JPH08220568A - エレクトロクロミック素子 - Google Patents
エレクトロクロミック素子Info
- Publication number
- JPH08220568A JPH08220568A JP7023884A JP2388495A JPH08220568A JP H08220568 A JPH08220568 A JP H08220568A JP 7023884 A JP7023884 A JP 7023884A JP 2388495 A JP2388495 A JP 2388495A JP H08220568 A JPH08220568 A JP H08220568A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- oxide
- transparent electrode
- substrate
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 製造において、１００℃前後に加熱したプラ
スチック基板上に少なくとも、第１透明電極層、エレク
トロクロミック層、第２透明電極層とを順次積層して形
成し、その後室温まで冷ましても薄膜の剥離やクラック
の発生がなく、また製品において、夏期の自動車内は８
０℃以上になることがあるので、その様な環境下におい
ても薄膜の剥離やクラック（割れ）の発生しないＥＣ素
子を提供することを目的とする。 【構成】線膨張率が５×１０-5℃-1〜１×１０-4℃-1の
範囲にあり、かつガラス転移温度が９０℃以上である有
機高分子材料からなる基板上に、少なくとも、第１透明
電極層とエレクトロクロミック層と第２透明電極層とを
順次積層して形成してなるエレクトロクロミック素子。
スチック基板上に少なくとも、第１透明電極層、エレク
トロクロミック層、第２透明電極層とを順次積層して形
成し、その後室温まで冷ましても薄膜の剥離やクラック
の発生がなく、また製品において、夏期の自動車内は８
０℃以上になることがあるので、その様な環境下におい
ても薄膜の剥離やクラック（割れ）の発生しないＥＣ素
子を提供することを目的とする。 【構成】線膨張率が５×１０-5℃-1〜１×１０-4℃-1の
範囲にあり、かつガラス転移温度が９０℃以上である有
機高分子材料からなる基板上に、少なくとも、第１透明
電極層とエレクトロクロミック層と第２透明電極層とを
順次積層して形成してなるエレクトロクロミック素子。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はエレクトロクロミック素
子に関するものである。以下、エレクトロクロミックを
「ＥＣ」と略称し、ＥＣ素子を「ＥＣＤ」と略称する。
子に関するものである。以下、エレクトロクロミックを
「ＥＣ」と略称し、ＥＣ素子を「ＥＣＤ」と略称する。
【０００２】
【従来の技術】物質に電圧を印加すると可逆的に電解酸
化または還元反応が起こり、可逆的に着消色する現象を
エレクトロクロミズムと言う。このような現象を示すＥ
Ｃ物質を用いて、電圧調整により着消色するＥＣＤを作
り、このＥＣＤを光量制御素子（例えば、防眩ミラー）
や７セグメントを利用した数字表示素子を利用しようと
する試みは、２０年以上も前から行われている。
化または還元反応が起こり、可逆的に着消色する現象を
エレクトロクロミズムと言う。このような現象を示すＥ
Ｃ物質を用いて、電圧調整により着消色するＥＣＤを作
り、このＥＣＤを光量制御素子（例えば、防眩ミラー）
や７セグメントを利用した数字表示素子を利用しようと
する試みは、２０年以上も前から行われている。
【０００３】例えば、ガラス基板の上に透明電極膜（陰
極）、三酸化タングステン薄膜（ＥＣ層）、二酸化ケイ
素のような絶縁膜、電極膜（陽極）を順次積層してなる
ＥＣＤ（特公昭５２−４６０９８参照）が全固体型ＥＣ
Ｄとして知られている。このＥＣＤに電圧を印加する
と、三酸化タングステン（ＷＯ3）薄膜が青色に着色す
る。その後、ＥＣＤに逆の電圧を印加すると、ＷＯ3薄
膜の青色が消えて無色になる。この着色・消色する機構
は詳しくは解明されており、ＷＯ3及び絶縁膜（イオン
導電層）中に含まれる少量の水分がＷＯ3の着色・消色
を支配していると理解されている。着色の反応式は下記
のように推定されている。 陰極側： Ｈ2Ｏ → Ｈ+ ＋ ＯＨ- ＷＯ3 ＋ ｎＨ+ ＋ｎｅ- → ＨｎＷＯ3 （無色透明） （青色） 陽極側： ＯＨ- → （1/2）Ｈ2Ｏ ＋ （1/4）Ｏ2 ＋ （1/2）ｅ- ところで、ＥＣ層を直接又は間接的に挟む一対の電極層
は、ＥＣ層の着消色を外部に見せるために、少なくとも
一方は透明でなければならない。特に透過型のＥＣＤの
場合には、両方とも透明でなければならない。透明な電
極材料としては、現在のところＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、Ｉ
ＴＯ（ＳｎＯ2とＩｎ2Ｏ3との混合物）、ＺｎＯなどが
知られているが、これらの材料は比較的透明度が悪いた
めに薄くせねばならず、この理由及びその他の理由から
ＥＣＤは基板、（例えばガラス板やプラスチック板）の
上に形成するのが普通である。また、ＥＣＤに外部電源
を供給するには、前記一対の電極層から電極を取り出す
必要がある。
極）、三酸化タングステン薄膜（ＥＣ層）、二酸化ケイ
素のような絶縁膜、電極膜（陽極）を順次積層してなる
ＥＣＤ（特公昭５２−４６０９８参照）が全固体型ＥＣ
Ｄとして知られている。このＥＣＤに電圧を印加する
と、三酸化タングステン（ＷＯ3）薄膜が青色に着色す
る。その後、ＥＣＤに逆の電圧を印加すると、ＷＯ3薄
膜の青色が消えて無色になる。この着色・消色する機構
は詳しくは解明されており、ＷＯ3及び絶縁膜（イオン
導電層）中に含まれる少量の水分がＷＯ3の着色・消色
を支配していると理解されている。着色の反応式は下記
のように推定されている。 陰極側： Ｈ2Ｏ → Ｈ+ ＋ ＯＨ- ＷＯ3 ＋ ｎＨ+ ＋ｎｅ- → ＨｎＷＯ3 （無色透明） （青色） 陽極側： ＯＨ- → （1/2）Ｈ2Ｏ ＋ （1/4）Ｏ2 ＋ （1/2）ｅ- ところで、ＥＣ層を直接又は間接的に挟む一対の電極層
は、ＥＣ層の着消色を外部に見せるために、少なくとも
一方は透明でなければならない。特に透過型のＥＣＤの
場合には、両方とも透明でなければならない。透明な電
極材料としては、現在のところＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3、Ｉ
ＴＯ（ＳｎＯ2とＩｎ2Ｏ3との混合物）、ＺｎＯなどが
知られているが、これらの材料は比較的透明度が悪いた
めに薄くせねばならず、この理由及びその他の理由から
ＥＣＤは基板、（例えばガラス板やプラスチック板）の
上に形成するのが普通である。また、ＥＣＤに外部電源
を供給するには、前記一対の電極層から電極を取り出す
必要がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】現在まで自動車用バッ
クミラーや眼鏡レンズなどで実用化されているＥＣＤの
基板にはガラスが用いられていた。しかし、最近の高分
子材料や成形加工技術の進歩に伴って、プラスチックは
軽量で、染色が比較的容易であるという利点を有するの
でＥＣＤにおいても、基板のプラスチック化が強く求め
られてきている。
クミラーや眼鏡レンズなどで実用化されているＥＣＤの
基板にはガラスが用いられていた。しかし、最近の高分
子材料や成形加工技術の進歩に伴って、プラスチックは
軽量で、染色が比較的容易であるという利点を有するの
でＥＣＤにおいても、基板のプラスチック化が強く求め
られてきている。
【０００５】尚、光学機器レンズ及び眼鏡レンズなどで
実用化されているプラスチック基板の材料としては、ポ
リビニルエステル系、ポリウレタン系、ポリカーボネー
ト系の各プラスチックが主流である。現在実用化されて
いる眼鏡用プラスチックレンズ基板は、線膨張率が８×
１０ -5℃-1〜１５×１０-5℃-1の範囲にあるか或いはガ
ラス転移温度が７０℃程度である有機高分子（プラスチ
ック）材料からなり、その線膨張係数は、ＥＣＤに用い
る薄膜と比べて一桁程度大きい。従って、例えば、約１
００℃に加熱したプラスチック基板に薄膜を形成し、そ
の後室温まで冷ますと、基板と薄膜との線膨張係数の差
により、薄膜は基板に引っ張られ余分に収縮することに
なり、圧縮応力により基板から薄膜が剥離したり、薄膜
にクラックが発生しやすくなる。
実用化されているプラスチック基板の材料としては、ポ
リビニルエステル系、ポリウレタン系、ポリカーボネー
ト系の各プラスチックが主流である。現在実用化されて
いる眼鏡用プラスチックレンズ基板は、線膨張率が８×
１０ -5℃-1〜１５×１０-5℃-1の範囲にあるか或いはガ
ラス転移温度が７０℃程度である有機高分子（プラスチ
ック）材料からなり、その線膨張係数は、ＥＣＤに用い
る薄膜と比べて一桁程度大きい。従って、例えば、約１
００℃に加熱したプラスチック基板に薄膜を形成し、そ
の後室温まで冷ますと、基板と薄膜との線膨張係数の差
により、薄膜は基板に引っ張られ余分に収縮することに
なり、圧縮応力により基板から薄膜が剥離したり、薄膜
にクラックが発生しやすくなる。
【０００６】また、薄膜が剥離したり、薄膜にクラック
が発生することがない場合でも、再び約５０℃に温度を
上げると、基板と薄膜の線膨張率の差により、薄膜は基
板に引っ張られ余分に延びることになり引っ張り応力が
生じ、薄膜の剥離或いはクラック（割れ）の発生を引き
起こす。薄膜の剥離、クラック（割れ）が発生したＥＣ
素子は外観不良となり、さらに電気的な断線・短絡の原
因となる。
が発生することがない場合でも、再び約５０℃に温度を
上げると、基板と薄膜の線膨張率の差により、薄膜は基
板に引っ張られ余分に延びることになり引っ張り応力が
生じ、薄膜の剥離或いはクラック（割れ）の発生を引き
起こす。薄膜の剥離、クラック（割れ）が発生したＥＣ
素子は外観不良となり、さらに電気的な断線・短絡の原
因となる。
【０００７】本発明はかかる問題に鑑みてなされたもの
であり、製造において、１００℃前後に加熱したプラス
チック基板上に少なくとも、第１透明電極層、エレクト
ロクロミック層、第２透明電極層とを順次積層して形成
し、その後室温まで冷ましても薄膜の剥離やクラックの
発生がなく、また製品において、夏期の自動車内は８０
℃以上になることがあるので、その様な環境下において
も薄膜の剥離やクラック（割れ）の発生しないＥＣ素子
を提供することを目的とする。
であり、製造において、１００℃前後に加熱したプラス
チック基板上に少なくとも、第１透明電極層、エレクト
ロクロミック層、第２透明電極層とを順次積層して形成
し、その後室温まで冷ましても薄膜の剥離やクラックの
発生がなく、また製品において、夏期の自動車内は８０
℃以上になることがあるので、その様な環境下において
も薄膜の剥離やクラック（割れ）の発生しないＥＣ素子
を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者は前記目的を達
成するために鋭意研究を行った結果、本発明は、第一に
「線膨張率が５×１０-5℃-1〜１×１０-4℃-1の範囲に
あり、かつガラス転移温度が９０℃以上である有機高分
子材料からなる基板上に、少なくとも、第１透明電極層
とエレクトロクロミック層と第２透明電極層とを順次積
層して形成してなるエレクトロクロミック素子（請求項
１）」を提供する。
成するために鋭意研究を行った結果、本発明は、第一に
「線膨張率が５×１０-5℃-1〜１×１０-4℃-1の範囲に
あり、かつガラス転移温度が９０℃以上である有機高分
子材料からなる基板上に、少なくとも、第１透明電極層
とエレクトロクロミック層と第２透明電極層とを順次積
層して形成してなるエレクトロクロミック素子（請求項
１）」を提供する。
【０００９】また、本発明は第二に「前記透明電極がＩ
ＴＯ膜であることを特徴とする請求項１記載のエレクト
ロクロミック素子（請求項２）」を提供する。また、本
発明は第三に「前記エレクトロクロミック層が酸化スズ
と酸化イリジウムとの混合物からなる可逆的電解酸化層
と、酸化タンタルからなる固体電解質層と、酸化タング
ステンからなる還元型発色層とを順次積層して形成して
なることを特徴とする請求項１又は２記載のエレクトロ
クロミック素子（請求項３）」を提供する。
ＴＯ膜であることを特徴とする請求項１記載のエレクト
ロクロミック素子（請求項２）」を提供する。また、本
発明は第三に「前記エレクトロクロミック層が酸化スズ
と酸化イリジウムとの混合物からなる可逆的電解酸化層
と、酸化タンタルからなる固体電解質層と、酸化タング
ステンからなる還元型発色層とを順次積層して形成して
なることを特徴とする請求項１又は２記載のエレクトロ
クロミック素子（請求項３）」を提供する。
【００１０】
【作用】線膨張率が５×１０-5℃-1〜１×１０-4℃-1の
範囲にあり、かつガラス転移温度が９０℃以上である有
機高分子材料からなる基板上に、少なくとも、第１透明
電極層とエレクトロクロミック層と第２透明電極層とを
順次積層して形成してなるＥＣ素子は、原因は明確では
ないが、約１００℃の環境下でＥＣ素子を構成する各薄
膜を形成し、その後室温まで冷却しても薄膜の剥離やク
ラック（割れ）は発生しないことがわかった。
範囲にあり、かつガラス転移温度が９０℃以上である有
機高分子材料からなる基板上に、少なくとも、第１透明
電極層とエレクトロクロミック層と第２透明電極層とを
順次積層して形成してなるＥＣ素子は、原因は明確では
ないが、約１００℃の環境下でＥＣ素子を構成する各薄
膜を形成し、その後室温まで冷却しても薄膜の剥離やク
ラック（割れ）は発生しないことがわかった。
【００１１】また、眼鏡レンズに要求される耐熱温度で
ある８０℃の環境下においても薄膜の剥離やクラック
（割れ）は発生しないことがわかった。尚、線膨張率が
５×１０-5℃-1〜１×１０-4℃-1の範囲にあっても、ガ
ラス転移点が９０℃より小さい有機プラスチック材料か
らなる基板上に前記薄膜を形成した場合は、薄膜の剥離
やクラック（割れ）が発生する場合があることもわかっ
た。
ある８０℃の環境下においても薄膜の剥離やクラック
（割れ）は発生しないことがわかった。尚、線膨張率が
５×１０-5℃-1〜１×１０-4℃-1の範囲にあっても、ガ
ラス転移点が９０℃より小さい有機プラスチック材料か
らなる基板上に前記薄膜を形成した場合は、薄膜の剥離
やクラック（割れ）が発生する場合があることもわかっ
た。
【００１２】以下、実施例により本発明をさらに具体的
に説明するが、本発明はかか実施例に限定されるもので
はない。
に説明するが、本発明はかか実施例に限定されるもので
はない。
【００１３】
〔実施例１〕図１は、本発明の実施例１に係るＥＣＤの
概略断面図を示し、眼鏡レンズ１６を基板として使用し
ている。眼鏡レンズの基板は屈折率1.6、比重1.22、線
膨張率８×１０-5℃-1、ガラス転移点１２０℃のプラス
チックである。以下に示すように本実施例のＥＣＤを製
作した（以下、「サンプル１」という）。
概略断面図を示し、眼鏡レンズ１６を基板として使用し
ている。眼鏡レンズの基板は屈折率1.6、比重1.22、線
膨張率８×１０-5℃-1、ガラス転移点１２０℃のプラス
チックである。以下に示すように本実施例のＥＣＤを製
作した（以下、「サンプル１」という）。
【００１４】眼鏡レンズ１６の両端面はサングラスフレ
ーム枠に組み込む易いように、角縁の形状に形成してお
り、この形状により、各端面に生じた一方の斜面１６ａ
から他方の斜面１６ｂにかけて、スパッタリング法によ
り厚さ約１μｍで銀（Ａｇ）の薄膜１７ａ、１７ｂ、そ
の後に厚さ約５００Åで金（Ａｕ）の薄膜１８ａ、１８
ｂを順次形成し、銀／金の２層膜からなる導電性薄膜１
９ａ、１９ｂを形成した。
ーム枠に組み込む易いように、角縁の形状に形成してお
り、この形状により、各端面に生じた一方の斜面１６ａ
から他方の斜面１６ｂにかけて、スパッタリング法によ
り厚さ約１μｍで銀（Ａｇ）の薄膜１７ａ、１７ｂ、そ
の後に厚さ約５００Åで金（Ａｕ）の薄膜１８ａ、１８
ｂを順次形成し、銀／金の２層膜からなる導電性薄膜１
９ａ、１９ｂを形成した。
【００１５】レンズ基板１６の表面の一部から一方の導
電性薄膜１９ｂの一部にかけて、ＩＴＯからなる透明電
極層２を厚さ約２００ｎｍで蒸着した。その後に、ＥＣ
層として、酸化スズと酸化イリジウムとの混合物からな
る可逆的電解酸化層３、酸化タンタルからなる固体電解
質層４、そして酸化タングステンからなる還元型発色層
５を順次形成した。各層３〜５の厚さは、可逆的電解酸
化層３から順に約１５０ｎｍ、５００ｎｍ、５００ｎｍ
であった。
電性薄膜１９ｂの一部にかけて、ＩＴＯからなる透明電
極層２を厚さ約２００ｎｍで蒸着した。その後に、ＥＣ
層として、酸化スズと酸化イリジウムとの混合物からな
る可逆的電解酸化層３、酸化タンタルからなる固体電解
質層４、そして酸化タングステンからなる還元型発色層
５を順次形成した。各層３〜５の厚さは、可逆的電解酸
化層３から順に約１５０ｎｍ、５００ｎｍ、５００ｎｍ
であった。
【００１６】最後に還元型発色層５の上面から他方の導
電性薄膜１９ａの一部にかけて、ＩＴＯからなる透明電
極層６を厚さ約２００ｎｍで形成した。比較のため、基
板材料が屈折率1.5、比重1.32、線膨張率１１×１０-5
℃-1、ガラス転移点７５℃である従来の眼鏡用プラスチ
ックレンズ（ＣＲ−３９）を基板として、実施例１と同
様に製作した（以下、「サンプル２」という）。 〔比較実験〕サンプル１、２を５０℃の熱風循環式恒温
層中に５分間放置した後取り出し、肉眼及び顕微鏡によ
りクラックの有無を確認した。
電性薄膜１９ａの一部にかけて、ＩＴＯからなる透明電
極層６を厚さ約２００ｎｍで形成した。比較のため、基
板材料が屈折率1.5、比重1.32、線膨張率１１×１０-5
℃-1、ガラス転移点７５℃である従来の眼鏡用プラスチ
ックレンズ（ＣＲ−３９）を基板として、実施例１と同
様に製作した（以下、「サンプル２」という）。 〔比較実験〕サンプル１、２を５０℃の熱風循環式恒温
層中に５分間放置した後取り出し、肉眼及び顕微鏡によ
りクラックの有無を確認した。
【００１７】さらに、恒温層の温度を５℃刻みで上げな
がら同様の実験を繰り返し、クラック発生温度を測定し
た。クラック発生温度は、本発明によるサンプル１は１
２５℃であり、眼鏡レンズの耐熱性規格に合格している
が、従来の眼鏡用プラスチックズをもちいたサンプル２
は７５℃であり不合格であった。 〔実施例２〕図２は本発明の実施例２に係るＥＣＤの概
略断面図である。
がら同様の実験を繰り返し、クラック発生温度を測定し
た。クラック発生温度は、本発明によるサンプル１は１
２５℃であり、眼鏡レンズの耐熱性規格に合格している
が、従来の眼鏡用プラスチックズをもちいたサンプル２
は７５℃であり不合格であった。 〔実施例２〕図２は本発明の実施例２に係るＥＣＤの概
略断面図である。
【００１８】基板は屈折率1.5、比重1.19、線膨張率５
×１０-5℃-1、ガラス転移点１２５℃のプラスチックで
ある。以下に示すように本実施例のＥＣＤを製作した
（以下、「サンプル３」という）。図２に示すプラスチ
ック基板１の上面においてその一部１ａに、例えば金
（Ａｕ）からなる導電性薄膜１１をプラズマ溶射法によ
り形成し、次いで取り出し電極部２ｃが薄膜１１の一部
（図示では斜面部）の上に乗るように、真空蒸着法によ
り透明電極層２を形成した。
×１０-5℃-1、ガラス転移点１２５℃のプラスチックで
ある。以下に示すように本実施例のＥＣＤを製作した
（以下、「サンプル３」という）。図２に示すプラスチ
ック基板１の上面においてその一部１ａに、例えば金
（Ａｕ）からなる導電性薄膜１１をプラズマ溶射法によ
り形成し、次いで取り出し電極部２ｃが薄膜１１の一部
（図示では斜面部）の上に乗るように、真空蒸着法によ
り透明電極層２を形成した。
【００１９】その後、ＥＣ層として、酸化スズと酸化イ
リジウムとの混合物からなる可逆的電解酸化層３を酸化
タンタルからなる固体電解質層４を、そして酸化タング
ステンからなる還元型発色層５を順次形成した。次い
で、還元型発色層５を覆うように、アルミニウム（Ａ
ｌ）からなる反射性電極層１２を蒸着し、このとき、そ
の一部がプラスチック基板１の端部１ｂに接触するよう
にした。
リジウムとの混合物からなる可逆的電解酸化層３を酸化
タンタルからなる固体電解質層４を、そして酸化タング
ステンからなる還元型発色層５を順次形成した。次い
で、還元型発色層５を覆うように、アルミニウム（Ａ
ｌ）からなる反射性電極層１２を蒸着し、このとき、そ
の一部がプラスチック基板１の端部１ｂに接触するよう
にした。
【００２０】最後に反射性電極層１２の端部１２ａを除
いて、電極層１２の上部から透明電極層２の取り出し部
２ｃにかけて覆うように、エポキシ樹脂封止７及び封止
基板８により封止して、本実施例のＥＣＤを作成した。
サンプル３のクラック発生温度の測定を比較実験と同様
な方法で行った。サンプル３のクラック発生温度は１３
０℃であった。
いて、電極層１２の上部から透明電極層２の取り出し部
２ｃにかけて覆うように、エポキシ樹脂封止７及び封止
基板８により封止して、本実施例のＥＣＤを作成した。
サンプル３のクラック発生温度の測定を比較実験と同様
な方法で行った。サンプル３のクラック発生温度は１３
０℃であった。
【００２１】
【発明の効果】本発明のＥＣＤによれば製造方法におい
て、１００℃前後に加熱したプラスチック基板上に、少
なくとも、第１透明電極層、エレクトロクロミック層、
第２透明電極層とを順次積層して形成し、その後室温ま
で冷ましても薄膜の剥離やクラックの発生がなく、また
製品において要求される耐熱温度である８０℃の環境下
においても薄膜の剥離やクラック（割れ）が発生しな
い。
て、１００℃前後に加熱したプラスチック基板上に、少
なくとも、第１透明電極層、エレクトロクロミック層、
第２透明電極層とを順次積層して形成し、その後室温ま
で冷ましても薄膜の剥離やクラックの発生がなく、また
製品において要求される耐熱温度である８０℃の環境下
においても薄膜の剥離やクラック（割れ）が発生しな
い。
【図１】 本発明の実施例１に係るＥＣＤの概略断面図
である。
である。
【図２】 本発明の実施例２に係るＥＣＤの概略断面図
である。
である。
１、・・・プラスチック基板 ２、６・・・透明電極層 ２ｂ、２ｃ、６ａ・・・取り出し電極部 ３・・・可逆的電解酸化層 ４・・・固体電解質層 ５・・・還元型発色層 ７・・・エポキシ樹脂封止剤 ８・・・封止基板 １２・・・反射性電極層 １２ａ・・・反射性電極層１２の端部 １１、１９ａ、１９ｂ・・・低抵抗の導電性薄膜 Ｌａ、Ｌｂ・・・外部配線
Claims (3)
- 【請求項１】 線膨張率が５×１０-5℃-1〜１×１０-4
℃-1の範囲にあり、かつガラス転移温度が９０℃以上で
ある有機高分子材料からなる基板上に、少なくとも、第
１透明電極層とエレクトロクロミック層と第２透明電極
層とを順次積層して形成してなるエレクトロクロミック
素子。 - 【請求項２】 前記透明電極がＩＴＯ膜であることを特
徴とする請求項１記載のエレクトロクロミック素子。 - 【請求項３】 前記エレクトロクロミック層が酸化スズ
と酸化イリジウムとの混合物からなる可逆的電解酸化層
と、酸化タンタルからなる固体電解質層と、酸化タング
ステンからなる還元型発色層とを順次積層して形成して
なることを特徴とする請求項１又は２記載のエレクトロ
クロミック素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7023884A JPH08220568A (ja) | 1995-02-13 | 1995-02-13 | エレクトロクロミック素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7023884A JPH08220568A (ja) | 1995-02-13 | 1995-02-13 | エレクトロクロミック素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08220568A true JPH08220568A (ja) | 1996-08-30 |
Family
ID=12122882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7023884A Pending JPH08220568A (ja) | 1995-02-13 | 1995-02-13 | エレクトロクロミック素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08220568A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1995
- 1995-02-13 JP JP7023884A patent/JPH08220568A/ja active Pending
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