が昇華、揮散して不適当である。
クリレートのような紫外線硬化エポキシアクリレート樹
脂が、進展性や常温硬化性などの点でより好ましい。通
常透明エポキシ樹脂ぽとして用いられるビスフェノール
Ａ糸樹脂プレポリマーと酸無水物硬化剤糸の配合は、１
０〜３０μｍオーダーの被膜形成には、加熱時に酸無水
物の一部が昇華、揮散して不適当である。
本発明では更にノボラック型エポキシ樹脂と硬化剤とし
てのフェノールノボランク樹脂および溶剤を主成分とす
る溶液を用いるのが好ましいことを見いだした。
てのフェノールノボランク樹脂および溶剤を主成分とす
る溶液を用いるのが好ましいことを見いだした。
ノボラック型エポキシ樹脂としてはオルトクレゾールノ
ボラック型またはフェノールノボラック樹脂でもよいが
、前者がより望ましい。
ボラック型またはフェノールノボラック樹脂でもよいが
、前者がより望ましい。
従来このノボラック型エポキシ樹脂−フェノールノボラ
ック樹脂系では硬化温度１５０℃以上と高＜ＰＭＭＡの
変形のため表面コート樹脂とじてに使用できないものと
考えられてきた。しかし、イミダゾール系硬化促進剤を
用いれ１１．１３０千１５０秒間で充分硬化することを
見い出した。ノボ２ツク型エポキシ樹脂の分子量につい
てｔｉ％に規定しないが、４００〜６００のものが好ま
しい。また硬化剤としてのノボシック樹脂の分子量も規
定しないが、遊離の未反応フェノールが２％以下のもの
がよシ好ましい。また加熱時間が非常に短がいためＰＭ
ＭＡ基板表面も変形しないことを見い出した。
ック樹脂系では硬化温度１５０℃以上と高＜ＰＭＭＡの
変形のため表面コート樹脂とじてに使用できないものと
考えられてきた。しかし、イミダゾール系硬化促進剤を
用いれ１１．１３０千１５０秒間で充分硬化することを
見い出した。ノボ２ツク型エポキシ樹脂の分子量につい
てｔｉ％に規定しないが、４００〜６００のものが好ま
しい。また硬化剤としてのノボシック樹脂の分子量も規
定しないが、遊離の未反応フェノールが２％以下のもの
がよシ好ましい。また加熱時間が非常に短がいためＰＭ
ＭＡ基板表面も変形しないことを見い出した。
硬化促進剤として外イミダゾールとしては２−メタルイ
電ダゾール、２−エチルイ建ダゾール、２−フェニルイ
ミダゾール勢のいずれでもよいが、２−メチルイオダゾ
ールがよル好ましい。
電ダゾール、２−エチルイ建ダゾール、２−フェニルイ
ミダゾール勢のいずれでもよいが、２−メチルイオダゾ
ールがよル好ましい。
塗布法はディラグ法、ロールコート法、スピンナー法な
どのいずれも使用てきるが、均一塗布の点でスピンナー
法が好ましい。ｔ１１１！［の厚み扛樹脂プレポリマー
の溶剤との希釈率により調節が可能であり、塗膜厚みは
３〜５０μｍが望ましく、更に扛１０〜３０μｍがよル
望ましい。
どのいずれも使用てきるが、均一塗布の点でスピンナー
法が好ましい。ｔ１１１！［の厚み扛樹脂プレポリマー
の溶剤との希釈率により調節が可能であり、塗膜厚みは
３〜５０μｍが望ましく、更に扛１０〜３０μｍがよル
望ましい。
本発明によシ、ガラスディスク基板のように破損の恐れ
もなく、プラスチック基板でガラス基板に劣らない、平
滑性、機能膜形成時のディスク基板の表面層の耐熱性を
付与できた。
もなく、プラスチック基板でガラス基板に劣らない、平
滑性、機能膜形成時のディスク基板の表面層の耐熱性を
付与できた。
以下に実施例を示す。
実施例
分子量約５００のオルトクレゾールノボラック１００重
量部、分子量約５００の７工ノールノボラツク５０重１
１９，２−メチルイミダゾール２重量部をエチルセロソ
ルブ５００重１ｉｌＬｓに溶解する。
量部、分子量約５００の７工ノールノボラツク５０重１
１９，２−メチルイミダゾール２重量部をエチルセロソ
ルブ５００重１ｉｌＬｓに溶解する。
この溶液を射出成形された厚み１．５％のＰＭＭＡ円板
の両面に高速スピンナーを用いて塗布し、８０℃、３０
分間乾燥機で溶媒を除去し、円板内向に塗膜（３０μｍ
）を形成した。
の両面に高速スピンナーを用いて塗布し、８０℃、３０
分間乾燥機で溶媒を除去し、円板内向に塗膜（３０μｍ
）を形成した。
次に１３０℃の乾燥後に３分間入れて塗膜を硬化させる
。
。
次いで該硬化塗膜上に高周波スパッタ法にょシＴ・を４
００オングストロームの厚さに形成した。
００オングストロームの厚さに形成した。
このようにして得られた円板２枚をＴＩ機能展を内面に
して、周縁部を接着剤によシ固定し、サンドインチ型デ
ィスクを得た。
して、周縁部を接着剤によシ固定し、サンドインチ型デ
ィスクを得た。
本発明によシ、その表面の耐熱性のため、テルルをスパ
ッタする際、ＰＭＭＡディスク基板の変形中、テルル薄
膜のピンホールの発生は認められなかった。
ッタする際、ＰＭＭＡディスク基板の変形中、テルル薄
膜のピンホールの発生は認められなかった。
得られたディスク扛硬化樹脂層の優れた性能のため、機
能膜の安定性に優れたディスクであった。
能膜の安定性に優れたディスクであった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、光学的に透明な熱可塑性高分子成形体表面に、その
硬化物のガラス転位点（Ｔｇ）が１２０℃以上になるよ
うなエポキシ樹脂系ワニスを塗布、乾燥、硬化し厚さ３
〜５０μｍの硬化塗膜を形成し、然る後該塗膜上に金楓
薄膜を形成することを特徴とする情報記録用デスクの製
造方法。 ２、エポキシ樹脂系ワニスがノボ２ツク型エポキシ樹脂
とノボラック樹脂および浴剤を主成分とするワニスであ
る、特許請求の範囲第１項記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58241877A JPS60136043A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | 情報記録用デイスクの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58241877A JPS60136043A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | 情報記録用デイスクの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60136043A true JPS60136043A (ja) | 1985-07-19 |
Family
ID=17080861
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58241877A Pending JPS60136043A (ja) | 1983-12-23 | 1983-12-23 | 情報記録用デイスクの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60136043A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104592850A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-05-06 | 三棵树涂料股份有限公司 | 超亲水透明防雾涂层的制备方法 |
| CN105131800A (zh) * | 2015-08-31 | 2015-12-09 | 沈阳化工大学 | 一种紫外线光固化涂料 |
| CN105440946A (zh) * | 2015-12-25 | 2016-03-30 | 董学明 | 纳米水性木蜡油及其制备方法 |
-
1983
- 1983-12-23 JP JP58241877A patent/JPS60136043A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104592850A (zh) * | 2014-12-31 | 2015-05-06 | 三棵树涂料股份有限公司 | 超亲水透明防雾涂层的制备方法 |
| CN105131800A (zh) * | 2015-08-31 | 2015-12-09 | 沈阳化工大学 | 一种紫外线光固化涂料 |
| CN105440946A (zh) * | 2015-12-25 | 2016-03-30 | 董学明 | 纳米水性木蜡油及其制备方法 |
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