JP2613206B2 - 透明導電性フィルムの製造方法 - Google Patents
透明導電性フィルムの製造方法Info
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- JP2613206B2 JP2613206B2 JP62085657A JP8565787A JP2613206B2 JP 2613206 B2 JP2613206 B2 JP 2613206B2 JP 62085657 A JP62085657 A JP 62085657A JP 8565787 A JP8565787 A JP 8565787A JP 2613206 B2 JP2613206 B2 JP 2613206B2
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Description
本発明はプラスチックフィルムまたはシートを基板と
した、透明導電性フィルムに関する。 さらに詳しくは、液晶表示用電極、電場発光体用電
極、タッチパネル用電極等、エレクトロニクス、電気分
野に広く利用可能な、耐透湿性、耐透気性に優れたプラ
スチックフィルムまたはシートを基板とする透明導電性
フィルムに関する。
した、透明導電性フィルムに関する。 さらに詳しくは、液晶表示用電極、電場発光体用電
極、タッチパネル用電極等、エレクトロニクス、電気分
野に広く利用可能な、耐透湿性、耐透気性に優れたプラ
スチックフィルムまたはシートを基板とする透明導電性
フィルムに関する。
現在汎用されている透明電極には、ガラス基板上に酸
化錫膜やITO（Indium tin oxide）膜等を形成した透
明導電性積層物（所謂、ネサガラス）が広く用いられて
いる。しかしながら基板がガラスであるために、可とう
性、加工性、などが劣る為用途面での制約を受け、さら
には薄型化、量産化の期待にも応えることが困難であっ
た。 そこで、近年プラスチックフィルムまたはシートを基
板とした透明導電性フィルムが、可とう性、加工性、耐
衝撃性、薄型化、連続生産性等で注目され、一部実用化
され始めている。 しかしながら、透明導電層をプラスチックフィルムま
たはシート基板に直接設けて透明電極とした場合、耐透
湿性、耐透気性において問題があり、例えば、液晶表示
素子に使用する液晶は、酸素や水分によって酸化劣化や
加水分解を起こし易く、プラスチックフィルムまたはシ
ートを基板とする透明電極を液晶表示素子に用いる場
合、耐久性に問題があった。 耐透湿性、耐透気性を改良する為に、基板となるプラ
スチックフィルムまたはシートの厚みを増すか、あるい
はガスバリヤー性、水蒸気バリヤー性の良いプラスチッ
クフィルムを該基板に積層することにより、ある程度の
耐透湿性、耐透気性を有するものを得ることは可能であ
る。しかしながら、充分な耐透湿性、耐透気性を持った
基板を得る為には、プラスチックフィルムまたはシート
基板はかなりの厚みになり、また、バリヤー性の高いプ
ラスチックフィルムを積層しても、ガスバリヤー性と水
蒸気バリヤー性が共に優れているプラスチック素材は殆
どなく、そのためガスバリヤー性の良いプラスチックと
水蒸気バリヤー性の良いプラスチックを複合して使用せ
ざるを得なくなり、必然的にプラスチックフィルムの厚
みが増し、そのため可とう性が不足したり、バリヤー層
をフィルムに積層するための工程が必要となり、プラス
チック素材のコーティングや乾燥工程が必要となり生産
工程が複雑になる等の問題があった。更に、プラスッチ
ク基板の耐熱性に比べ、バリヤー層となるプラスチック
素材の耐熱性が低い為に、種々の処理に制約が生じるな
どの問題もあった。 また、耐透湿性、耐透気性を改良する為に、基板とな
るプラスチックフィルム上にバリヤー層として所定の酸
化物層を設けた後、透明導電膜を該酸化物層上に直接積
層することが開示されている（特開昭59−204545号公
報）。しかしながら、この方法もある程度の耐透湿性、
耐透気性の向上には寄与するものの、かかる透明導電性
フィルムを加工する際、バリヤー層となる酸化物層が、
エッチング時に酸溶液やアルカリ溶液により溶解し、バ
リヤー性が損なわれたり、屈曲した場合に酸化物層にク
ラックが発生し易く、バリヤー層の信頼性に問題があっ
た。
化錫膜やITO（Indium tin oxide）膜等を形成した透
明導電性積層物（所謂、ネサガラス）が広く用いられて
いる。しかしながら基板がガラスであるために、可とう
性、加工性、などが劣る為用途面での制約を受け、さら
には薄型化、量産化の期待にも応えることが困難であっ
た。 そこで、近年プラスチックフィルムまたはシートを基
板とした透明導電性フィルムが、可とう性、加工性、耐
衝撃性、薄型化、連続生産性等で注目され、一部実用化
され始めている。 しかしながら、透明導電層をプラスチックフィルムま
たはシート基板に直接設けて透明電極とした場合、耐透
湿性、耐透気性において問題があり、例えば、液晶表示
素子に使用する液晶は、酸素や水分によって酸化劣化や
加水分解を起こし易く、プラスチックフィルムまたはシ
ートを基板とする透明電極を液晶表示素子に用いる場
合、耐久性に問題があった。 耐透湿性、耐透気性を改良する為に、基板となるプラ
スチックフィルムまたはシートの厚みを増すか、あるい
はガスバリヤー性、水蒸気バリヤー性の良いプラスチッ
クフィルムを該基板に積層することにより、ある程度の
耐透湿性、耐透気性を有するものを得ることは可能であ
る。しかしながら、充分な耐透湿性、耐透気性を持った
基板を得る為には、プラスチックフィルムまたはシート
基板はかなりの厚みになり、また、バリヤー性の高いプ
ラスチックフィルムを積層しても、ガスバリヤー性と水
蒸気バリヤー性が共に優れているプラスチック素材は殆
どなく、そのためガスバリヤー性の良いプラスチックと
水蒸気バリヤー性の良いプラスチックを複合して使用せ
ざるを得なくなり、必然的にプラスチックフィルムの厚
みが増し、そのため可とう性が不足したり、バリヤー層
をフィルムに積層するための工程が必要となり、プラス
チック素材のコーティングや乾燥工程が必要となり生産
工程が複雑になる等の問題があった。更に、プラスッチ
ク基板の耐熱性に比べ、バリヤー層となるプラスチック
素材の耐熱性が低い為に、種々の処理に制約が生じるな
どの問題もあった。 また、耐透湿性、耐透気性を改良する為に、基板とな
るプラスチックフィルム上にバリヤー層として所定の酸
化物層を設けた後、透明導電膜を該酸化物層上に直接積
層することが開示されている（特開昭59−204545号公
報）。しかしながら、この方法もある程度の耐透湿性、
耐透気性の向上には寄与するものの、かかる透明導電性
フィルムを加工する際、バリヤー層となる酸化物層が、
エッチング時に酸溶液やアルカリ溶液により溶解し、バ
リヤー性が損なわれたり、屈曲した場合に酸化物層にク
ラックが発生し易く、バリヤー層の信頼性に問題があっ
た。
本発明は、耐透湿性、耐透気性及び耐屈曲性に優れた
プラスチックフィルムまたはシートを基板とする透明導
電性フィルムを提供することを目的とするものである。
プラスチックフィルムまたはシートを基板とする透明導
電性フィルムを提供することを目的とするものである。
本発明者らは、上記課題を解決するため、鋭意検討し
た結果、本発明を完成するに到った。 すなわち、本発明は、金属酸化物をその片面に有する
プラスチックフィルムを少なくとも２枚用意し、該一枚
のフィルムの該金属酸化物層と該もう一枚のフィルムの
プラスチック層とが接するように積層し、接着層を介し
て一体化せしめることを特徴とするガスバリヤー性、水
蒸気バリヤー性を有する透明導電性フィルムの製造方法
であり、また、金属酸化物が透明導電性金属酸化物であ
る方法に関するものである。当然のことながら、この金
属酸化物層はあえて言及するまでもなく、ITOに例示さ
れるような透明な金属酸化物層である。以下、不明瞭性
を排除するために透明金属酸化物層であることを明確に
した。 いま、説明の容易性のため、１枚のプラスチックフィ
ルムについて、透明金属酸化物層を（Ａ）、プラスチッ
ク層を（Ｂ）とし、他の１枚のプラスチックフィルムの
透明金属酸化物層を（Ｃ）、プラスチック層を（Ｄ）と
すると、本発明は、透明金属酸化物層（Ａ）とプラスチ
ック層（Ｂ）からなる透明導電性フィルムと透明金属酸
化物層（Ｃ）とプラスチック層（Ｄ）からなる透明導電
性フィルムとをプラスチック層（Ｂ）と透明金属酸化物
層（Ｃ）とを接着層を介して一体化せしめてなる透明導
電性フィルムに関するものであるといえる。 さて、本発明において、最外層の透明金属酸化物層
（Ａ）は、透明導電膜として機能するが、プラスチック
層（Ｂ）と（Ｄ）層に挟まれた透明金属酸化物層（Ｃ）
は、実質的に酸素ガス及び水蒸気に対してのバリヤー層
としての機能を有することになるのである。一方、プラ
スチック層（Ｂ）は、基板としての機能を有し、また、
プラスチック層（Ｂ）と他の面の外層となるプラスチッ
ク（Ｄ）層は実質的にバリヤー層として機能する上記透
明金属酸化物層（Ｃ）の保護層となるのである。本発明
者らは、バリヤー層として機能する透明金属酸化物層
（Ｃ）をプラスチック層（Ｂ）と（Ｄ）層とで挟むこと
により、耐酸性、耐アルカリ性等の耐薬品性が向上され
るばかりでなく、耐屈曲性においてもクラックが発生し
難い等の大きな利点があることを見出したのである。 本発明に用いられる透明金属酸化物は、公知の透明金
属酸化物である、インジウム、錫、アンチモンから選ば
れた少なくとも一種以上の透明金属酸化物であることが
好ましく、インジウム、錫、アンチモンまたはこれらの
混合物、もしくはこれらの合金の酸化物も好ましく用い
られる。特にITOが好ましく用いられる。ITO中に含まれ
る錫の量は、特に限定されないが、インジウム100に対
し０〜25重量部、好ましくは５〜18重量部が適当であ
る。 本発明の透明金属酸化物層は、単層もしくは多層であ
っても構わない。特に本発明の目的を損なわない限りに
おいては、周知慣用技術にして、当業者が熟知してい
る、例えば透明金属酸化物層（Ａ）又は（Ｃ）として、
特開昭56−56855号公報に開示されているような、透明
金属酸化物／金属薄膜／透明金属酸化物からなる多層膜
を用いても構わないことは当業者が容易に理解できると
ころである。尚、これらの透明金属酸化物に微量の不純
物が含まれていても構わない。 これらの透明金属酸化物層の厚みは、通常100〜1000
Å、好ましくは300〜800Åであり、透明導電層としての
透明金属酸化物層とバリヤー層としての透明金属酸化物
層の厚みは同一となることが好ましいが、目的に応じて
任意の厚みにすることが出来る。尚、透明金属酸化物層
の厚みが100Å未満のあまり薄い場合は、充分な導電性
及び、またはバリヤー性が得られず、さらに透明導電膜
としての耐擦傷性が充分でない。また1000Åをあまり大
きく越える厚い膜厚は、その必要がないばかりでなく、
製造コストのアップにつながり、更に光の干渉により透
明性が低下したり、着色するなど好ましくない結果を引
き起こす。 本発明に使用されるプラスチック層としてのプラスチ
ックフィルムは、600nmの波長における光線透過率が少
なくとも80％以上、より好ましくは85％以上であること
が望ましいが、それ自体が偏光フィルムである場合には
この限りではない。 用いるプラスチックを例示するならば、ポリエチレン
テレフタレート（PET）、ポリエチレンナフタレート（P
EN）等のポリエステル、ポリアミド、ポリエーテル、ポ
リスルフォン、ポリエーテルスルフォン（PES）、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、
ポリエーテルエーテルケトン（PEEK）などのホモポリマ
ーまたはコポリマーからなるプラスチックフィルムが挙
げられる。 本発明に用いられるプラスチックの厚みは、通常５〜
500μｍ、好ましくは10〜300μｍであり、さらに好まし
くは30〜100μｍが適当である。また基板としてのプラ
スチックの厚みと、保護層としてのプラスチックの厚み
は任意に選択することが出来る。 本発明による透明導電性フィルムは以下に示す方法に
より製造される。 まず、プラスチックフィルムからなる基板の片面に、
インジウム、錫、アンチモンまたはこれらの混合物もし
くはこれらの合金の透明金属酸化物層を形成させる。該
透明金属酸化物を形成する方法としては、スプレー法、
塗布法、真空処理法など公知の方法が利用できる。ここ
で真空処理とは概ね真空下で金属などの薄膜を形成する
方法であって、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン
プレーティング法、プラズマCVD法、イオンクラスター
ビーム法、イオン蒸着薄膜形成法等の方法を用いること
が出来る。さらにこれらの中で、スパッタリング法、イ
オンプレーティング法が好ましく用いられる。 次いで、該フィルムを少なくとも２枚、接着剤により
透明金属酸化物層とプラスチックとが接するように貼り
あわせることにより、目的とする透明導電フィルムを得
ることができる。尚、透明金属酸化物層（Ａ）と
（Ｃ）、プラスチック層（Ｂ）と（Ｄ）は同じであって
も異なっていても良い。同一の場合は、同一の原反フィ
ルムを使用できる利点があり、また使用目的に応じて
は、もしくは２種以上の原反フィルムが入手できる場合
は、透明金属酸化物層（Ａ）と（Ｃ）、プラスチック層
（Ｂ）と（Ｄ）はそれぞれ異ならしめても良い。ここで
使用する接着剤としては、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂な
どの公知の接着剤あるいは粘着剤が使用され得る。 以上述べたように本発明の透明導電性フィルムは、透
明導電膜とバリヤー層を同時に形成することができるの
みならず、その後の工程もこれらを単に貼り合わせるだ
けであり、従来の方法に比べてはるかに簡便に製造する
ことが出来る。 以下、本発明を図面を参照にしながら説明する。 第１図は、本発明による透明導電性フィルムの構造の
１例を示す断面図であり、片面にインジウム、錫、アン
チモンから選ばれた少なくとも一種以上の透明金属酸化
物からなる透明金属酸化物層が形成されたフィルムを接
着剤層を介して、透明金属酸化物とプラスチックとが接
するように貼り合わせたものである。 尚、図中、１は透明導電膜（透明金属酸化物層）、２
はプラスチックからなる基板、３は透明導電膜（透明金
属酸化物層）からなる酸素および水蒸気に対するバリヤ
ー層、４はプラスチック層からなるバリヤー層の保護
層、５は接着剤層をあらわす。
た結果、本発明を完成するに到った。 すなわち、本発明は、金属酸化物をその片面に有する
プラスチックフィルムを少なくとも２枚用意し、該一枚
のフィルムの該金属酸化物層と該もう一枚のフィルムの
プラスチック層とが接するように積層し、接着層を介し
て一体化せしめることを特徴とするガスバリヤー性、水
蒸気バリヤー性を有する透明導電性フィルムの製造方法
であり、また、金属酸化物が透明導電性金属酸化物であ
る方法に関するものである。当然のことながら、この金
属酸化物層はあえて言及するまでもなく、ITOに例示さ
れるような透明な金属酸化物層である。以下、不明瞭性
を排除するために透明金属酸化物層であることを明確に
した。 いま、説明の容易性のため、１枚のプラスチックフィ
ルムについて、透明金属酸化物層を（Ａ）、プラスチッ
ク層を（Ｂ）とし、他の１枚のプラスチックフィルムの
透明金属酸化物層を（Ｃ）、プラスチック層を（Ｄ）と
すると、本発明は、透明金属酸化物層（Ａ）とプラスチ
ック層（Ｂ）からなる透明導電性フィルムと透明金属酸
化物層（Ｃ）とプラスチック層（Ｄ）からなる透明導電
性フィルムとをプラスチック層（Ｂ）と透明金属酸化物
層（Ｃ）とを接着層を介して一体化せしめてなる透明導
電性フィルムに関するものであるといえる。 さて、本発明において、最外層の透明金属酸化物層
（Ａ）は、透明導電膜として機能するが、プラスチック
層（Ｂ）と（Ｄ）層に挟まれた透明金属酸化物層（Ｃ）
は、実質的に酸素ガス及び水蒸気に対してのバリヤー層
としての機能を有することになるのである。一方、プラ
スチック層（Ｂ）は、基板としての機能を有し、また、
プラスチック層（Ｂ）と他の面の外層となるプラスチッ
ク（Ｄ）層は実質的にバリヤー層として機能する上記透
明金属酸化物層（Ｃ）の保護層となるのである。本発明
者らは、バリヤー層として機能する透明金属酸化物層
（Ｃ）をプラスチック層（Ｂ）と（Ｄ）層とで挟むこと
により、耐酸性、耐アルカリ性等の耐薬品性が向上され
るばかりでなく、耐屈曲性においてもクラックが発生し
難い等の大きな利点があることを見出したのである。 本発明に用いられる透明金属酸化物は、公知の透明金
属酸化物である、インジウム、錫、アンチモンから選ば
れた少なくとも一種以上の透明金属酸化物であることが
好ましく、インジウム、錫、アンチモンまたはこれらの
混合物、もしくはこれらの合金の酸化物も好ましく用い
られる。特にITOが好ましく用いられる。ITO中に含まれ
る錫の量は、特に限定されないが、インジウム100に対
し０〜25重量部、好ましくは５〜18重量部が適当であ
る。 本発明の透明金属酸化物層は、単層もしくは多層であ
っても構わない。特に本発明の目的を損なわない限りに
おいては、周知慣用技術にして、当業者が熟知してい
る、例えば透明金属酸化物層（Ａ）又は（Ｃ）として、
特開昭56−56855号公報に開示されているような、透明
金属酸化物／金属薄膜／透明金属酸化物からなる多層膜
を用いても構わないことは当業者が容易に理解できると
ころである。尚、これらの透明金属酸化物に微量の不純
物が含まれていても構わない。 これらの透明金属酸化物層の厚みは、通常100〜1000
Å、好ましくは300〜800Åであり、透明導電層としての
透明金属酸化物層とバリヤー層としての透明金属酸化物
層の厚みは同一となることが好ましいが、目的に応じて
任意の厚みにすることが出来る。尚、透明金属酸化物層
の厚みが100Å未満のあまり薄い場合は、充分な導電性
及び、またはバリヤー性が得られず、さらに透明導電膜
としての耐擦傷性が充分でない。また1000Åをあまり大
きく越える厚い膜厚は、その必要がないばかりでなく、
製造コストのアップにつながり、更に光の干渉により透
明性が低下したり、着色するなど好ましくない結果を引
き起こす。 本発明に使用されるプラスチック層としてのプラスチ
ックフィルムは、600nmの波長における光線透過率が少
なくとも80％以上、より好ましくは85％以上であること
が望ましいが、それ自体が偏光フィルムである場合には
この限りではない。 用いるプラスチックを例示するならば、ポリエチレン
テレフタレート（PET）、ポリエチレンナフタレート（P
EN）等のポリエステル、ポリアミド、ポリエーテル、ポ
リスルフォン、ポリエーテルスルフォン（PES）、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、
ポリエーテルエーテルケトン（PEEK）などのホモポリマ
ーまたはコポリマーからなるプラスチックフィルムが挙
げられる。 本発明に用いられるプラスチックの厚みは、通常５〜
500μｍ、好ましくは10〜300μｍであり、さらに好まし
くは30〜100μｍが適当である。また基板としてのプラ
スチックの厚みと、保護層としてのプラスチックの厚み
は任意に選択することが出来る。 本発明による透明導電性フィルムは以下に示す方法に
より製造される。 まず、プラスチックフィルムからなる基板の片面に、
インジウム、錫、アンチモンまたはこれらの混合物もし
くはこれらの合金の透明金属酸化物層を形成させる。該
透明金属酸化物を形成する方法としては、スプレー法、
塗布法、真空処理法など公知の方法が利用できる。ここ
で真空処理とは概ね真空下で金属などの薄膜を形成する
方法であって、真空蒸着法、スパッタリング法、イオン
プレーティング法、プラズマCVD法、イオンクラスター
ビーム法、イオン蒸着薄膜形成法等の方法を用いること
が出来る。さらにこれらの中で、スパッタリング法、イ
オンプレーティング法が好ましく用いられる。 次いで、該フィルムを少なくとも２枚、接着剤により
透明金属酸化物層とプラスチックとが接するように貼り
あわせることにより、目的とする透明導電フィルムを得
ることができる。尚、透明金属酸化物層（Ａ）と
（Ｃ）、プラスチック層（Ｂ）と（Ｄ）は同じであって
も異なっていても良い。同一の場合は、同一の原反フィ
ルムを使用できる利点があり、また使用目的に応じて
は、もしくは２種以上の原反フィルムが入手できる場合
は、透明金属酸化物層（Ａ）と（Ｃ）、プラスチック層
（Ｂ）と（Ｄ）はそれぞれ異ならしめても良い。ここで
使用する接着剤としては、エポキシ樹脂、アクリル樹
脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、シリコン樹脂な
どの公知の接着剤あるいは粘着剤が使用され得る。 以上述べたように本発明の透明導電性フィルムは、透
明導電膜とバリヤー層を同時に形成することができるの
みならず、その後の工程もこれらを単に貼り合わせるだ
けであり、従来の方法に比べてはるかに簡便に製造する
ことが出来る。 以下、本発明を図面を参照にしながら説明する。 第１図は、本発明による透明導電性フィルムの構造の
１例を示す断面図であり、片面にインジウム、錫、アン
チモンから選ばれた少なくとも一種以上の透明金属酸化
物からなる透明金属酸化物層が形成されたフィルムを接
着剤層を介して、透明金属酸化物とプラスチックとが接
するように貼り合わせたものである。 尚、図中、１は透明導電膜（透明金属酸化物層）、２
はプラスチックからなる基板、３は透明導電膜（透明金
属酸化物層）からなる酸素および水蒸気に対するバリヤ
ー層、４はプラスチック層からなるバリヤー層の保護
層、５は接着剤層をあらわす。
以下に、本発明を実施例により詳細に説明する。 尚、実施例中の測定値は、次の方法によった。 光線透過率 可視分光光度計を用いて、600nmにおける光線透過率
を測定した。 電気抵抗率 四探針法で測定し、換算してシート抵抗率を求めた。 膜厚 透過型電子顕微鏡を用いて、切断法により求めた。 透湿量 18％塩酸に浸漬して導電性がなくなるまで透明導電膜
をエッチングした後、充分水洗、乾燥した後、JIS Ｚ
0208の条件Ｂに準拠して測定した。 酸素透過量 18％塩酸に浸漬して導電性がなくなるまで透明導電膜
をエッチングした後、充分水洗、乾燥した後、25℃にお
ける酸素ガス透過量を、ガス透過率測定装置を用いて測
定した。 実施例１ 厚み50μｍのポリエーテルスルホン製未延伸フィルム
の片面に、厚み700ÅのITO（錫含有量:5％）膜を高周波
イオンプレーティング法により形成し、得られた該フィ
ルムの片面にエポキシ樹脂系接着剤を塗布し、その上に
もう一枚の該フィルムを、一方のフィルムの透明金属酸
化物層ともう一方のフィルムのプラスチック層とが接す
るように接着剤を介して貼り合わせた。得られた透明導
電性フィルムの600nmにおける光線透過率は、86.8％で
あり、電気抵抗は、約200Ω／□であった。プラスチッ
ク上の透明金属酸化物層を除去した後の酸化透過量は、
17cc/m2・day・atmであり、透湿量は、14g/m2・dayであ
った。 実施例２ 厚み50μｍのポリスルホン製未延伸フィルムの片面
に、厚み600ÅのITO（錫含有量:16％）膜をスパッタリ
ング法により形成し、得られた該フィルムの片面にエポ
キシ樹脂系接着剤を塗布し、その上にもう一枚の該フィ
ルムを、一方のフィルムの透明金属酸化物層ともう一方
のフィルムのプラスチック層とが接するように接着剤を
介して貼り合わせた。得られた透明導電性フィルムの60
0nmにおける光線透過率は、86.5％であり、電気抵抗
は、約200Ω／□であった。また、酸素透過量は、18cc/
m2・day・atmであり、透湿量は15g/m2・dayであった。 実施例３ 厚み50μｍのポリエーテルスルホン製未延伸フィルム
の片面に、酸化インジウム（400Å）／銀（100Å）／酸
化インジウム（400Å）からなる多層膜をスパッタリン
グにより形成した。得られた該フィルムの片面にシリコ
ン系接着剤を塗布し、その上にもう一枚の該フィルム
を、一方のフィルムの透明金属酸化物層ともう一方のフ
ィルムのプラスチック層とが接するように接着剤を介し
て貼り合わせた。得られた透明導電性フィルムの600nm
における光線透過率は、84％であり、電気抵抗は、約10
Ω／□であった。プラスチック上の透明金属酸化物層を
除去した後の酸素透過量は、2cc/m2・day・atmであり、
透湿量は、2g/m2・dayであった。 比較例１ 実施例１と同様の厚み50μｍのポリエーテルスルホン
製未延伸フィルムの片面に、厚み700ÅのITO（錫含有
量:5％）膜をスパッタリング法により形成した。得られ
た透明導電性フィルムの600nmにおける光線透過率は、8
3％であり、電気抵抗は、約100Ω／□であった。酸素透
過量は、600cc/m2・day・atmであり非常に多く、透湿量
は280g/m2・dayできわめて多かった。実施例１と比較す
ると、きわめて酸素透過性も透湿性も劣る（１桁〜２桁
程度）ことがわかる。 比較例２ 厚み100μｍのポリエーテルスルホン製未延伸フィル
ムの片面に、厚み1000ÅのSiOx膜と厚み500ÅのITO（錫
含有量:5％）膜を高周波イオンプレーティング法により
形成した。得られた透明導電性フィルムの600nmにおけ
る光線透過率は、86％であり、電気抵抗は、約200Ω／
□であった。酸素透過量は、200cc/m2・day・atmであり
非常に多く、透湿量は140g/m2・dayとなりバリヤー層と
しての酸化物層の効果が殆ど無かった。これは、SiOx膜
が一部エッチング時に酸で浸されてしまったものと推定
される。
を測定した。 電気抵抗率 四探針法で測定し、換算してシート抵抗率を求めた。 膜厚 透過型電子顕微鏡を用いて、切断法により求めた。 透湿量 18％塩酸に浸漬して導電性がなくなるまで透明導電膜
をエッチングした後、充分水洗、乾燥した後、JIS Ｚ
0208の条件Ｂに準拠して測定した。 酸素透過量 18％塩酸に浸漬して導電性がなくなるまで透明導電膜
をエッチングした後、充分水洗、乾燥した後、25℃にお
ける酸素ガス透過量を、ガス透過率測定装置を用いて測
定した。 実施例１ 厚み50μｍのポリエーテルスルホン製未延伸フィルム
の片面に、厚み700ÅのITO（錫含有量:5％）膜を高周波
イオンプレーティング法により形成し、得られた該フィ
ルムの片面にエポキシ樹脂系接着剤を塗布し、その上に
もう一枚の該フィルムを、一方のフィルムの透明金属酸
化物層ともう一方のフィルムのプラスチック層とが接す
るように接着剤を介して貼り合わせた。得られた透明導
電性フィルムの600nmにおける光線透過率は、86.8％で
あり、電気抵抗は、約200Ω／□であった。プラスチッ
ク上の透明金属酸化物層を除去した後の酸化透過量は、
17cc/m2・day・atmであり、透湿量は、14g/m2・dayであ
った。 実施例２ 厚み50μｍのポリスルホン製未延伸フィルムの片面
に、厚み600ÅのITO（錫含有量:16％）膜をスパッタリ
ング法により形成し、得られた該フィルムの片面にエポ
キシ樹脂系接着剤を塗布し、その上にもう一枚の該フィ
ルムを、一方のフィルムの透明金属酸化物層ともう一方
のフィルムのプラスチック層とが接するように接着剤を
介して貼り合わせた。得られた透明導電性フィルムの60
0nmにおける光線透過率は、86.5％であり、電気抵抗
は、約200Ω／□であった。また、酸素透過量は、18cc/
m2・day・atmであり、透湿量は15g/m2・dayであった。 実施例３ 厚み50μｍのポリエーテルスルホン製未延伸フィルム
の片面に、酸化インジウム（400Å）／銀（100Å）／酸
化インジウム（400Å）からなる多層膜をスパッタリン
グにより形成した。得られた該フィルムの片面にシリコ
ン系接着剤を塗布し、その上にもう一枚の該フィルム
を、一方のフィルムの透明金属酸化物層ともう一方のフ
ィルムのプラスチック層とが接するように接着剤を介し
て貼り合わせた。得られた透明導電性フィルムの600nm
における光線透過率は、84％であり、電気抵抗は、約10
Ω／□であった。プラスチック上の透明金属酸化物層を
除去した後の酸素透過量は、2cc/m2・day・atmであり、
透湿量は、2g/m2・dayであった。 比較例１ 実施例１と同様の厚み50μｍのポリエーテルスルホン
製未延伸フィルムの片面に、厚み700ÅのITO（錫含有
量:5％）膜をスパッタリング法により形成した。得られ
た透明導電性フィルムの600nmにおける光線透過率は、8
3％であり、電気抵抗は、約100Ω／□であった。酸素透
過量は、600cc/m2・day・atmであり非常に多く、透湿量
は280g/m2・dayできわめて多かった。実施例１と比較す
ると、きわめて酸素透過性も透湿性も劣る（１桁〜２桁
程度）ことがわかる。 比較例２ 厚み100μｍのポリエーテルスルホン製未延伸フィル
ムの片面に、厚み1000ÅのSiOx膜と厚み500ÅのITO（錫
含有量:5％）膜を高周波イオンプレーティング法により
形成した。得られた透明導電性フィルムの600nmにおけ
る光線透過率は、86％であり、電気抵抗は、約200Ω／
□であった。酸素透過量は、200cc/m2・day・atmであり
非常に多く、透湿量は140g/m2・dayとなりバリヤー層と
しての酸化物層の効果が殆ど無かった。これは、SiOx膜
が一部エッチング時に酸で浸されてしまったものと推定
される。
以上の実施例ならびに比較例から明らかなように、本
発明により、元々およびまたエッチング後でも酸素およ
び水蒸気のいずれに対しても優れたバリヤー性を有し、
かつその製造方法も簡便である透明導電性フィルムの提
供が可能となる。さらに、バリヤー層たる透明金属酸化
物層、例えば（Ｃ）が、プラスチック層（Ｂ）と（Ｄ）
ではさまれているため屈曲に対し、非常に割れにくくな
るという作用効果も奏する。
発明により、元々およびまたエッチング後でも酸素およ
び水蒸気のいずれに対しても優れたバリヤー性を有し、
かつその製造方法も簡便である透明導電性フィルムの提
供が可能となる。さらに、バリヤー層たる透明金属酸化
物層、例えば（Ｃ）が、プラスチック層（Ｂ）と（Ｄ）
ではさまれているため屈曲に対し、非常に割れにくくな
るという作用効果も奏する。
第１図は、本発明による透明導電性フィルムの構造の１
例を示す断面図である。
例を示す断面図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−79644（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−58840（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−108408（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−119523（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−279544（ＪＰ，Ａ) 特公 昭63−37699（ＪＰ，Ｂ２) 実公 平５−1852（ＪＰ，Ｙ２)
Claims (2)
- 【請求項１】金属酸化物をその片面に有するプラスチッ
クフィルムを少なくとも２枚用意し、該一枚のフィルム
の該金属酸化物層と該もう一枚のフィルムのプラスチッ
ク層とが接するように積層し、接着層を介して一体化せ
しめることを特徴とするガスバリヤー性、水蒸気バリヤ
ー性を有する透明導電性フィルムの製造方法。 - 【請求項２】金属酸化物が透明導電性金属酸化物である
特許請求の範囲第１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62085657A JP2613206B2 (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | 透明導電性フィルムの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62085657A JP2613206B2 (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | 透明導電性フィルムの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS63252308A JPS63252308A (ja) | 1988-10-19 |
| JP2613206B2 true JP2613206B2 (ja) | 1997-05-21 |
Family
ID=13864894
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62085657A Expired - Lifetime JP2613206B2 (ja) | 1987-04-09 | 1987-04-09 | 透明導電性フィルムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2613206B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2550988B2 (ja) * | 1987-04-24 | 1996-11-06 | 東レ株式会社 | 透明ガスバリア性包装用積層フィルム |
| JP2598342B2 (ja) * | 1991-02-26 | 1997-04-09 | セイコー電子工業株式会社 | 多色表示装置の製造方法 |
| JP2006327098A (ja) * | 2005-05-27 | 2006-12-07 | Nitto Denko Corp | 透明フィルムおよびその製造方法 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6179644A (ja) * | 1984-09-28 | 1986-04-23 | 住友ベークライト株式会社 | 透明積層導電フイルム |
-
1987
- 1987-04-09 JP JP62085657A patent/JP2613206B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS63252308A (ja) | 1988-10-19 |
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