JPS60208239A - 透明導電性フイルム - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は溶融押出法により得られた非旋光性ポリエーテ
ルスルホンフィルム（以下ＰＥＳフィルムと称する）を
支持体とした透明導電性フィルムに係るものであり更に
詳しくは導電安定性、耐摩耗性、耐熱性、耐湿性とが調
和した透明導電性フィルムに関する。

透明導電性フィルムは液晶透明電極、エレクトロルミネ
ッセンス面発光体用透明電極透明スイッチ、光電変換素
子用電極などの用途に広く検討され一部実用化され始め
ている。かがる透明導電性フィルムとしてはポリエステ
ルフィルム等の透明なフィルム上に、金属または／およ
び金属酸化物薄膜を設けたものが知られている。しかし
ながら該構成のフィルムは、導電薄膜とフィルムの密着
性が悪いために耐摩耗性、耐折り曲げ性、耐湿熱性に劣
るとか耐熱性が悪い為にラビング工程での熱処理等の各
種熱工程に耐えられないとか、ポリエステルフィルム等
は光学的異方性を有するため液晶電極等に用いようとし
た場合光学的な軸合せといった面倒な問題が生じるとか
の欠点を有しているために限られた分野においてしか実
用化されていない。したがって上記欠点を改良する試み
が種々提案されて来た。それは透明導電性フィルム支持
体と導電層間に支持体フィルムより摩耗性に優れた下地
層を形成しようとする試みであり、透明な支持体フィル
ムとしてはポリエチレンテレフタレートフィルム等のポ
リエステルフィルム、ビスフェノールＡ系ポリカーボネ
ートフィルム等のポリカーボネートフィルム、セルロー
ス誘導体フィルム、ビニル系［脂フィルム、ポリオレフ
ィン系樹脂フィルム等が提案されている。しかしかがる
試みは耐摩耗性の改善はされるものの光学異方法を有す
るフィルムであるとか、耐熱性に劣るフィルムであると
か、下地層との密着性に劣るフィルムであるとか、ぜい
性を有するフィルムであるとか夫々の欠点を有し一長一
短が有り実用面からは今−歩の感をまぬがられないもの
であった。

本願発明者らはこれら欠点をすべて克服するフィルムに
ついて種々検討を重ね溶融押出法により得られたポリエ
ーテルスルホンフィルムが特ニ優れ℃いることを見い出
し該フィルムを選択した。

この選択により光学異方性に起因する問題を克服し耐熱
性、透明性、可撓性を併せ有する透明導電性フィルムを
得るための可能性を見い出した。

次いで該フィルム上に形成される下地層物性と導電フィ
ルム性能の関係を深く追求し下地層のガラス転移温度（
以下Ｔｇという。）が導電性薄膜との密着性に深く係り
従って透明導電フィルムの導電安定性、耐湿熱性、耐摩
耗性、耐折り曲げ性と密な関係を有していることが判明
した。この機構については定かでは無いが推察するに、
スパッター等による薄膜形成時に支持体フィルム表面の
温上昇があり下地層の１″ｇの低い場合下地層が軟化し
、この軟化した樹脂層上に薄膜が形成され、次いでＴｇ
以上の温度から冷却される際樹脂の収縮に併ない薄膜層
に否みが残るためであろう。現に極端にＴｇの低い下地
層を用いた場合薄膜にクラックを生ずるとい５現象を本
願発明者らは観察し又おりほぼ確実な推定であると思わ
れる。本発明はかかる詳細な検討の結果酸されたもので
ある。

即ち溶融押出法ポリエーテルスルホンフィルムの少くと
も片面に１に８０℃以上の厚み１０μｍ以下の紫外線硬
化樹脂下地層を形成し該下地層上に導電薄膜が形成され
ている透明導電性フィルムである。

本発明において用いられる透明支持フィルムは溶融押出
法により得られたポリエーテル、スルホンフィルムに限
定される。該フィルム厚さは通常３０〜２００μｍで有
り好ましくは５０〜１００μｍである。３０μｍ以下の
場合フィルムの謂ゆる腰がないため加工作業性が悪＜２
００μｍ以上であると耐折り曲げ性に難点が生ずる。

下地層は紫外線照射により硬化せしめられた硬化樹脂層
であり硬化物のＴｇは８０℃以上である。

紫外線硬化樹脂に限定したのは下地層形成のための経済
性に拠るものであり、Ｔｇ　８０’Ｃ以下の場合は薄膜
層内の歪みが犬になり透明導電フィルムの導電安定性、
耐湿性、耐摩耗性を著じるしく損う。

またここで云うＴｇは熱膨張数法により得られた値であ
る。また硬化物層の厚みは１０μｍ以下でありこれ以上
の厚みは透明導電性フィルムの可撓性な損う。

かかる硬化物層の素材としては、エポキシジアクリレー
ト、ウレタンジアクリレート、ポリエステルジアクリレ
ート等の印ゆるアクレートプレポリマー類、２ヶ以上の
炭素〜炭素２型結合を有する多官能ビニルまたは多官能
アクリルモノマー類および光増感剤を主成分通常の紫外
線硬化樹脂が用いられる。また］゛ｇの調整はトリメチ
ロールプロパントリアクリレートの如き３官能以上のア
クリレートモノマーの添加により行なわれる。またポリ
エン−ポリチオール系紫外線硬化樹脂を用いることも有
効な方法である。透明導電層は上記紫外線硬化樹脂層上
に形成される。透明導電層は金属酸化物の薄膜であり酸
化インジウム、酸化錫、酸化カドミウム錫等が用いられ
るが一般には酸化錫を含有した酸化インジウムが好まし
い。薄膜の厚みは所望の抵抗値により適宜決定されるが
１００八〜５００Ａが好ましい。これら膜の形成法はス
パッタリング法、イオンブレーティング法が用いられる
。かくして得られた透明導電性フィルムは液晶用電極等
に用いられる場合優れた性能を発揮する工業的に意義の
あるフィルムであった。

以下に実施例を示す。

実施例１〜５ 分子量１，１００、軟化点７５℃のビスフェノールＡ型
エポキシジアクリレート５００重量部とメチルセロソル
ブアセテート５００重量部とを５０℃にて混合し１均−
な溶液とした。

得られた溶液を用い王下記のようなコーティング組成物
を調製した。

エポキシジアクリレート溶液　２ｏｏ重葉部ペンゾイン
イソグロビルエーテル　３重量部酢酸ブチル　４００重
員部 子クリルモノマー或いはアクリルプレポリマー　５０重
量部上記アクリルモノマー或いはアクリルプレポリマー
としては、第１表に示す５種類のアクリレートを単独で
用いた。

得られたコーディング溶液を１００μｍ厚のＰＥＳフィ
ルムの片面上にロールコータ法により均一に塗布し、８
０℃に″′Ｃ１０分間加熱し℃溶剤を除去した後、出力
Ｆ３Ｑ　Ｗ／ａｍの高圧水銀灯を用いて１５儂の距離よ
り５秒間紫外線を照射してコーディング層の硬化を行な
った。

得られたコーディング層上にスパッタ法により酸化イン
ジウム乞酸化錫層を：３０ＯＡの厚みにて形成して導電
層を設けた。得られた透明導電性フィルムの諸物件を第
３表に示す。

比較例１〜４ 実施例１〜４に於い℃、コーティング組成物のアクリル
モノマー１〜１ｖ或いはアクリルプレポリマー■を第２
表のアクリルモノマーＶ〜■、或いはアクリルプレポリ
マー■に替えて夫々単独に使用した以外は全て実施例１
〜４と同様な方法にて透明導電性フィルムを作製した。

得られたフィルムの８１特性を第３表に記す。

実施例６ 軟化点７５℃、二重結合金量２．４　ｒｒｒｎｏ　Ｉ　
ｅ／Ｉｉのジアリルフタレートプレポリマー１００重量
部とブチルセロソルブ２００重量部とを５０℃にて加熱
、混合し℃均一なジアリルフタレートプレポリマー溶液
を得た。

上記溶液１００重量部（二重結合金量８０ｒｒｍｏ１６
　）に、攪拌下ペンタエリスリットテトラキス（β〜メ
ルカプトグロピオネート）２５重量部　（チオール基含
量１８０　ｎｒｎｏｌｅ　）を添加し、充分に混合した
後８０℃、２時間加熱しながら攪拌を続けた。得られた
反応生成物の分析を行なったところ、二重結合は完全に
消失していた。

上記反応生成物の溶液にトリアリルインシアヌレート８
．５重量部（二重結合金９ｋ　１００　ｒｒｒｎｏｌｅ
　）、ベンゾフェノン３重量部および酢酸ブチル１００
重量部を加えて充分に混合し℃均一なコーティング溶液
を得た。

実施例１と同様にコーティング層及び導電層を形成して
得られた透明導電性フィルムの諸物件を第３表に記す。

以上の実施例と比較例から明らかなようＫ、下地層のＴ
ｇが８０℃以下のものは導電層と下地層の密着性不良及
び下地層の耐熱性不良に由来して、諸物件の低下が認め
られる。殊Ｋ　Ｔｇが著しく低い比較例１に於いてはス
パッターによる導ＭＬ屑形成時に下地層が動き、導電層
にクラックの発生が認められた。

このように本発明により下地層のＴｇを８０℃以上とす
ることＫより、諸物件が優れ、信頼性に富む透明導電性
フィルムの製造が可能となる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 溶融押出法により得られた非旋光性ポリエーテルスルホ
   ンの少くとも片面に、そのガラス転移点が８０℃以上で
   あり、且つその厚みが１０μｍ　以下の３次元架橋型紫
   外線硬化樹脂層が形成され、更に当該硬化樹脂層上に酸
   −化インジウムを主要成分とする透明導電薄膜層が設け
   られたことを特徴とする透明導電性フィルム