JP2000082335A

JP2000082335A - 透明導電性フィルム、透明タッチパネルおよび液晶表示素子

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Publication number: JP2000082335A
Application number: JP25108298A
Authority: JP
Inventors: Hiroyuki Nagahama; 博之長濱; Yozo Yamada; 陽三山田; Toshiyuki Otani; 寿幸大谷
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 1998-09-04
Filing date: 1998-09-04
Publication date: 2000-03-21
Anticipated expiration: 2018-09-04
Also published as: JP3947950B2

Abstract

(57)【要約】【課題】透明なプラスチックフィルム上に透明導電性
薄膜を形成した透明導電性フィルムにおいて、液晶パネ
ルと上偏光板の間に重ね合わせて使用することに最も好
適に用いることのできる透明タッチパネル用の透明導電
性フィルムであって、視認性を低下させることがなく、
しかも、ペン入力耐久性等の性質を兼ね備え、更に低コ
ストで製造できる透明タッチパネル用透明導電性フィル
ムを提供する。【解決手段】リターデーション値が４０００ｎｍ以上
の一軸延伸高分子フィルム（１１）の少なくとも片方の
面に非晶質である透明導電性薄膜（１２）を形成した透
明導電性フィルム（１）であって、かつ一軸延伸高分子
フィルム（１１）と非晶質である透明導電性薄膜（１
２）との付着力が１５ｇ／１５ｍｍ以上である透明導電
性フィルムを用いた透明タッチパネル。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示素子の上
側偏光板と液晶パネルの間に配置する使い方をするプラ
スチックフィルムを用いた透明導電性フィルム、および
これを用いた透明タッチパネルに関するものであり、殊
に、タッチパネルに用いた際のペン入力耐久性に優れた
ものである。

【０００２】

【従来の技術】プラスチックフィルム上に透明かつ低抵
抗な化合物薄膜を形成した透明導電性フィルムは、従
来、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプ
レイ、ＥＬディスプレイ、エレクトロクロミックディス
プレイなどの表示素子の電極、太陽電池などの光電変換
素子の窓電極、電磁波シールドの電磁波遮蔽膜、あるい
は透明タッチパネルなどの入力装置の電極として広く使
用される。

【０００３】従来公知の透明導電層としては、金、銀、
白金、パラジウムなどの貴金属薄膜と、酸化インジウ
ム、酸化スズ、酸化インジウム−スズ、酸化亜鉛などの
酸化物半導体薄膜とが知られている。

【０００４】近年、携帯情報端末の普及により、入力や
操作性の簡便さが要求され、表示画面上の任意の点を押
圧することにより入力できるペン入力タイプが広く用い
られるようになってきている。ペン入力の方式として
は、静電容量方式や光センサー方式、タッチパネル方式
が知られている。特に、タッチパネル方式は、位置検出
がアナログ的であり、高分解能であることや、周辺装置
がコンパクトにできることなどの特徴があり、ワープ
ロ、パソコン、電子手帳等、携帯用や個人用の情報端末
に多く使われてきている。

【０００５】上記のタッチパネルの用途に用いられる透
明導電性フィルムは、基本的には導電層（殊にＩＴＯ
層）／高分子フィルムの層構成を有し、透明タッチパネ
ルとして使用するときは、２枚の透明導電性フィルムの
導電層側をスペーサを介いて対向配置して用いる。

【０００６】ところで、通常の透明タッチパネルは、液
晶表示素子の最上面に重ね合わせて用いる使い方をする
ため、透明性、機械的性質、表面平滑性、耐溶剤性、耐
スクラッチ性、非透湿性、コストなどの総合性能を考慮
して二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用
いるのが一般的である。

【０００７】この透明タッチパネルにおいては、通常、
液晶表示素子の最上面に重ね合わせて用いられるため、
光の反射を少なくすることによる視認性の向上、表示装
置全体の軽量化やペン入力により導電性が劣化しないな
どの耐久特性が求められている。

【０００８】光の反射を少なくすることによる視認性の
向上を目的としては、透明タッチパネルの上面に更に反
射防止フィルムを設置する方法や、透明導電性フィルム
の導電層の反対側の面に、反射防止層をドライコート法
やウェットコート法により設ける方法が、提案されてい
る。

【０００９】また、同様に視認性を向上させるために、
例えば、特開平８−１５５９８８号、特開平８−１６１
１１６号等で提案されているような、光等方性を有する
透明導電性フィルムを用い、透明タッチパネルを液晶表
示素子の偏光板の下に設置する方法が提案されている。

【００１０】また、ペン入力により導電性が劣化しない
などの耐久特性の向上としては、例えば、１２０μｍ以
下の厚さの透明プラスチック上に透明導電性薄膜を形成
し、粘着剤層で他の透明基体と貼りあわせた透明導電性
フィルム（特開平２−６６８０９号）が提案されてい
る。

【００１１】また、透明なプラスチックフィルム上に有
機ケイ素化合物の加水分解により生成された層を設け、
さらに透明導電性薄膜を積層した透明導電性フィルム
（特開昭６０−１３１７１１号）が提案されている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】最近、透明タッチパネ
ルを配設した液晶表示機器において、光の反射を少なく
することによる視認性の向上、表示装置全体の軽量化、
また、ペン入力により導電性が劣化しないなどの耐久性
の向上が要求されるようになってきている。そのため、
通常の液晶表示素子の最上面に重ね合わせて用いる方法
では、光の反射を少なくすることによる視認性の向上に
は、自ずと限界があり、また、部品点数、層数の増加に
よる、表示面の輝度の低下、重量増といった問題があ
る。

【００１３】前述の視認性を向上させるため方法として
提案されている、光等方性を有する透明導電性フィルム
を用い、透明タッチパネルを液晶表示素子の偏光板の下
に設置する方法では、光等方性を有するベースフィルム
に用いる必要があるため、通常の二軸延伸ポリエチレン
テレフタレートフィルムは用いることができず、製造コ
ストが高くなる問題がある。

【００１４】また、前述のペン入力により導電性が劣化
しないなどの耐久性を向上させるため方法として提案さ
れている、透明プラスチック上に透明導電性薄膜を形成
し、粘着剤層で他の透明基体と貼りあわせた透明導電性
フィルムを用いる方法では、ペン入力に対する耐久性は
十分ではない。また、粘着剤を用いて貼り合わせるた
め、貼り合わせ時にゴミなどの異物が混入し、光学欠点
の多い透明導電性フィルムとなってしまう。

【００１５】また、透明なプラスチックフィルム上に有
機ケイ素化合物の加水分解により生成された層を設け、
さらに透明導電性薄膜を積層した透明導電性フィルムを
用いる方法では、この透明導電性フィルムは、耐久性を
得るために透明導電性薄膜を製膜した後に１５０℃程度
の熱処理を行い、結晶質の透明導電性薄膜としている。
このため、タッチパネル作製時の透明導電性薄膜のエッ
チング特性が極めて悪く、透明タッチパネルの製造コス
トが高いものになる。

【００１６】従って、本発明は、上記課題を解決しよう
とするものであり、透明タッチパネル用の透明導電性フ
ィルムにおいて、視認性を低下させることがなく、しか
も、ペン入力耐久性等の性質を兼ね備え、更に低コスト
で製造できる透明タッチパネル用透明導電性フィルムを
提供することを目的としている。

【００１７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意検討した結果、特定のリターデー
ション値を有する一軸延伸高分子フィルム上に非晶質で
ある透明導電性薄膜を形成した透明導電性フィルムを、
液晶パネルと上側偏光板の間に配設することにより、上
記目的を達成できることを見出し、本発明に至った。

【００１８】即ち、本発明は、リターデーション値が４
０００ｎｍ以上の一軸延伸高分子フィルム（１１）の少
なくとも片方の面に非晶質である透明導電性薄膜（１
２）を形成した透明導電性フィルム（１）であって、か
つ一軸延伸高分子フィルム（１１）と非晶質である透明
導電性薄膜（１２）との付着力が１５ｇ／１５ｍｍ以上
である透明導電性フィルム。あるいは、該透明導電性フ
ィルムの透明導電性薄膜を形成していない面に反射防止
処理層（ＡＲ）を積層した透明導電性フィルム。

【００１９】また、透明導電性フィルム（１）の一軸延
伸高分子フィルム（１１）がポリエチレンテレフタレー
トフィルムである透明導電性フィルム。

【００２０】また、透明導電性薄膜（１２）を有する一
対のパネル板を、透明導電性薄膜（１２）が対向するよ
うにスペーサーを介して配置してなる透明タッチパネル
が、上側偏光板（４）と液晶パネル（５）の間に配置し
てなり、かつ少なくとも片方のパネル板が上記透明導電
性フィルム（１）からなる液晶表示素子。

【００２１】以下、本発明について詳細に説明する。

【００２２】本発明における透明導電性フィルムは、構
成する基材フィルムが一軸延伸高分子フィルムであるこ
とを特徴とする透明導電性フィルムであり、また、基材
フィルムの少なくとも片面に透明導電性薄膜が形成され
ていることを特徴とする透明導電性フィルムであり、更
には、上記透明導電性フィルムを用いることを特徴とす
る透明タッチパネルであり、次の方法によって製造する
ことができる。但し、この方法に限定されるものではな
い。

【００２３】本発明における一軸延伸高分子フィルム
（１１）とは、有機高分子を溶融押出しをして、必要に
応じ、長方形または幅方向に延伸、冷却、熱固定を施し
たフィルムであり、有機高分子としては、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエチレンテフタレート、ポリ
エチレン−２，６−ナフタレート、ポリプロピレンテレ
フタレート、ナイロン６、ナイロン４、ナイロン６６、
ナイロン１２、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエ
ーテルサルファン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリ
カーボネート、ポリアリレート、ポリアクリル、セルロ
ースプロピオネート、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニ
リデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、
ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイ
ド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、
ノルボルネン系ポリマーなどがあげられる。また、これ
らの有機高分子は他の有機重合体を少量共重合したり、
ブレンドしたりしてもよい。これらのうちポリエチレン
テレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレー
ト、ポリプロピレンテレフタレートなどのポリエステル
フィルムが最も好ましく用いられる。

【００２４】また、一軸延伸高分子フィルムは、リタデ
ーション値が４０００ｎｍ以上、殊に５０００ｎｍ以上
のフィルムが好ましい。４０００ｎｍ以上あれば可視光
領域において干渉縞の間隔が十分広がるため、光学的に
等方であるのと同様になる。しかし、４０００ｎｍより
も小さい場合には、干渉縞が液晶表示パネルに表れて、
表示品位が低下する。また可視光線透過率は、７５％以
上のものが用いられる。ここで、リタデーション値と
は、フィルム上の直交する二軸の屈折率の異方性（△N=
｜Nx−Ny｜）とフィルム厚ｄとの積（△N ×d ）であ
る。一軸延伸ポリエステルフィルムとしては、単層のみ
ならず、複層であってもよい。

【００２５】本発明における一軸延伸高分子フィルムの
厚みは、１０μｍを越え、３００μｍの範囲にあること
が好ましく、とくに好適には５０〜２００μｍの範囲に
あるのがよい。１０μｍ以下では機械的強度が不足し、
特にタッチパネルに用いた際のペン入力に対する変形が
大きくなり過ぎ、耐久性が十分でなくなる。一方、３０
０μｍを越えると、タッチパネルに用いた際のペン入力
時の荷重を大きくする必要があり、好ましくない。

【００２６】本発明における透明導電性薄膜としては、
透明性、及び導電性をあわせもつ材料であれば特に制限
はないが、代表的なものとしては、酸化インジウム、酸
化亜鉛、酸化スズ、インジウム−スズ複合酸化物、スズ
−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化
物、インジウム−亜鉛複合酸化物等の薄膜がある。これ
らの化合物薄膜は、適当な作成条件とすることで、透明
性と導電性をあわせもつ透明導電性薄膜となることが知
られている。

【００２７】透明導電性薄膜の膜厚としては、４０〜８
０００Åの範囲が好ましく、さらに好ましくは５０〜５
０００Åである。透明導電性薄膜の膜厚が４０Åよりも
薄い場合、連続した薄膜になりにくく良好な導電性を示
さない。また、８０００Åよりも厚い場合、透明性の低
下をきたす。

【００２８】透明導電性薄膜の作成方法としては、真空
蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーテ
ィング法、スプレー法、ゾル−ゲル法などが知られてお
り、上記材料の種類および必要膜厚に応じて適宜の方法
を用いることが出来る。

【００２９】例えばスパッタリング法の場合、化合物を
用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲ
ットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。
この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、水蒸気等を導
入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を併用
してもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、
基板に直流、交流、高周波などのバイアスを印加しても
よい。

【００３０】非晶質の透明導電性膜を製膜するために
は、基板である一軸延伸高分子フィルムの製膜時の温度
を１００℃以下にする必要が有る。また、蒸着法、ＣＶ
Ｄ法などの他の作成方法においても同様である。

【００３１】一軸延伸高分子フィルムと透明導電性薄膜
との接着性をさらに向上させるために、透明導電性薄膜
を製膜する前に一軸延伸高分子フィルム上を表面処理す
ることが有効である。具体的な手法としては、サンドブ
ラストやエンボス加工により表面積を増加させる物理的
表面粗面化処理法や、カルボニル基やカルボキシル基、
水酸基を一軸延伸高分子フィルム上に増加するために、
グローまたはコロナ放電を照射する放電処理法、水酸
基、カルボニル基などの極性基を増加させるために、酸
またはアルカリで一軸延伸高分子フィルムを処理する化
学薬品処理法などが挙げられる。これらのうち、一軸延
伸高分子フィルムと透明導電性薄膜との接着性への寄
与、経時安定性、処理コストの点から、酸性またはアル
カリ性水溶液による一軸延伸高分子フィルムの表面処理
法が適している。

【００３２】酸性水溶液としては、重クロム酸ナトリウ
ムと硫酸の混合水溶液であるクロム酸混液や塩酸水溶液
などが用いられ、アルカリ性水溶液としては、水酸化ナ
トリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液などが用いられ
る。

【００３３】また、透明導電性フィルムの透明導電性薄
膜を設けた面の反対側の面に、タッチパネルに用いた際
に可視光線の透過率をさらに向上させるために、反射防
止処理層（ＡＲ）を設けてもよい。この反射防止処理層
（ＡＲ）には、基材フィルムの屈折率とは異なる屈折率
を有する材料を単層もしくは２層以上の積層するのが好
ましい。単層構造の場合、基材フィルムよりも小さな屈
折率を有する材料を用いるのがよい。また、２層以上の
多層構造とする場合は、基材フィルムと隣接する層は、
基材フィルムよりも大きな屈折率を有する材料を用い、
この上の層にはこれよりも小さな屈折率を有する材料を
選ぶのがよい。このような反射防止処理層（ＡＲ）を構
成する材料としては、有機材料でも無機材料でも上記の
屈折率の関係を満足すれば特に限定されないが、例え
ば、CaF₂, MgF₂, NaAiF₄, SiO₂, SiO₂, ThF₄, ZrO₂, Nd
₂O₃, SnO₂, TiO₂, CeO₂, ZnS, In₂O₃などの誘電体が好
ましく用いられる。

【００３４】この反射防止処理層（ＡＲ）を積層する方
法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ
法、イオンプレーティング法などのドライコーティング
プロセスでも、グラビア方式、リバース方式、ダイ方式
などのウェットコーティングプロセスでもよい。

【００３５】さらに、この反射防止処理層（ＡＲ）の積
層に先立って、前処理として、コロナ放電処理、プラズ
マ処理、スパッタエッチング処理、電子線照射処理、紫
外線照射処理、プライマ処理、易接着処理などの公知の
処理を施してもよい。

【００３６】また、本発明の目的を損なわない範囲で、
透明導電性フィルムの傷付きを防止する目的で、透明導
電性フィルムの透明導電性薄膜を設けた面の反対側の面
に、ハードコート処理層を設けてもよい。

【００３７】図２に、本発明の透明タッチパネルを組み
込んだ液晶表示素子の１例を示す。透明導電性薄膜を有
する一対のパネル板を、透明導電性薄膜が対向するよう
にスペーサーを介して配置してなる透明タッチパネルに
おいて、一方のパネル板に本発明の透明導電性フィルム
を用いたものである。この透明タッチパネルは、透明導
電性フィルム側より、ペンにより文字入力したときに、
ペンからの押圧により、対向した透明導電性薄膜同士が
接触し、電気的にＯＮになり、ペンのタッチパネル上で
の位置を検出できる。このペン位置を連続的かつ正確に
検出することで、ペンの軌跡から文字を入力できる。こ
の際、ペン接触側のパネル板が本発明の透明導電性フィ
ルムであるため、ペン入力耐久性に優れるため、長期に
わたって安定なタッチパネルとなる。

【００３８】なお、図２において、もう一方のパネル板
は、ガラス板の透明基板の上に透明導電性薄膜を積層し
たものであるが、本発明の透明導電性フィルムを使用し
てもよい。また、液晶ガラス基板の配向膜設置面の反対
側の面上に透明導電性薄膜を積層したものでもよい。

【００３９】また、該透明導電性フィルムを用いた透明
タッチパネルは、透明タッチパネルとして液晶パネルと
上偏光板の間に配設できることにより、表面反射が低く
抑えられ、更に、液晶表示部と位置検出部の間隔が狭め
られることにより、位置検出精度の向上もできる。

【００４０】実施例次に実施例をあげて本説明をさらに説明する。以下
「部」とあるのは重量部である。

【００４１】実施例１図１は本発明の透明導電性フィルムの一例を模式的に示
した断面図であり、また、図２はその透明導電性フィル
ムを用いて作製した液晶表示素子の一例を模式的に示し
た断面図である。

【００４２】ポリエチレンテレフタレートを水冷却した
回転急冷ドラム上にフィルム形成ダイを通して押出し、
未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを幅方
向に90℃で 4.0倍延伸した。さらに、 220℃で熱固定
し、続いて 200℃で４％リラックスして46μｍの一軸延
伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。

【００４３】得られた一軸延伸ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムを、表面の汚れを除去するために洗浄剤
（商品名：スキャット20-X、第一工業製薬（株）社製）
の10vol ％水溶液中に２分間浸漬し、さらに表面に残存
している洗浄剤を洗浄するために純水の流水中に２分間
浸漬した。純水中から引き上げた一軸延伸ポリエチレン
テレフタレートフィルムに窒素ガスを吹き付け、水分を
乾燥させた。この一軸延伸ポリエチレンテレフタレート
フィルム上に、インジウム−スズ複合酸化物をターゲッ
トに用いて、高周波マグネトロンスパッタリング法で、
300Å厚、酸化スズ含有率20重量％のインジウム−スズ
複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜として製膜した。この
時、真空度は１×10^-3 Torr とし、ガスとしてAr 60scc
m, O₂2sccm 流した。また製膜中、一軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの温度は20℃とした。

【００４４】得られた透明導電性フィルムを一方のパネ
ル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上
に上記と同等の方法で 400Å厚の透明導電性薄膜を形成
したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄
膜が対向するように、直径30μｍのエポキシビーズを介
して、配置し透明タッチパネルを作製した。

【００４５】次に得られた透明タッチパネルを、図２の
様に液晶表示素子の液晶パネルと上側偏光板の間に組み
込んで液晶表示素子を作製した。

【００４６】実施例２実施例１と同様にして得られた一軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルムを、洗浄後、40℃、0.5mol/Lの水
酸化ナトリウム水溶液中に２分間浸漬し、さらに表面に
残存している水酸化ナトリウムを洗浄するために純水の
流水中に２分間浸漬した。純水中から引き上げた一軸延
伸ポリエチレンテレフタレートフィルムに窒素ガスを吹
き付け、水分を乾燥させた。この一軸延伸ポリエチレン
テレフタレートフィルム上に、実施例１と同様にして、
透明導電性薄膜を製膜した。また、この透明導電性フィ
ルムを用い、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製
した。

【００４７】実施例３実施例１と同様にして得られた一軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルムを、洗浄後、重クロム酸ナトリウ
ム１部、硫酸10部、水30部からなるクロム酸混液中を40
℃に保ち、２分間浸漬し、さらに表面の残存物を洗浄す
るために純水の流水中に２分間浸漬した。純水中から引
き上げたフィルムに窒素ガスを吹き付け、水分を乾燥さ
せた。このフィルム上に、インジウム−スズ複合酸化物
をターゲットに用いて、高周波マグネトロンスパッタリ
ング法で、 300Å厚、酸化スズ含有率35重量％のインジ
ウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜として製膜
した。この時、真空度は１×10^-3 Torr とし、ガスとし
てAr 60sccm, O₂3sccm 流した。また製膜中、一軸延伸
ポリエチレンテレフタレートフィルムの温度は20℃とし
た。また、この透明導電性フィルムを用い、実施例１と
同様にして液晶表示素子を作製した。

【００４８】実施例４実施例１と同様にして作製した一軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルム／インジウム−スズ複合酸化物薄
膜からなる積層体のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を
形成した面と反対側の面上に厚さ 730Åで屈折率1.89の
Y2O3を設け、さらに厚さ1200Åで屈折率2.3 のTiO₂を設
け、さらに厚さ 940Åで屈折率1.46のSiO₂を、それぞれ
高周波スパッタリング法で製膜し、反射防止処理層（Ａ
Ｒ）とした。このそれぞれの誘電体薄膜を製膜する時、
いずれも真空度は１×10^-3 Torrとし、ガスとしてAr 55
sccm, O₂5sccm 流した。また、基板は製膜中、加熱も
しくは冷却せず、室温のままとした。また、この透明導
電性フィルムを用い、実施例１と同様にして液晶表示素
子を作製した。

【００４９】実施例５一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの代わり
に、ポリエチレン−２，６−ナフタレートを水冷却した
回転急冷ドラム上にフィルム形成ダイを通して押出し、
未延伸フィルムを作製し、この未延伸フィルムを幅方向
に 110℃で 4.0倍延伸した。さらに、230 ℃で熱固定
し、続いて 210℃で４％リラックスし47μｍの一軸延伸
ポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムを得た。
この一軸延伸ポリエチレン−２，６−ナフタレートフィ
ルムを用いた以外は、実施例１と同様にして、透明導電
性薄膜を製膜し、透明導電性フィルムを作製した。ま
た、この透明導電性フィルムを用い、実施例１と同様に
して液晶表示素子を作製した。

【００５０】比較例１ポリエチレンテレフタレートを水冷却した回転急冷ドラ
ム上にフィルム形成ダイを通して押出し、未延伸フィル
ムを作製した。この未延伸フィルムを幅方向に90℃で
3.8倍延伸して48μｍの一軸延伸ポリエチレンテレフタ
レートフィルムを得た。この一軸延伸ポリエチレンテレ
フタレートフィルムを用いた以外は、実施例１と同様に
実施した。

【００５１】比較例２一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの代わり
に、ポリエチレンテレフタレートを水冷却した回転急冷
ドラム上にフィルム形成ダイを通して押出し、未延伸フ
ィルムを作製し、この未延伸フィルムを長手方向に 3.2
倍延伸した後、幅方向に 3.5倍延伸し、 230℃で熱固定
した50μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィ
ルムを用いた以外は、実施例１と同様に実施した。

【００５２】比較例３透明タッチパネルを、液晶表示素子の最上面（上側偏光
板の上）に組み込んで液晶表示素子を作製した以外は、
実施例１と同様に実施した。

【００５３】比較例４実施例１と同様にして46μｍの一軸延伸ポリエチレンテ
レフタレートフィルムを作製した。このフィルムの一方
の面に有機ケイ素化合物のブタノール、イソプロパノー
ル混合アルコール系溶液（濃度１重量％）を塗工した
後、100 ℃、１分で乾燥した。この後、有機ケイ素化合
物上に実施例１同様にして、インジウム−スズ複合酸化
物薄膜からなる透明導電性薄膜を基板温度 120℃で製膜
した。この積層体をさらに 150℃、10時間、加熱処理を
行った。また、この透明導電性フィルムを用い、実施例
１と同様にして液晶表示素子を作製した。

【００５４】以上の実施例１〜５および比較例１〜４の
透明導電性フィルムについて、光線透過率、表面抵抗
率、エッチング時間、透明導電性薄膜の電子線回折像、
基材フィルム／透明導電性薄膜の付着力を下記の方法で
測定した。また、実施例１〜５および比較例１〜４の透
明導電性フィルムをもちいて作製した透明タッチパネル
について、ペン入力耐久試験を実施した。

【００５５】＜表面抵抗率＞JIS K 7194に準拠した４端
子法にて測定した。測定機としては、三菱化学（株）
製：Lotest AMCP-T400を用いた。

【００５６】＜光線透過率＞JIS K 7105に準拠した積分
球式光線透過率法にて測定した。測定機としては、日本
電色工業（株）製：NDH-1001DPを用いた。

【００５７】＜付着力測定＞40μｍ厚のアイオノマーフ
ィルムをポリエステル系接着剤を用いて、75μｍ厚のポ
リエチレンテレフタレートフィルムにラミネートした付
着力測定用積層体を作製した。この付着力測定用積層体
のアイオノマー面と透明導電性フィルムの透明導電性薄
膜面を対向させ、 130℃でヒートシールした。この積層
体を付着力測定用積層体と透明導電性フィルムとを 180
度剥離法で剥離し、この剥離力を付着力とした。この時
の剥離速度は1000mm／分とした。

【００５８】＜エッチング時間＞10cm×1cm のサイズに
切り出した透明導電性フィルムの両端にテスターを接続
し、抵抗を測定しながら、40℃、20％硫酸水溶液中に浸
漬し、抵抗が10ＭΩ以上となる時間をエッチング時間と
した。

【００５９】＜電子線回折＞プラスチックフィルムおよ
び硬化性高分子硬化層を溶解し、透明導電性薄膜の単独
膜を得るために、透明導電性フィルムを1,1,1,3,3,3 −
ヘキサフルオロイソプロパノール中に２日間浸漬する。
溶液中の透明導電性薄膜をマイクログリッドに乗せ、溶
液を乾燥させるために１日間風乾した。この試料の電子
線回折像を透過型電子顕微鏡（日本電子（株）製：JEM-
2010）にて測定した。電子線の条件は、加速電圧200kV
、波長0.0025nmで行った。この回折像から透明導電性
薄膜が結晶質であるか、非晶質であるかを測定した。

【００６０】＜ペン入力耐久性試験＞まず、ペン入力試
験前のリニアリティ測定を以下のようにして実施した。
本発明の透明導電性フィルムを100mm ×100mm に切り出
し、透明導電性薄膜形成面の両端辺に幅５mmの電極を銀
ペーストを塗布して作成した。この電極間に定電圧電源
により5Vを印加し、サンプルの中心部50mm×50mmの範囲
を縦横１mm間隔で（x1, y1) 〜（x50, y50) の2500点に
ついて電圧Vi,j（i,j=１〜50）を測定した。各電圧測定
点での理論電圧Ui,j=V1,1+(V50,50-V1,1)/50×(j-1) か
らのズレをΔi,j=(Vi,j-Ui,j)/Ui,jで定義し、このΔi,
j の絶対値の最大値をリニアリティと定義した。

【００６１】ペン入力試験前のリニアリティを測定した
透明導電性フィルムを用い、実施例および比較例に記載
されているようにしてタッチパネルを作製した。透明導
電性フィルムで構成されたパネル板側から、ポリアセタ
ール樹脂からなるペン先半径0.8mm のタッチペンを用い
て、リニアリティ測定を行った部位に、プロッタ（ロー
ランド（株）製：DXY-1150）により、２cm角サイズのカ
タカナのア〜ンまでの文字を200,000 字の筆記を行い、
ペン入力試験を行った。この時、ペン荷重250ｇｆ、文
字筆記速度 2,000字／時間とした。

【００６２】ペン入力試験後の透明導電性フィルムのリ
ニアリティを前述と同様の手法で測定し、リニアリティ
が3％を越えた筆記字数をペン入力耐久性とした。

【００６３】実施例１〜７、および比較例１〜４につい
ての測定結果を表１に示す。

【００６４】

【表１】

【００６５】

【発明の効果】本発明の透明導電性フィルムは、一軸延
伸高分子フィルムを用いることによって、推測ではある
が、通常の二軸延伸高分子フィルムに比較して、フィル
ム表面近傍のポリマーの結晶性が低下するために、接着
性を改善するためのプライマー処理や透明導電性薄膜を
製膜後に加熱処理等をすることなく、一軸延伸高分子フ
ィルムと非晶質である透明導電性薄膜との積層体として
の層間付着力が極めて高い値を示すと考えられる。ま
た、その付着力は１５ｇ／１５ｍｍ以上あるため、ペン
入力用タッチパネルに用いた際に、ペンの押圧で対向の
透明導電性薄同士が強く接触しても透明導電性薄膜に剥
離、クラックが生じることがなく、ペン入力耐久性に極
めて優れた透明導電性フィルムとなる。さらには、非晶
質である透明導電性薄膜を形成した透明導電性フィルム
であるため、導電性、透明性およびエッチング特性に極
めて優れた透明導電性フィルムとなる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の透明導電性フィルムの一例を模式的
に示した断面図である。

【図２】図１の透明導電性フィルムを用いて作製した
液晶表示素子の一例を模式的に示した断面図である。

【符号の説明】

１透明導電性フィルム２ガラス板３ビーズ４偏光板５液晶パネル１１一軸延伸ポリエステルフィルム１２透明導電性薄膜

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 2H090 JB03 JB08 JB09 JC01 JC19 JD13 LA01 MB07 5B087 AA02 AA04 AE00 CC02 CC13 CC14 CC17 CC18 5G307 FA02 FB01 FC01 FC02 FC03 FC09

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】リターデーション値が４０００ｎｍ以上
の一軸延伸高分子フィルム（１１）の、少なくとも片方
の面に非晶質である透明導電性薄膜（１２）を形成した
透明導電性フィルム（１）であって、かつ一軸延伸高分
子フィルム（１１）と非晶質である透明導電性薄膜（１
２）との付着力が１５ｇ／１５ｍｍ以上であることを特
徴とする透明導電性フィルム。
【請求項２】請求項１記載の一軸延伸高分子フィルム
（１１）が一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィル
ムであることを特徴とする透明導電性フィルム。
【請求項３】請求項１記載の透明導電性フィルム
（１）の透明導電性薄膜（１２）を形成していない面に
反射防止処理層（ＡＲ）を積層したことを特徴とする透
明導電性フィルム。
【請求項４】請求項１記載の透明導電性薄膜（１２）
を少なくとも片方のパネル板に有する一対のパネル板で
あって透明導電性薄膜（１２）が対向するようにスペー
サーを介して配置してなることを特徴とする透明タッチ
パネル。
【請求項５】請求項４記載の透明タッチパネルを上側
偏光板（４）と液晶パネル（５）の間に、配設してなる
ことを特徴とする液晶表示素子。