JP3114852B2 - 積層フィルム - Google Patents
積層フィルムInfo
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- JP3114852B2 JP3114852B2 JP08181969A JP18196996A JP3114852B2 JP 3114852 B2 JP3114852 B2 JP 3114852B2 JP 08181969 A JP08181969 A JP 08181969A JP 18196996 A JP18196996 A JP 18196996A JP 3114852 B2 JP3114852 B2 JP 3114852B2
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、フィルム液晶表示
装置に用いられる導電性フィルムに関するものである。
装置に用いられる導電性フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】液晶用導電性フィルムとしては、特公昭
６２−３２１０１、特公昭６３−３４０１８、特公平１
−１２６６６等に記載のポリエステル、ポリエーテルサ
ルフォン、ポリカーボネート等の高分子フィルム表面に
酸化インジウム、酸化錫、あるいは錫、インジウム合金
の酸化膜等の半導体膜や金、銀、パラジウムあるいはそ
れらの合金等の金属膜、半導体膜と金属膜を組み合わせ
て形成されたもの等が知られている。
６２−３２１０１、特公昭６３−３４０１８、特公平１
−１２６６６等に記載のポリエステル、ポリエーテルサ
ルフォン、ポリカーボネート等の高分子フィルム表面に
酸化インジウム、酸化錫、あるいは錫、インジウム合金
の酸化膜等の半導体膜や金、銀、パラジウムあるいはそ
れらの合金等の金属膜、半導体膜と金属膜を組み合わせ
て形成されたもの等が知られている。
【０００３】しかしながら、プラスチック上に上記の透
明導電膜を形成する際、基板からのガスの影響や結晶化
によりエッチングが難しい等の欠点があり、この為いく
つかの検討はされているが確立、採用された技術は未だ
無い状況で有る。一例として酸に可溶な透明導電膜とし
て特開平７−１６８１９６に於いて、Ｉｎ、Ｚｎから成
る一層のみだけによる非晶質酸化物が提案されている
が、余りにも可溶過ぎ、パタン加工ライン上でのオーバ
エッチングというロット間の安定性に欠け、設計上も困
難さを伴うという大きな問題があった。
明導電膜を形成する際、基板からのガスの影響や結晶化
によりエッチングが難しい等の欠点があり、この為いく
つかの検討はされているが確立、採用された技術は未だ
無い状況で有る。一例として酸に可溶な透明導電膜とし
て特開平７−１６８１９６に於いて、Ｉｎ、Ｚｎから成
る一層のみだけによる非晶質酸化物が提案されている
が、余りにも可溶過ぎ、パタン加工ライン上でのオーバ
エッチングというロット間の安定性に欠け、設計上も困
難さを伴うという大きな問題があった。
【０００４】一方、ガスバリヤー層として、無機層を設
ける方法では、液晶用途以外では特公昭５３−１２９５
３、液晶用では特開昭５０−１４２１９４等において、
高分子フィルム上の少なくとも片面にＳｉＯ2等を蒸着
したもの、あるいは、高分子フィルム上に塩化ビニリデ
ン系ポリマーや特願昭５９−２０７１６８記載のビニル
アルコール系ポリマーなど、更には、これらと無機層を
併用した特願昭５９−２０１８８６、特願昭５９−２０
１８８７等相対的にガスバリヤー性のあるポリマーのコ
ーティン層を設けたものが知られている。
ける方法では、液晶用途以外では特公昭５３−１２９５
３、液晶用では特開昭５０−１４２１９４等において、
高分子フィルム上の少なくとも片面にＳｉＯ2等を蒸着
したもの、あるいは、高分子フィルム上に塩化ビニリデ
ン系ポリマーや特願昭５９−２０７１６８記載のビニル
アルコール系ポリマーなど、更には、これらと無機層を
併用した特願昭５９−２０１８８６、特願昭５９−２０
１８８７等相対的にガスバリヤー性のあるポリマーのコ
ーティン層を設けたものが知られている。
【０００５】しかし、液晶用途として使用するには、フ
ィルム液晶の最大の特徴である耐衝撃性が必要であり、
これは落下や外部押圧に対応するものである。一般的に
デュポン衝撃試験機（ＪＩＳ−Ｋ−５４００．６．１３
Ｂ）に於いて、重り荷重１００ｇで落下させ、落下距離
３００ｍｍ以上の衝撃性を有する事が望ましいが、実際
は５０ｍｍ程度と実用上安心出来るレベルでは無かっ
た。
ィルム液晶の最大の特徴である耐衝撃性が必要であり、
これは落下や外部押圧に対応するものである。一般的に
デュポン衝撃試験機（ＪＩＳ−Ｋ−５４００．６．１３
Ｂ）に於いて、重り荷重１００ｇで落下させ、落下距離
３００ｍｍ以上の衝撃性を有する事が望ましいが、実際
は５０ｍｍ程度と実用上安心出来るレベルでは無かっ
た。
【０００６】又、フィルム液晶の特徴である可とう性と
しては、３５ｍｍΦのロールに巻き付けてもクラックが
生じない可とう性が必要であるが、特開昭５５−１１４
５６３に記載されている加水分解による酸化物からなる
無機層を有すると一般的には１μｍ程度と厚いため、又
他の製造法にも見られるが密着性が低いと同様にクラッ
クが生じ易くなると言う欠点が有り、必ずしも無機バリ
ヤーを設ければ良いといった状況では無かった。
しては、３５ｍｍΦのロールに巻き付けてもクラックが
生じない可とう性が必要であるが、特開昭５５−１１４
５６３に記載されている加水分解による酸化物からなる
無機層を有すると一般的には１μｍ程度と厚いため、又
他の製造法にも見られるが密着性が低いと同様にクラッ
クが生じ易くなると言う欠点が有り、必ずしも無機バリ
ヤーを設ければ良いといった状況では無かった。
【０００７】以上の様に、フィルム液晶表示装置には、
ガスバリヤー性、透明導電性、耐衝撃性、可とう性を合
わせ持つ積層フィルムが不可欠な要素であるが、実用上
特にパタン加工性は歩留まりの上から重要である。しか
し、これらの機能を有する各層をくみあわせて、加工性
が良く、透明導電性、ガスバリアー性を付与でき、液晶
表示装置材料として必要な耐久性のすべてが十分な透明
導電性フィルムは、いまだ工業的には生産されていな
い。
ガスバリヤー性、透明導電性、耐衝撃性、可とう性を合
わせ持つ積層フィルムが不可欠な要素であるが、実用上
特にパタン加工性は歩留まりの上から重要である。しか
し、これらの機能を有する各層をくみあわせて、加工性
が良く、透明導電性、ガスバリアー性を付与でき、液晶
表示装置材料として必要な耐久性のすべてが十分な透明
導電性フィルムは、いまだ工業的には生産されていな
い。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる現状
に鑑みなされたもので、希酸に可溶で、導電性を有し、
ガスバリヤー性、耐衝撃性、可とう性の優れた透明導電
性を有するフィルムを提供することにある。
に鑑みなされたもので、希酸に可溶で、導電性を有し、
ガスバリヤー性、耐衝撃性、可とう性の優れた透明導電
性を有するフィルムを提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上述の目的は、本発明に
より達成され、図１に示す様に高分子フィルムの少なく
とも片側に有機層、有機層の上に希酸に対し容易に溶け
る導電性層１、導電性層１の上に抵抗率が低い導電性層
２を順次積層し、該有機層と高分子フィルムの間、ある
いは、該有機層と該導電性層１との間にバリヤ性を有す
る無機層を設けた積層フィルムで、該導電性層１がＩｎ
とＧａの酸化物から成り、酸化物の組成Ｇａ／Ｉｎ＋Ｇ
ａが０．０５〜０．１５の原子比であり、該有機層が融
点５０℃以上のエポキシアクリレートプレポリマーある
いは融点５０℃以上のウレタンアクリレートプレポリマ
ーの紫外線硬化膜であり、０．３〜１．５μｍの厚みで
ある耐衝撃性、可とう性、エッチング性に優れた積層フ
ィルムであり、更に好ましい態様は、該導電性層２がＩ
ｎとＳｎの酸化物から成り、酸化物の組成Ｉｎ／Ｉｎ＋
Ｓｎが０．８５〜０．９４の原子比である積層フィルム
である。
より達成され、図１に示す様に高分子フィルムの少なく
とも片側に有機層、有機層の上に希酸に対し容易に溶け
る導電性層１、導電性層１の上に抵抗率が低い導電性層
２を順次積層し、該有機層と高分子フィルムの間、ある
いは、該有機層と該導電性層１との間にバリヤ性を有す
る無機層を設けた積層フィルムで、該導電性層１がＩｎ
とＧａの酸化物から成り、酸化物の組成Ｇａ／Ｉｎ＋Ｇ
ａが０．０５〜０．１５の原子比であり、該有機層が融
点５０℃以上のエポキシアクリレートプレポリマーある
いは融点５０℃以上のウレタンアクリレートプレポリマ
ーの紫外線硬化膜であり、０．３〜１．５μｍの厚みで
ある耐衝撃性、可とう性、エッチング性に優れた積層フ
ィルムであり、更に好ましい態様は、該導電性層２がＩ
ｎとＳｎの酸化物から成り、酸化物の組成Ｉｎ／Ｉｎ＋
Ｓｎが０．８５〜０．９４の原子比である積層フィルム
である。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明に於ける高分子フィルムと
は、例えばポリエーテルサルフォン、ポリカーボネー
ト、ポリアリレート、ノルボルネン、紫外線硬化型樹
脂、エポキシ樹脂に代表される熱硬化型樹脂等からなる
全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ−７１０５．５．５）で８５
％以上の透明性を有し、光学異方性が少ないフィルムで
あって、加工性の点からは極力耐熱性があることが望ま
しい。この意味から、２２３℃と最もＴｇが高いポリエ
ーテルサルホンや紫外線硬化樹脂、熱硬化型樹脂がより
好ましい。又、厚みとしては、ガラスに対し軽い、割れ
ない、可とう性を有するために０．０５〜０．５ｍｍの
ものであり、必要に応じて複数のフィルムを熱融着ある
いは屈折率を合わせた接着剤等を介し積層した構成のも
のでも良い。尚、光学異方性としては、出来るだけ０が
望ましいが、リタゼーション値として１５ｎｍ以下、角
度依存性としては４５度で２倍以内が好ましい。これ
は、色差として２以下並びに角度依存性に関しては色ず
れ防止からの要求である。
は、例えばポリエーテルサルフォン、ポリカーボネー
ト、ポリアリレート、ノルボルネン、紫外線硬化型樹
脂、エポキシ樹脂に代表される熱硬化型樹脂等からなる
全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ−７１０５．５．５）で８５
％以上の透明性を有し、光学異方性が少ないフィルムで
あって、加工性の点からは極力耐熱性があることが望ま
しい。この意味から、２２３℃と最もＴｇが高いポリエ
ーテルサルホンや紫外線硬化樹脂、熱硬化型樹脂がより
好ましい。又、厚みとしては、ガラスに対し軽い、割れ
ない、可とう性を有するために０．０５〜０．５ｍｍの
ものであり、必要に応じて複数のフィルムを熱融着ある
いは屈折率を合わせた接着剤等を介し積層した構成のも
のでも良い。尚、光学異方性としては、出来るだけ０が
望ましいが、リタゼーション値として１５ｎｍ以下、角
度依存性としては４５度で２倍以内が好ましい。これ
は、色差として２以下並びに角度依存性に関しては色ず
れ防止からの要求である。
【００１１】有機層としては、融点５０℃以上のエポキ
シアクリレートプレポリマーあるいは融点５０℃以上の
ウレタンアクリレートプレポリマーの紫外線硬化膜であ
り、液晶用途としての特性を満足出来れば、熱的により
安定な熱硬化型を用いても良い。しかしながら、生産性
に優れた紫外線硬化型樹脂がより好ましい。当然なが
ら、高分子フィルムや無機層との密着力は不可欠であ
り、この目的のため図２で前処理層として示す様な通常
行われているプライマー層やアンダーコート層を設けて
も良い。
シアクリレートプレポリマーあるいは融点５０℃以上の
ウレタンアクリレートプレポリマーの紫外線硬化膜であ
り、液晶用途としての特性を満足出来れば、熱的により
安定な熱硬化型を用いても良い。しかしながら、生産性
に優れた紫外線硬化型樹脂がより好ましい。当然なが
ら、高分子フィルムや無機層との密着力は不可欠であ
り、この目的のため図２で前処理層として示す様な通常
行われているプライマー層やアンダーコート層を設けて
も良い。
【００１２】ここで重要なのは、耐衝撃性保持の為、有
機層の厚みを制限する必要がある。確かに樹脂処方に依
る処があるのは事実であるが、通常のコート樹脂の厚み
として用いられる２〜５μｍ程度の厚みを塗布し、本発
明に述べた耐衝撃性試験を行うと、一般的に落下距離５
０ｍｍ程度でクラックが生じ易くなる為である。従って
液晶用途として実用上充分安定した領域で使用するには
落下距離として５００ｍｍ以上が望ましく、鋭意検討し
たところ有機層の厚みとして０．３〜１．５μｍの範囲
であれば満足する事を見いだしたものである。これは、
紫外線硬化型樹脂は硬化時に１０〜２０％程の硬化収縮
が起こるため、潜在的な内部応力を持っており、衝撃試
験の様な局部的な外力が働くと一気にクラックが入るた
めである。有機層の厚みが０．３μｍ未満では、塗布ム
ラが生じ易くなり、１．５μｍを越えると密着力が低下
しクラックが発生しやすくなる。有機層を２．５μｍに
塗布した際のベースフィルムとの密着力は２００ｇ／ｃ
ｍであるのに対し、０．５μｍ品では１０００ｇ／ｃｍ
と５倍まで向上できている。更に薄化する優位点とし
て、液晶用途では極力透明性を有することが望ましく、
通常塗布される最も薄い２μｍに対しても、波長４００
ｎｍに於いて０．５μｍ低減する毎に０．５％の透過率
の改善が認められ、この意味からも有効な手段になる。
機層の厚みを制限する必要がある。確かに樹脂処方に依
る処があるのは事実であるが、通常のコート樹脂の厚み
として用いられる２〜５μｍ程度の厚みを塗布し、本発
明に述べた耐衝撃性試験を行うと、一般的に落下距離５
０ｍｍ程度でクラックが生じ易くなる為である。従って
液晶用途として実用上充分安定した領域で使用するには
落下距離として５００ｍｍ以上が望ましく、鋭意検討し
たところ有機層の厚みとして０．３〜１．５μｍの範囲
であれば満足する事を見いだしたものである。これは、
紫外線硬化型樹脂は硬化時に１０〜２０％程の硬化収縮
が起こるため、潜在的な内部応力を持っており、衝撃試
験の様な局部的な外力が働くと一気にクラックが入るた
めである。有機層の厚みが０．３μｍ未満では、塗布ム
ラが生じ易くなり、１．５μｍを越えると密着力が低下
しクラックが発生しやすくなる。有機層を２．５μｍに
塗布した際のベースフィルムとの密着力は２００ｇ／ｃ
ｍであるのに対し、０．５μｍ品では１０００ｇ／ｃｍ
と５倍まで向上できている。更に薄化する優位点とし
て、液晶用途では極力透明性を有することが望ましく、
通常塗布される最も薄い２μｍに対しても、波長４００
ｎｍに於いて０．５μｍ低減する毎に０．５％の透過率
の改善が認められ、この意味からも有効な手段になる。
【００１３】無機層としては全光線透過率８５％以上、
表面抵抗率（ＪＩＳ−Ｋ−６９１１）１×１０12Ω以
上、酸素バリヤー性として２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2以下
を有し、３５ｍｍΦのロールに巻き付けてもクラックが
生じない可とう性を有するものであれば実用上問題な
い。無機層としては、例えばＳｉＯｘ、ＳｉｘＮｙ、Ａ
ｌｘＯｙ等あるいはこれらの多層、複合膜が考えられ、
蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤ
に代表される気相成膜法や、金属アルコキサイドを原料
とした加水分解等による塗布法により形成される。
表面抵抗率（ＪＩＳ−Ｋ−６９１１）１×１０12Ω以
上、酸素バリヤー性として２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2以下
を有し、３５ｍｍΦのロールに巻き付けてもクラックが
生じない可とう性を有するものであれば実用上問題な
い。無機層としては、例えばＳｉＯｘ、ＳｉｘＮｙ、Ａ
ｌｘＯｙ等あるいはこれらの多層、複合膜が考えられ、
蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、ＣＶＤ
に代表される気相成膜法や、金属アルコキサイドを原料
とした加水分解等による塗布法により形成される。
【００１４】全光線透過率としては出来るだけ高いこと
が望ましいが、高分子フィルム並びに導電性層の透過率
を考慮すれば実質上８５％以上であれば使用可能とな
る。全光線透過率が８５％未満であると透明性が不十分
となり本用途には使用できない。
が望ましいが、高分子フィルム並びに導電性層の透過率
を考慮すれば実質上８５％以上であれば使用可能とな
る。全光線透過率が８５％未満であると透明性が不十分
となり本用途には使用できない。
【００１５】表面抵抗率は１×１０12Ω以上が必要であ
る。これは無機層が直接液晶層に接する為、通常ＴＮ、
ＳＴＮモードで使用される液晶の比抵抗が１×１０10Ω
−ｃｍ程度であるため１００倍以上の差を設ける必要が
有るからである。１×１０12Ω以下であるとセルの消費
電流が著しく上昇し、セルの寿命の点から問題になるた
めである。このためには結晶光学的に理想に近いＳｉＯ
2、Ｓｉ3Ｎ4、Ａｌ2Ｏ3が好ましい。又、セル寿命の点
からは、イオン性不純物は極力少ない方が望ましく通常
２０ｐｐｍ以下が望まれる。このためには材料の選定や
成膜中の不純物管理が重要になる。
る。これは無機層が直接液晶層に接する為、通常ＴＮ、
ＳＴＮモードで使用される液晶の比抵抗が１×１０10Ω
−ｃｍ程度であるため１００倍以上の差を設ける必要が
有るからである。１×１０12Ω以下であるとセルの消費
電流が著しく上昇し、セルの寿命の点から問題になるた
めである。このためには結晶光学的に理想に近いＳｉＯ
2、Ｓｉ3Ｎ4、Ａｌ2Ｏ3が好ましい。又、セル寿命の点
からは、イオン性不純物は極力少ない方が望ましく通常
２０ｐｐｍ以下が望まれる。このためには材料の選定や
成膜中の不純物管理が重要になる。
【００１６】酸素バリヤー性として、モコン法による測
定値で２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2以下であることが重要で
ある。塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系
ポリマーに代表される有機バリヤーに比べ、温湿度の変
化が無いことが最大の特徴であり、有機バリヤーの常温
常湿での２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2の値以下であれば、実
用上問題ない。又、必要に応じ本発明に記載した必要特
性を満足する範囲であれば図３に示す様に無機層と導電
性層１の間の有機層を多層化する為、新規あるいは同種
の第２有機層を設け表面抵抗率特性を補っても良い。
又、無機層の形成に先立ち該有機層との密着力を高める
ために脱ガス処理、コロナ放電処理、火炎処理等の表面
処理やアクリル系、エポキシ系等の公知のアンカーコー
トが施されていてもよい。
定値で２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2以下であることが重要で
ある。塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系
ポリマーに代表される有機バリヤーに比べ、温湿度の変
化が無いことが最大の特徴であり、有機バリヤーの常温
常湿での２ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2の値以下であれば、実
用上問題ない。又、必要に応じ本発明に記載した必要特
性を満足する範囲であれば図３に示す様に無機層と導電
性層１の間の有機層を多層化する為、新規あるいは同種
の第２有機層を設け表面抵抗率特性を補っても良い。
又、無機層の形成に先立ち該有機層との密着力を高める
ために脱ガス処理、コロナ放電処理、火炎処理等の表面
処理やアクリル系、エポキシ系等の公知のアンカーコー
トが施されていてもよい。
【００１７】導電性層１としはＩｎとＧａから成り、酸
化物の組成はＧａ／Ｉｎ＋Ｇａが０．０５〜０．１５の
原子比であることが通常用いられるＨＣｌ濃度１５ｖｏ
ｌ％によるパタン加工性に於いてコントール可能で、且
つ、導電性が良好な範囲である。即ち、Ｇａ／Ｉｎ＋Ｇ
ａの原子比が０．１５を越える範囲では比抵抗が極端に
上昇し、Ｇａの影響が多くなり、Ｇａ2Ｏ3単独又はＩｎ
2Ｏ3、ＺｎＯの複合酸化物と同様にエッチング性のコン
トロールが不可能になる。例えば原子比が０．２０にな
ると最適組成である０．１０の比抵抗１．０×１０-3Ω
−ｃｍ（５００Å）に対して１．８倍以上の比抵抗にな
る。Ｇａ／Ｉｎ＋Ｇａの原子比が、０．０５未満では比
抵抗が同様に上昇し、エッチング特性が通常一般的に用
いられるＩｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2の酸化物と差が無く効果と
して認められない。導電性層１の厚みとしては５０〜２
００Åが望ましい。２００Å以上であると導電性層２に
通常用いるＩｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2の複合酸化物の組成Ｉｎ
／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比０．９１の比抵抗２．０×１０-4
Ω−ｃｍに比べて５倍以上悪い為に導電性からは不利に
なるからである。また５０Å未満であると目標とする良
好なエッチング特性が得られ無くなる。
化物の組成はＧａ／Ｉｎ＋Ｇａが０．０５〜０．１５の
原子比であることが通常用いられるＨＣｌ濃度１５ｖｏ
ｌ％によるパタン加工性に於いてコントール可能で、且
つ、導電性が良好な範囲である。即ち、Ｇａ／Ｉｎ＋Ｇ
ａの原子比が０．１５を越える範囲では比抵抗が極端に
上昇し、Ｇａの影響が多くなり、Ｇａ2Ｏ3単独又はＩｎ
2Ｏ3、ＺｎＯの複合酸化物と同様にエッチング性のコン
トロールが不可能になる。例えば原子比が０．２０にな
ると最適組成である０．１０の比抵抗１．０×１０-3Ω
−ｃｍ（５００Å）に対して１．８倍以上の比抵抗にな
る。Ｇａ／Ｉｎ＋Ｇａの原子比が、０．０５未満では比
抵抗が同様に上昇し、エッチング特性が通常一般的に用
いられるＩｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2の酸化物と差が無く効果と
して認められない。導電性層１の厚みとしては５０〜２
００Åが望ましい。２００Å以上であると導電性層２に
通常用いるＩｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2の複合酸化物の組成Ｉｎ
／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比０．９１の比抵抗２．０×１０-4
Ω−ｃｍに比べて５倍以上悪い為に導電性からは不利に
なるからである。また５０Å未満であると目標とする良
好なエッチング特性が得られ無くなる。
【００１８】導電性層２としては、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2
の酸化物からなるもので、通常広く用いられている。目
的の抵抗値を得るために適宜製造条件を考慮して成膜さ
れる。酸化物の組成はＩｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比で０．
８５〜０．９４であり０．８５未満あるいは０．９４を
越えると比抵抗が増加してしまうからである。特に０．
８５未満であると耐酸性が増しエッチング性が大幅に低
下する。
の酸化物からなるもので、通常広く用いられている。目
的の抵抗値を得るために適宜製造条件を考慮して成膜さ
れる。酸化物の組成はＩｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比で０．
８５〜０．９４であり０．８５未満あるいは０．９４を
越えると比抵抗が増加してしまうからである。特に０．
８５未満であると耐酸性が増しエッチング性が大幅に低
下する。
【００１９】
《実施例１》高分子フィルムとして溶融押し出し法によ
り作製した厚み２００μｍ、リタゼーション５ｎｍのポ
リエーテルサルフォンフィルムを用いた。高分子フィル
ム上に、分子量１５４０、融点７０℃のエポキシアクリ
レートプレポリマー（昭和高分子製、ＶＲ−６０）１０
０重量部、酢酸ブチル４００重量部、セロソルブアセテ
ート１００重量部、ベンゾインエチルエーテル２重量部
を５０℃にて攪拌、溶解して均一な溶液としたものをグ
ラビアロールコータで塗布し、８０℃で１０分間加熱し
て溶媒を除去し、８０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯により１５
ｃｍの距離で３０秒間照射して樹脂を硬化させ、０．５
μｍ厚の有機層を形成した。次にこのフィルム上にＤＣ
マグネトロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａに引
き、酸素／アルゴンガス９％の混合ガスを導入、３×１
０-1Ｐａの条件下において無機層を成膜し５００Å厚の
ＳｉＯ2を得た。この無機膜の酸素バリヤー性はモコン
法により測定したところ１．０ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2で
あり、表面抵抗率を測定したところ８．１×１０12Ωで
あった。又、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ−７１０５．
５．５）は９１％であった。更に３５ｍｍΦのロールに
巻き付け、１０００倍の金属顕微鏡で観察したが、クラ
ックは認められず可とう性に優れたものであった。
り作製した厚み２００μｍ、リタゼーション５ｎｍのポ
リエーテルサルフォンフィルムを用いた。高分子フィル
ム上に、分子量１５４０、融点７０℃のエポキシアクリ
レートプレポリマー（昭和高分子製、ＶＲ−６０）１０
０重量部、酢酸ブチル４００重量部、セロソルブアセテ
ート１００重量部、ベンゾインエチルエーテル２重量部
を５０℃にて攪拌、溶解して均一な溶液としたものをグ
ラビアロールコータで塗布し、８０℃で１０分間加熱し
て溶媒を除去し、８０ｗ／ｃｍの高圧水銀灯により１５
ｃｍの距離で３０秒間照射して樹脂を硬化させ、０．５
μｍ厚の有機層を形成した。次にこのフィルム上にＤＣ
マグネトロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａに引
き、酸素／アルゴンガス９％の混合ガスを導入、３×１
０-1Ｐａの条件下において無機層を成膜し５００Å厚の
ＳｉＯ2を得た。この無機膜の酸素バリヤー性はモコン
法により測定したところ１．０ｃｃ／２４ｈｒ・ｍ2で
あり、表面抵抗率を測定したところ８．１×１０12Ωで
あった。又、全光線透過率（ＪＩＳ−Ｋ−７１０５．
５．５）は９１％であった。更に３５ｍｍΦのロールに
巻き付け、１０００倍の金属顕微鏡で観察したが、クラ
ックは認められず可とう性に優れたものであった。
【００２０】次に導電性層１として、同じくＤＣマグネ
トロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａに引き、酸素
／アルゴンガス４％の混合ガスを導入し、１．２×１０
-1Ｐａの条件下において成膜し、Ｇａ／Ｉｎ＋Ｇａの原
子比が０．１０である導電性層１を得た。測定の結果、
膜厚は１２０Å、比抵抗は２．０×１０-3Ω−ｃｍであ
った。次に、導電性層２として、導電性層１と同じくＤ
Ｃマグネトロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａに引
き、酸素／アルゴンガス３％の混合ガスを導入、１×１
０-1Ｐａの条件下において成膜し、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2
の複合酸化物、Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比で０．９１の
組成の膜８００Åを得た。導電性層１、２の比抵抗は
２．９×１０-4Ω−ｃｍ、全光線透過率は７９％であっ
た。以上の条件で得られた導電膜にレジストを塗布、露
光、現像し、エッチング液としてＨＣｌ濃度１５ｖｏｌ
％、液温４０℃中で２００μｍピッチの回路を作製し
た。ライン／スペースとしては、１５０／５０μｍであ
る。エッチング時間は３０秒で残差もなく良好なストレ
ートラインが得られた。
トロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａに引き、酸素
／アルゴンガス４％の混合ガスを導入し、１．２×１０
-1Ｐａの条件下において成膜し、Ｇａ／Ｉｎ＋Ｇａの原
子比が０．１０である導電性層１を得た。測定の結果、
膜厚は１２０Å、比抵抗は２．０×１０-3Ω−ｃｍであ
った。次に、導電性層２として、導電性層１と同じくＤ
Ｃマグネトロン法により初期真空度３×１０-4Ｐａに引
き、酸素／アルゴンガス３％の混合ガスを導入、１×１
０-1Ｐａの条件下において成膜し、Ｉｎ2Ｏ3、ＳｎＯ2
の複合酸化物、Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎの原子比で０．９１の
組成の膜８００Åを得た。導電性層１、２の比抵抗は
２．９×１０-4Ω−ｃｍ、全光線透過率は７９％であっ
た。以上の条件で得られた導電膜にレジストを塗布、露
光、現像し、エッチング液としてＨＣｌ濃度１５ｖｏｌ
％、液温４０℃中で２００μｍピッチの回路を作製し
た。ライン／スペースとしては、１５０／５０μｍであ
る。エッチング時間は３０秒で残差もなく良好なストレ
ートラインが得られた。
【００２１】このパタンを作製したフィルムを用いて耐
衝撃性試験を行った。装置としてデュポン衝撃試験機
（ＪＩＳ−Ｋ−５４００．６．１３Ｂ）に於いて、重り
荷重１００ｇで落下させた処、落下距離９００ｍｍでよ
うやくクラックが認められ非常に良好であった。又、可
とう性試験として３５ｍｍΦのロールに巻き付け、１０
００倍の金属顕微鏡で観察したが、前述の無機層だけと
同様にクラックは認められず、導電性層１、２の比抵抗
も変化しなかった。再度導電性層を全てエッチングし、
酸素バリヤーを確認したところ、１．０ｃｃ／２４ｈｒ
・ｍ2と変化は認められなかった。尚、各特性の評価は
同一条件で作製したもので行い、特に無機層、導電性層
１、２形成は同一装置で成膜した。
衝撃性試験を行った。装置としてデュポン衝撃試験機
（ＪＩＳ−Ｋ−５４００．６．１３Ｂ）に於いて、重り
荷重１００ｇで落下させた処、落下距離９００ｍｍでよ
うやくクラックが認められ非常に良好であった。又、可
とう性試験として３５ｍｍΦのロールに巻き付け、１０
００倍の金属顕微鏡で観察したが、前述の無機層だけと
同様にクラックは認められず、導電性層１、２の比抵抗
も変化しなかった。再度導電性層を全てエッチングし、
酸素バリヤーを確認したところ、１．０ｃｃ／２４ｈｒ
・ｍ2と変化は認められなかった。尚、各特性の評価は
同一条件で作製したもので行い、特に無機層、導電性層
１、２形成は同一装置で成膜した。
【００２２】《比較例１》実施例１と同一ロットフィル
ムを用い、同一条件で有機層、無機層、導電性層１、２
を形成した。但し有機層の厚みは４μｍとした。次に実
施例１と同一手法によりパタン化したフィルムを用いデ
ュポン衝撃試験機による耐衝撃性試験を行った。重り荷
重１００ｇで落下させた処、落下距離３５ｍｍでクラッ
クが認められた。
ムを用い、同一条件で有機層、無機層、導電性層１、２
を形成した。但し有機層の厚みは４μｍとした。次に実
施例１と同一手法によりパタン化したフィルムを用いデ
ュポン衝撃試験機による耐衝撃性試験を行った。重り荷
重１００ｇで落下させた処、落下距離３５ｍｍでクラッ
クが認められた。
【００２３】《比較例２》実施例１と同一ロットフィル
ムを用い、同一条件で０．５μｍ厚の有機層、５００Å
の無機層を形成した。次に導電性層１としてＧａ／Ｉｎ
＋Ｇａの原子比が０．２０で厚み３００Å、導電性層２
として実施例１と同様に厚み８００Åを形成した。次に
実施例１と同一手法によりパタン化したフィルムを１０
００倍の金属顕微鏡で観察した処、パタン残差は無く良
好であったが、比抵抗は４．１×１０-4Ω−ｃｍと高く
導電膜としては満足出来るレベルではなかった。
ムを用い、同一条件で０．５μｍ厚の有機層、５００Å
の無機層を形成した。次に導電性層１としてＧａ／Ｉｎ
＋Ｇａの原子比が０．２０で厚み３００Å、導電性層２
として実施例１と同様に厚み８００Åを形成した。次に
実施例１と同一手法によりパタン化したフィルムを１０
００倍の金属顕微鏡で観察した処、パタン残差は無く良
好であったが、比抵抗は４．１×１０-4Ω−ｃｍと高く
導電膜としては満足出来るレベルではなかった。
【００２４】《比較例３》実施例１と同一ロットフィル
ムを用い、同一条件で０．５μｍ厚の有機層、５００Å
の無機層を形成した。次に導電性層１としてＧａ／Ｉｎ
＋Ｇａの原子比が０．０３で厚み３０Å、導電性層２と
して実施例１と同様に厚み８００Åを形成した。実施例
１と同一手法によりパタン化したフィルムを１０００倍
の金属顕微鏡で観察した処、パタン残差が微小ではある
が認められた。
ムを用い、同一条件で０．５μｍ厚の有機層、５００Å
の無機層を形成した。次に導電性層１としてＧａ／Ｉｎ
＋Ｇａの原子比が０．０３で厚み３０Å、導電性層２と
して実施例１と同様に厚み８００Åを形成した。実施例
１と同一手法によりパタン化したフィルムを１０００倍
の金属顕微鏡で観察した処、パタン残差が微小ではある
が認められた。
【００２５】
【発明の効果】本発明により、エッチング性が良好で耐
衝撃性に優れ、透明性、ガスバリヤー性を満足する透明
導電性フィルムを提供することが可能となった。
衝撃性に優れ、透明性、ガスバリヤー性を満足する透明
導電性フィルムを提供することが可能となった。
【図１】本発明にかかる積層フィルムの一部断面図を示
す。
す。
【図２】本発明にかかる積層フィルムの一部断面図を示
し、無機層と有機層との密着性を向上させる為に前処理
層を設けた例である。
し、無機層と有機層との密着性を向上させる為に前処理
層を設けた例である。
【図３】本発明にかかる積層フィルムの一部断面図を示
し、表面抵抗率特性を補う為無機層と有機層の間に第２
有機層を設けた例である。
し、表面抵抗率特性を補う為無機層と有機層の間に第２
有機層を設けた例である。
１：高分子フィルム ２：有機層 ３：無機層 ４：導電性層１ ５：導電性層２ ６：前処理層 ７：第２有機層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 平６−337409（ＪＰ，Ａ) 特開 平６−347774（ＪＰ，Ａ) 特開 平５−232488（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−169075（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−201853（ＪＰ，Ａ) 特開 平８−54614（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) G02F 1/1333 500 G02F 1/1333 505 G02F 1/1343
Claims (2)
- 【請求項１】 高分子フィルムの少なくとも片側に有機
層、有機層の上に希酸に対し容易に溶ける導電性層１、
導電性層１の上に抵抗率が低い導電性層２を順次積層
し、該有機層と高分子フィルムの間、あるいは、該有機
層と該導電性層１との間にバリヤ性を有する無機層を設
けた積層フィルムで、該導電性層１がＩｎとＧａの酸化
物から成り、酸化物の組成Ｇａ／Ｉｎ＋Ｇａが０．０５
〜０．１５の原子比であり、該有機層が融点５０℃以上
のエポキシアクリレートプレポリマーあるいは融点５０
℃以上のウレタンアクリレートプレポリマーの紫外線硬
化膜であり、０．３〜１．５μｍの厚みであることを特
徴とする耐衝撃性、可とう性、エッチング性に優れた積
層フィルム。 - 【請求項２】 該導電性層２がＩｎとＳｎの酸化物から
成り、酸化物の組成Ｉｎ／Ｉｎ＋Ｓｎが０．８５〜０．
９４の原子比であることを特徴とする請求項１記載の積
層フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08181969A JP3114852B2 (ja) | 1996-07-11 | 1996-07-11 | 積層フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP08181969A JP3114852B2 (ja) | 1996-07-11 | 1996-07-11 | 積層フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1026752A JPH1026752A (ja) | 1998-01-27 |
| JP3114852B2 true JP3114852B2 (ja) | 2000-12-04 |
Family
ID=16110038
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP08181969A Expired - Fee Related JP3114852B2 (ja) | 1996-07-11 | 1996-07-11 | 積層フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3114852B2 (ja) |
-
1996
- 1996-07-11 JP JP08181969A patent/JP3114852B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH1026752A (ja) | 1998-01-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |