JPH11320745A

JPH11320745A - 透明導電性フィルムおよびタッチパネル

Info

Publication number: JPH11320745A
Application number: JP13303398A
Authority: JP
Inventors: Toshiyuki Otani; 寿幸大谷; Tetsuo Shimomura; 哲生下村; Masuaki Takada; 益明高田; Yoshiharu Morihara; 芳治森原; Teizo Harima; 貞三播磨; Yozo Yamada; 陽三山田
Original assignee: Toyobo Co Ltd
Current assignee: Toyobo Co Ltd
Priority date: 1998-05-15
Filing date: 1998-05-15
Publication date: 1999-11-24

Abstract

(57)【要約】【課題】ペン入力耐久性に優れた透明導電性フィルムお
よびこのフィルムを用いたタッチパネル。【解決手段】透明なプラスチックフィルム（１１）の一
方の表面において、シリコンおよび／またはフッ素が原
子比で0.3%以下であり、この表面上に透明導電性薄膜
（１２）を積層した透明導電性フィルム（１）であっ
て、かつ透明なプラスチックフィルム（１１）と透明導
電性薄膜（１２）との付着力が10g/15mm以上であること
を特徴とする透明導電性フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明はプラスチックフィル
ムを用いた透明導電性フィルムおよびこれを用いたタッ
チパネルに関するものであり、殊にタッチパネルに用い
た際の耐ペン入力性に優れたものである。

【０００２】

【従来の技術】プラスチックフィルム上に透明かつ低抵
抗な化合物薄膜を形成した透明導電性フィルムは、その
導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプレイ、EL
ディスプレイといったフラットパネルディスプレイや、
タッチパネルの透明電極など電気、電子分野の用途に広
く使用される。

【０００３】透明導電性薄膜としては、一般的には、酸
化すず、酸化インジウム、酸化インジウム・すず、酸化
亜鉛などが代表的なものであり、基板としては、ポリエ
チレンテレフタレートをはじめとする各種のプラスチッ
クフィルムをもちいる。

【０００４】近年、携帯情報端末の普及により、ペンに
よる文字入力の機能を有するタッチパネルが要求される
ようになった。このため、ペン入力用タッチパネルに透
明導電性フィルムを用いた場合に、ペン入力により導電
性が劣化しないなどの耐久特性がもとめらている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような従来の透明
導電性フィルムは次のような課題を有していた。

【０００６】ペン入力用タッチパネルに透明導電性フィ
ルムを用いた場合、スペーサーを介して対向させた一対
の導電性薄膜同士が、ペン入力による押圧で強く接触す
るため、薄膜にクラックや剥離が生じてしまい、電気抵
抗が増大したり、断線を生じたりするという問題点があ
った。

【０００７】そこで、１２０μｍ以下の厚さの透明プラ
スチック上に透明導電性薄膜を形成し、粘着剤層で他の
透明基体と貼りあわせた透明導電性フィルム（特開平２
−６６８０９公報）が提案されているが、ペン入力に対
する耐久性は十分ではない。また、粘着剤をもちいて貼
りあわせるため、貼りあわせ時にゴミなどの異物が混入
し、光学欠点の多い透明導電性フィルムとなってしま
う。

【０００８】また、透明なプラスチックフィルム上に有
機ケイ素化合物の加水分解により生成された層を設け、
さらに透明導電性薄膜を積層した透明導電性フィルム
（特開昭６０−１３１７１１）が提案されている。しか
しながら、この透明導電性フィルムは透明導電性薄膜を
製膜したのちに 150℃程度の熱処理が必要であるため、
結晶質の透明導電性薄膜となる。このため、タッチパネ
ル作製時の透明導電性薄膜のエッチング特性が極めて悪
く、タッチパネルの製造コストが高いものになる。

【０００９】本発明は、上記の従来の問題点に鑑み、透
明なプラスチックフィルム上に透明導電性薄膜を形成し
た透明導電性フィルムにおいて、タッチパネルに用いた
際のペン入力耐久性を改良することを目的としている。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に鋭意検討した結果、透明なプラスチックフィルム（１
１）の一方の表面において、シリコンおよび／またはフ
ッ素が原子比で0.3%以下であり、この表面上に透明導電
性薄膜（１２）を積層した透明導電性フィルム（１）で
あって、かつ透明なプラスチックフィルム（１１）と透
明導電性薄膜（１２）との付着力が10g/15mm以上である
ことを特徴とする透明導電性フィルムの発明に至った。

【００１１】また、透明なプラスチックフィルム（１
１）の一方の面にプライマー層として高分子樹脂層（１
４）を形成し、該高分子樹脂層（１４）表面においてお
いてシリコンおよびフッ素が原子比で0.3%以下であり、
該高分子樹脂層（１４）表面上に透明導電性薄膜（１
２）を積層した透明導電性フィルム（１）であって、か
つ高分子樹脂層（１４）と透明導電性薄膜（１２）との
付着力が10g/15mm以上であることを特徴とする透明導電
性フィルムに係るものである。また、透明なプラスチッ
クフィルム（１１）の透明導電性薄膜（１２）を形成し
た面とは反対の面にハードコート層（１３）を形成した
ことを特徴とする透明導電性フィルムに係るものであ
る。さらに、ハードコート層（１３）が防眩効果もしく
は低反射処理を施したことを特徴とした透明導電性フィ
ルムに係るものである。また、透明導電性フィルム
（１）の透明導電性薄膜（１２）が非晶質であることを
特徴とした透明導電性フィルムに係るものである。

【００１２】また、透明導電性薄膜を有する一対のパネ
ル板を、透明導電性薄膜が対向するようにスペーサーを
介して配置してなるタッチパネルにおいて、少なくとも
一方のパネル板が上記に記載の透明導電性フィルムから
なることを特徴とするタッチパネルに係るものである。

【００１３】

【発明の効果・作用】本発明における透明なプラスチッ
クフィルム（１１）とは、有機高分子を溶融押出し又は
溶液押出しをして、必要に応じ、長手方向、および、ま
たは、幅方向に延伸、冷却、熱固定を施したフィルムで
あり、有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピ
レン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−
２、６−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレー
ト、ナイロン６、ナイロン４、ナイロン６６、ナイロン
１２、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサ
ルファン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネ
ート、ポリアリレート、ポリアクリル、セルロースプロ
ピオネート、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、
ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、ポリフェ
ニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリス
チレン、シンジオタクチクポリスチレン、ノルボルネン
系ポリマーなどがあげられる。また、これらの（有機重
合体）有機高分子は他の有機重合体を少量共重合した
り、ブレンドしたりしてもよい。これらのうち、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレー
ト、ポリエチレン−２、６−ナフタレート、シンジオタ
クチクポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどが、
最も好ましく用いられる。

【００１４】本発明における透明なプラスチックフィル
ム（１１）の厚みは、１０μｍを越え、３００μｍの範
囲にあることが好ましく、とくに好適には７０〜２６０
μｍの範囲にあるのがよい。１０μｍ以下では機械的強
度が不足し、特にタッチパネルに用いた際のペン入力に
対する変形が大きくなり過ぎ、耐久性が十分でなくな
る。一方、300 μｍを越えると、タッチパネルに用いた
際のペン入力時の荷重を大きくする必要があり、好まし
くない。

【００１５】本発明におけるプラスチックフィルム（１
１）は、本発明の目的を損なわないかぎりにおいて、該
フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理などの表面
処理を施してもよい。

【００１６】本発明における透明導電性薄膜（１２）と
しては、透明性、及び、導電性をあわせもつ材料であれ
ば特に制限はないが、代表的なものとしては、酸化イン
ジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム−スズ複合酸
化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウ
ム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物等の薄膜が
ある。これらの化合物薄膜は、適当な作成条件とするこ
とで、透明性と導電性をあわせもつ透明導電性薄膜とな
ることが知られている。

【００１７】透明導電性薄膜（１２）の膜厚としては、
４０〜８０００Åの範囲が望ましく、さらに望ましくは
５０〜５０００Åである。透明導電性薄膜（１２）の膜
厚が４０Åよりも薄い場合、連続した薄膜になりにくく
良好な導電性を示さない。また、８０００Åよりも厚い
場合、透明性の低下をきたす。

【００１８】本発明における透明導電性薄膜（１２）の
作成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、CV
D法、イオンプレーティング法、スプレー法などが知ら
れており、上記材料の種類および必要膜厚に応じて適宜
の方法を用いることが出来る。

【００１９】例えばスパッタリング法の場合、化合物を
用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲ
ットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。
この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、水蒸気等を導
入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を併用
してもよい。また、本発明の目的を損なわないかぎりに
おいて、基板に直流、交流、高周波などのバイアスを印
加してもよい。

【００２０】非晶質の透明導電性膜（１２）を製膜する
ためには、基板であるプラスチックフィルムの製膜時の
温度を１００℃以下にする必要がある。蒸着法、CVD 法
などの他の作成方法においても同様である。

【００２１】本発明における透明導電性フィルム（１）
において、ペン入力耐久性の向上には、透明なプラスチ
ックフィルム（１１）と透明導電性薄膜（１２）との付
着力を１０ｇ／１５mm以上にする必要がある。このため
には、透明なプラスチックフィルム（１１）の表面が、
シリコンおよびフッ素が原子比で0.3%以下であるような
清浄面に透明導電性薄膜（１２）を製膜する必要があ
る。透明なプラスチックフィルム（１）は前述のような
有機高分子からなるなるので、表面にシリコンやフッ素
を含む物質が存在しないはずである。しかしながら、プ
ラスチックフィルムの製造工程におけるシリコンやフッ
素を含む物質との接触（金属ロール表面の汚染物質との
接触、ゴムロールとの接触など）や、後述するハードコ
ート層形成時のロール接触などによる汚染、さらに、ハ
ードコート層中に存在するシリコンやフッ素を含む物質
の転写により、透明プラスチックフィルム（１１）表面
はシリコンやフッ素を含む物質で汚染させる。この汚染
された表面に透明導電性薄膜（１２）を積層しても、十
分な付着力が得られず、ペン入力時に透明導電性薄膜
（１２）にクラックや剥離が生じ、電気抵抗が増大した
り、断線を生じ、ペン入力耐久性が十分でない透明導電
性フィルム（１）となる。

【００２２】そこで、透明なプラスチックフィルム（１
１）と透明導電性薄膜（１２）の付着力を１０ｇ／１５
mm以上にするためには、透明なプラスチックフィルム
（１１）の表面を洗浄し、シリコンおよびフッ素が原子
比で0.3%以下である表面にする必要がある。洗浄方法と
しては、洗剤や有機溶剤、酸・アルカリ性水溶液への浸
漬によるウエット工程による方法と、紫外線照射、プラ
ズマ処理、イオン照射等のドライ工程による方法があ
る。

【００２３】洗剤を用いた洗浄方法に用いる洗剤として
は陰イオン系、陽イオン系、中性のものを用い、必要に
応じて、イオン系もしくは非イオン系の界面活性剤を添
加してもよい。さらに透明なプラスチックフィルム（１
１）を単に洗剤中に浸漬するだけでなく、超音波を印加
するなどの機械的手法を併用することでさらに洗浄度を
高めることが可能となる。また、アセトン、トリクロロ
エチレン、メチルアルコール、エチルアルコール、イソ
プロピルアルコールなどの有機溶剤を用いた洗浄方法に
おいても、単に浸漬するだけでも良いし、超音波を印加
するなどの機械的手法を併用する方法、有機溶剤の蒸気
を用いる方法などでもよい。

【００２４】酸性水溶液による洗浄に用いられる酸は、
塩酸、硫酸、フッ酸、硝酸などの単独酸もしくは混酸で
ある。また、アルカリ性水溶液による洗浄に用いられる
アルカリは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸
ナトリウム、水酸化カルシウムなどを単独もしくは混合
したものを用いる。また、酸・アルカリ性水溶液を洗剤
中に混合したものを用いることで、洗浄の効果をさらに
向上することが可能である。

【００２５】以上のようなウエット工程による洗浄を行
った後に、汚れを落とすために用いた媒質を除去、乾燥
する。たとえば、純水を用いたリンスを十分に行い、透
明なプラスチックフィルムの引き上げに注意を払い、窒
素ブローなどで素早く乾燥させ、表面に純水の斑紋が残
らないようにする。

【００２６】また、低圧もしくは高圧紫外線ランプをも
ちいて紫外線を照射し、透明なプラスチックフィルム
（１１）上の汚染物を分解、除去してもよい。さらに、
真空中でイオンやプラズマを照射し、汚染物を分解、除
去する方法を用いても良い。

【００２７】本発明における透明導電性フィルム（１）
のための好ましいプライマー層として用いる高分子樹脂
層（１４）は、透明なプラスチックフィルム（１１）お
よび透明導電性薄膜（１２）の双方に卓越した接着性質
を提供する。高分子樹脂層（１４）としては、ポリエス
テル樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ウレタンア
クリル樹脂、メラミン樹脂などが好ましい。

【００２８】本発明の高分子樹脂層（１４）の厚さは、
0.005 〜２μｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは0.
01〜１μｍの範囲である。0.005 μｍより薄い場合は連
続した膜になりにくいため透明導電性薄膜（１２）の付
着力が不足し、２μｍよりも厚い場合は、高分子樹脂層
（１４）の凝集破壊が起りやすくなるため、やはり透明
導電性薄膜（１２）の付着力が不足する。

【００２９】本発明の高分子樹脂層（１４）を透明なプ
ラスチックフィルム（１１）上に積層するには、コーテ
ィング法を用いて積層する。コーティング法としては、
エアドクタコート法、ナイフコート法、ロッドコート
法、正回転ロールコート法、リバースロールコート法、
グラビアコート法、キスコート法、ビードコート法、ス
リットオリフェスコート法、キャストコート法などが用
いられる。架橋構造を付与する場合には、コーティング
後に加熱もしくは紫外線、電子線照射によりエネルギー
印加する。

【００３０】また、透明なプラスチックフィルム（１
１）として長手方向および幅方向に延伸、冷却、熱固定
を行ったフィルムを用いる場合には、高分子樹脂層（１
４）を二つの延伸段階の間、すなわち二軸延伸操作の長
手方向および幅方向への延伸の間で、コーティングする
方法を適用してもよい。このような延伸およびコーティ
ングの順序は特に、高分子樹脂層（１４）を積層したポ
リエステルフィルムの製造に好ましい。好ましくは、ま
ず長手方向に、一連の回転ローラー上で延伸され、次に
硬化性高分子をコーティングし、そして最後に、テンタ
ーオーブン中で横方向に延伸され冷却、熱固定をおこな
う。さらに好ましくは、このあとにフィルムに加熱もし
くは紫外線、電子線照射によりエネルギー印加し硬化さ
せる。

【００３１】高分子樹脂層（１４）をコーティングする
に先立ち、本発明の目的を損なわないかぎりにおいて、
透明なプラスチックフィルム（１１）をコロナ放電処
理、グロー放電処理などの表面処理を施してもよい。

【００３２】透明導電性薄膜（１２）の付着力を高める
ためには、先程と同様、高分子樹脂層（１４）の表面を
洗浄し、シリコンおよび／またはフッ素が原子比で0.3%
以下である表面にする必要がある。洗浄方法としては、
洗剤や有機溶剤、酸・アルカリ性水溶液への浸漬による
ウエット工程による方法と、紫外線照射、プラズマ処
理、イオン照射等のドライ工程による方法がある。

【００３３】以上のように、シリコンおよびフッ素が原
子比で0.3%以下である透明なプラスチックフィルム（１
１）上もしくは高分子樹脂層（１４）上に透明導電性薄
膜（１２）を積層したものの付着力は極めて強くなり、
本発明の透明導電性フィルム（１）は極めてペン入力耐
久性に優れたものである。

【００３４】また、透明導電性フィルム（１）の透明導
電性薄膜（１２）を設けた面の反対側の面に、タッチパ
ネルの用いた際のペンなどからの傷つき防止のために、
ハードコート処理層（１３）を設けてもよい。このハー
ドコート処理層（１３）としては、ポリエステル系樹
脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系樹
脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、ポリイミド系樹
脂などの硬化性樹脂を単体もしくは混合した架橋性樹脂
硬化物層が好ましい。

【００３５】このハードコート処理層（１３）の厚さ
は、 0.1〜50μｍの範囲が好ましく、さらに好ましく
は、 0.5〜30μｍの範囲である。 0.1μｍより薄い場合
は、ハードコート処理の機能が十分発現せず、50μｍを
こえる厚さでは、樹脂コーティングの速度が著しく遅く
なり、生産性の面で好結果を得にくい。

【００３６】ハードコート処理層（１３）を積層する方
法としては、透明導電性フィルム（１）の透明導電性薄
膜（１５）を設けた面の反対側の面に、上記の樹脂をグ
ラビア方式、リバース方式、ダイ方式などでコーティン
グした後、熱、紫外線、電子線等のエネルギーを印加す
ることで、硬化させる。

【００３７】また、タッチパネルの視認性向上のため
に、ハードコート層（１３）に、防眩効果を付与しても
良い。防眩効果を付与するには、硬化性樹脂をコーティ
ング、乾燥後にエンボスロールで表面に凹凸を形成し、
この後熱、紫外線、電子線等のエネルギーを印加するこ
とで、硬化させる。硬化性樹脂としては、ポリエステル
系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、メラミン系
樹脂、エポキシ系樹脂、シリコン系樹脂、ポリイミド系
樹脂などの単体もしくは混合したものが好ましい。

【００３８】また、タッチパネルの用いた際に可視光線
の透過率をさらに向上させるためにハードコート層（１
３）上に、反射防止処理を施してもよい。この反射防止
処理は、ハードコート層（１３）の屈折率とは異なる屈
折率を有する材料を単層もしくは２層以上の積層するの
が好ましい。単層構造の場合、ハードコート層（１３）
よりも小さな屈折率を有する材料を用いるのがよい。ま
た、２層以上の多層構造とする場合は、ハードコート層
（１３）と隣接する層は、ハードコート層（１３）より
も大きな屈折率を有する材料を用い、この上の層にはこ
れよりも小さな屈折率を有する材料を選ぶのがよい。こ
のような反射防止処理を構成する材料としては、有機材
料でも無機材料でも上記の屈折率の関係を満足すれば特
に限定されないが、例えば、CaF₂, MgF₂, NaAiF₄, Si
O₂, SiO₂, ThF₄, ZrO₂, Nd₂O₃, SnO ₂, TiO₂, CeO₂, Zn
S, In₂O₃などの誘電体を用いるのが好ましい。

【００３９】この反射防止処理は、真空蒸着法、スパッ
タリング法、CVD 法、イオンプレーティング法などのド
ライコーティングプロセスでも、グラビア方式、リバー
ス方式、ダイ方式などのウェットコーティングプロセス
でもよい。

【００４０】さらに、このハードコート処理層（１３）
の積層に先立って、前処理として、コロナ放電処理、プ
ラズマ処理、スパッタエッチング処理、電子線照射処
理、紫外線照射処理、プライマ処理、易接着処理などの
公知の処理を施してもよい。

【００４１】図５に、本発明の透明導電性フィルム
（１）を用いた、タッチパネルの例を示す。透明導電性
薄膜を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜が対向
するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネ
ルにおいて、一方のパネル板に本発明の透明導電性フィ
ルム（１）を用いたものである。このタッチパネルは、
透明導電性フィルム（１）側より、ペンにより文字入力
したときに、ペンからの押圧により、対向した透明導電
性薄膜同士が接触し、電気的にONになり、ペンのタッチ
パネル上での位置を検出できる。このペン位置を連続的
かつ正確に検出することで、ペンの軌跡から文字を入力
できる。この際、ペン接触側のパネル板が本発明の透明
導電性フィルム（１）であるため、ペン入力耐久性に優
れるため、長期にわたって安定なタッチパネルである。

【００４２】なお、図５において、もう一方のパネル板
は、プラスチックフィルムやガラス板の透明基板の上に
透明導電性薄膜を積層したものであるが、本発明の透明
導電性フィルム（１）を使用してもよい。

【００４３】実施例以下に、本発明の実施例を記載してより具体的に説明す
る。なお、以下において、部とある重量部である。

【００４４】実施例１厚さが 188μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム
（東洋紡績（株）製：A4100 ）を透明なプラスチックフ
ィルム（１１）として用いた。この透明なプラスチック
フィルム（１１）を40℃の1mol/Lの水酸化ナトリウム水
溶液中に１分間浸漬した。さらに、純水中に１分間浸漬
し水酸化ナトリウムを除去した。このようにして洗浄し
た透明なプラスチックフィルム（１１）を純水中から引
き上げ、窒素ガスを吹きかけ、表面に斑紋が残らないよ
うに乾燥した。

【００４５】この洗浄した透明なプラスチックフィルム
（１１）の易接着処理を施していない面（ポリエチレン
テレフタレート面）上に、インジウムスズ複合酸化物を
ターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング
法で、２５０Å厚、酸化すず含有率２０重量％のインジ
ウムスズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜（１４）とし
て製膜した。この時、真空度は３×１０^-3Torrとし、ガ
スとしてAr 60sccm 、O₂ 2sccm流した。また、基板は製
膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のままとした。

【００４６】この透明導電性フィルム（１）を一方のパ
ネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板
上に上記と同等の方法で４００Å厚の透明導電性薄膜を
形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電
性薄膜が対向するように、直径30μｍのエポキシビーズ
を介して、配置しタッチパネルを作製した。

【００４７】実施例２厚さが１２５μｍのポリエチレンテレフタレートフィル
ム（東洋紡績（株）製：A4300 ）を透明なプラスチック
フィルム（１１）として用いた。この透明なプラスチッ
クフィルム（１１）の易接着処理層の表面をUV−オゾン
洗浄装置（アイグラフィック株式会社製：OC-250315G）
を用い、UVランプ２５Ｗ３灯、処理時間３０秒の条件
で洗浄した。

【００４８】この洗浄面に、インジウムスズ複合酸化物
をターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリン
グ法で、３００Å厚、酸化スズ含有率25重量％のインジ
ウムスズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜（14）として
製膜した。この時、真空度は２×１０^-3Torrとし、ガス
として Ar ５０sccm、O₂ １sccm流した。また、基板
（１）は製膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のままと
した。さらに、基板電位はグランドとした。

【００４９】この透明導電性フィルム（１）を一方のパ
ネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板
上に上記と同等の方法で４００Å厚の透明導電性薄膜を
形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電
性薄膜が対向するように、直径30μｍのエポキシビーズ
を介して、配置しタッチパネルを作製した。

【００５０】実施例３厚さが１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィル
ム（東洋紡績（株）製：A4140 ）を透明なプラスチック
フィルム（１１）として用いた。透明なプラスチックフ
ィルム（１１）の易接着処理を施してある面上にハード
コート処理層（１３）を設けた。ハードコート剤として
は、エポキシアクリル樹脂１００部にベンゾフェノン４
部を加えた紫外線硬化型樹脂組成物を用い、リバースコ
ート法で成膜後、80℃５分の予備乾燥、500mJ/cm²の紫
外線照射により硬化させた。硬化後の厚さは５μｍであ
る。

【００５１】このハードコート層（１３）を積層した透
明なプラスチックフィルム（１１）を、アルカリ性洗剤
（第一工業製薬株式会社製：スキャット20-X）１０部、
純水９０部からなる洗浄液中に表１のように浸漬時間を
変え、さらに純水中に１分間浸漬しリンスした。純水中
から引き上げた後、斑紋が残らないように窒素ガスを吹
きかけ水分を乾燥させた。

【００５２】さらにハードコート層（１３）を積層して
いない面にインジウムスズ複合酸化物をターゲットに用
いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、３００Å
厚、酸化スズ含有率３５重量％のインジウムスズ複合酸
化物薄膜を透明導電性薄膜（14）として製膜した。この
時、真空度は２×１０^-3Torrとし、ガスとしてAr ５５
sccm、O₂ １sccm流した。

【００５３】この透明導電性フィルム（１）を一方のパ
ネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板
上に上記と同等の方法で４００Å厚の透明導電性薄膜を
形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電
性薄膜が対向するように、直径30μｍのエポキシビーズ
を介して、配置しタッチパネルを作製した。

【００５４】実施例４ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績（株）
製：A4340 ）を透明なプラスチックフィルム（１１）と
して用いた。透明なプラスチックフィルム（１１）の一
方の面上にハードコート処理層（１３）を設けた。ハー
ドコート剤としては、エポキシアクリル樹脂１００部に
ベンゾフェノン５部を加えた紫外線硬化型樹脂組成物を
用い、リバースコート法で成膜後、80℃５分の予備乾燥
し、エンボスロールで表面に凹凸を形成し500mJ/cm²の
紫外線照射により硬化させ、防眩効果を有するハードコ
ート層（１３）を形成した。硬化後の厚さは３μｍであ
る。

【００５５】このハードコート層（１３）を積層した透
明なプラスチックフィルム（１１）のもう一方の面上に
プライマー層として高分子樹脂層（１４）を次のように
して設けた。ポリエステル樹脂（東洋紡績株式会社製：
バイロン280 ）３部をメチルエチルケトン50部、トルエ
ン50部、架橋剤（日本ポリウレタン工業株式会社製：コ
ロネートＬ）１部で溶解した塗液を、グラビア法でコー
トした。予備乾燥120℃１分、硬化のためにさらに 130
℃５分加熱した。

【００５６】このハードコート層（１３）／透明なプラ
スチックフィルム（１１）／高分子樹脂層（１２）から
なる積層体をアルカリ性洗剤（第一工業製薬株式会社
製：スキャット20-X）１０部、純水９０部からなる洗浄
液中に表１に記載のように浸漬時間を変えて浸漬した
後、さらに純水中に１分間浸漬しリンスした。純水中か
ら引き上げた後、斑紋が残らないように窒素ガスを吹き
かけ水分を乾燥させた。

【００５７】さらに高分子樹脂層（１４）上にインジウ
ムスズ複合酸化物をターゲットに用いて、直流マグネト
ロンスパッタリング法で、３００Å厚、酸化スズ含有率
３５重量％のインジウムスズ複合酸化物薄膜を透明導電
性薄膜（14）として製膜した。この時、真空度は２×１
０^-3Torrとし、ガスとしてAr ５５sccm、O₂ １sccm流
した。この透明導電性フィルム（１）を一方のパネル板
として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上に上
記と同等の方法で４００Å厚の透明導電性薄膜を形成し
たものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄膜
が対向するように、直径30μｍのエポキシビーズを介し
て、配置しタッチパネルを作製した。

【００５８】実施例５厚さが１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィル
ム（東洋紡績（株）製：A4140 ）を透明なプラスチック
フィルム（１１）として用いた。透明なプラスチックフ
ィルム（１１）の易接着処理を施してある面上にハード
コート処理層（１３）を設けた。ハードコート剤として
は、エポキシアクリル樹脂１００部にベンゾフェノン４
部を加えた紫外線硬化型樹脂組成物を用い、リバースコ
ート法で成膜後、80℃５分の予備乾燥、500mJ/cm²の紫
外線照射により硬化させた。硬化後の厚さは５μｍであ
る。

【００５９】さらにこのハードコート層（１３）上に厚
さ７３０Åで屈折率1.89のY2O3を設け、さらに厚さ1200
Åで屈折率2.3 のTiO₂を設け、さらに厚さ９４０Åで屈
折率1.46のSiO₂を、それぞれスパッタリング法で製膜
し、反射防止処理を施した。このそれぞれの誘電体薄膜
を製膜する時、いずれも真空度は１×１０^-3Torrとし、
ガスとしてAr ５５sccm、O₂ ５sccm流した。また、製
膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のままとした。

【００６０】この積層体を、アルカリ性洗剤（フルウチ
化学株式会社製：セミコクリーン５６）中に表１のよう
に浸漬時間を変え、さらに純水中に１分間浸漬しリンス
した。純水中から引き上げた後、斑紋が残らないように
窒素ガスを吹きかけ水分を乾燥させた。

【００６１】さらにハードコート層（１３）を積層して
いない面にインジウムスズ複合酸化物をターゲットに用
いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、３００Å
厚、酸化スズ含有率３０重量％のインジウムスズ複合酸
化物薄膜を透明導電性薄膜（14）として製膜した。この
時、真空度は２×１０^-3Torrとし、ガスとしてAr ５５
sccm, O₂ １sccm流した。

【００６２】この透明導電性フィルム（１）を一方のパ
ネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板
上に上記と同等の方法で４００Å厚の透明導電性薄膜を
形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電
性薄膜が対向するように、直径30μｍのエポキシビーズ
を介して、配置しタッチパネルを作製した。

【００６３】比較例１アルカリ性洗剤による洗浄を行わなかった以外は実施例
３と同様にして透明導電性フィルム（１）を作製した。
また、この透明導電性フィルム（１）を用いて、実施例
３と同様にしてタッチパネルを作製した。

【００６４】比較例２アルカリ性洗剤による洗浄を行わなかった以外は実施例
４と同様にして透明導電性フィルム（１）を作製した。
また、この透明導電性フィルム（１）を用いて、実施例
４と同様にしてタッチパネルを作製した。また、この透
明導電性フィルム（１）を用いて、実施例１と同様にし
て、タッチパネルを作製した。

【００６５】以上の実施例１〜５および比較例１〜２に
ついて、透明導電性薄膜（１２）を製膜する面のシリコ
ンおよびフッ素原子量、表面抵抗率、透明導電性薄膜
（１２）の付着力を下記の方法で測定した。また、実施
例１〜５および比較例１〜２の透明導電性フィルムをも
ちいて作製したタッチパネルについて、ペン入力耐久試
験を実施した。

【００６６】＜シリコンおよびフッ素原子量＞透明導電
性薄膜（１２）を製膜する前の透明なプラスチックフィ
ルム（１１）もしくは高分子樹脂層（１４）表面を、Ｘ
線光電子分光器（島津製作所株式会社製：ESCA850M）を
用いMg Kα線（1254eV）9kV ×30mAの条件で、C の1s,
O の1s, N の1s, Siの2p, F の1sを測定した。さらに、
感度補正係数をC の1sを基準とし、O の1sを2.85、N の
1sを1.77、Siの2pを0.87、F の1sを4.26とし、実測値を
感度補正係数で割った値を用いて、表面の組成分析を原
子比で測定した。

【００６７】＜付着力測定＞40μｍ厚のアイオノマーフ
ィルム（タマポリ株式会社製：HM-07 ）をポリエステル
系接着剤（武田薬品株式会社製：タケネートA310／タケ
ラックA-3 ）を用いて、75μｍ厚のポリエチレンテレフ
タレートフィルム（東洋紡績株式会社製：E5100 ）にラ
ミネートした付着力測定用積層体を作製した。この付着
力測定用積層体のアイオノマー面と透明導電性フィルム
の透明導電性薄膜面を対向させ、130℃ 5kg/cm²２秒
で熱圧着した。この積層体を付着力測定用積層体と透明
導電性フィルムとを 180度剥離法で剥離し、この剥離力
を付着力とした。この時の剥離速度は1000mm／分とし
た。

【００６８】＜ペン入力耐久試験＞まず、ペン入力試験
前のリニアリティ測定を以下のようにして実施した。本
発明の透明導電性フィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍに
切り出し、透明導電性薄膜形成面の両端辺に幅５ｍｍの
電極を銀ペーストを塗布して作成した。この電極間に定
電圧電源により５Ｖを印加し、サンプルの中心部５０ｍ
ｍ×５０ｍｍの範囲を縦横１ｍｍ間隔で（ｘ₁，ｙ₁）
〜（ｘ₅₀，ｙ₅₀）の２５００点について電圧Ｖ_IJ（ｉｊ
＝１〜５０）を測定した。各電圧測定点での理論電圧Ｕ
_IJ＝Ｖ_1,1＋（Ｖ_50,50 −Ｖ_1,1）／５０×（ｊ−１）
からのズレをΔ_IJ＝（Ｖ_IJ−Ｕ_IJ）／Ｕ_IJで定義し、こ
のΔ_IJの絶対値の最大値をリニアリティと定義した。ペ
ン入力試験前のリニアリティを測定した透明導電性フィ
ルムを用い、実施例および比較例に記載されているよう
にしてタッチパネルを作製した。透明導電性フィルムで
構成されたパネル板側から、ポリアセタール樹脂からな
るペン先半径0.8mm のタッチペン（シャープ（株）製ハ
イパー電子手帳DB-Zタッチペン）を用いて、プロッタ
（ローランド（株）製：DXY-1150）により、２ｃｍ角サ
イズのカタカナのア〜ンまでの文字を１０００００字の
筆記を行った。この時、ペン荷重２５０ｇ、文字筆記速
度2000字／時間とした。ペン入力試験後の透明導電性フ
ィルムのリニアリティを前述と同様の手法で測定した。

【００６９】このペン入力試験前後に、タッチペンの位
置検出精度をタッチパネルの電圧線形性のズレで測定し
た。パネル板の上下に配置した電極部に５Ｖの定電圧を
印加し、上部電極から下部電極にかけて、印加電圧が線
形変化から最も変化した割合を測定した。

【００７０】表１の結果から、本発明の透明導電性フィ
ルムは、導電性および透明性に極めて優れ、かつ本発明
の透明導電性フィルムを用いたタッチパネルはペン入力
耐久性に極めて優れている。

【００７１】

【表１】

【００７２】

【発明の効果】本発明によると、シリコンおよびフッ素
が原子比で0.3%以下である透明なプラスチックフィルム
（１１）表面上もしくは高分子樹脂層（１４）表面上に
透明導電性薄膜（１２）を積層したものの付着力は極め
て強いため、ペン入力用タッチパネルに用いた際のペン
の押圧で対向の透明導電性薄同士が接触しても、剥離、
クラック等を生じることがなく、ペン入力耐久性に極め
て優れた透明導電性フィルム（１）を提供することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１に実施例１の透明導電性フィルムの層構成
を表す。

【図２】図２に実施例２の透明導電性フィルムの層構成
を表す。

【図３】図３に実施例３の透明導電性フィルムの層構成
を表す。

【図４】図４はタッチパネルの断面図である。

【符号の説明】

１透明導電性フィルム１１プラスチックフィルム１２透明導電性薄膜１３ハードコート層１４高分子樹脂層２ガラス板３ビーズ

フロントページの続き (72)発明者森原芳治滋賀県大津市堅田二丁目１番１号東洋紡績株式会社総合研究所内 (72)発明者播磨貞三滋賀県大津市堅田二丁目１番１号東洋紡績株式会社総合研究所内 (72)発明者山田陽三滋賀県大津市堅田二丁目１番１号東洋紡績株式会社総合研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】透明なプラスチックフィルム（１１）の
一方の表面において、シリコンおよびフッ素が原子比で
0.3%以下であり、この表面上に透明導電性薄膜（１２）
を積層した透明導電性フィルム（１）であって、かつ透
明なプラスチックフィルム（１１）と透明導電性薄膜
（１２）との付着力が10g/15mm以上であることを特徴と
する透明導電性フィルム。
【請求項２】透明なプラスチックフィルム（１１）の
一方の面にプライマー層として高分子樹脂層（１４）を
形成し、該高分子樹脂層（１４）表面においておいてシ
リコンおよびフッ素が原子比で0.3%以下であり、該高分
子樹脂層（１４）表面上に透明導電性薄膜（１２）を積
層した透明導電性フィルム（１）であって、かつ透明な
プラスチックフィルム（１１）と透明導電性薄膜（１
２）との付着力が10g/15mm以上であることを特徴とする
透明導電性フィルム。
【請求項３】請求項１乃至２記載の透明なプラスチッ
クフィルム（１１）の透明導電性薄膜（１２）を積層し
た面の反対の面にハードコート層（１３）を形成したこ
とを特徴とする透明導電性フィルム。
【請求項４】請求項３記載のハードコート層（１３）
が防眩効果を有することを特徴とする透明導電性フィル
ム。
【請求項５】請求項３記載のハードコート層（１３）
に低反射処理を施したことを特徴とする透明導電性フィ
ルム。
【請求項６】請求項１乃至５記載の透明導電性薄膜
（１２）が非晶質であることを特徴とする透明導電性フ
ィルム。
【請求項７】透明導電性薄膜を有する一対のパネル板
を、透明導電性薄膜が対向するようにスペーサーを介し
て配置してなるタッチパネルにおいて、少なくとも一方
のパネル板が請求項１乃至６記載のいずれかの透明導電
性フィルム（１）からなることを特徴とするタッチパネ
ル。