JPS60255969A - 透明導電性フイルムの製造方法 - Google Patents

透明導電性フイルムの製造方法

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JPS60255969A
JPS60255969A JP10951684A JP10951684A JPS60255969A JP S60255969 A JPS60255969 A JP S60255969A JP 10951684 A JP10951684 A JP 10951684A JP 10951684 A JP10951684 A JP 10951684A JP S60255969 A JPS60255969 A JP S60255969A
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JP
Japan
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film
electrically conductive
thermosetting resin
conductive film
resistance
Prior art date
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Pending
Application number
JP10951684A
Other languages
English (en)
Inventor
Junji Tanaka
順二 田中
Nobutaka Takasu
高須 信孝
Kyuichi Hirano
平野 久一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication of JPS60255969A publication Critical patent/JPS60255969A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/20Metallic material, boron or silicon on organic substrates

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高分子に金属および/または金属酸化物を主成
分とする導電膜を付与した透明導電性フィルムの製造方
法に関するものである。
〔従来技術〕
従来、透明導電性フィルムは主にポリエステルフィルム
をベースとシ、エレクトロルミネッセンスディスプレイ
やエレクトロクロきツクティスプレィの透明電極、ディ
70スタ、透明ヒータ等の面発熱体やタッチパネル等の
面スィッチ、赤外線反射膜、及び透明フレキシブル回路
等に広く用いられてきたが、・最近は液晶表示素子への
適用も検討されている。
透明導電性フィルムは、フィルム状の電極を使用するこ
とによシ素子を薄型化できる点、生産工程において取シ
扱い易く打ち抜き加工等も可能である点、フィルム状素
材から連続生産が可能であり、コスト面でも有利になる
という点よシ注目されている。
通常の透明導電性フィルムは、透明性、導電性に優れて
いることが必要であシさらに加工性として耐アルカリ性
及び耐擦過傷性が要求される。
耐アルカリ性は、透明導電性フィルムのパターン加工工
程におけるレジスト剥離工程で用いるアルカリ水溶液に
よって導電性不良や断線を生じたりしないため必要でち
υ、耐擦過傷性は加工工程中における取扱いにおいて導
電性不良や断線が生じたシしないために請求される。
しかし、通常の導電膜形成法である真空蒸着法、イオン
ブレーティング法及びスパッタリング法では導電膜形成
時に気相から固相への相転移のため急激な熱放出があシ
導電膜自体に強い内部応力がかかる。
また、導電膜の結晶格子の乱れやピンホールなどはどう
してもさけられず、これらは耐アルカリ性及び耐擦過傷
性を著しく劣化させる。
この点に関しては、導電膜上にさらにトップコートを行
うことKよって改良することが検討されてきた。
トップコート用の樹脂として、薄く塗布でき、かつ機械
的強度に優れているという性能が要求される。薄く塗布
できない樹脂では透明導電性フィルムが高抵抗化する為
に好ましくないし、機械的強度を有し碌いトップコート
では耐擦過傷性の向上がはかれない。
これ以外にも耐熱性、透明性、エツチング性など必要と
される性能が多数あシ、これらをすべて満すトップコー
トを付与した透明導電性フィルムは未だ得られていない
〔発明の目的〕
本発明は、従来のコーティング方法では得られなかった
耐アルカリ性、耐擦過傷性にすぐれ、かつ耐熱性、透明
性、エツチング性に優れた透明導電性フィルムを得んと
して研究した結果、熱硬化型樹脂をトップコートとして
付与すれば、要求性能をすべて満足する透明導電性フィ
ルムが得られるとの知見を得、更にこの知見に基づき種
々研究を進めて本発明を完成するに至ったものである。
〔発明の構成〕
本発明は導電膜表面に紫外線又は電子線照射によっても
硬化可能な熱硬化型樹脂をトップコートすることを特徴
とする透明導電性フィルムの製造方法である。
本発明に用いる高分子フィルムは、真空蒸着、イオンブ
レーティング又はスパッタ法等で導電性膜を形成する為
に耐熱性のある高分子フィルムが用いられ、ポリイミド
、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリスルホン、ポリ
エーテルサルホン、ポリエーテルケトンをはじめとしポ
リエステル系樹脂、芳香族ポリアミド系樹脂等があげら
れる。
もちろんこれ等はホモポリマー、エポリマーとして単独
又はブレンドして使用しても何等さしつかえはない。
又導電性膜素材である金属および/または金属識化物と
しては、金、銀、ジルコニウム、インジュム、錫、チタ
ン等や又は酸化錫、酸化インシーラム、錫−カドミウム
酸化物等を使用することが出来る。− 当然該導電性膜を高分子フィルムに付与するには、真空
蒸着法、スパッタ法等の物理堆積法や化学メッキ法、気
相法等の化学堆積法で導電性膜を付与しても何らさしつ
かえはない。
又これ等の導電性膜を高分子フィルムに付与するのに、
その密着性等を向上させる為に高分子フィルムと導電性
膜の間に第3層を形成させたものであっても何ら差障シ
は々く、むしろ高分子フィルムと導電性膜の密着性をあ
げるということは、その透明導電性フィルムの可撓性や
加工性を向上させる為に望ましいものである。
高分子フィルムに導電性膜を付与したものに、該導電性
膜上に熱硬化型樹脂をトップコートする。
熱硬化型樹脂は紫外線又は電子線照射によって硬化する
ものが好ましい。
例えば紫外線照射硬化型熱硬化樹脂としては、多官能ビ
ニル化合物としてエポキシジアクリレート、ウレタンジ
アクリレート等のアクリルプレポリマー、多官能アクリ
ルモノマー等と架橋モノマー光増感剤を配合した紫外線
硬化型熱硬化樹脂や、ジアリルフタレートプレポリマー
およびイソジアリルフタレートプレポリマーとポリチオ
ールから得られるフェノにポリエンと光増感剤を配合し
た紫外線硬化型熱硬化樹脂を用いてトップコートを行う
又これ等の紫外線硬化型熱硬化樹脂以外に本電子線照射
硬化型熱硬化樹脂を使用しても差障はない。
電子線は紫外線に比べて高エネルギーであるため、低重
合速度のメタクリル系樹脂も使用できる。
前記のアクリル系紫外線硬化型熱硬化樹脂やエンチオー
ル系紫外線硬化型熱硬化樹脂も当然のことながら電子線
でも硬化する。
この場合光増感剤は必要とせず、硬化反応が迅速で作業
性に優れている。これらの紫外線照射硬化型樹脂や電子
線照射硬化型樹脂は紫外線や電子線ですみやかに硬化す
るので作業性にきわめて優れたコーテイング材である。
これらの熱硬化樹脂は高度に架橋し薄膜化してもきわめ
て機械強度、耐熱性、耐擦過傷性、高透明性を持ってお
り)ツブコート材として非常に優れている。
〔発明の効果〕
本発明は、熱硬化型樹脂の特徴である機械特性、耐熱性
環に優れた均質薄膜をトップコートすることによシ従来
得られなかった耐アルカリ性、耐擦過傷性を持ち、かつ
耐熱性、高透明性の透明導電性フィルムの製造を行うと
いうもので工業的にきわめて優れたものである。
〔実施例〕
実施例 ポリエーテルサルホンフィルムを基板トシ、真空蒸着法
にて厚さ300人にインジュウムを主成分とした透明導
電膜を形成した。これにエポキシジアクリレート溶液 
200部ペンタエリスリトールトリアクリレート 40
部4.4+ジエチルアミノベンゾフエノン 3部酢酸ブ
チル 400部 から得られたコーテイング材を膜厚1000人となるよ
うにロールコータ法で塗布し紫外線照射によって硬化さ
せた。
このようにして作製した透明導電性フィルムはシート抵
抗310Ω/口、可視光の透過率85チ、水酸化カリウ
ムの10チ水溶液に10分間浸漬した後のシート抵抗値
は320Ω/口で殆んど変化はなかった。
このフィルムについて水酸化カリウム水溶液に浸漬した
後光学顕微鏡で300倍に拡大して観察したがクラック
はまったく見られなかった。
また、100f/cdの荷重をかけたガーゼで五千回摩
擦したが抵抗値の変化はまったく見られなかった。
比較例 実施例と同一の条件で導電膜を形成し、トップコートを
形成しLカ゛7r−。
シート抵抗値は300Ω/口、可視光の透過率は83チ
であった。
これを実施例と同じ条件で水酸化カリウムの1〇−水溶
液に浸漬した。浸漬後のシート抵抗値は500−Ω/口
となシ、また光学顕微鏡で300倍に拡大し観察すると
クラックが多数発生していた。
また、10(1’/−の荷重をかけたガーゼで五千回摩
擦すると、シート抵抗が10にΩ/口になシ、耐擦過傷
性が不良であった。
以上の理由で本発明の透明導電性フィルムは優れたもの
であった。
特許出願人 住友ベークライト株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 高分子フィルムに真空蒸着法、イオンブレーティング法
    、あるいはスパッタリング法にて金属および/または金
    属酸化物の薄膜を導電層どして形成し、さらに紫外線又
    は電子線照射によって硬化可能な熱硬化型樹脂のトップ
    コート層を形成することを特徴とする透明導電性フィル
    ムの製造方法。
JP10951684A 1984-05-31 1984-05-31 透明導電性フイルムの製造方法 Pending JPS60255969A (ja)

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