JPH10119170A

JPH10119170A - 可とう性積層フィルム

Info

Publication number: JPH10119170A
Application number: JP8276064A
Authority: JP
Inventors: Hideki Goto; 英樹後藤; Junji Tanaka; 順二田中
Original assignee: Sumitomo Bakelite Co Ltd
Current assignee: Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date: 1996-10-18
Filing date: 1996-10-18
Publication date: 1998-05-12

Abstract

(57)【要約】【課題】加工性、導電性、ガスバリヤー性、耐打鍵
性、可とう性の優れた透明導電性フィルムを提供する。【解決手段】光学特性、耐熱性に優れた高分子フィル
ムの少なくとも片側に密着性、耐打鍵性、耐熱性に優れ
た有機層１、次にバリヤ性、耐打鍵性、可とう性を有す
る無機層、密着性、耐打鍵性、耐熱性、無機層保護特性
を有する有機層２、更に希酸に対し容易に溶ける導電層
を順次設けた積層フィルムである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、フィルム液晶表示
装置に用いられる導電性フィルムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】液晶用導電性フィルムとしては、特公昭
６２−３２１０１号、特公昭６３−３４０１８号、特公
平１−１２６６６号等に記載のポリエステル、ポリエー
テルサルフォン、ポリカーボネート等の高分子フィルム
表面に酸化インジウム、酸化錫、あるいは錫、インジウ
ム合金の酸化膜等の半導体膜や金、銀、パラジウムある
いはそれらの合金等の金属膜、半導体膜と金属膜を組み
合わせて形成されたもの等が知られている。

【０００３】しかしながら、プラスチック上に上記の透
明導電膜を形成する際、基板から発生するガスの影響
や、結晶化によりエッチングが難しくなる等の欠点があ
り、ロット間の安定性に欠け、設計上の困難を伴うと言
う大きな問題があった。この為いくつかの検討はされて
いるが、確立、採用された技術は未だ無い状況であっ
た。また、プラスチック基板の耐熱性が低いことより
高温での加熱成膜が出来ない点や、放出ガスの影響によ
り導電膜として最も重要な比抵抗が下がらない等の欠点
があり、ガラス基板並の高精細パターンに求められる表
面抵抗を得る透明導電膜としては問題があった。低抵抗
を得るために膜厚を厚くすると、液晶表示に於いてパタ
ーンが見える、いわゆる骨見えの現象が起き、表示品位
が落ちる欠点があった。

【０００４】更に、プラスチック基板を用いた液晶セル
の最大の欠点は、基板を透過する酸素によりセル内の液
晶に気泡が発生する事であった。この為、プラスチック
基板を用いる場合はガスバリヤー層が不可欠に成り各種
の検討がなされている。ガスバリヤー層として、無機層
を設ける方法は、液晶用途以外では特公昭５３−１２９
５３号、液晶用では特開昭５０−１４２１９４号等に高
分子フィルム上にＳｉＯ₂等を蒸着したもの、あるい
は、高分子フィルム上に塩化ビニリデン系ポリマーや特
願昭５９−２０７１６８号記載のビニルアルコール系ポ
リマーなど、更には、これらと無機層を併用した特願昭
５９−２０１８８６号、特願昭５９−２０１８８７号等
相対的にガスバリヤー性のあるポリマーのコーティング
層を設けたものが知られている。

【０００５】更に、液晶用途として使用するには、フィ
ルム液晶の最大の特徴である耐打鍵性に代表される耐衝
撃性が必要であり、これは液晶表示部に対する外部押圧
に対応するものである。液晶セルの打鍵性試験として
は、先端７Ｒの硬質ゴムに荷重２００ｇｆを掛け、スト
ローク３ｍｍで１Ｈｚの周期で３６０万回打鍵して液晶
セル内の気泡の有無で判断する。また、可とう性の試験
方法としては、３５ｍｍΦのロールに巻き付けて高温高
湿下で無機層に与えるダメージによる特性劣化評価が一
般的である。何れも、気泡の直接原因となる無機層の酸
素バリヤー性は無機層の可とう性、緻密性に依存してお
り、製造条件、基板の前処理法等多くの要因が有り、例
えば特開昭５５−１１４５６３号に記載されている加水
分解による酸化物等があるが、ただ単に無機層を設けた
だけでは液晶用基板としては満足出来るものでは無かっ
た。

【０００６】更に、無機層の形成方法としては、蒸着、
スパッタリング、イオンプレーティング、プラズマＣＶ
Ｄに代表される気相成膜法などが用いられてきた。しか
し、これらの方法は一般に巨大な装置を必要とするた
め、これに要する設備投資が莫大であり、容易に実用化
できないという欠点があった。

【０００７】フィルム液晶表示装置には、ガスバリヤー
性、透明導電性、耐打鍵性、可とう性を合わせ持つ積層
フィルムが不可欠な要素であるが、更に、パターン加工
性は歩留まりの上から重要である。しかし、これらの機
能を有する各層を組み合わせ、加工性の良い透明導電
性、ガスバリアー性を付与し、液晶表示装置材料として
必要な耐久性のすべてが十分な透明導電性フィルムは、
いまだ工業的には生産されていなかった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる現状
に鑑みなされたもので、加工性、導電性、ガスバリヤー
性、耐打鍵性、可とう性の優れた透明導電性を有するフ
ィルムを提供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上述の目的は、図１に示
す様に、光学特性、耐熱性に優れた高分子フィルムの少
なくとも片側に、密着性、耐打鍵性、耐熱性に優れた有
機層１、次にバリヤー性、耐打鍵性、可とう性を有する
を有する無機層、密着性、耐打鍵性、耐熱性、無機層保
護特性を有する有機層２、更に希酸に対し容易に溶ける
導電層を順次設けた可とう性積層フィルムにより達成さ
れる。

【００１０】即ち、高分子フィルムの少なくとも片側に
有機層１、無機層、有機層２、導電層を順次設けた積層
フィルムであり、無機層が低温硬化型ペルヒドロポリシ
ラザン溶液の無機化によって形成され、更に好ましい態
様としては、先端７Ｒの硬質ゴムによる周期１Ｈｚ、荷
重２００ｇｆで、３６０万回の打鍵によりクラックが生
じない耐衝撃性を有し、曲率２２０ｍｍΦのロールに表
裏各１００００回を巻き付けてもクラックが生じない曲
げサイクル性を有し、曲率３５ｍｍΦのロールに固定
し、６０℃、９０％ＲＨ、１０００時間放置後クラック
が生じない曲面保存性を有し、導電層がＩｎとＳｎの酸
化物、あるいは、第三成分としてＺｎ、Ｍｇ、Ｇａの酸
化物のうち少なくとも１種を含む酸化物からなり、有機
層１及び有機層２が融点５０℃以上のエポキシアクリレ
ートプレポリマーあるいは融点５０℃以上のウレタンア
クリレートプレポリマーの紫外線硬化膜であり、かつ厚
みは０．３〜１．５μｍであり、無機層の全光線透過率
が８５％以上、膜厚が０．１〜１μｍ、表面抵抗率が１
×１０¹²Ω以上、酸素バリヤー性が１ｃｃ／ａｔｍ・２
４ｈ・ｍ²以下の積層フィルムである。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明に於ける高分子フィルムは
ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリアリ
レート、ノルボルネン、紫外線硬化型樹脂、エポキシ樹
脂に代表される熱硬化型樹脂等からなり、全光線透過率
が８５％以上の透明性を有し、光学異方性が少ないフィ
ルムである。また、加工性の点より極力耐熱性があるこ
とが望ましく、Ｔｇが２２３℃と最も高いポリエーテル
サルフォンや紫外線硬化樹脂、熱硬化型樹脂がより好ま
しい。

【００１２】高分子フィルムの厚みとしては、ガラスに
対し軽い、割れない、可とう性を有する等の点より０．
０５〜０．５ｍｍのものであり、必要に応じて複数のフ
ィルムを屈折率を合わせた接着剤等を介し積層した構成
のものであっても良い。尚、光学異方性としては、出来
るだけ０が望ましいが、リタゼーション値として１５ｎ
ｍ以下、角度依存性としては４５度で２倍以内が好まし
い。これは、色差として２以下並びに角度依存性に関し
ては色ずれ防止からの要求である。

【００１３】有機層１としては、融点５０℃以上のエポ
キシアクリレートプレポリマーあるいは融点５０℃以上
のウレタンアクリレートプレポリマーの紫外線硬化膜で
あり、液晶用途としての特性を満足出来れば、熱的によ
り安定な熱硬化型を用いても良い。しかしながら、生産
性に優れた紫外線硬化型樹脂がより好ましい。高分子フ
ィルムや無機層との密着力は不可欠であり、可とう性、
耐薬品性が優れている事が必要である。この目的のため
に、通常行われているプライマー層を設けても良い。用
いる樹脂の融点が５０℃未満であると導電膜の真空中で
の成膜時に発生するガスにより目的の膜質が得られない
ことや液晶セルの加工時に掛かる熱により変形するとい
う問題がある。

【００１４】ここで重要なのは、耐打鍵性保持の為、有
機層１の厚みを制限することである。通常のコート樹脂
の厚みとして用いられている２〜５μｍ程度の厚みを塗
布し、耐打鍵性試験を行うと一般的に３０万回程度でク
ラックが生じる。従って、液晶用途として実用上充分安
定した領域で使用するためには、有機層１の厚みとして
０．３〜１．５μｍの範囲である。これは、紫外線硬化
樹脂は硬化時に１０〜２０％程の硬化収縮が起こること
によって、潜在的な内部応力を持ち、打鍵試験の様な局
部的な外力が働くと一気にクラックが入るためである。
また、厚みを薄くすることによって高分子フィルムとの
密着力も向上する。有機層１を２．５μｍに塗布した際
の高分子フィルムとの密着力は２００ｇ／ｃｍに対し、
０．５μｍ品では１０００ｇ／ｃｍと５倍大きくなる。
更に薄化する優位点として、液晶用途では極力透明性を
有することが望ましく、２μｍの厚みにに対して、０．
５μｍ厚みを低減する毎に０．５％の透過率の改善が認
めらる。有機層１の厚みが０．３μｍ未満では塗布ムラ
が生じ易くなり外観上問題が生じ、１．５μｍを越える
と密着力が低下し、クラックが発生し易くなる。

【００１５】無機層として、全光線透過率は８５％以上
で表面抵抗率が１×１０¹²Ω以上、酸素バリヤー性は１
ｃｃ／２４ｈ・ｍ²以下である。更に可とう性として、
３５ｍｍΦのロールに巻き付け６０℃９０％ＲＨの環境
下で１０００時間放置後クラックが生じない曲面保存性
を有し、且つ曲げサイクルとして曲率２２０ｍｍΦのロ
ールに表裏各１００００回巻き付けてもクラックが生じ
ない事が必要である。更に、フィルム液晶の最大の特徴
である耐衝撃性を示す耐打鍵性試験としては、先端７Ｒ
の硬質ゴムによる周期１Ｈｚ、荷重２００ｇｆで、３６
０万回の打鍵によりクラックが入らないことが必要であ
る。

【００１６】無機層としては、例えばＳｉＯｘ、Ｓｉｘ
Ｎｙ、ＡｌｘＯｙ等あるいはこれらの多層、複合膜が考
えられる。無機層としてはポリシラザンを無機化した無
機膜が製膜性等の点より好ましい。ポリシラザンとして
は、例えば東燃株式会社製のＰＨＰＳ−１ペルヒドロポ
リシラザン溶液を用いることができる。無機層の形成方
法としては、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティ
ング、プラズマＣＶＤに代表される気相成膜法などが、
バリアー性を目的とした用途でこれまで主に用いられて
きた。ところがこれらの方法は一般に巨大な装置を必要
とするため、これに要する設備投資が莫大であり、容易
に実用化できないという欠点があった。それと比較して
ポリシラザン溶液あるいは金属アルコキサイドを原料と
した塗布法においては、装置も比較的安価である上に、
生産性も高いことから製品の低コスト化に非常に効果が
あるという特徴を有している。

【００１７】また、無機層の形成として金属アルコキシ
ドの加水分解により緻密な膜を形成する方法があるが、
一般に５００℃以上の温度が必要であるといわれてお
り、１ｃｃ／２４ｈ・ａｔｍ・ｍ²以下のガスバリアー
性を有する塗膜をプラスチック上に形成することは困難
である。特開平７−２２３８６７号記載の様にポリシラ
ザン溶液によるＳｉＯｘ膜形成においては、無機化のた
めの焼成温度が８０−１２０℃と非常に低温であるた
め、プラスチック基板へ緻密な塗膜を形成することが可
能である。但し、バリヤー性、透明性、耐打鍵性、曲げ
特性等を満足させるためには、膜厚として０．１〜１μ
ｍであることが必要である。０．１μｍ未満では１ｃｃ
以下のバリヤー性を有する事は困難で有り、１μｍを越
えるとクラックが生じやすくなるからである。

【００１８】またコーティング溶液に、樹脂等を加える
ことにより、耐熱性、硬度、密着性、撥水性、耐汚染
性、透明性、平滑性等の物性を向上させることが可能で
あり、ＵＶ吸収剤を添加する等の方法により新たな機能
を付与することも可能である。例えば、フッ素樹脂（特
開平７−３０５０２９号）、アクリル樹脂（特開平７−
２９２３２１号）、ＺｎＯ、ＴｉＯ₂微粒子（特開平７
−２５２４５３号）を用いた例が挙げられる。

【００１９】全光線透過率としては出来るだけ高いこと
が望ましいが、高分子フィルム並びに導電層の透過率を
考慮すれば、実質上８５％以上であれば使用可能とな
る。全光線透過率が８５％未満であると透明性が不十分
となり本用途には使用出来ない。

【００２０】液晶電極材料の基板としては表面抵抗率は
１×１０¹²Ω以上が必要である。通常ＴＮ、ＳＴＮモー
ドで使用される液晶の抵抗率が１×１０¹⁰Ω程度である
ため１００倍以上の差を設ける必要が有るからである。
１×１０¹²Ω以下であるとセルの消費電流が上昇し、セ
ルの寿命が短くなるという問題が発生する。このために
は結晶光学的に理想に近いＳｉＯ₂、Ｓｉ₃Ｎ₄、Ａｌ₂Ｏ
₃が好ましい。また、セル寿命の点からは、イオン性不
純物は極力少ない方が望ましく通常２０ｐｐｍ以下が望
まれる。このためには材料の選定や成膜中の不純物管理
が重要になる。

【００２１】更に無機膜の酸素バリヤー性として１ｃｃ
／２４ｈ・ａｔｍ・ｍ²以下であることが重要である。
塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポリマ
ーに代表される有機バリヤーと比較して、温湿度の変化
に対して影響が無いことが最大の特徴であり、有機バリ
ヤーの常温常湿での酸素バリヤー性として要求されてい
る１ｃｃ／２４ｈ・ａｔｍ・ｍ²の値以下であれば実用
上問題ない。尚、測定方法はモコン法である。無機層を
プラスチック基板に直接形成するか、あるいはその形成
に先立ち有機層１との密着力を高めるために、脱ガス処
理、コロナ放電処理、火炎処理等の表面処理やアクリル
系、エポキシ系等の公知のアンカーコートが施されてい
てもよい。

【００２２】次に耐打鍵性、耐熱性を有し、且つ、導電
性膜との密着性、無機層保護特性を有する有機層２を設
ける。有機層２としては、有機層１と同等のもので良
い。当然ながら、無機層や導電層との密着力は不可欠で
あり、可とう性及び各パターニング工程や配向材塗布工
程を経る事から耐薬品性が優れている事が重要である。
更には、無機層の微量な未反応物の液晶への溶質防止や
無機膜の保護としての役割も重要である。この目的のた
めには、通常行われているプライマー層を設けても良
い。

【００２３】有機層２の厚みとしては、有機層１と同様
の０．３〜１．５μｍである。硬化時に１０〜２０％程
の硬化収縮によって生じた潜在的内部応力を持った紫外
線硬化樹脂に於いて、各種の局部的な外力が働いてもク
ラックが生じ難くさせる為には極力薄くさせて応力自体
を軽減する事が最も有効であり、樹脂として低応力タイ
プにする事は不可欠な技術である。有機層２の厚みが
０．３μｍ未満では塗布ムラが生じ易くなり、外観上問
題が生じる為であり、１．５μｍを越えると密着力が低
下し、クラックが発生し易くなる為である。有機層１と
同様に、厚みを薄くすることによって有機層２の密着
力、透明性を向上させることができる。

【００２４】最上層として導電層を形成する。導電層と
しては、極力比抵抗が低く、歩留まりに影響を与えるパ
ターン加工性が良く、希酸に対し容易に溶ける導電層が
好ましい。ＩｎとＳｎの酸化物から成る導電層は、最も
比抵抗、透明性が良いために通常広く用いられている。
組成比としてはＳｎ／（Ｉｎ＋Ｓｎ）が０．０５〜０．
１５が望ましい。０．１５を越えると比抵抗の上昇とと
もに、エッチング性が悪くなり、０．０５未満では比抵
抗の上昇とともに黄色味を帯び、外観上の問題が生じる
ためである。

【００２５】液晶用途では高精細のパネル化が進んでお
り、それに伴い細線のパターニングが必要不可欠となっ
てきた。ＩｎとＳｎの酸化物の希酸に対する溶解性を向
上させるために、第三成分としてＺｎ、Ｍｇ、Ｇａの酸
化物のうち少なくとも１種を添加することができ、これ
により著しくエッチング性が向上する。但し、添加量の
増大により比抵抗は上昇するため、必要とされるエッチ
ング特性に応じて適時調整する必要があり、層中にその
３種すべてを混合させるか、あるいはエッチング特性の
異なる成分を積層してもよい。Ｉｎ＋Ｓｎに対し２０％
未満の原子比で有れば比抵抗、エッチング性は両立す
る。

【００２６】

【実施例】

《実施例１》高分子フィルムとして溶融押し出し法によ
り作製した厚み２００μｍ、リタゼーション５ｎｍのポ
リエーテルサルフォンフィルムを用いた。高分子フィル
ム上に、有機層１として分子量１５４０、融点７０℃の
エポキシアクリレートプレポリマー（昭和高分子製、Ｖ
Ｒ−６０）１００重量部、酢酸ブチル４００重量部、セ
ロソルブアセテート１００重量部、ベンゾインエチルエ
ーテル２重量部を５０℃にて攪拌、溶解して均一な溶液
としものをグラビアロールコーターで塗布し、８０℃で
１０分間加熱して溶媒を除去し、８０ｗ／ｃｍの高圧水
銀灯により１５ｃｍの距離で３０秒間照射して樹脂を硬
化させ、０．５μｍ厚の有機層１を形成した。次にこの
上に東燃株式会社製ＰＨＰＳ−１ペルヒドロポリシラザ
ン溶液をグラビアコーターにより塗布した後、１５０℃
で３時間の加熱を行い、更に８５℃、８５％Ｒ．Ｈ．で
３０時間処理しＳｉＯ₂の無機膜を得た。無機化後の膜
厚は０．５μｍであった。この無機膜の酸素バリヤー性
はモコン法により測定したところ０．８ｃｃ／ｍ²・ｄ
ａｙであり、表面抵抗率は８．１×１０¹²Ωであった。
又、全光線透過率は８９％であった。

【００２７】次に有機層１と同様の樹脂、作成方法によ
り０．５μｍ厚の有機層２を形成した。次に導電層とし
てＤＣマグネトロン法により導電膜を形成した。初期真
空度３×１０^-4Ｐａに引き、酸素／アルゴンガス２％の
混合ガスを導入し、１×１０^-1Ｐａの条件下において成
膜し、Ｓｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比が０．０７である導電
層を得た。測定の結果、膜厚は１１００Å、比抵抗は
４．３×１０^-4Ω−ｃｍ、全光線透過率８３％であっ
た。

【００２８】以上の条件で得られた導電膜にレジストを
塗布、露光、現像し、エッチング液としてＨＣｌ濃度１
５ｖｏｌ％、液温４０℃中で２００μｍピッチの回路を
作製した。ライン／スペースとしては、１５０／５０μ
ｍである。エッチング時間は２０秒で残差もなく良好な
ストレートラインが得られた。

【００２９】このパターンを作製したフィルムを用いて
以下の試験を行った。耐打鍵性として、先端７Ｒの硬質
ゴムによるストローク３ｍｍ、周期１Ｈｚ、荷重２００
ｇｆで、３６０万回の打鍵を行った。曲げサイクルとし
て、曲率２２０ｍｍΦのロールに表裏各１００００回を
巻き付け試験を行った。曲面保存性として、曲率３５ｍ
ｍΦのロールに固定し、６０℃、９０％ＲＨ、１０００
時間放置試験を行った。試験後の各試験片を１０００倍
の金属顕微鏡により表面観察をしたが、何れもクラック
は無く良好であった。

【００３０】《比較例１》実施例１と同一ロットフィル
ム、同一ロット材料を用い、同一構成で形成した。但し
有機層１の厚みのみ３μｍとした。次に実施例１と同一
手法によりパターン化したフィルムを用い、耐打鍵性、
曲げサイクル、曲面保存性の試験を行った。耐打鍵性試
験に於いて１０万回ではクラックは認められなかった
が、１５万回検査時にクラックが認められた。又、曲げ
サイクル試験の導電層を表にした曲げに於いて７５００
回までは異常が無かったが１００００回の検査時にクラ
ックが認められた。一方、曲面保存性試験では、異常は
認められ無かった。

【００３１】《比較例２》実施例１と同一ロットフィル
ム、同一ロット材料を用い、同一構成で形成した。但し
有機層１、２の厚みを２．５μｍとし、又、無機層の厚
みを１．５μｍにした。次に実施例１と同一手法により
パターン化したフィルムを用い、耐打鍵性、曲げサイク
ル、曲面保存性の試験を行った。耐打鍵性試験に於いて
１００００回検査時にクラックが認められた。又、曲げ
サイクル試験の導電層を表にした曲げに於いて５０００
回後の初回検査時で既にクラックが認められた。また、
曲面保存性試験では、５００時間後の初回検査時でクラ
ックが認められた。

【００３２】

【発明の効果】本発明により、エッチング性が良好で耐
衝撃性に優れ、透明性、ガスバリヤー性、可とう性を満
足する透明導電性フィルムを提供することが可能となっ
た。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に掛かる積層フィルムの一部断面図を示
す。

【符号の説明】

１：高分子フィルム２：有機層１３：無機層４：有機層２５：導電層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】高分子フィルムの少なくとも片側に有機
層１、無機層、有機層２、導電層を順次設けた積層フィ
ルムにおいて、該無機層が低温硬化型ペルヒドロポリシ
ラザン溶液の無機化によって形成されたことを特徴とす
る可とう性積層フィルム。
【請求項２】先端７Ｒの硬質ゴムによる周期１Ｈｚ、
荷重２００ｇｆで、３６０万回の打鍵によりクラックが
生じない耐衝撃性を有することを特徴とする請求項１記
載の可とう性積層フィルム。
【請求項３】曲率２２０ｍｍΦのロールに表裏各１０
０００回を巻き付けてもクラックが生じない曲げサイク
ル性を有することを特徴とする請求項１または２記載の
可とう性積層フィルム。
【請求項４】曲率３５ｍｍΦのロールに固定し、６０
℃、９０％ＲＨ、１０００時間放置後クラックが生じな
い曲面保存性を有することを特徴とする請求項１、２ま
たは３記載の可とう性積層フィルム。
【請求項５】該導電層がＩｎとＳｎの酸化物、あるい
は、ＩｎとＳｎの酸化物に第三成分としてＺｎ、Ｍｇ、
Ｇａの酸化物のうちの少なくとも１種を含む酸化物から
なることを特徴とする請求項１、２、３または４記載の
可とう性積層フィルム。
【請求項６】該有機層１及び有機層２が融点５０℃以
上のエポキシアクリレートプレポリマーあるいは融点５
０℃以上のウレタンアクリレートプレポリマーの紫外線
硬化膜であり、それぞれの厚みが０．３〜１．５μｍで
あることを特徴とする請求項１、２、３、４または５記
載の可とう性積層フィルム。
【請求項７】該無機層の全光線透過率が８５％以上、
膜厚が０．１〜１μｍ、表面抵抗率が１×１０¹²Ω以
上、酸素バリヤー性が１ｃｃ／ａｔｍ・２４ｈ・ｍ²以
下であることを特徴とする請求項１、２、３、４、５ま
たは６記載の可とう性積層フィルム。