JP3313303B2 - 導電性フィルム - Google Patents
導電性フィルムInfo
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フィルム液晶表示
装置に用いられる可とう性、エッチング性に優れた導電
性フィルムに関するものである。
装置に用いられる可とう性、エッチング性に優れた導電
性フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶用導電性フィルムとしては、特公昭
６２−３２１０１号公報、特公昭６３−３４０１８号公
報、特公平１−１２６６６号公報等に記載のポリエステ
ル、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート等の高
分子フィルム表面に酸化インジウム、酸化錫、あるいは
錫、インジウム合金の酸化膜等の半導体膜や金、銀、パ
ラジウムあるいはそれらの合金等の金属膜、半導体膜と
金属膜を組み合わせて形成されたもの等が知られてい
る。
６２−３２１０１号公報、特公昭６３−３４０１８号公
報、特公平１−１２６６６号公報等に記載のポリエステ
ル、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート等の高
分子フィルム表面に酸化インジウム、酸化錫、あるいは
錫、インジウム合金の酸化膜等の半導体膜や金、銀、パ
ラジウムあるいはそれらの合金等の金属膜、半導体膜と
金属膜を組み合わせて形成されたもの等が知られてい
る。
【０００３】しかしながら、プラスチック上に上記の透
明導電膜を形成する際、基板からのガスの影響や、結晶
化によりエッチングが難しい等の欠点があり、この為い
くつかの検討はされているが、確立、採用された技術は
未だ無い状況で有る。一例として酸に可溶な透明導電性
膜として特開平７−１６８１９６号公報では、Ｉｎ、Ｚ
ｎから成る非晶質酸化物を一層を設けた導電性層が提案
されているが、余りにも可溶過ぎ、パタン加工ライン上
でのオーバエッチングが起こり、ロット間の安定性に欠
け、設計上も困難さを伴うという大きな問題があった。
又、比抵抗値としても５×１０-4と高く、高精細パター
ンに求められる低抵抗にするためには膜厚が厚くなり可
とう性が少なくなるという問題があった。又、耐溶剤性
にも劣り、レジスト剥離剤や、セル化工程における洗浄
剤により表面抵抗値が上昇するという問題があった。
明導電膜を形成する際、基板からのガスの影響や、結晶
化によりエッチングが難しい等の欠点があり、この為い
くつかの検討はされているが、確立、採用された技術は
未だ無い状況で有る。一例として酸に可溶な透明導電性
膜として特開平７−１６８１９６号公報では、Ｉｎ、Ｚ
ｎから成る非晶質酸化物を一層を設けた導電性層が提案
されているが、余りにも可溶過ぎ、パタン加工ライン上
でのオーバエッチングが起こり、ロット間の安定性に欠
け、設計上も困難さを伴うという大きな問題があった。
又、比抵抗値としても５×１０-4と高く、高精細パター
ンに求められる低抵抗にするためには膜厚が厚くなり可
とう性が少なくなるという問題があった。又、耐溶剤性
にも劣り、レジスト剥離剤や、セル化工程における洗浄
剤により表面抵抗値が上昇するという問題があった。
【０００４】一方、ガスバリヤー層として、無機層を設
ける方法では、液晶用途以外では特公昭５３−１２９５
３号公報、液晶用では特開昭５０−１４２１９４号公報
等において、高分子フィルム上の少なくとも片面にＳｉ
Ｏ2等を蒸着したもの、あるいは、高分子フィルム上に
塩化ビニリデン系ポリマーや特願昭５９−２０７１６８
号（特開昭６１−８６２５２号）公報記載のビニルアル
コール系ポリマーなど、更には、これらと無機層を併用
した特願昭５９−２０１８８６号（特開昭６１−７９６
４５号）公報、特願昭５９−２０１８８７号（特開昭６
１−７９６４６号）公報等相対的にガスバリヤー性のあ
るポリマーのコーティン層を設けたものが知られてい
る。
ける方法では、液晶用途以外では特公昭５３−１２９５
３号公報、液晶用では特開昭５０−１４２１９４号公報
等において、高分子フィルム上の少なくとも片面にＳｉ
Ｏ2等を蒸着したもの、あるいは、高分子フィルム上に
塩化ビニリデン系ポリマーや特願昭５９−２０７１６８
号（特開昭６１−８６２５２号）公報記載のビニルアル
コール系ポリマーなど、更には、これらと無機層を併用
した特願昭５９−２０１８８６号（特開昭６１−７９６
４５号）公報、特願昭５９−２０１８８７号（特開昭６
１−７９６４６号）公報等相対的にガスバリヤー性のあ
るポリマーのコーティン層を設けたものが知られてい
る。
【０００５】しかし、液晶用途として使用するには、フ
ィルム液晶の最大の特徴である耐衝撃性が必要であり、
これは落下や外部押圧に対応するものである。一般的に
デュポン衝撃試験機（ＪＩＳ−Ｋ−５４００．６．１３
Ｂ）に於いて、重り荷重１００ｇで落下させ、落下距離
３００ｍｍ以上の衝撃性を有する事が望ましいが、実際
は５０ｍｍ程度と実用上の面より安心出来るレベルでは
無かった。
ィルム液晶の最大の特徴である耐衝撃性が必要であり、
これは落下や外部押圧に対応するものである。一般的に
デュポン衝撃試験機（ＪＩＳ−Ｋ−５４００．６．１３
Ｂ）に於いて、重り荷重１００ｇで落下させ、落下距離
３００ｍｍ以上の衝撃性を有する事が望ましいが、実際
は５０ｍｍ程度と実用上の面より安心出来るレベルでは
無かった。
【０００６】フィルム液晶の特徴である可とう性につい
ては、３５ｍｍΦのロールに巻き付けてもクラックが生
じない可とう性が必要であるが、特開昭５５−１１４５
６３号公報に記載されている加水分解による酸化物から
なる無機層を有すると一般的には膜厚は１μｍ程度と厚
くなるためクラックが生じ易くなると言う欠点が有り、
必ずしも無機バリヤーを設ければ良いと言った状況では
無かった。
ては、３５ｍｍΦのロールに巻き付けてもクラックが生
じない可とう性が必要であるが、特開昭５５−１１４５
６３号公報に記載されている加水分解による酸化物から
なる無機層を有すると一般的には膜厚は１μｍ程度と厚
くなるためクラックが生じ易くなると言う欠点が有り、
必ずしも無機バリヤーを設ければ良いと言った状況では
無かった。
【０００７】以上の様に、フィルム液晶表示装置には、
ガスバリヤー性、透明導電性、耐衝撃性、可とう性を合
わせ持つ積層フィルムが不可欠な要素であり、更にパタ
ン加工性の歩留まりの点から重要である。しかし、これ
らの機能を有する各層をくみあわせて、加工性が良く、
透明導電性、ガスバリアー性を付与でき、液晶表示装置
材料として必要な耐久性のすべてが十分な透明導電性フ
ィルムは、いまだ工業的には生産されていない状況にあ
る。
ガスバリヤー性、透明導電性、耐衝撃性、可とう性を合
わせ持つ積層フィルムが不可欠な要素であり、更にパタ
ン加工性の歩留まりの点から重要である。しかし、これ
らの機能を有する各層をくみあわせて、加工性が良く、
透明導電性、ガスバリアー性を付与でき、液晶表示装置
材料として必要な耐久性のすべてが十分な透明導電性フ
ィルムは、いまだ工業的には生産されていない状況にあ
る。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる現状
に鑑みなされたもので希酸に可溶な導電性を有し、ガス
バリヤー性、耐衝撃性、可とう性に優れた透明導電性を
有するフィルムを提供することにある。
に鑑みなされたもので希酸に可溶な導電性を有し、ガス
バリヤー性、耐衝撃性、可とう性に優れた透明導電性を
有するフィルムを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は、高分子フィル
ムあるいはシートの少なくとも片側に有機層１、バリヤ
性を有する無機層、有機層２、希酸に対し容易に溶け、
ＩｎとＺｎの酸化物から成り、酸化物の組成Ｚｎ／Ｉｎ
＋Ｚｎが０．１５〜０．４の原子比の範囲である導電性
層１、耐溶剤性が高く、ＩｎとＳｎの酸化物から成り、
酸化物の組成Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎが０．８５〜０．９３の
原子比であり、且つ膜厚が５０〜３００Åである導電性
層２を順次積層した導電性フィルムである。更に好まし
い態様は、有機層１及び有機層２が、融点５０℃以上の
エポキシアクリレートプレポリマーあるいは融点５０℃
以上のウレタンアクリレートプレポリマーの紫外線硬化
膜であり、０．３〜１．５μｍの厚みであり、無機層の
全光線透過率が８５％以上、３０Ｈｚの駆動周波数に於
ける表面抵抗率が１×１０12Ω以上、酸素バリヤー性が
２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2以下であり、３５ｍｍΦのロー
ルに巻き付けてもクラックが生じない可とう性を有する
導電性フィルムである。
ムあるいはシートの少なくとも片側に有機層１、バリヤ
性を有する無機層、有機層２、希酸に対し容易に溶け、
ＩｎとＺｎの酸化物から成り、酸化物の組成Ｚｎ／Ｉｎ
＋Ｚｎが０．１５〜０．４の原子比の範囲である導電性
層１、耐溶剤性が高く、ＩｎとＳｎの酸化物から成り、
酸化物の組成Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎが０．８５〜０．９３の
原子比であり、且つ膜厚が５０〜３００Åである導電性
層２を順次積層した導電性フィルムである。更に好まし
い態様は、有機層１及び有機層２が、融点５０℃以上の
エポキシアクリレートプレポリマーあるいは融点５０℃
以上のウレタンアクリレートプレポリマーの紫外線硬化
膜であり、０．３〜１．５μｍの厚みであり、無機層の
全光線透過率が８５％以上、３０Ｈｚの駆動周波数に於
ける表面抵抗率が１×１０12Ω以上、酸素バリヤー性が
２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2以下であり、３５ｍｍΦのロー
ルに巻き付けてもクラックが生じない可とう性を有する
導電性フィルムである。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明は、例えば図１に示す様
に、高分子フィルムあるいはシート（以後フィルムとい
う）の少なくとも片側に有機層１、バリヤ性を有する無
機層、有機層２、希酸に対し容易に溶ける導電性層１、
耐溶剤性が高く比抵抗値の低い導電性層２を積層した、
耐衝撃性、可とう性、エッチング性に優れた積層フィル
ムであり、積層順としては上記の順が好ましい。また図
２に示す様に無機層を高分子フィルムを間にして導電性
層１とは反対側に位置するように形成するのも好まし
い。本発明に於ける高分子フィルムとは、ポリエステ
ル、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリ
アリレート、ノルボルネン、紫外線硬化型樹脂、エポキ
シ樹脂に代表される熱硬化型樹脂等からなる全光線透過
率（ＪＩＳ−Ｋ−７１０５．５．５）で８０％以上の透
明性を有し、光学異方性が少ないフィルムであって、加
工性の点からは極力耐熱性があることが望ましい。この
意味から、２２３℃と最もＴｇが高いポリエーテルサル
ホンや紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂がより好まし
い。又、厚みとしては、ガラスに対し軽い、割れない、
可とう性を有するために０．０５〜０．５ｍｍのもので
あり、必要に応じ複数のフィルムを屈折率を合わせた接
着剤等を介して積層した構成のものでも良い。尚、光学
異方性としては、出来るだけ０が望ましいが、リタゼー
ション値として１５ｎｍ以下、角度依存性としては４５
度で２倍以内が好ましい。これは、色差として２以下並
びに角度依存性に関しては色ずれ防止からの要求であ
る。
に、高分子フィルムあるいはシート（以後フィルムとい
う）の少なくとも片側に有機層１、バリヤ性を有する無
機層、有機層２、希酸に対し容易に溶ける導電性層１、
耐溶剤性が高く比抵抗値の低い導電性層２を積層した、
耐衝撃性、可とう性、エッチング性に優れた積層フィル
ムであり、積層順としては上記の順が好ましい。また図
２に示す様に無機層を高分子フィルムを間にして導電性
層１とは反対側に位置するように形成するのも好まし
い。本発明に於ける高分子フィルムとは、ポリエステ
ル、ポリエーテルサルフォン、ポリカーボネート、ポリ
アリレート、ノルボルネン、紫外線硬化型樹脂、エポキ
シ樹脂に代表される熱硬化型樹脂等からなる全光線透過
率（ＪＩＳ−Ｋ−７１０５．５．５）で８０％以上の透
明性を有し、光学異方性が少ないフィルムであって、加
工性の点からは極力耐熱性があることが望ましい。この
意味から、２２３℃と最もＴｇが高いポリエーテルサル
ホンや紫外線硬化型樹脂、熱硬化型樹脂がより好まし
い。又、厚みとしては、ガラスに対し軽い、割れない、
可とう性を有するために０．０５〜０．５ｍｍのもので
あり、必要に応じ複数のフィルムを屈折率を合わせた接
着剤等を介して積層した構成のものでも良い。尚、光学
異方性としては、出来るだけ０が望ましいが、リタゼー
ション値として１５ｎｍ以下、角度依存性としては４５
度で２倍以内が好ましい。これは、色差として２以下並
びに角度依存性に関しては色ずれ防止からの要求であ
る。
【００１１】有機層１及び有機層２としては、融点５０
℃以上のエポキシアクリレートプレポリマーあるいは融
点５０℃以上のウレタンアクリレートプレポリマーの紫
外線硬化膜であり、液晶用途としての特性を満足出来れ
ば、熱的により安定な熱硬化型を用いても良い。しかし
ながら、生産性に優れた紫外線硬化型樹脂がより好まし
い。当然ながら、高分子フィルムや無機層との密着力は
不可欠であり、可とう性、耐薬品性が優れている事が必
要である。この目的のためには、通常行われているプラ
イマー層を設けても良い。有機層１及び２に用いられる
樹脂の融点が５０℃未満であれば、無機層、導電層１、
２を形成する際に熱じわが発生するという問題が生じ
る。
℃以上のエポキシアクリレートプレポリマーあるいは融
点５０℃以上のウレタンアクリレートプレポリマーの紫
外線硬化膜であり、液晶用途としての特性を満足出来れ
ば、熱的により安定な熱硬化型を用いても良い。しかし
ながら、生産性に優れた紫外線硬化型樹脂がより好まし
い。当然ながら、高分子フィルムや無機層との密着力は
不可欠であり、可とう性、耐薬品性が優れている事が必
要である。この目的のためには、通常行われているプラ
イマー層を設けても良い。有機層１及び２に用いられる
樹脂の融点が５０℃未満であれば、無機層、導電層１、
２を形成する際に熱じわが発生するという問題が生じ
る。
【００１２】ここで重要なのは、耐衝撃性保持の為、有
機層１及び有機層２の厚みを制限する必要がある。確か
に樹脂処方に依る処があるのは事実であるが、通常コー
ト樹脂の厚みとして用いられる２〜５μｍ程度の厚みを
塗布すると、本発明に述べた耐衝撃性試験を行うと一般
的に落下距離５０ｍｍ程度でクラックが生じ易くなる為
である。従って液晶用途として実用上充分安定した領域
で使用するには落下距離として５００ｍｍ以上が望まし
く、鋭意検討したところ有機層の厚みとして０．３〜
１．５μｍの範囲であれば満足する事を見いだしたもの
である。これは、紫外線硬化型樹脂は硬化時に１０〜２
０％程の硬化収縮が起こるため、潜在的な内部応力を持
っており、衝撃試験の様な局部的な外力が働くと一気に
クラックが入るためである。ここで有機層の厚みが０．
３μｍ未満では塗布ムラが生じ易くなり、１．５μｍを
越えると密着力が低下しクラックが発生し易くなる。
機層１及び有機層２の厚みを制限する必要がある。確か
に樹脂処方に依る処があるのは事実であるが、通常コー
ト樹脂の厚みとして用いられる２〜５μｍ程度の厚みを
塗布すると、本発明に述べた耐衝撃性試験を行うと一般
的に落下距離５０ｍｍ程度でクラックが生じ易くなる為
である。従って液晶用途として実用上充分安定した領域
で使用するには落下距離として５００ｍｍ以上が望まし
く、鋭意検討したところ有機層の厚みとして０．３〜
１．５μｍの範囲であれば満足する事を見いだしたもの
である。これは、紫外線硬化型樹脂は硬化時に１０〜２
０％程の硬化収縮が起こるため、潜在的な内部応力を持
っており、衝撃試験の様な局部的な外力が働くと一気に
クラックが入るためである。ここで有機層の厚みが０．
３μｍ未満では塗布ムラが生じ易くなり、１．５μｍを
越えると密着力が低下しクラックが発生し易くなる。
【００１３】有機層１及び有機層２を２．５μｍに塗布
した際のベースフィルムとの密着力は２００ｇ／ｃｍで
あるのに対し、０．５μｍ品では１０００ｇ／ｃｍと５
倍まで向上できている。更に薄化する優位点として、液
晶用途では極力透明性を有することが望ましく、通常塗
布される最も薄い２μｍに対しても、０．５μｍ低減す
る毎に０．５％の透過率の改善が認められ、この意味か
らも有効な手段になる。
した際のベースフィルムとの密着力は２００ｇ／ｃｍで
あるのに対し、０．５μｍ品では１０００ｇ／ｃｍと５
倍まで向上できている。更に薄化する優位点として、液
晶用途では極力透明性を有することが望ましく、通常塗
布される最も薄い２μｍに対しても、０．５μｍ低減す
る毎に０．５％の透過率の改善が認められ、この意味か
らも有効な手段になる。
【００１４】無機層としては、全光線透過率８５％以
上、表面抵抗率（ＪＩＳ−Ｋ−６９１１）１×１０12Ω
（１０〜３０Ｈｚ）以上、酸素バリヤー性として２ｃｃ
／２４ｈｒ・ｍ2以下を有し、３５ｍｍΦのロールに巻
き付けてもクラックが生じない可とう性を有するもので
あれば実用上問題ない。無機層としては、例えばＳｉＯ
ｘ、ＳｉｘＮｙ、ＡｌｘＯｙ等あるいはこれらの多層、
複合膜が考えられ、蒸着、スパッタリング、イオンプレ
ーティング、ＣＶＤに代表される気相成膜法や、金属ア
ルコキサイドを原料とした加水分解等による塗布法によ
り形成される。
上、表面抵抗率（ＪＩＳ−Ｋ−６９１１）１×１０12Ω
（１０〜３０Ｈｚ）以上、酸素バリヤー性として２ｃｃ
／２４ｈｒ・ｍ2以下を有し、３５ｍｍΦのロールに巻
き付けてもクラックが生じない可とう性を有するもので
あれば実用上問題ない。無機層としては、例えばＳｉＯ
ｘ、ＳｉｘＮｙ、ＡｌｘＯｙ等あるいはこれらの多層、
複合膜が考えられ、蒸着、スパッタリング、イオンプレ
ーティング、ＣＶＤに代表される気相成膜法や、金属ア
ルコキサイドを原料とした加水分解等による塗布法によ
り形成される。
【００１５】全光線透過率としてはできるだけ高いこと
が望ましいが、高分子フィルム並びに導電性層の透過率
を考慮すれば実質上８５％以上であれば使用可能とな
る。全光線透過率が８５％未満であると透明性が不十分
となり本用途には使用出来ない。
が望ましいが、高分子フィルム並びに導電性層の透過率
を考慮すれば実質上８５％以上であれば使用可能とな
る。全光線透過率が８５％未満であると透明性が不十分
となり本用途には使用出来ない。
【００１６】液晶の駆動周波数である３０Ｈｚに於ける
表面抵抗率は１×１０12Ω以上が必要である。これは、
無機層が有機層１をはさみ導電性層側に有る場合、通常
ＴＮ、ＳＴＮモードで使用される液晶の抵抗率が１×１
０10Ω程度であるため１００倍以上の差を設ける必要が
有るからである。１×１０12Ω以下であるとセルの消費
電流が著しく上昇し、セルの寿命の点から問題になるた
めである。このためには結晶光学的に理想に近いＳｉＯ
2、Ｓｉ3Ｎ4、Ａｌ2Ｏ3が好ましい。又、セル寿命の上
からは、イオン性不純物は極力少ない方が望ましく通常
２０ｐｐｍ以下が望まれる。このためには材料の選定や
成膜中の不純物管理が重要になる。しかし、図２に示す
ように無機層が高分子フィルムをはさみ、導電性層１と
反対側にある場合は、上記項目は問題とならない。
表面抵抗率は１×１０12Ω以上が必要である。これは、
無機層が有機層１をはさみ導電性層側に有る場合、通常
ＴＮ、ＳＴＮモードで使用される液晶の抵抗率が１×１
０10Ω程度であるため１００倍以上の差を設ける必要が
有るからである。１×１０12Ω以下であるとセルの消費
電流が著しく上昇し、セルの寿命の点から問題になるた
めである。このためには結晶光学的に理想に近いＳｉＯ
2、Ｓｉ3Ｎ4、Ａｌ2Ｏ3が好ましい。又、セル寿命の上
からは、イオン性不純物は極力少ない方が望ましく通常
２０ｐｐｍ以下が望まれる。このためには材料の選定や
成膜中の不純物管理が重要になる。しかし、図２に示す
ように無機層が高分子フィルムをはさみ、導電性層１と
反対側にある場合は、上記項目は問題とならない。
【００１７】酸素バリヤー性として、モコン法による測
定値で２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2以下であることが重要で
ある。塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系
ポリマーに代表される有機バリヤーに比べ、温湿度の変
化が無いことが最大の特徴であり、有機バリヤーの常温
常湿での２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2の値以下であれば実用
上問題ない。又、必要に応じ本発明に記載した必要特性
を満足する範囲であれば、無機層と導電性層１の間の有
機層２を多層化し表面抵抗率特性を更に向上させても良
い。又、無機層の形成に先立ち該有機層１との密着力を
高めるために脱ガス処理、コロナ放電処理、火炎処理等
の表面処理やアクリル系エポキシ系等の公知のアンカー
コートが施されていてもよい。
定値で２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2以下であることが重要で
ある。塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系
ポリマーに代表される有機バリヤーに比べ、温湿度の変
化が無いことが最大の特徴であり、有機バリヤーの常温
常湿での２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2の値以下であれば実用
上問題ない。又、必要に応じ本発明に記載した必要特性
を満足する範囲であれば、無機層と導電性層１の間の有
機層２を多層化し表面抵抗率特性を更に向上させても良
い。又、無機層の形成に先立ち該有機層１との密着力を
高めるために脱ガス処理、コロナ放電処理、火炎処理等
の表面処理やアクリル系エポキシ系等の公知のアンカー
コートが施されていてもよい。
【００１８】導電性層１としては、Ｉｎ、Ｚｎから成
り、酸化物の組成はＺｎ／Ｉｎ＋Ｚｎが０．１５〜０．
４の原子比の範囲であることが通常用いられるＨＣｌ濃
度１５ｖｏｌ％をエッチング液とするパタン加工性に於
いてコントール可能で、且つ、導電性が良好な範囲であ
る。即ち、Ｚｎ／Ｉｎ＋Ｚｎが０．１５未満では比抵抗
が極端に上昇し、Ｚｎの効果が無くなりエッチング特性
が通常一般的に用いられるＩｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2の酸化物
と差が無くなる。又、Ｚｎ／Ｉｎ＋Ｚｎが０．４を越え
ると比抵抗が同様に上昇し、ＺｎＯ単独と同様にエッチ
ング性のコントロールが不可能になる。例えば原子比が
０．０８になると最適組成である０．２５の比抵抗５．
０×１０-4Ω−ｃｍ（５００Å）に対して１×１０-2Ω
−ｃｍとなり２０倍以上の比抵抗になる。又、０．５で
は１×１０-3Ω−ｃｍとなり１．６倍以上の比抵抗にな
る。本発明において、導電層１の特性である「希酸に対
して容易に溶け」とは、ＨＣｌ濃度１５ｖｏｌ％をエッ
チング液とするパターン加工性において、４０℃、４０
秒のエッチング条件で残渣なくエッチング可能なことで
ある。
り、酸化物の組成はＺｎ／Ｉｎ＋Ｚｎが０．１５〜０．
４の原子比の範囲であることが通常用いられるＨＣｌ濃
度１５ｖｏｌ％をエッチング液とするパタン加工性に於
いてコントール可能で、且つ、導電性が良好な範囲であ
る。即ち、Ｚｎ／Ｉｎ＋Ｚｎが０．１５未満では比抵抗
が極端に上昇し、Ｚｎの効果が無くなりエッチング特性
が通常一般的に用いられるＩｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2の酸化物
と差が無くなる。又、Ｚｎ／Ｉｎ＋Ｚｎが０．４を越え
ると比抵抗が同様に上昇し、ＺｎＯ単独と同様にエッチ
ング性のコントロールが不可能になる。例えば原子比が
０．０８になると最適組成である０．２５の比抵抗５．
０×１０-4Ω−ｃｍ（５００Å）に対して１×１０-2Ω
−ｃｍとなり２０倍以上の比抵抗になる。又、０．５で
は１×１０-3Ω−ｃｍとなり１．６倍以上の比抵抗にな
る。本発明において、導電層１の特性である「希酸に対
して容易に溶け」とは、ＨＣｌ濃度１５ｖｏｌ％をエッ
チング液とするパターン加工性において、４０℃、４０
秒のエッチング条件で残渣なくエッチング可能なことで
ある。
【００１９】導電性層２としては、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2
の酸化物から成るもので、最も比抵抗、透明性が良いた
めに通常広く用いられている。目的の抵抗値を得るため
に適宜製造条件を考慮して成膜される。酸化物の組成は
Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比で０．８５〜０．９３であ
り、０．８５未満あるいは０．９３を越えると比抵抗が
増加するという問題がある。特に０．９３を越えると耐
酸性が増しエッチング性が大幅に低下する。導電性層２
の厚みとしては５０〜３００Åが望ましい。３００Åを
越えるとエッチング性が悪くパターン時に直線性が得ら
れない。又、５０Å未満であると膜が不連続膜のため導
電層１の性質が出てしまい、エッチングコントロールが
不可能で、耐溶剤性が悪化し、セル化工程、例えばレジ
スト剥離、洗浄等で表面抵抗値が上昇する。本発明にお
いて、導電層２の特性である「耐溶剤性が高く」とは、
５％ＮａＯＨ溶剤で、液温２３℃中で６０秒及び１２０
秒の処理をした場合、表面抵抗値が理論値の２倍未満で
あることを「耐溶剤性が高い」とする。
の酸化物から成るもので、最も比抵抗、透明性が良いた
めに通常広く用いられている。目的の抵抗値を得るため
に適宜製造条件を考慮して成膜される。酸化物の組成は
Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比で０．８５〜０．９３であ
り、０．８５未満あるいは０．９３を越えると比抵抗が
増加するという問題がある。特に０．９３を越えると耐
酸性が増しエッチング性が大幅に低下する。導電性層２
の厚みとしては５０〜３００Åが望ましい。３００Åを
越えるとエッチング性が悪くパターン時に直線性が得ら
れない。又、５０Å未満であると膜が不連続膜のため導
電層１の性質が出てしまい、エッチングコントロールが
不可能で、耐溶剤性が悪化し、セル化工程、例えばレジ
スト剥離、洗浄等で表面抵抗値が上昇する。本発明にお
いて、導電層２の特性である「耐溶剤性が高く」とは、
５％ＮａＯＨ溶剤で、液温２３℃中で６０秒及び１２０
秒の処理をした場合、表面抵抗値が理論値の２倍未満で
あることを「耐溶剤性が高い」とする。
【００２０】
《実施例１》高分子フィルムとして溶融押し出し法によ
り作製した厚み１００μｍ、リタゼーション５ｎｍのポ
リエーテルサルフォンフィルム（住友化学（株）製）を
用いた。高分子フィルム上に、分子量１５４０、融点７
０℃のエポキシアクリレートプレポリマー（昭和高分子
製、ＶＲ−６０）１００重量部、酢酸ブチル４００重量
部、セロソルブアセテート１００重量部、ベンゾインエ
チルエーテル２重量部を５０℃にて攪拌、溶解して均一
な溶液としたものをグラビアロールコータで塗布し、８
０℃で１０分間加熱して溶媒を除去し、８０ｗ／ｃｍの
高圧水銀灯により１５ｃｍの距離で３０秒間照射して樹
脂を硬化させ、０．５μｍ厚の有機層１を形成した。
り作製した厚み１００μｍ、リタゼーション５ｎｍのポ
リエーテルサルフォンフィルム（住友化学（株）製）を
用いた。高分子フィルム上に、分子量１５４０、融点７
０℃のエポキシアクリレートプレポリマー（昭和高分子
製、ＶＲ−６０）１００重量部、酢酸ブチル４００重量
部、セロソルブアセテート１００重量部、ベンゾインエ
チルエーテル２重量部を５０℃にて攪拌、溶解して均一
な溶液としたものをグラビアロールコータで塗布し、８
０℃で１０分間加熱して溶媒を除去し、８０ｗ／ｃｍの
高圧水銀灯により１５ｃｍの距離で３０秒間照射して樹
脂を硬化させ、０．５μｍ厚の有機層１を形成した。
【００２１】次にこのフィルム上にＤＣマグネトロン法
により初期真空度３×１０-4Ｐａに引き、酸素／アルゴ
ンガス９％の混合ガスを導入、３×１０-1Ｐａの条件下
において無機層を成膜し５００Å厚のＳｉＯ2を得た。
この無機膜の酸素バリヤー性はモコン法により測定した
ところ１．０ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2であり、３０Ｈｚの
周波数に於ける表面抵抗率（ＪＩＳ−Ｋ−６９１１）を
測定したところ８．１×１０12Ωであった。又、全光線
透過率（ＪＩＳ−Ｋ−７１０５．５．５）は８９％であ
った。更に３５ｍｍΦのロールに巻き付け、１０００倍
の金属顕微鏡で観察したが、クラックは認められず可と
う性に優れたものであった。次に無機層の上に有機層１
と同様にして厚み０．５μｍ厚の有機層２を形成した。
により初期真空度３×１０-4Ｐａに引き、酸素／アルゴ
ンガス９％の混合ガスを導入、３×１０-1Ｐａの条件下
において無機層を成膜し５００Å厚のＳｉＯ2を得た。
この無機膜の酸素バリヤー性はモコン法により測定した
ところ１．０ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2であり、３０Ｈｚの
周波数に於ける表面抵抗率（ＪＩＳ−Ｋ−６９１１）を
測定したところ８．１×１０12Ωであった。又、全光線
透過率（ＪＩＳ−Ｋ−７１０５．５．５）は８９％であ
った。更に３５ｍｍΦのロールに巻き付け、１０００倍
の金属顕微鏡で観察したが、クラックは認められず可と
う性に優れたものであった。次に無機層の上に有機層１
と同様にして厚み０．５μｍ厚の有機層２を形成した。
【００２２】導電性層１として、同じくＤＣマグネトロ
ン法により初期真空度３×１０-4Ｐａに引き、酸素／ア
ルゴンガス４％の混合ガスを導入し、１×１０-1Ｐａの
条件下において成膜し、Ｚｎ／Ｉｎ＋Ｚｎの原子比が
０．２０である導電性層１を得た。測定の結果、膜厚は
１０００Å、比抵抗は５．５×１０-4Ω−ｃｍであっ
た。
ン法により初期真空度３×１０-4Ｐａに引き、酸素／ア
ルゴンガス４％の混合ガスを導入し、１×１０-1Ｐａの
条件下において成膜し、Ｚｎ／Ｉｎ＋Ｚｎの原子比が
０．２０である導電性層１を得た。測定の結果、膜厚は
１０００Å、比抵抗は５．５×１０-4Ω−ｃｍであっ
た。
【００２３】次に、導電性層２として、導電性層１同じ
くＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａ
に引き、酸素／アルゴンガス３％の混合ガスを導入、１
×１０-1Ｐａの条件下において成膜し、ＳｎＯ2含有率
１０ｗｔ％のＩｎ2Ｏ3の複合酸化物（Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎ
の原子比で０．９１）２００Åを得て導電性フィルムを
作製した。導電性層１、２の比抵抗は４．９５×１０-4
Ω−ｃｍ、全光線透過率８３％であった。以上の条件で
得られた導電性フィルムにレジストを塗布し、プレベー
ク９０℃×６０分行い、露光し、アフターベーク９０℃
×３０分行い、現像液として５％ＮａＯＨを液温２３℃
中で６０秒の現像を行い、エッチング液としてＨＣｌ濃
度１５ｖｏｌ％、液温４０℃中でエッチングし、全面の
露光を行い、現像液として５％ＮａＯＨを液温２３℃中
で１２０秒の全面の現像を行い、２３０μｍピッチの回
路を作製した。ライン／スペースとしては、１８０／５
０μｍである。エッチング時間は３０秒で残査もなく良
好なストレートラインが得られた。
くＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａ
に引き、酸素／アルゴンガス３％の混合ガスを導入、１
×１０-1Ｐａの条件下において成膜し、ＳｎＯ2含有率
１０ｗｔ％のＩｎ2Ｏ3の複合酸化物（Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎ
の原子比で０．９１）２００Åを得て導電性フィルムを
作製した。導電性層１、２の比抵抗は４．９５×１０-4
Ω−ｃｍ、全光線透過率８３％であった。以上の条件で
得られた導電性フィルムにレジストを塗布し、プレベー
ク９０℃×６０分行い、露光し、アフターベーク９０℃
×３０分行い、現像液として５％ＮａＯＨを液温２３℃
中で６０秒の現像を行い、エッチング液としてＨＣｌ濃
度１５ｖｏｌ％、液温４０℃中でエッチングし、全面の
露光を行い、現像液として５％ＮａＯＨを液温２３℃中
で１２０秒の全面の現像を行い、２３０μｍピッチの回
路を作製した。ライン／スペースとしては、１８０／５
０μｍである。エッチング時間は３０秒で残査もなく良
好なストレートラインが得られた。
【００２４】このパタンを作製したフィルムを用いて耐
衝撃性試験を行った。装置としてデュポン衝撃試験機
（ＪＩＳ−Ｋ−５４００．６．１３Ｂ）に於いて、重り
荷重１００ｇで落下させた処、落下距離９００ｍｍでよ
うやくクラックが認められ非常に良好であった。又、可
とう性試験として３５ｍｍΦのロールに巻き付け、１０
００倍の金属顕微鏡で観察したが、前述の無機層だけと
同様にクラックは認められず、導電性層１、２の比抵抗
も変化しなかった。再度導電性層を全てエッチングし、
酸素バリヤーを確認したところ、０．８ｃｃ／２４ｈｒ
・ｍ2と変化は認められなかった。尚、各特性の評価は
同一条件で作製したもので行い、特に無機層、導電性層
１、２形成は同一装置で連続的に成膜した。
衝撃性試験を行った。装置としてデュポン衝撃試験機
（ＪＩＳ−Ｋ−５４００．６．１３Ｂ）に於いて、重り
荷重１００ｇで落下させた処、落下距離９００ｍｍでよ
うやくクラックが認められ非常に良好であった。又、可
とう性試験として３５ｍｍΦのロールに巻き付け、１０
００倍の金属顕微鏡で観察したが、前述の無機層だけと
同様にクラックは認められず、導電性層１、２の比抵抗
も変化しなかった。再度導電性層を全てエッチングし、
酸素バリヤーを確認したところ、０．８ｃｃ／２４ｈｒ
・ｍ2と変化は認められなかった。尚、各特性の評価は
同一条件で作製したもので行い、特に無機層、導電性層
１、２形成は同一装置で連続的に成膜した。
【００２５】《実施例２》高分子フィルムとして溶融押
し出し法により作製した厚み２５０μｍ、リタゼーショ
ン５ｎｍのポリエーテルサルフォンフィルム（住友化学
（株）製）を使用した以外は、実施例１と同様にして
０．５μｍ厚の有機層１を形成した。
し出し法により作製した厚み２５０μｍ、リタゼーショ
ン５ｎｍのポリエーテルサルフォンフィルム（住友化学
（株）製）を使用した以外は、実施例１と同様にして
０．５μｍ厚の有機層１を形成した。
【００２６】次にこのフィルム上に実施例１と同様にし
て無機層を形成した。この無機膜の酸素バリヤー性はモ
コン法により測定したところ１．０ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ
2であり、３０Ｈｚの周波数に於ける表面抵抗率（ＪＩ
Ｓ−Ｋ−６９１１）を測定したところ８．１×１０12Ω
であった。又、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ−７１０５．
５．５）は９０％であった。更に３５ｍｍΦのロールに
巻き付け、１０００倍の金属顕微鏡で観察したが、クラ
ックは認められず可とう性に優れたものであった。次に
無機層の上に有機層１と同様にして厚み０．５μｍ厚の
有機層２を形成した。
て無機層を形成した。この無機膜の酸素バリヤー性はモ
コン法により測定したところ１．０ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ
2であり、３０Ｈｚの周波数に於ける表面抵抗率（ＪＩ
Ｓ−Ｋ−６９１１）を測定したところ８．１×１０12Ω
であった。又、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ−７１０５．
５．５）は９０％であった。更に３５ｍｍΦのロールに
巻き付け、１０００倍の金属顕微鏡で観察したが、クラ
ックは認められず可とう性に優れたものであった。次に
無機層の上に有機層１と同様にして厚み０．５μｍ厚の
有機層２を形成した。
【００２７】導電性層１として、同じくＤＣマグネトロ
ン法により初期真空度３×１０-4Ｐａに引き、酸素／ア
ルゴンガス４％の混合ガスを導入し、１×１０-1Ｐａの
条件下において成膜し、Ｚｎ／Ｉｎ＋Ｚｎの原子比が
０．３５である導電性層１を得た。測定の結果、膜厚は
１０００Å、比抵抗は６．０×１０-4Ω−ｃｍであっ
た。
ン法により初期真空度３×１０-4Ｐａに引き、酸素／ア
ルゴンガス４％の混合ガスを導入し、１×１０-1Ｐａの
条件下において成膜し、Ｚｎ／Ｉｎ＋Ｚｎの原子比が
０．３５である導電性層１を得た。測定の結果、膜厚は
１０００Å、比抵抗は６．０×１０-4Ω−ｃｍであっ
た。
【００２８】次に、導電性層２として、導電性層１同じ
くＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａ
に引き、酸素／アルゴンガス３％の混合ガスを導入、１
×１０-1Ｐａの条件下において成膜し、ＳｎＯ2含有率
８ｗｔ％のＩｎ2Ｏ3の複合酸化物（Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの
原子比で０．８７）２００Åを得て導電性フィルムを作
製した。導電性層１、２の比抵抗は５．１５×１０-4Ω
−ｃｍ、全光線透過率８３％であった。以上の条件で得
られた導電性フィルムにレジストを塗布し、プレベーク
９０℃×６０分行い、露光し、アフターベーク９０℃×
３０分行い、現像液として５％ＮａＯＨを液温２３℃中
で６０秒の現像を行い、エッチング液としてＨＣｌ濃度
１５ｖｏｌ％、液温４０℃中でエッチングし、全面の露
光を行い、現像液として５％ＮａＯＨを液温２３℃中で
１２０秒の全面の現像を行い、２３０μｍピッチの回路
を作製した。ライン／スペースとしては、１８０／５０
μｍである。エッチング時間は４０秒で残査もなく良好
なストレートラインが得られた。
くＤＣマグネトロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａ
に引き、酸素／アルゴンガス３％の混合ガスを導入、１
×１０-1Ｐａの条件下において成膜し、ＳｎＯ2含有率
８ｗｔ％のＩｎ2Ｏ3の複合酸化物（Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの
原子比で０．８７）２００Åを得て導電性フィルムを作
製した。導電性層１、２の比抵抗は５．１５×１０-4Ω
−ｃｍ、全光線透過率８３％であった。以上の条件で得
られた導電性フィルムにレジストを塗布し、プレベーク
９０℃×６０分行い、露光し、アフターベーク９０℃×
３０分行い、現像液として５％ＮａＯＨを液温２３℃中
で６０秒の現像を行い、エッチング液としてＨＣｌ濃度
１５ｖｏｌ％、液温４０℃中でエッチングし、全面の露
光を行い、現像液として５％ＮａＯＨを液温２３℃中で
１２０秒の全面の現像を行い、２３０μｍピッチの回路
を作製した。ライン／スペースとしては、１８０／５０
μｍである。エッチング時間は４０秒で残査もなく良好
なストレートラインが得られた。
【００２９】このパタンを作製したフィルムを用いて耐
衝撃性試験を行った。装置としてデュポン衝撃試験機
（ＪＩＳ−Ｋ−５４００．６．１３Ｂ）に於いて、重り
荷重１００ｇで落下させた処、落下距離９００ｍｍでよ
うやくクラックが認められ非常に良好であった。又、可
とう性試験として３５ｍｍΦのロールに巻き付け、１０
００倍の金属顕微鏡で観察したが、前述の無機層だけと
同様にクラックは認められず、導電性層１、２の比抵抗
も変化しなかった。再度導電性層を全てエッチングし、
酸素バリヤーを確認したところ、０．８ｃｃ／２４ｈｒ
・ｍ2と変化は認められなかった。尚、各特性の評価は
同一条件で作製したもので行い、特に無機層、導電性層
１、２形成は同一装置で連続的に成膜した。
衝撃性試験を行った。装置としてデュポン衝撃試験機
（ＪＩＳ−Ｋ−５４００．６．１３Ｂ）に於いて、重り
荷重１００ｇで落下させた処、落下距離９００ｍｍでよ
うやくクラックが認められ非常に良好であった。又、可
とう性試験として３５ｍｍΦのロールに巻き付け、１０
００倍の金属顕微鏡で観察したが、前述の無機層だけと
同様にクラックは認められず、導電性層１、２の比抵抗
も変化しなかった。再度導電性層を全てエッチングし、
酸素バリヤーを確認したところ、０．８ｃｃ／２４ｈｒ
・ｍ2と変化は認められなかった。尚、各特性の評価は
同一条件で作製したもので行い、特に無機層、導電性層
１、２形成は同一装置で連続的に成膜した。
【００３０】《比較例１》導電性層１、２以外は実施例
１と同一フィルム、同一材料を用い、同一構成で形成し
た。導電性層１は実施例１と同様の組成とし厚み７００
Åを成膜した。導電性層２については実施例１と同様の
組成とし、厚みは５００Åとした。次に実施例１と同一
手法によりパタン化したフィルムを１０００倍の金属顕
微鏡で観察した処、エッチング時間が３倍の１５０秒必
要であり、パタン残査も確認された。また、直線性も得
られなかった。
１と同一フィルム、同一材料を用い、同一構成で形成し
た。導電性層１は実施例１と同様の組成とし厚み７００
Åを成膜した。導電性層２については実施例１と同様の
組成とし、厚みは５００Åとした。次に実施例１と同一
手法によりパタン化したフィルムを１０００倍の金属顕
微鏡で観察した処、エッチング時間が３倍の１５０秒必
要であり、パタン残査も確認された。また、直線性も得
られなかった。
【００３１】《比較例２》導電性層１、２以外は実施例
１と同一フィルム、同一材料を用い、同一構成で形成し
た。導電性層１は実施例１と同様の組成とし厚み１２０
０Åを成膜した。導電性層２については実施例１と同様
の組成とし、厚みは３０Åとした。次に実施例１と同一
手法によりパタン化したフィルムを１０００倍の金属顕
微鏡で観察した処、パタン設計値であるライン／スペー
スの１８０／５０μｍに対し、大幅にずれたオーバーエ
ッチングの仕上がりとなり、場所によっては断線する箇
所があるなどコントロールは全く困難な状況であった。
また、パターン後の表面抵抗値はバラツキが大きくな
り、絶対値も理論値の２倍以上となり、実用不可能なレ
ベルであった。
１と同一フィルム、同一材料を用い、同一構成で形成し
た。導電性層１は実施例１と同様の組成とし厚み１２０
０Åを成膜した。導電性層２については実施例１と同様
の組成とし、厚みは３０Åとした。次に実施例１と同一
手法によりパタン化したフィルムを１０００倍の金属顕
微鏡で観察した処、パタン設計値であるライン／スペー
スの１８０／５０μｍに対し、大幅にずれたオーバーエ
ッチングの仕上がりとなり、場所によっては断線する箇
所があるなどコントロールは全く困難な状況であった。
また、パターン後の表面抵抗値はバラツキが大きくな
り、絶対値も理論値の２倍以上となり、実用不可能なレ
ベルであった。
【００３２】《比較例３》導電性層１、２以外は実施例
１と同一フィルム、同一材料を用い、同一構成で形成し
た。導電性層１については原材料であるターゲット材の
組成を換え、Ｚｎ／Ｉｎ＋Ｚｎの原子比が０．５で厚み
１０００Åとした。導電性層２については実施例１と同
様の組成とし、厚みは２００Åとした。次に実施例１と
同一手法によりパタン化したフィルムを１０００倍の金
属顕微鏡で観察した処、パタン残差は無く良好であった
が、パタン設計値であるライン／スペースの１８０／５
０μｍに対し、１４０／９０μｍと大幅にずれたオーバ
ーエッチングの仕上がりとなった。又、場所による変動
が大きくコントロールは困難な状況であった。又導電性
層１、２の比抵抗は３．２×１０-3Ω−ｃｍと高く導電
膜としては満足出来るレベルではなかった。
１と同一フィルム、同一材料を用い、同一構成で形成し
た。導電性層１については原材料であるターゲット材の
組成を換え、Ｚｎ／Ｉｎ＋Ｚｎの原子比が０．５で厚み
１０００Åとした。導電性層２については実施例１と同
様の組成とし、厚みは２００Åとした。次に実施例１と
同一手法によりパタン化したフィルムを１０００倍の金
属顕微鏡で観察した処、パタン残差は無く良好であった
が、パタン設計値であるライン／スペースの１８０／５
０μｍに対し、１４０／９０μｍと大幅にずれたオーバ
ーエッチングの仕上がりとなった。又、場所による変動
が大きくコントロールは困難な状況であった。又導電性
層１、２の比抵抗は３．２×１０-3Ω−ｃｍと高く導電
膜としては満足出来るレベルではなかった。
【００３３】《比較例４》導電性層１、２以外は実施例
１と同一フィルム、同一材料を用い、同一構成で形成し
た。導電性層１については原材料であるターゲット材の
組成を換えＺｎ／Ｉｎ＋Ｚｎの原子比が０．０８で厚み
１０００Åとした。導電性層２については実施例１と同
様の組成とし、厚みは２００Åとした。実施例１と同一
手法によりパタン化したところエッチング時間が４倍の
１２０秒必要であり、また、フィルムを１０００倍の金
属顕微鏡で観察した処パタン残差が認められた。
１と同一フィルム、同一材料を用い、同一構成で形成し
た。導電性層１については原材料であるターゲット材の
組成を換えＺｎ／Ｉｎ＋Ｚｎの原子比が０．０８で厚み
１０００Åとした。導電性層２については実施例１と同
様の組成とし、厚みは２００Åとした。実施例１と同一
手法によりパタン化したところエッチング時間が４倍の
１２０秒必要であり、また、フィルムを１０００倍の金
属顕微鏡で観察した処パタン残差が認められた。
【００３４】《比較例５》実施例１と同一フィルム、同
一材料を用い、有機層２まで同一構成で形成した。導電
性層として一層のみとし、厚みを１２００Åに変更した
以外は実施例１と同様にして導電性層１を形成した。次
に実施例１と同一手法によりパタン化したフィルムを１
０００倍の金属顕微鏡で観察した処、パタン設計値であ
るライン／スペースの１８０／５０μｍに対し、大幅に
ずれたオーバーエッチングの仕上がりとなり、場所によ
っては断線する箇所があるなどコントロールは全く困難
な状況であった。
一材料を用い、有機層２まで同一構成で形成した。導電
性層として一層のみとし、厚みを１２００Åに変更した
以外は実施例１と同様にして導電性層１を形成した。次
に実施例１と同一手法によりパタン化したフィルムを１
０００倍の金属顕微鏡で観察した処、パタン設計値であ
るライン／スペースの１８０／５０μｍに対し、大幅に
ずれたオーバーエッチングの仕上がりとなり、場所によ
っては断線する箇所があるなどコントロールは全く困難
な状況であった。
【００３５】
【発明の効果】本発明により、エッチング性が良好で耐
衝撃性に優れ、透明性、ガスバリヤー性、可とう性を満
足する透明導電性フィルムを提供することが可能となっ
た。
衝撃性に優れ、透明性、ガスバリヤー性、可とう性を満
足する透明導電性フィルムを提供することが可能となっ
た。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明にかかる積層フィルムの一部断面図を示
す。
す。
【図２】本発明にかかる積層フィルムの一部断面図を示
し、無機層を導電性層１と反対側に形成した例を示す。
し、無機層を導電性層１と反対側に形成した例を示す。
１：高分子フィルム ２：有機層１ ３：無機層 ４：有機層２ ５：導電性層１ ６：導電性層２
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｂ 5/14 Ｈ０１Ｂ 5/14 Ａ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) B32B 1/00 - 35/00 H01B 5/14
Claims (4)
- 【請求項１】 高分子フィルムあるいはシートの少なく
とも片側に有機層１、バリヤ性を有する無機層、有機層
２、希酸に対し容易に溶け、ＩｎとＺｎの酸化物から成
り、酸化物の組成Ｚｎ／Ｉｎ＋Ｚｎが０．１５〜０．４
の原子比の範囲である導電性層１、耐溶剤性が高く、Ｉ
ｎとＳｎの酸化物から成り、酸化物の組成Ｉｎ／Ｉｎ＋
Ｓｎが０．８５〜０．９３の原子比であり、且つ膜厚が
５０〜３００Åである導電性層２を順次積層したことを
特徴とする導電性フィルム。 - 【請求項２】 該有機層１及び有機層２が、融点５０℃
以上のエポキシアクリレートプレポリマーあるいは融点
５０℃以上のウレタンアクリレートプレポリマーの紫外
線硬化膜であり、０．３〜１．５μｍの厚みであること
を特徴とする請求項１記載の導電性フィルム。 - 【請求項３】 該無機層の全光線透過率が８５％以上、
３０Ｈｚの駆動周波数に於ける表面抵抗率が１×１０12
Ω以上、酸素バリヤー性が２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2以下
であることを特徴とする請求項１または２記載の導電性
フィルム。 - 【請求項４】 ３５ｍｍΦのロールに巻き付けてもクラ
ックが生じない可とう性を有することを特徴とする請求
項１、２または３記載の導電性フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11088697A JP3313303B2 (ja) | 1997-04-28 | 1997-04-28 | 導電性フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11088697A JP3313303B2 (ja) | 1997-04-28 | 1997-04-28 | 導電性フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH10296900A JPH10296900A (ja) | 1998-11-10 |
| JP3313303B2 true JP3313303B2 (ja) | 2002-08-12 |
Family
ID=14547195
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11088697A Expired - Fee Related JP3313303B2 (ja) | 1997-04-28 | 1997-04-28 | 導電性フィルム |
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1997
- 1997-04-28 JP JP11088697A patent/JP3313303B2/ja not_active Expired - Fee Related
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