JP4491697B2 - 透明導電性フィルムおよびタッチパネル - Google Patents
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Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はプラスチックフィルムを用いた透明導電性フィルムおよびこれを用いたタッチパネルに関するものであり、さらに視認性に優れたタッチパネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
プラスチックフィルム上に、透明でかつ抵抗値の低い化合物からなる薄膜を形成した透明導電性フィルムは、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイといったフラットパネルディスプレイや、タッチパネルの透明電極など電気、電子分野の用途に広く使用されている。
【０００３】
透明導電性薄膜としては、一般的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化インジウム−スズ、酸化亜鉛などが代表的なものであり、基板としては、ポリエチレンテレフタレートをはじめとする各種のプラスチックフィルムが用いられている。
【０００４】
近年、携帯情報端末やタッチパネル付きノートパソコンの普及により、視認性に優れたタッチパネルが要求されるようになってきた。すなわち、外部から照射される光の表面への映り込みを低減したタッチパネルが要求されている。
【０００５】
このようなタッチパネルを作製するためには、従来、一般的には二酸化ケイ素などのフィラーを含む樹脂から形成したハードコート層を積層した透明導電性フィルムを用いられてきた。タッチパネル表面への映り込みが少なくするために、前記ハードコート層の表面はフィラーにより凸形状を形成させ、この形状により外部から照射される光を乱反射させることが行なわれてきた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来の透明導電性フィルムは次のような課題を有していた。
【０００７】
前記従来の防眩性ハードコート（特開平１−１０５７３８号公報）は、例えば、樹脂１００重量部に対してシリカが２重量部程度配合されているが、このような配合割合のシリカを含む塗膜を使用した場合、透明性が低下するという問題があった。また、表面が凸形状をしているため、このレンズ効果によりタッチパネル下の液晶ディスプレイの像解像度が低下するという問題もあった。
【０００８】
さらに、タッチパネルを用いた際のペン入力耐久性を改善するために、１２０μｍ以下の厚さの透明プラスチック上に透明導電性薄膜を形成し、粘着剤層で防眩性ハードコートフィルムと貼り合わせた透明導電性フィルム（特開平２−９４３２２号公報）が提案されている。しかしながら、ペン入力に対する耐久性が不十分であり、また粘着剤を用いて貼り合わせているため、貼り合あわせ時にゴミなどの異物が混入し、光学欠点の多い透明導電性フィルムとなるという問題があった。
【０００９】
また、透明なプラスチックフィルム上に有機ケイ素化合物の加水分解により生成された層を設け、さらに透明導電性薄膜を積層した透明導電性フィルム（特開昭６０−１３１７１１号公報）が提案されている。しかしながら、この透明導電性フィルムは、透明導電性薄膜を製膜した後に１５０℃程度の熱処理が必要であるため、結晶質の透明導電性薄膜となる。このため、タッチパネル作製時の透明導電性薄膜のエッチング特性が極めて悪く、タッチパネルの製造コストが高いものになってしまう。
【００１０】
本発明は、上記の従来の問題点に鑑み、透明性、像解像度に優れた防眩性ハードコート層を積層した透明導電性フィルム及びペン入力耐久性に優れたタッチパネルを提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記のような状況に鑑みなされたものであって、上記の課題を解決することができた透明導電性フィルムおよびタッチパネルとは、以下の通りである。即ち、本発明の第１の発明は、透明なプラスチックフィルム（１１）の一方の面に透明導電性薄膜（１２）が積層され、他の面にはハードコート層（１３）が積層された透明導電性フィルム（１）であって、かつ前記ハードコート層（１３）が、電離放射線硬化型樹脂組成物を塗工し、未硬化の塗膜上にマット賦型フィルムで賦型され、電離放射線照射により硬化された後、マット賦型フィルムが剥離されてなり、ハードコート層（１３）の表面に直径が１５〜１８μｍで、深さが０．７〜１．２μｍである凹形状を４００〜７００個／０．０１ｍｍ2の密度で形成されていることを特徴とする透明導電性フィルムである。第２の発明は、ハードコート層（１３）の鉛筆硬度がＨ以上であることを特徴とする前記第1の発明に記載の透明導電性フィルムである。第３の発明は、表面に凹形状を有するハードコート層（１３）上に反射防止層（１４）が形成されていることを特徴とする前記第１または２の発明に記載の透明導電性フィルムである。第４の発明は、透明導電性薄膜（１２）と下地との付着力が１０ｇ／１５ｍｍ以上であることを特徴とする前記第１乃至３の発明のいずれかに記載の透明導電性フィルムである。第５の発明は、透明導電性薄膜（１２）と透明なプラスチックフィルム（１１）との間にポリエステル樹脂を主成分としたプライマー層（１５）を設けたことを特徴とする前記第１乃至４の発明のいずれかに記載の透明導電性フィルムである。第６の発明は、透明導電性薄膜（１２）が非晶質であることを特徴とする請求項１乃至５の発明のいずれかに記載の透明導電性フィルムである。第７の発明は、透明導電性薄膜を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルにおいて、少なくとも一方のパネル板が前記第１乃至６の発明のいずれかに記載の透明導電性フィルム（１）を使用することを特徴とするタッチパネルである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
次に本発明を詳細に説明する。
本発明における透明なプラスチックフィルム（１１）とは、有機高分子を溶融押出し又は溶液押出しをして、必要に応じ、長手方向、および、または、幅方向に延伸、冷却、熱固定を施したフィルムであり、有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンー２、６ーナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン６、ナイロン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアクリル、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタクチクポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどがあげられる。また、これらの有機高分子は他の有機重合体を少量共重合したり、ブレンドしたりしてもよい。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレンー2、６ーナフタレート、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどが、最も好ましく用いられる。
【００１３】
本発明における透明なプラスチックフィルム（１１）の厚みは、１０μｍを越え、３００μｍの範囲にあることが好ましく、とくに好適には７０〜２６０μｍの範囲にあるのがよい。厚みが１０μｍ以下では機械的強度が不足し、特にタッチパネルに用いた際のペン入力に対する変形が大きくなり過ぎ、耐久性が十分でなくなる。一方、３００μｍを越えると、タッチパネルに用いた際のペン入力時の荷重を大きくする必要があり、好ましくない。
【００１４】
本発明におけるプラスチックフィルム（１１）は、本発明の目的を損なわないかぎりにおいて、該フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処理を施してもよい。
【００１５】
凹形状の防眩性ハードコート層（１３）を透明なプラスチックフィルム（１１）上に積層するには、プラスチックフィルム（１１）上に電離放射線硬化型樹脂組成物を塗工し、次に塗工された電離放射線硬化型樹脂組成物の未硬化状態の塗膜上に、表面に微細な凸形状を有するマット状の賦型フィルムで賦形された後に、電離放射線照射により硬化させる方法が好適である。前記でいうマット賦型フィルムとは、表面に微細凸形状を有するフィルムであり、ハードコート層に凹形状を設ける機能を有するフィルムのことである。
【００１６】
本発明において、ハードコート層の表面に、直径が３〜３０μｍで、深さが０．１〜３μｍである凹形状を５〜５００００個／０．０１ｍｍ2の密度となるように形成させることが必要である。凹形状の直径が３μｍ未満では、防眩性の効果が十分ではなく、３０μｍよりも大きい場合はヘイズが上昇しすぎて、好ましくない。また、凹形状の深さが０．１μｍ未満では防眩性の効果が十分ではなく、３μｍよりも深い場合はヘイズが上昇しすぎて、好ましくない。同様に、凹形状の密度が５個／０．０１ｍｍ2未満では防眩性の効果が十分ではなく、５００００個／０．０１ｍｍ２を超えると、ヘイズが高くなりすぎて、好ましくない。
【００１７】
また、本発明のハードコート層（１３）は鉛筆硬度でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上がさらに好ましく、３Ｈ以上が特に好ましい。鉛筆硬度がＨよりも低いハードコート層では、透明導電性フィルムのハードコートとしては不十分である。
【００１８】
本発明のハードコート層（１３）の厚みは、０．５〜１０μｍであることが好ましい。前記厚みが０．５μｍ未満では十分なハードコート性が発現せず、１０μｍよりも厚い場合には生産性の観点から好ましくない。
【００１９】
防眩性ハードコートに用いられる電離放射線硬化型樹脂組成物の皮膜形成成分は、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリート等のオリゴマーまたはプレポリマー及び反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ？ビニルピロリドン等の単官能モリマー並びに多官能モリマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングチコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオパンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用できる。
【００２０】
特に好ましいのは、ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物である。その理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆くなるためである。そこで、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるために、ポリウレタンアクリレートをポリエステルアクリレート１００重量部に対し、３０重量部以下併用することが好ましい。この値を超えると、塗膜が柔らかくなりすぎ、ハード性がなくなり好ましくない。
【００２１】
さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。
【００２２】
本発明で用いる防眩性ハードコート層（１３）を形成するための防眩塗料は、電離放射線硬化方樹脂１００重量部に対し溶剤乾燥型樹脂を１０〜１００重量部含ませてもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑性樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は特に限定はない。しかしながら、電離放射線硬化型樹脂としてポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物を使用した場合には、含有させる溶剤乾燥型樹脂としてポリメタクリル酸メチルアクリレート又はポリメタクリル酸ブチルアクリレートを選ぶと、塗膜の硬度を高く保つことができるので好ましい。しかも、電離放射線硬化型樹脂との屈折率が近いため、塗膜の透明性を損なわず、透明性、特に、低ヘイズ値、高光線透過率、また相溶性の点において有利である。
【００２３】
本発明において、電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を含ませることが有利である点をさらに詳しく説明する。電離放射線硬化型樹脂組成物を、メタリングロールを有するロールコーターでプラスチックフィルム（１１）に塗布する場合、メタリングロール表面に残留する液状樹脂膜が流動して経時的に筋やムラ等になり、これらが塗布面に転写して塗布面に筋やムラ等の欠点を生じる。しかしながら、本発明のように電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を含ませると、このような塗布面の塗膜欠陥を防ぐことが出来る。
【００２４】
前記電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法は、通常の硬化方法を採用することができる。即ち、電子線または紫外線の照射によって硬化することができる。例えば、電子線効果の場合はコックロフトワルトン型、ハンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハイライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【００２５】
前記賦型フィルムには、離型性のあるＰＥＴ等の基材フィルム上に所望の凸形状を設けたもの、あるいは、ＰＥＴ等の基材フィルム上に繊細な凸層を形成したもの等を用いることができる。その凸層は、例えば、無機系フィラーとバインダー樹脂からなる樹脂組成物を用いて基材フィルム上に塗工して形成されたものが好ましい。そのバインダー樹脂として、例えば、ポリイソシアネートで架橋されたアクリルポリオールを用い、無機系フィラーとしては、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ3）およびシリカ（ＳｉＯ2）を用いることができる。また、この他にＰＥＴ製造時にＳｉＯ2等を練込んだマットＰＥＴも用いることができる。
【００２６】
この賦型フィルムを紫外線硬化型樹脂の塗膜にラミネートして、紫外線を照射して塗膜を硬化する場合、賦型フィルムがＰＥＴを基材としたフィルムであると、該フィルムに紫外線の短波長側が吸収されることになり、紫外線硬化型樹脂の硬化不足になってしまうという欠点がある。したがって、紫外線硬化型樹脂の塗膜をラミネートした賦型フィルムの透過率が２０％以上のものを使用することが必要である。
【００２７】
本発明における透明導電性薄膜（１２）としては、透明性、及び、導電性をあわせもつ材料であれば特に制限はないが、代表的なものとしては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物等の薄膜が挙げられる。これらの化合物からなる薄膜は、適当な作成条件とすることで、透明性と導電性をあわせもつ透明導電性薄膜とすることができる。
【００２８】
透明導電性薄膜（１２）の膜厚は、４０〜８０００Åの範囲が好ましく、特に好ましくは５０〜５０００Åの範囲である。透明導電性薄膜（１２）の膜厚が４０Åよりも薄い場合には、連続した薄膜になりにくく良好な導電性を示さない。また、８０００Åよりも厚い場合、透明性の低下をきたす。
【００２９】
本発明における透明導電性薄膜（１２）の作成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法などが知られており、上記材料の種類および必要膜厚に応じて適宜の方法を用いることができる。
【００３０】
例えば、スパッタリング法の場合、化合物を用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を併用してもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、基板に直流、交流、高周波などのバイアスを印加してもよい。
【００３１】
非晶質の透明導電性膜（１２）を製膜するためには、基板であるプラスチックフィルムの製膜時の温度を１００℃以下にする必要がある。また、蒸着法、ＣＶＤ法などの他の作成方法においても同様である。
【００３２】
本発明における透明導電性フィルム（１）において、ペン入力耐久性の向上には、透明なプラスチックフィルム（１１）と透明導電性薄膜（１２）との付着力を１０ｇ／１５ｍｍ以上にすることが好ましい。付着力が１０ｇ／１５ｍｍ未満の場合には、ペン入力時に透明導電性薄膜（１２）にクラックや剥離が生じ、電気抵抗が増大したり、断線を生じ、ペン入力耐久性が十分でない透明導電性フィルム（１）となりやすい。
【００３３】
そこで、透明なプラスチックフィルム（１１）と透明導電性薄膜（１２）の付着力を１０ｇ／１５ｍｍ以上にするためには、透明なプラスチックフィルム（１１）に表面処理を施すことが有効である。処理方法としては、酸性もしくはアルカリ性水溶液への浸漬によるウェット工程による方法と、紫外線照射、プラズマ処理、イオン照射等のドライ工程による方法がある。
【００３４】
酸性水溶液による処理に用いられる酸は、塩酸、硫酸、フッ酸、硝酸などの単独酸もしくは混酸が挙げられる。また、アルカリ性水溶液による処理に用いられるアルカリは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カルシウムなどを単独もしくは混合したものが好適である。また、酸・アルカリ性水溶液を洗剤中に混合したものを用いることで、付着力をさらに向上することが可能である。
【００３５】
以上のようなウェット工程による洗浄を行った後に、処理に用いた媒質を除去し、乾燥する。例えば、純水を用いたリンスを十分に行い、透明なプラスチックフィルムの引き上げに注意を払い、窒素ブローなどで素早く乾燥させ、表面に純水の斑紋が残らないようにすることが好ましい。
【００３６】
また、低圧もしくは高圧紫外線ランプをもちいて紫外線を照射し、透明なプラスチックフィルム（１１）上の改質をしてもよい。さらに、真空中でイオンやプラズマを照射し、汚染物を分解、除去する方法を用いてもよい。
【００３７】
さらに、本発明における透明導電性フィルム（１）のための好ましいプライマー層（１５）は、透明なプラスチックフィルム（１１）および透明導電性薄膜（１２）の双方に卓越した接着性質を提供する。このプライマー層（１５）はポリエステル樹脂を主成分とするが必要に応じて、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ウレタンアクリル樹脂、メラミン樹脂などをブレンドしてもよい。
【００３８】
本発明のプライマー層（１５）に使用するポリエステル樹脂は、多価カルボン酸類と多価アルコール類からなる。ポリエステル樹脂に用いられる多価カルボン酸類としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジフェン酸、スルホテレフタル酸、５−スルホイソフタル酸、４−スルホフタル酸、４−スルホナフタレン−２，７−ジカルボン酸、５〔４−スルホフェノキシ〕イソフタル酸、スルホテレフタル酸、およびまたはそれらの金属塩、アンモニウム塩などの芳香族ジカルボン酸、ｐ−オキシ安息香酸、ｐ−（ヒドロキシエトキシ）安息香酸などの芳香族オキシカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、フマール酸、マレイン酸、イタコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、等の不飽和脂肪族、および、脂環族ジカルボン酸等を、また多価カルボン酸としては他にトリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸等の三価以上の多価カルボン酸等が挙げられる。
【００３９】
ポリエステル樹脂に用いられる多価アルコール類としては、脂肪族多価アルコール類、脂環族多価アルコール類、芳香族多価アルコール類等が例示できる。
【００４０】
脂肪族多価アルコール類としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等の脂肪族ジオール類、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエルスリトール等のトリオールおよびテトラオール類等が挙げられる。
【００４１】
脂環族多価アルコール類としては、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物、トリシクロデカンジオール、トリシクロデカンジメタノール等が例示できる。
【００４２】
芳香族多価アルコール類としては、パラキシレングリコール、メタキシレングリコール、オルトキシレングリコール、１，４−フェニレングリコール、１，４−フェニレングリコールのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物等が例示できる。
【００４３】
さらに、ポリエステルポリオールとして、ε−カプロラクトン等のラクトン類を開環重合して得られる、ラクトン系ポリエステルポリオール類等を例示することができる。これらの他に、ポリエステル高分子末端の極性基を封鎖する目的で単官能単量体がポリエステルに導入させてもよい。
【００４４】
単官能単量体としては、安息香酸、クロロ安息香酸、ブロモ安息香酸、パラヒドロキシ安息香酸、スルホ安息香酸モノアンモニウム塩、スルホ安息香酸モノナトリウム塩、シクロヘキシルアミノカルボニル安息香酸、ｎ−ドデシルアミノカルボニル安息香酸、ターシャルブチル安息香酸、ナフタレンカルボン酸、４−メチル安息香酸、３−メチル安息香酸、サリチル酸、チオサリチル酸、フェニル酢酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、オクタンカルボン酸、ラウリル酸、ステアリル酸、およびこれらの低級アルキルエステル、等のモノカルボン酸類、あるいは脂肪族アルコール、芳香族アルコール、脂環族アルコール等のモノアルコールを用いることができる。
【００４５】
本発明において、これらのうち不飽和単量体を必須成分とし、他の成分はポリエステル樹脂のガラス転移温度、モノマーとの相溶性、等により適宜選択される。
ポリエステルに導入されるイオン性基としては、スルホン酸アルカリ金属塩基あるいはスルホン酸アンモニウム塩基を有するモノあるいはジカルボン酸等を好ましく用いることができるほか、例えばカルボン酸アルカリ金属塩基あるいはカルボン酸アンモニウム塩基を有する単量体、硫酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基もしくはそれらのアンモニウム塩、金属塩等のアニオン性基、または第１級ないし第３級アミン基等のカチオン性基単量体などを用いることができる。
【００４６】
カルボン酸アルカリ金属塩基あるいはカルボン酸アンモニウム塩基を導入する場合には、ポリエステルの重合末期にトリメリット酸等の多価カルボン酸を系内に導入することにより高分子末端にカルボキシル基を付加し、さらにこれをアンモニア、水酸化ナトリウム等にて中和することによりカルボン酸塩の基に交換する方法を用いることができる。
また、スルホン酸アルカリ金属塩基あるいはスルホン酸アンモニウム塩基を有するモノあるいはジカルボン酸を含有することによりこれらのイオン性基をポリエステル樹脂に導入することができる。塩としてはアンモニウム系イオン、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｕ、Ｆｅ等の塩があげられ、特に好ましいものはＫ塩またはＮａ塩である。本発明では５−ナトリウムスルホイソフタル酸、あるいはメタナトリウムスルホ安息香酸を用いることが好ましい。またカルボン酸塩の基とスルホン酸塩の基を使用してもよい。
【００４７】
本発明におけるポリエステル樹脂のより具体的な例を以下に示す。
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）エチレングリコール０〜９０ｍｏｌ％、プロピレングリコール１００〜１０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）２，３−ブタンジオール５〜８０ｍｏｌ％、エチレングリコール２０〜９５ｍｏｌ％ とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、ｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％及びｃ）トリシクロデカン骨格を有するモノあるいは多価アルコール類５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％、ｃ）ヒドロキシメチルトリシクロデカン５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
【００４８】
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％、ｃ）トリシクロデカンジメタノール５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％、ｃ）シクロヘキサン骨格を有するモノあるいは多価アルコール類５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％、ｃ）シクロヘキサンジオール５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％、ｃ）水添ビフェノールＡ５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
【００４９】
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％、ｃ）水添ビスフェノールＡ５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）ナフタレン骨格を有するモノあるいは二価以上のカルボン酸１〜２０ｍｏｌ％を含む芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜１００ｍｏｌ％、ｃ）脂環族系単量体０〜３０ｍｏｌ％を含有する多価アルコール類、とから得られるポリエステル樹脂等を例示することができる。
【００５０】
さらに、前記に示される「ａ）芳香族系単量体」は、テレフタル酸あるいはイソフタル酸であることが好ましい。テレフタル酸とイソフタル酸の比率は、テレフタル酸含有率／イソフタル酸含有率＝９０〜４０／１０〜６０［ｍｏｌ％］が好ましく、さらに好ましくは、テレフタル酸含有率／イソフタル酸含有率＝８０〜５０／２０〜５０［ｍｏｌ％］であり、特に好ましくは、テレフタル酸含有率／イソフタル酸含有率＝８５〜６０／１５〜４０［ｍｏｌ％］である。
【００５１】
イオン性基含有単量体をポリエステル樹脂に導入し、ポリエステル樹脂にイオン性基を与えた場合、透明導電性薄膜との付着力がさらに強固なものとなる。イオン性基含有単量体としては前述したスルホン酸アルカリ金属塩基あるいはスルホン酸アンモニウム塩基を有するモノあるいはジカルボン酸等を好ましく用いることができるほか、例えばカルボン酸アルカリ金属塩基あるいはカルボン酸アンモニウム塩基を有する単量体、硫酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基もしくはそれらのアンモニウム塩、金属塩等のアニオン性基、または第１級ないし第３級アミン基等のカチオン性基単量体などを用いることができる。
【００５２】
カルボン酸アルカリ金属塩基あるいはカルボン酸アンモニウム塩基を導入する場合には、ポリエステルの重合末期にトリメリット酸等の多価カルボン酸を系内に導入することにより高分子末端にカルボキシル基を付加し、さらにこれをアンモニア、水酸化ナトリウム等にて中和することによりカルボン酸塩の基に交換する方法を用いることができる。
また、プライマー層（１５）に用いるポリエステル樹脂は、耐熱性の観点から、架橋構造を有するものが好ましい。
【００５３】
本発明のプライマー層（１５）の厚さは、０．００５〜２μｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜１μｍの範囲である。厚さが０．００５μｍより薄い場合は、連続した膜になりにくいため透明導電性薄膜（１２）の付着力が不足し、２μｍよりも厚い場合は、プライマー層（１５）の凝集破壊が起りやすくなるため、やはり透明導電性薄膜（１２）の付着力が不足する。
【００５４】
本発明のプライマー層（１５）を透明なプラスチックフィルム（１１）上に積層するには、コーティング法を用いて積層することが好ましい。コーティング法としては、エアドクタコート法、ナイフコート法、ロッドコート法、正回転ロールコート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、キスコート法、ビードコート法、スリットオリフェスコート法、キャストコート法などが用いられる。架橋構造を付与する場合には、コーティング後に加熱もしくは紫外線、電子線照射によりエネルギー印加する。
【００５５】
また、透明なプラスチックフィルム（１１）として長手方向および幅方向に延伸、冷却、熱固定を行ったフィルムを用いる場合には、プライマー層（１５）を二つの延伸段階の間、すなわち二軸延伸操作の長手方向および幅方向への延伸の間で、コーティングする方法を適用してもよい。このような延伸およびコーティングの順序は特に、高分子樹脂層（１５）を積層したポリエステルフィルムの製造に好ましい。好ましくは、まず長手方向に、一連の回転ローラー上で延伸され、次に硬化性高分子をコーティングし、そして最後に、テンターオーブン中で横方向に延伸され冷却、熱固定をおこなう。さらに好ましくは、このあとにフィルムに加熱もしくは紫外線、電子線照射によりエネルギー印加し硬化させる。
【００５６】
プライマー層（１５）をコーティングするに先立ち、本発明の目的を損なわないかぎりにおいて、透明なプラスチックフィルム（１１）をコロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処理を施してもよい。
【００５７】
また、タッチパネルの用いた際に可視光線の透過率をさらに向上させるために、ハードコート層（１３）上に反射防止処理を施してもよい。この反射防止処理は、ハードコート層（１３）の屈折率とは異なる屈折率を有する材料を単層もしくは２層以上積層することが好ましい。単層構造の場合、ハードコート層（１３）よりも小さな屈折率を有する材料を用いるのがよい。また、２層以上の多層構造とする場合は、ハードコート層（１３）と隣接する層は、ハードコート層（１３）よりも大きな屈折率を有する材料を用い、この上の層にはこれよりも小さな屈折率を有する材料を選ぶのがよい。このような反射防止処理を構成する材料としては、有機材料でも無機材料でも上記の屈折率の関係を満足すれば特に限定されないが、例えば、ＣａＦ2、ＭｇＦ2、ＮａＡｌＦ4、ＳｉＯ2、ＴｈＦ4、ＺｒＯ2、Ｎｄ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｉｎ2Ｏ3などの誘電体を用いるのが好ましい。
【００５８】
この反射防止処理は、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法などのドライコーティングプロセスでも、グラビア方式、リバース方式、ダイ方式などのウェットコーティングプロセスでもよい。
【００５９】
さらに、この反射防止処理層（１４）の積層に先立って、前処理として、コロナ放電処理、プラズマ処理、スパッタエッチング処理、電子線照射処理、紫外線照射処理、プライマ処理、易接着処理などの公知の処理を施してもよい。
【００６０】
図５に、本発明の透明導電性フィルム（１）を用いた、タッチパネルの例を示す。透明導電性薄膜を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルにおいて、一方のパネル板に本発明の透明導電性フィルム（１）を用いたものである。このタッチパネルは、最外層が本発明の透明導電性フィルム（１）であるため、凹形状の防眩形ハードコートにより外光の映り込みが少なく、かつ、像解像度にも優れたタッチパネルである。またこのタッチパネルは、ペンにより文字入力したときに、ペンからの押圧により、対向した透明導電性薄膜同士が接触し、電気的にＯＮになり、ペンのタッチパネル上での位置を検出できる。このペン位置を連続的かつ正確に検出することで、ペンの軌跡から文字を入力できる。この際、ペン接触側のパネル板が本発明の透明導電性フィルム（１）であるため、ペン入力耐久性に優れるため、長期にわたって安定なタッチパネルである。
【００６１】
なお、図５において、もう一方のパネル板は、プラスチックフィルムやガラス板の透明基板の上に透明導電性薄膜を積層したものであるが、本発明の透明導電性フィルム（１）を使用してもよい。
【００６２】
【実施例】
以下に、本発明の実施例を記載してより具体的に説明する。なお、以下において、部は重量部を意味する。
【００６３】
実施例1
厚さが１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績（株）製：コスモシャイン Ａ４１４０）を透明なプラスチックフィルム（１１）として用いた。このフィルムの易接着処理面に紫外線硬化型樹脂としてポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートとの混合物からなる紫外線硬化型樹脂（大日精化製：ＥＸＧ）を膜厚５μｍ（乾燥時）となるようにグラビアリバース法により塗工し、溶剤を乾燥した。その後、表面に微細な凸形状が形成されたポリエチレンテレフタレートフィルムのマット賦型フィルム（東レ製：Ｘ）をマット面が紫外線硬化型樹脂と接するようにラミネートした。このマット賦型フィルムの表面形状は、平均粗さ０．４０μｍ、山の平均間隔１６０μｍ、最大粗さ２５μｍである。このようにラミネートしたフィルムを１６０Ｗの紫外線照射装置の下を１０ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ、紫外線硬化型樹脂を硬化させた。次いで、マット賦型フィルムを剥離して、表面に凹形状加工が施されたハードコート層（１３）を形成した。
【００６４】
次に、プラスチックフィルム（１１）のハードコート層（１３）を形成していない面にインジウム−スズ合金をターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、膜厚２５０Å、酸化すず含有率１０重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜（１２）として製膜した。この時、真空度は３×１０-3Ｔｏｒｒとし、ガスとしてＡｒを１３０ｓｃｃｍ、Ｏ2を７０ｓｃｃｍ流し、ターゲット印加電力は２．５Ｗ／ｃｍ2とした。また、基板フィルムは製膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のままとし、ライン速度は５ｍ／ｍｉｎとした。
【００６５】
この透明導電性フィルム（１）を一方のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上に上記と同等の方法で膜厚４００Åの透明導電性薄膜を形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。
【００６６】
実施例２
厚さが１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績(株）製：コスモシャイン Ａ４１４０)を透明なプラスチックフィルム（１１）として用いた。このフィルムの易接着処理面に紫外線硬化型樹脂としてアクリルメラミン（大日精化製：ＰＴＣ）を膜厚５μｍ（乾燥時）になるようにグラビアリバース法により塗工し、溶剤を乾燥した。その後、実施例１と同様のマット賦型フィルム（東レ製：Ｘ）をマット面が紫外線硬化型樹脂と接するようにラミネートし、１６０Ｗの紫外線照射装置の下を１０ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ、紫外線硬化型樹脂を硬化させた。次いで、マット賦型フィルムを剥離して、表面に凹形状加工が施されたハードコート層（１３）を形成した。
【００６７】
次いで、このハードコート層（１２）上に順次ＴｉＯ2（屈折率：２．３０、膜厚１５０Å）、ＳｉＯ2（屈折率：１．４６、膜厚２９０Å）、ＴｉＯ2（屈折率：２．３０、膜厚１０９０Å）、ＳｉＯ2（屈折率：１．４６、膜厚８７０Å）を積層することで反射防止処理層（１４）を形成した。
【００６８】
ＴｉＯ2薄膜を形成するには、チタンをターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、真空度は３×１０-3Ｔｏｒｒ、ガスとしてＡｒを５００ｓｃｃｍ、Ｏ2を８０ｓｃｃｍ流した。また、基板フィルムの背面に０℃の冷却ロールを設けて、プラスチックフィルムを冷却した。このときのターゲットには７．８Ｗ／ｃｍ2の電力を供給し、ダイナミックレートは２３０Å・ｍ／ｍｉｎであった。
【００６９】
ＳｉＯ2薄膜を形成するには、シリコンをターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、真空度は３×１０-3Ｔｏｒｒ、ガスとしてＡｒを５００ｓｃｃｍ、Ｏ2を８０ｓｃｃｍ流した。また、基板フィルムの背面に０℃の冷却ロールを設けて、プラスチックフィルムを冷却した。このときのターゲットには７．８Ｗ／ｃｍ2の電力を供給し、ダイナミックレートは２３０Å・ｍ／ｍｉｎであった。
【００７０】
次に、プラスチックフィルム（１１）のハードコート層（１３）を形成していない面にインジウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、２８０Å厚、酸化すず含有率１０重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜（１２）として製膜した。この時、真空度は３×１０-3Ｔｏｒｒとし、ガスとしてＡｒを１３０ｓｃｃｍ、Ｏ2を２ｓｃｃｍ流し、ターゲット印加電力は１．５Ｗ／ｃｍ2とした。また、基板フィルムは製膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のままとし、ライン速度は２ｍ／ｍｉｎとした。
【００７１】
この透明導電性フィルム（１）を一方のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上に上記と同等の方法で膜厚４００Åの透明導電性薄膜を形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。
【００７２】
実施例３
厚さが１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績(株）製：コスモシャイン Ａ４１４０）を透明なプラスチックフィルム（１１）として用いた。このフィルムの易接着処理面に、ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートとの混合物からなる紫外線硬化型樹脂（大日精化製：ＥＸＧ）を膜厚５μｍ（乾燥時）になるようにグラビアリバース法により塗工し、溶剤を乾燥した。その後、実施例１と同様のマット賦型フィルム（東レ製：Ｘ）をマット面が紫外線硬化型樹脂と接するようにラミネートし、１６０Ｗの紫外線照射装置の下を１０ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ、紫外線硬化型樹脂を硬化させた。次いで、マット賦型フィルムを剥離して、表面に凹形状加工が施されたハードコート層（１３）を形成した。
【００７３】
このハードコート層（１３）／プラスチックフィルム（１１）からなる積層体を４０℃の１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液中に1分間浸漬した。さらに、純水中に1分間浸漬し水酸化ナトリウムを除去した。このように処理した透明なプラスチックフィルム（１１）を純水中から引き上げ、窒素ガスを吹きかけ、表面に斑紋が残らないように乾燥した。
【００７４】
このアルカリ処理した積層体のハードコートを施していない面に、インジウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、膜厚２５０Å、酸化すず含有率２０重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜（１２）として製膜した。この時、真空度は３×１０-3Ｔｏｒｒとし、ガスとしてＡｒを１３０ｓｃｃｍ、Ｏ2を２ｓｃｃｍ流し、ターゲット印加電力は１．３Ｗ／ｃｍ2とした。また、基板フィルムは製膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のままとし、ライン速度は１．８ｍ／ｍｉｎとした。
【００７５】
この透明導電性フィルム（１）を一方のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上に上記と同等の方法で膜厚４００Åの透明導電性薄膜を形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。
【００７６】
実施例４
厚さが１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績(株）製：コスモシャイン Ａ４１４０）を透明なプラスチックフィルム（１１）として用いた。このフィルムの易接着処理面に、ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートとの混合物からなる紫外線硬化型樹脂（大日精化製：ＥＸＧ）を膜厚５μｍ（乾燥時）になるようにグラビアリバース法により塗工し、溶剤を乾燥した。その後、実施例１と同様のマット賦型フィルム（東レ製：Ｘ）をマット面が紫外線硬化型樹脂と接するようにラミネートし、１６０Ｗの紫外線照射装置の下を１０ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ、紫外線硬化型樹脂を硬化させた。次いで、マット賦型フィルムを剥離して、表面に凹形状加工が施されたハードコート層（１２）を形成した。
【００７７】
さらに、プラスチックフィルム（１１）のハードコート層（１３）が形成されていない面に、ポリエステル樹脂（東洋紡績（株）製 バイロンＲＶ２８０）を０．８重量％、イソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業（株）製 コロネートＬ）を０．７重量％、及び溶剤として、メチルエチルケトンを６５．０重量％、トルエンを２５．０重量％、シクロヘキサノンを８．５重量％、混合したコーティング液を用いて、バーコート法を用いてコーティングした。ワイヤーバーは＃３を使用した。コーティングされたフィルムは、１３０℃で３０分間熱処理を施した。コーティング厚さ（固形分）は、０．０８μｍであった。
【００７８】
ポリエステル樹脂を主成分としたプライマー層（１５）上に、インジウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法で、膜厚３００Å、酸化すず含有率３５重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜として製膜した。この時、真空度は１×１０-3Ｔｏｒｒとし、ガスとしてＡｒを６０ｓｃｃｍ、Ｏ2を２ｓｃｃｍ流した。また製膜中、基板フィルムの温度は５℃とした。ターゲット印加電力は１．７Ｗ／ｃｍ2とし、ライン速度は１．７ｍ／ｍｉｎとした。
【００７９】
この透明導電性フィルムを一方のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上に上記と同等の方法で膜厚４００Åの透明導電性薄膜を形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。
【００８０】
比較例１
実施例１と同様のプラスチックフィルム（１１）上に、マット剤を含むハードコート層（１３）を形成した。このハードコート層（１３）は、マット剤である粒径５μｍのシリカを４重量部添加したポリエステルアクリレート樹脂を膜厚５μｍになるように塗工して、紫外線照射を行って硬化させた。さらに、プラスチックフィルム（１１）のハードコート層（１３）を形成していない面に実施例１と同様にして、透明導電性薄膜（１２）を形成して、透明導電性フィルム（１）を作製した。また、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
【００８１】
以上の実施例１〜５および比較例１の透明導電性フィルム（１）について、ハードコート層表面の凹形状測定、表面抵抗率、光線透過率、ヘイズ、グロス、透明導電性薄膜（１２）の下地との付着力、透明導電性薄膜（１２）のエッチング時間、透明導電性薄膜（１２）の電子線回折像を下記の方法で測定した。また、実施例1〜５および比較例1の透明導電性フィルムをも使用して作製したタッチパネルについて、ペン入力耐久試験を実施した。
【００８２】
＜ハードコート層表面の凹形状測定＞
表面形状測定装置（（株）キーエンス製：ＶＦ−７５００）を用いて、表面に存在する５０個のハードコート層表面の凹形状に関し直径および深さを測定し、この平均値を凹形状の直径および深さとした。また、０．１ｍｍ×０．１ｍｍの視野内における凹形状の数を顕微鏡の写真像からカウントした。
【００８３】
＜鉛筆硬度＞
JIS K 5400における鉛筆引っかき試験に準じ、ヘイドン−１４（新東科学社）を使用して測定した。
【００８４】
＜表面抵抗率＞
JIS K 7194に準拠し、４端子法にて測定した。測定機としては、三菱油化（株）製：Lotest AMCP-T400を用いた。
【００８５】
＜光線透過率、ヘイズ＞
JIS K 7105に準拠し、日本電色工業（株）製：NDH-1001DPを用いて、光線透過率およびヘイズを測定した。
【００８６】
＜グロス＞
JIS K 7105に準拠し、日本電色工業（株）製：VGS-1001DPを用いて、グロスを測定した。投光角、受光角はともに６０°とした。
【００８７】
＜付着力測定＞
厚み４０μｍのアイオノマーフィルム（タマポリ株式会社製：ＨＭ−０７）をポリエステル系接着剤（武田薬品株式会社製：タケネートＡ３１０／タケラックＡ−３）を用いて、厚み７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績株式会社製：エステルフィルム Ｅ５１００）にラミネートし、付着力測定用積層体を作製した。この付着力測定用積層体のアイオノマー面と透明導電性フィルムの透明導電性薄膜面を対向させ、５ｋｇ／ｃｍ2下で温度１３０℃で２秒間熱圧着した。この積層体を付着力測定用積層体と透明導電性フィルムとを１８０度剥離法で剥離し、この剥離力を付着力とした。この時の剥離速度は、１０００ｍｍ／分とした。
【００８８】
＜エッチング時間＞
１０ｃｍ×１ｃｍのサイズに切り出した透明導電性フィルムの両端にテスターを接続し、抵抗を測定しながら、温度４０℃の２０％硫酸水溶液中に浸漬し、抵抗が１０ＭΩ以上となる時間をエッチング時間とした。
【００８９】
＜透明導電性薄膜の電子線回折＞
プラスチックフィルムおよび硬化性高分子硬化層を溶解し、透明導電性薄膜の単独膜を得るために、透明導電性フィルムを１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロパノール中に２日間浸漬する。溶液中の透明導電性薄膜をマイクログリッドに乗せ、溶液を乾燥させるために１日間風乾した。この試料の電子線回折像を透過型電子顕微鏡（日本電子（株）製：ＪＥＭ−２０１０）にて測定した。電子線の条件は、加速電圧２００ｋＶ、波長０．００２５ｎｍで行った。この回折像から、透明導電性薄膜が結晶質または非晶質のどちらであるかを測定した。
【００９０】
＜ペン入力耐久試験＞
まず、ペン入力試験前のリニアリティ測定を以下のようにして実施した。
本発明の透明導電性フィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍに切り出し、透明導電性薄膜形成面の両端辺に幅５ｍｍの電極を銀ペーストを塗布して作成した。この電極間に定電圧電源により５Ｖを印加し、サンプルの中心部５０ｍｍ×５０ｍｍの範囲を縦横１ｍｍ間隔で、（x1, y1)〜（x50, y50)の２５００点について電圧Vi,j（i,j=1〜50）を測定した。
各電圧測定点での理論電圧
Ui,j＝V1,1＋(V50,50−V1,1)/50×(j−1)
からのズレを
Δi,j＝(Vi,j-Ui,j)/Ui,j
で定義し、このΔi,jの絶対値の最大値をリニアリティと定義した。
【００９１】
ペン入力試験前のリニアリティを測定した透明導電性フィルムを用い、実施例および比較例に記載されているようにしてタッチパネルを作製した。透明導電性フィルムで構成されたパネル板側から、ポリアセタール樹脂からなるペン先半径０．８ｍｍのタッチペンを用いて、リニアリティ測定を行った部位に、プロッタ（ローランド(株）製：ＤＸＹ−１１５０）により、２ｃｍ角サイズのカタカナのア〜ンまでの文字の筆記を行い、ペン入力試験を行った。この時、ペン荷重２５０ｇｆ、文字筆記速度２０００字／時間とした。
【００９２】
筆記が終了したタッチパネルから、透明導電性フィルムを取り外して、ペン入力試験後の透明導電性フィルムのリニアリティを前述と同様の手法で測定した。この評価を様々な筆記文字数に対して行い、リニアリティが３％を越えたときの文字数をペン入力耐久文字数とした。
【００９３】
以上の結果を表１に示す。この結果より、特定の直径及び深さの凹形状を特定の密度で有するハードコート層を使用した本発明の透明導電性フィルムは、従来のマット剤を含有しているハードコートフィルムと同等のグロス値を示す。したがって、従来品と同等の防眩性を維持し、かつ光線透過率とヘイズが共に優れた、透明性に優れた導電性フィルムであることがわかる。さらに反射防止層を形成することで、透明性を一層向上することができる。また、透明導電性薄膜と下地との付着力に優れているので、ペン入力耐久性も優れたものとなっている。
【００９４】
【表１】
【００９５】
【発明の効果】
本発明によると、透明なプラスチックフィルム（１１）の一方の面に透明導電性薄膜（１２）が積層され、他の面にはハードコート層（１３）が積層された透明導電性フィルム（1）であって、かつハードコート層（１３）の表面に直径が３〜３０μｍで、深さが０．１〜３μｍである凹形状を５〜５００００個／０．０１ｍｍ2の密度で形成されているため、タッチパネルに使用した際に、外光の映り込みが少なく、かつ像解像度の優れたものとなる。また、透明なプラスチックフィルム（１１）表面あるいはプライマー層（１５）表面と透明導電性薄膜（１２）との付着力が極めて強いため、ペン入力用タッチパネルに用いた際のペンの押圧で対向の透明導電性薄同士が接触しても、剥離、クラック等を生じることがなく、ペン入力耐久性に極めて優れたタッチパネルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１及び３の透明導電性フィルムの層構成を示す説明図である。
【図２】実施例２の透明導電性フィルムの層構成を示す説明図である。
【図３】実施例４の透明導電性フィルムの層構成を示す説明図である。
【図４】タッチパネルの断面図である。
【符号の説明】
１ 透明導電性フィルム
２ ガラス板
３ ビーズ
１１ プラスチックフィルム
１２ 透明導電性薄膜
１３ ハードコート層
１４ 反射防止層
１５ プライマー層
【発明の属する技術分野】
本発明はプラスチックフィルムを用いた透明導電性フィルムおよびこれを用いたタッチパネルに関するものであり、さらに視認性に優れたタッチパネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
プラスチックフィルム上に、透明でかつ抵抗値の低い化合物からなる薄膜を形成した透明導電性フィルムは、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイといったフラットパネルディスプレイや、タッチパネルの透明電極など電気、電子分野の用途に広く使用されている。
【０００３】
透明導電性薄膜としては、一般的には、酸化スズ、酸化インジウム、酸化インジウム−スズ、酸化亜鉛などが代表的なものであり、基板としては、ポリエチレンテレフタレートをはじめとする各種のプラスチックフィルムが用いられている。
【０００４】
近年、携帯情報端末やタッチパネル付きノートパソコンの普及により、視認性に優れたタッチパネルが要求されるようになってきた。すなわち、外部から照射される光の表面への映り込みを低減したタッチパネルが要求されている。
【０００５】
このようなタッチパネルを作製するためには、従来、一般的には二酸化ケイ素などのフィラーを含む樹脂から形成したハードコート層を積層した透明導電性フィルムを用いられてきた。タッチパネル表面への映り込みが少なくするために、前記ハードコート層の表面はフィラーにより凸形状を形成させ、この形状により外部から照射される光を乱反射させることが行なわれてきた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような従来の透明導電性フィルムは次のような課題を有していた。
【０００７】
前記従来の防眩性ハードコート（特開平１−１０５７３８号公報）は、例えば、樹脂１００重量部に対してシリカが２重量部程度配合されているが、このような配合割合のシリカを含む塗膜を使用した場合、透明性が低下するという問題があった。また、表面が凸形状をしているため、このレンズ効果によりタッチパネル下の液晶ディスプレイの像解像度が低下するという問題もあった。
【０００８】
さらに、タッチパネルを用いた際のペン入力耐久性を改善するために、１２０μｍ以下の厚さの透明プラスチック上に透明導電性薄膜を形成し、粘着剤層で防眩性ハードコートフィルムと貼り合わせた透明導電性フィルム（特開平２−９４３２２号公報）が提案されている。しかしながら、ペン入力に対する耐久性が不十分であり、また粘着剤を用いて貼り合わせているため、貼り合あわせ時にゴミなどの異物が混入し、光学欠点の多い透明導電性フィルムとなるという問題があった。
【０００９】
また、透明なプラスチックフィルム上に有機ケイ素化合物の加水分解により生成された層を設け、さらに透明導電性薄膜を積層した透明導電性フィルム（特開昭６０−１３１７１１号公報）が提案されている。しかしながら、この透明導電性フィルムは、透明導電性薄膜を製膜した後に１５０℃程度の熱処理が必要であるため、結晶質の透明導電性薄膜となる。このため、タッチパネル作製時の透明導電性薄膜のエッチング特性が極めて悪く、タッチパネルの製造コストが高いものになってしまう。
【００１０】
本発明は、上記の従来の問題点に鑑み、透明性、像解像度に優れた防眩性ハードコート層を積層した透明導電性フィルム及びペン入力耐久性に優れたタッチパネルを提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記のような状況に鑑みなされたものであって、上記の課題を解決することができた透明導電性フィルムおよびタッチパネルとは、以下の通りである。即ち、本発明の第１の発明は、透明なプラスチックフィルム（１１）の一方の面に透明導電性薄膜（１２）が積層され、他の面にはハードコート層（１３）が積層された透明導電性フィルム（１）であって、かつ前記ハードコート層（１３）が、電離放射線硬化型樹脂組成物を塗工し、未硬化の塗膜上にマット賦型フィルムで賦型され、電離放射線照射により硬化された後、マット賦型フィルムが剥離されてなり、ハードコート層（１３）の表面に直径が１５〜１８μｍで、深さが０．７〜１．２μｍである凹形状を４００〜７００個／０．０１ｍｍ2の密度で形成されていることを特徴とする透明導電性フィルムである。第２の発明は、ハードコート層（１３）の鉛筆硬度がＨ以上であることを特徴とする前記第1の発明に記載の透明導電性フィルムである。第３の発明は、表面に凹形状を有するハードコート層（１３）上に反射防止層（１４）が形成されていることを特徴とする前記第１または２の発明に記載の透明導電性フィルムである。第４の発明は、透明導電性薄膜（１２）と下地との付着力が１０ｇ／１５ｍｍ以上であることを特徴とする前記第１乃至３の発明のいずれかに記載の透明導電性フィルムである。第５の発明は、透明導電性薄膜（１２）と透明なプラスチックフィルム（１１）との間にポリエステル樹脂を主成分としたプライマー層（１５）を設けたことを特徴とする前記第１乃至４の発明のいずれかに記載の透明導電性フィルムである。第６の発明は、透明導電性薄膜（１２）が非晶質であることを特徴とする請求項１乃至５の発明のいずれかに記載の透明導電性フィルムである。第７の発明は、透明導電性薄膜を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルにおいて、少なくとも一方のパネル板が前記第１乃至６の発明のいずれかに記載の透明導電性フィルム（１）を使用することを特徴とするタッチパネルである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
次に本発明を詳細に説明する。
本発明における透明なプラスチックフィルム（１１）とは、有機高分子を溶融押出し又は溶液押出しをして、必要に応じ、長手方向、および、または、幅方向に延伸、冷却、熱固定を施したフィルムであり、有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンー２、６ーナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン６、ナイロン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアクリル、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタクチクポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどがあげられる。また、これらの有機高分子は他の有機重合体を少量共重合したり、ブレンドしたりしてもよい。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ポリエチレンー2、６ーナフタレート、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどが、最も好ましく用いられる。
【００１３】
本発明における透明なプラスチックフィルム（１１）の厚みは、１０μｍを越え、３００μｍの範囲にあることが好ましく、とくに好適には７０〜２６０μｍの範囲にあるのがよい。厚みが１０μｍ以下では機械的強度が不足し、特にタッチパネルに用いた際のペン入力に対する変形が大きくなり過ぎ、耐久性が十分でなくなる。一方、３００μｍを越えると、タッチパネルに用いた際のペン入力時の荷重を大きくする必要があり、好ましくない。
【００１４】
本発明におけるプラスチックフィルム（１１）は、本発明の目的を損なわないかぎりにおいて、該フィルムをコロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処理を施してもよい。
【００１５】
凹形状の防眩性ハードコート層（１３）を透明なプラスチックフィルム（１１）上に積層するには、プラスチックフィルム（１１）上に電離放射線硬化型樹脂組成物を塗工し、次に塗工された電離放射線硬化型樹脂組成物の未硬化状態の塗膜上に、表面に微細な凸形状を有するマット状の賦型フィルムで賦形された後に、電離放射線照射により硬化させる方法が好適である。前記でいうマット賦型フィルムとは、表面に微細凸形状を有するフィルムであり、ハードコート層に凹形状を設ける機能を有するフィルムのことである。
【００１６】
本発明において、ハードコート層の表面に、直径が３〜３０μｍで、深さが０．１〜３μｍである凹形状を５〜５００００個／０．０１ｍｍ2の密度となるように形成させることが必要である。凹形状の直径が３μｍ未満では、防眩性の効果が十分ではなく、３０μｍよりも大きい場合はヘイズが上昇しすぎて、好ましくない。また、凹形状の深さが０．１μｍ未満では防眩性の効果が十分ではなく、３μｍよりも深い場合はヘイズが上昇しすぎて、好ましくない。同様に、凹形状の密度が５個／０．０１ｍｍ2未満では防眩性の効果が十分ではなく、５００００個／０．０１ｍｍ２を超えると、ヘイズが高くなりすぎて、好ましくない。
【００１７】
また、本発明のハードコート層（１３）は鉛筆硬度でＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上がさらに好ましく、３Ｈ以上が特に好ましい。鉛筆硬度がＨよりも低いハードコート層では、透明導電性フィルムのハードコートとしては不十分である。
【００１８】
本発明のハードコート層（１３）の厚みは、０．５〜１０μｍであることが好ましい。前記厚みが０．５μｍ未満では十分なハードコート性が発現せず、１０μｍよりも厚い場合には生産性の観点から好ましくない。
【００１９】
防眩性ハードコートに用いられる電離放射線硬化型樹脂組成物の皮膜形成成分は、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）アクリート等のオリゴマーまたはプレポリマー及び反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ？ビニルピロリドン等の単官能モリマー並びに多官能モリマー、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングチコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオパンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用できる。
【００２０】
特に好ましいのは、ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物である。その理由は、ポリエステルアクリレートは塗膜が非常に硬くてハードコートを得るのに適しているが、ポリエステルアクリレート単独ではその塗膜は衝撃性が低く、脆くなるためである。そこで、塗膜に耐衝撃性及び柔軟性を与えるために、ポリウレタンアクリレートをポリエステルアクリレート１００重量部に対し、３０重量部以下併用することが好ましい。この値を超えると、塗膜が柔らかくなりすぎ、ハード性がなくなり好ましくない。
【００２１】
さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂組成物とするには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を混合するのが好ましい。
【００２２】
本発明で用いる防眩性ハードコート層（１３）を形成するための防眩塗料は、電離放射線硬化方樹脂１００重量部に対し溶剤乾燥型樹脂を１０〜１００重量部含ませてもよい。前記溶剤乾燥型樹脂には、主として熱可塑性樹脂が用いられる。電離放射線硬化型樹脂に添加する溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は特に限定はない。しかしながら、電離放射線硬化型樹脂としてポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物を使用した場合には、含有させる溶剤乾燥型樹脂としてポリメタクリル酸メチルアクリレート又はポリメタクリル酸ブチルアクリレートを選ぶと、塗膜の硬度を高く保つことができるので好ましい。しかも、電離放射線硬化型樹脂との屈折率が近いため、塗膜の透明性を損なわず、透明性、特に、低ヘイズ値、高光線透過率、また相溶性の点において有利である。
【００２３】
本発明において、電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を含ませることが有利である点をさらに詳しく説明する。電離放射線硬化型樹脂組成物を、メタリングロールを有するロールコーターでプラスチックフィルム（１１）に塗布する場合、メタリングロール表面に残留する液状樹脂膜が流動して経時的に筋やムラ等になり、これらが塗布面に転写して塗布面に筋やムラ等の欠点を生じる。しかしながら、本発明のように電離放射線硬化型樹脂組成物に溶剤乾燥型樹脂を含ませると、このような塗布面の塗膜欠陥を防ぐことが出来る。
【００２４】
前記電離放射線硬化型樹脂組成物の硬化方法は、通常の硬化方法を採用することができる。即ち、電子線または紫外線の照射によって硬化することができる。例えば、電子線効果の場合はコックロフトワルトン型、ハンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハイライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。
【００２５】
前記賦型フィルムには、離型性のあるＰＥＴ等の基材フィルム上に所望の凸形状を設けたもの、あるいは、ＰＥＴ等の基材フィルム上に繊細な凸層を形成したもの等を用いることができる。その凸層は、例えば、無機系フィラーとバインダー樹脂からなる樹脂組成物を用いて基材フィルム上に塗工して形成されたものが好ましい。そのバインダー樹脂として、例えば、ポリイソシアネートで架橋されたアクリルポリオールを用い、無機系フィラーとしては、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ3）およびシリカ（ＳｉＯ2）を用いることができる。また、この他にＰＥＴ製造時にＳｉＯ2等を練込んだマットＰＥＴも用いることができる。
【００２６】
この賦型フィルムを紫外線硬化型樹脂の塗膜にラミネートして、紫外線を照射して塗膜を硬化する場合、賦型フィルムがＰＥＴを基材としたフィルムであると、該フィルムに紫外線の短波長側が吸収されることになり、紫外線硬化型樹脂の硬化不足になってしまうという欠点がある。したがって、紫外線硬化型樹脂の塗膜をラミネートした賦型フィルムの透過率が２０％以上のものを使用することが必要である。
【００２７】
本発明における透明導電性薄膜（１２）としては、透明性、及び、導電性をあわせもつ材料であれば特に制限はないが、代表的なものとしては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物等の薄膜が挙げられる。これらの化合物からなる薄膜は、適当な作成条件とすることで、透明性と導電性をあわせもつ透明導電性薄膜とすることができる。
【００２８】
透明導電性薄膜（１２）の膜厚は、４０〜８０００Åの範囲が好ましく、特に好ましくは５０〜５０００Åの範囲である。透明導電性薄膜（１２）の膜厚が４０Åよりも薄い場合には、連続した薄膜になりにくく良好な導電性を示さない。また、８０００Åよりも厚い場合、透明性の低下をきたす。
【００２９】
本発明における透明導電性薄膜（１２）の作成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法などが知られており、上記材料の種類および必要膜厚に応じて適宜の方法を用いることができる。
【００３０】
例えば、スパッタリング法の場合、化合物を用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を併用してもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、基板に直流、交流、高周波などのバイアスを印加してもよい。
【００３１】
非晶質の透明導電性膜（１２）を製膜するためには、基板であるプラスチックフィルムの製膜時の温度を１００℃以下にする必要がある。また、蒸着法、ＣＶＤ法などの他の作成方法においても同様である。
【００３２】
本発明における透明導電性フィルム（１）において、ペン入力耐久性の向上には、透明なプラスチックフィルム（１１）と透明導電性薄膜（１２）との付着力を１０ｇ／１５ｍｍ以上にすることが好ましい。付着力が１０ｇ／１５ｍｍ未満の場合には、ペン入力時に透明導電性薄膜（１２）にクラックや剥離が生じ、電気抵抗が増大したり、断線を生じ、ペン入力耐久性が十分でない透明導電性フィルム（１）となりやすい。
【００３３】
そこで、透明なプラスチックフィルム（１１）と透明導電性薄膜（１２）の付着力を１０ｇ／１５ｍｍ以上にするためには、透明なプラスチックフィルム（１１）に表面処理を施すことが有効である。処理方法としては、酸性もしくはアルカリ性水溶液への浸漬によるウェット工程による方法と、紫外線照射、プラズマ処理、イオン照射等のドライ工程による方法がある。
【００３４】
酸性水溶液による処理に用いられる酸は、塩酸、硫酸、フッ酸、硝酸などの単独酸もしくは混酸が挙げられる。また、アルカリ性水溶液による処理に用いられるアルカリは、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カルシウムなどを単独もしくは混合したものが好適である。また、酸・アルカリ性水溶液を洗剤中に混合したものを用いることで、付着力をさらに向上することが可能である。
【００３５】
以上のようなウェット工程による洗浄を行った後に、処理に用いた媒質を除去し、乾燥する。例えば、純水を用いたリンスを十分に行い、透明なプラスチックフィルムの引き上げに注意を払い、窒素ブローなどで素早く乾燥させ、表面に純水の斑紋が残らないようにすることが好ましい。
【００３６】
また、低圧もしくは高圧紫外線ランプをもちいて紫外線を照射し、透明なプラスチックフィルム（１１）上の改質をしてもよい。さらに、真空中でイオンやプラズマを照射し、汚染物を分解、除去する方法を用いてもよい。
【００３７】
さらに、本発明における透明導電性フィルム（１）のための好ましいプライマー層（１５）は、透明なプラスチックフィルム（１１）および透明導電性薄膜（１２）の双方に卓越した接着性質を提供する。このプライマー層（１５）はポリエステル樹脂を主成分とするが必要に応じて、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ウレタンアクリル樹脂、メラミン樹脂などをブレンドしてもよい。
【００３８】
本発明のプライマー層（１５）に使用するポリエステル樹脂は、多価カルボン酸類と多価アルコール類からなる。ポリエステル樹脂に用いられる多価カルボン酸類としては、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジフェン酸、スルホテレフタル酸、５−スルホイソフタル酸、４−スルホフタル酸、４−スルホナフタレン−２，７−ジカルボン酸、５〔４−スルホフェノキシ〕イソフタル酸、スルホテレフタル酸、およびまたはそれらの金属塩、アンモニウム塩などの芳香族ジカルボン酸、ｐ−オキシ安息香酸、ｐ−（ヒドロキシエトキシ）安息香酸などの芳香族オキシカルボン酸、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、フマール酸、マレイン酸、イタコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、等の不飽和脂肪族、および、脂環族ジカルボン酸等を、また多価カルボン酸としては他にトリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸等の三価以上の多価カルボン酸等が挙げられる。
【００３９】
ポリエステル樹脂に用いられる多価アルコール類としては、脂肪族多価アルコール類、脂環族多価アルコール類、芳香族多価アルコール類等が例示できる。
【００４０】
脂肪族多価アルコール類としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、２，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等の脂肪族ジオール類、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、グリセリン、ペンタエルスリトール等のトリオールおよびテトラオール類等が挙げられる。
【００４１】
脂環族多価アルコール類としては、１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、スピログリコール、水素化ビスフェノールＡ、水素化ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物、トリシクロデカンジオール、トリシクロデカンジメタノール等が例示できる。
【００４２】
芳香族多価アルコール類としては、パラキシレングリコール、メタキシレングリコール、オルトキシレングリコール、１，４−フェニレングリコール、１，４−フェニレングリコールのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物およびプロピレンオキサイド付加物等が例示できる。
【００４３】
さらに、ポリエステルポリオールとして、ε−カプロラクトン等のラクトン類を開環重合して得られる、ラクトン系ポリエステルポリオール類等を例示することができる。これらの他に、ポリエステル高分子末端の極性基を封鎖する目的で単官能単量体がポリエステルに導入させてもよい。
【００４４】
単官能単量体としては、安息香酸、クロロ安息香酸、ブロモ安息香酸、パラヒドロキシ安息香酸、スルホ安息香酸モノアンモニウム塩、スルホ安息香酸モノナトリウム塩、シクロヘキシルアミノカルボニル安息香酸、ｎ−ドデシルアミノカルボニル安息香酸、ターシャルブチル安息香酸、ナフタレンカルボン酸、４−メチル安息香酸、３−メチル安息香酸、サリチル酸、チオサリチル酸、フェニル酢酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、オクタンカルボン酸、ラウリル酸、ステアリル酸、およびこれらの低級アルキルエステル、等のモノカルボン酸類、あるいは脂肪族アルコール、芳香族アルコール、脂環族アルコール等のモノアルコールを用いることができる。
【００４５】
本発明において、これらのうち不飽和単量体を必須成分とし、他の成分はポリエステル樹脂のガラス転移温度、モノマーとの相溶性、等により適宜選択される。
ポリエステルに導入されるイオン性基としては、スルホン酸アルカリ金属塩基あるいはスルホン酸アンモニウム塩基を有するモノあるいはジカルボン酸等を好ましく用いることができるほか、例えばカルボン酸アルカリ金属塩基あるいはカルボン酸アンモニウム塩基を有する単量体、硫酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基もしくはそれらのアンモニウム塩、金属塩等のアニオン性基、または第１級ないし第３級アミン基等のカチオン性基単量体などを用いることができる。
【００４６】
カルボン酸アルカリ金属塩基あるいはカルボン酸アンモニウム塩基を導入する場合には、ポリエステルの重合末期にトリメリット酸等の多価カルボン酸を系内に導入することにより高分子末端にカルボキシル基を付加し、さらにこれをアンモニア、水酸化ナトリウム等にて中和することによりカルボン酸塩の基に交換する方法を用いることができる。
また、スルホン酸アルカリ金属塩基あるいはスルホン酸アンモニウム塩基を有するモノあるいはジカルボン酸を含有することによりこれらのイオン性基をポリエステル樹脂に導入することができる。塩としてはアンモニウム系イオン、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｃｕ、Ｆｅ等の塩があげられ、特に好ましいものはＫ塩またはＮａ塩である。本発明では５−ナトリウムスルホイソフタル酸、あるいはメタナトリウムスルホ安息香酸を用いることが好ましい。またカルボン酸塩の基とスルホン酸塩の基を使用してもよい。
【００４７】
本発明におけるポリエステル樹脂のより具体的な例を以下に示す。
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）エチレングリコール０〜９０ｍｏｌ％、プロピレングリコール１００〜１０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）２，３−ブタンジオール５〜８０ｍｏｌ％、エチレングリコール２０〜９５ｍｏｌ％ とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、ｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％及びｃ）トリシクロデカン骨格を有するモノあるいは多価アルコール類５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％、ｃ）ヒドロキシメチルトリシクロデカン５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
【００４８】
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％、ｃ）トリシクロデカンジメタノール５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％、ｃ）シクロヘキサン骨格を有するモノあるいは多価アルコール類５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％、ｃ）シクロヘキサンジオール５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％、ｃ）水添ビフェノールＡ５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
【００４９】
ａ）芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜９５ｍｏｌ％、ｃ）水添ビスフェノールＡ５〜３０ｍｏｌ％とから得られるポリエステル樹脂、または
ａ）ナフタレン骨格を有するモノあるいは二価以上のカルボン酸１〜２０ｍｏｌ％を含む芳香族系単量体を８０ｍｏｌ％以上含有する多価カルボン酸類、及びｂ）Ｃ2〜Ｃ4の脂肪族系グリコール類７０〜１００ｍｏｌ％、ｃ）脂環族系単量体０〜３０ｍｏｌ％を含有する多価アルコール類、とから得られるポリエステル樹脂等を例示することができる。
【００５０】
さらに、前記に示される「ａ）芳香族系単量体」は、テレフタル酸あるいはイソフタル酸であることが好ましい。テレフタル酸とイソフタル酸の比率は、テレフタル酸含有率／イソフタル酸含有率＝９０〜４０／１０〜６０［ｍｏｌ％］が好ましく、さらに好ましくは、テレフタル酸含有率／イソフタル酸含有率＝８０〜５０／２０〜５０［ｍｏｌ％］であり、特に好ましくは、テレフタル酸含有率／イソフタル酸含有率＝８５〜６０／１５〜４０［ｍｏｌ％］である。
【００５１】
イオン性基含有単量体をポリエステル樹脂に導入し、ポリエステル樹脂にイオン性基を与えた場合、透明導電性薄膜との付着力がさらに強固なものとなる。イオン性基含有単量体としては前述したスルホン酸アルカリ金属塩基あるいはスルホン酸アンモニウム塩基を有するモノあるいはジカルボン酸等を好ましく用いることができるほか、例えばカルボン酸アルカリ金属塩基あるいはカルボン酸アンモニウム塩基を有する単量体、硫酸基、リン酸基、ホスホン酸基、ホスフィン酸基もしくはそれらのアンモニウム塩、金属塩等のアニオン性基、または第１級ないし第３級アミン基等のカチオン性基単量体などを用いることができる。
【００５２】
カルボン酸アルカリ金属塩基あるいはカルボン酸アンモニウム塩基を導入する場合には、ポリエステルの重合末期にトリメリット酸等の多価カルボン酸を系内に導入することにより高分子末端にカルボキシル基を付加し、さらにこれをアンモニア、水酸化ナトリウム等にて中和することによりカルボン酸塩の基に交換する方法を用いることができる。
また、プライマー層（１５）に用いるポリエステル樹脂は、耐熱性の観点から、架橋構造を有するものが好ましい。
【００５３】
本発明のプライマー層（１５）の厚さは、０．００５〜２μｍの範囲が好ましく、さらに好ましくは０．０１〜１μｍの範囲である。厚さが０．００５μｍより薄い場合は、連続した膜になりにくいため透明導電性薄膜（１２）の付着力が不足し、２μｍよりも厚い場合は、プライマー層（１５）の凝集破壊が起りやすくなるため、やはり透明導電性薄膜（１２）の付着力が不足する。
【００５４】
本発明のプライマー層（１５）を透明なプラスチックフィルム（１１）上に積層するには、コーティング法を用いて積層することが好ましい。コーティング法としては、エアドクタコート法、ナイフコート法、ロッドコート法、正回転ロールコート法、リバースロールコート法、グラビアコート法、キスコート法、ビードコート法、スリットオリフェスコート法、キャストコート法などが用いられる。架橋構造を付与する場合には、コーティング後に加熱もしくは紫外線、電子線照射によりエネルギー印加する。
【００５５】
また、透明なプラスチックフィルム（１１）として長手方向および幅方向に延伸、冷却、熱固定を行ったフィルムを用いる場合には、プライマー層（１５）を二つの延伸段階の間、すなわち二軸延伸操作の長手方向および幅方向への延伸の間で、コーティングする方法を適用してもよい。このような延伸およびコーティングの順序は特に、高分子樹脂層（１５）を積層したポリエステルフィルムの製造に好ましい。好ましくは、まず長手方向に、一連の回転ローラー上で延伸され、次に硬化性高分子をコーティングし、そして最後に、テンターオーブン中で横方向に延伸され冷却、熱固定をおこなう。さらに好ましくは、このあとにフィルムに加熱もしくは紫外線、電子線照射によりエネルギー印加し硬化させる。
【００５６】
プライマー層（１５）をコーティングするに先立ち、本発明の目的を損なわないかぎりにおいて、透明なプラスチックフィルム（１１）をコロナ放電処理、グロー放電処理などの表面処理を施してもよい。
【００５７】
また、タッチパネルの用いた際に可視光線の透過率をさらに向上させるために、ハードコート層（１３）上に反射防止処理を施してもよい。この反射防止処理は、ハードコート層（１３）の屈折率とは異なる屈折率を有する材料を単層もしくは２層以上積層することが好ましい。単層構造の場合、ハードコート層（１３）よりも小さな屈折率を有する材料を用いるのがよい。また、２層以上の多層構造とする場合は、ハードコート層（１３）と隣接する層は、ハードコート層（１３）よりも大きな屈折率を有する材料を用い、この上の層にはこれよりも小さな屈折率を有する材料を選ぶのがよい。このような反射防止処理を構成する材料としては、有機材料でも無機材料でも上記の屈折率の関係を満足すれば特に限定されないが、例えば、ＣａＦ2、ＭｇＦ2、ＮａＡｌＦ4、ＳｉＯ2、ＴｈＦ4、ＺｒＯ2、Ｎｄ2Ｏ3、ＳｎＯ2、ＴｉＯ2、ＣｅＯ2、ＺｎＳ、Ｉｎ2Ｏ3などの誘電体を用いるのが好ましい。
【００５８】
この反射防止処理は、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法などのドライコーティングプロセスでも、グラビア方式、リバース方式、ダイ方式などのウェットコーティングプロセスでもよい。
【００５９】
さらに、この反射防止処理層（１４）の積層に先立って、前処理として、コロナ放電処理、プラズマ処理、スパッタエッチング処理、電子線照射処理、紫外線照射処理、プライマ処理、易接着処理などの公知の処理を施してもよい。
【００６０】
図５に、本発明の透明導電性フィルム（１）を用いた、タッチパネルの例を示す。透明導電性薄膜を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルにおいて、一方のパネル板に本発明の透明導電性フィルム（１）を用いたものである。このタッチパネルは、最外層が本発明の透明導電性フィルム（１）であるため、凹形状の防眩形ハードコートにより外光の映り込みが少なく、かつ、像解像度にも優れたタッチパネルである。またこのタッチパネルは、ペンにより文字入力したときに、ペンからの押圧により、対向した透明導電性薄膜同士が接触し、電気的にＯＮになり、ペンのタッチパネル上での位置を検出できる。このペン位置を連続的かつ正確に検出することで、ペンの軌跡から文字を入力できる。この際、ペン接触側のパネル板が本発明の透明導電性フィルム（１）であるため、ペン入力耐久性に優れるため、長期にわたって安定なタッチパネルである。
【００６１】
なお、図５において、もう一方のパネル板は、プラスチックフィルムやガラス板の透明基板の上に透明導電性薄膜を積層したものであるが、本発明の透明導電性フィルム（１）を使用してもよい。
【００６２】
【実施例】
以下に、本発明の実施例を記載してより具体的に説明する。なお、以下において、部は重量部を意味する。
【００６３】
実施例1
厚さが１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績（株）製：コスモシャイン Ａ４１４０）を透明なプラスチックフィルム（１１）として用いた。このフィルムの易接着処理面に紫外線硬化型樹脂としてポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートとの混合物からなる紫外線硬化型樹脂（大日精化製：ＥＸＧ）を膜厚５μｍ（乾燥時）となるようにグラビアリバース法により塗工し、溶剤を乾燥した。その後、表面に微細な凸形状が形成されたポリエチレンテレフタレートフィルムのマット賦型フィルム（東レ製：Ｘ）をマット面が紫外線硬化型樹脂と接するようにラミネートした。このマット賦型フィルムの表面形状は、平均粗さ０．４０μｍ、山の平均間隔１６０μｍ、最大粗さ２５μｍである。このようにラミネートしたフィルムを１６０Ｗの紫外線照射装置の下を１０ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ、紫外線硬化型樹脂を硬化させた。次いで、マット賦型フィルムを剥離して、表面に凹形状加工が施されたハードコート層（１３）を形成した。
【００６４】
次に、プラスチックフィルム（１１）のハードコート層（１３）を形成していない面にインジウム−スズ合金をターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、膜厚２５０Å、酸化すず含有率１０重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜（１２）として製膜した。この時、真空度は３×１０-3Ｔｏｒｒとし、ガスとしてＡｒを１３０ｓｃｃｍ、Ｏ2を７０ｓｃｃｍ流し、ターゲット印加電力は２．５Ｗ／ｃｍ2とした。また、基板フィルムは製膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のままとし、ライン速度は５ｍ／ｍｉｎとした。
【００６５】
この透明導電性フィルム（１）を一方のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上に上記と同等の方法で膜厚４００Åの透明導電性薄膜を形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。
【００６６】
実施例２
厚さが１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績(株）製：コスモシャイン Ａ４１４０)を透明なプラスチックフィルム（１１）として用いた。このフィルムの易接着処理面に紫外線硬化型樹脂としてアクリルメラミン（大日精化製：ＰＴＣ）を膜厚５μｍ（乾燥時）になるようにグラビアリバース法により塗工し、溶剤を乾燥した。その後、実施例１と同様のマット賦型フィルム（東レ製：Ｘ）をマット面が紫外線硬化型樹脂と接するようにラミネートし、１６０Ｗの紫外線照射装置の下を１０ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ、紫外線硬化型樹脂を硬化させた。次いで、マット賦型フィルムを剥離して、表面に凹形状加工が施されたハードコート層（１３）を形成した。
【００６７】
次いで、このハードコート層（１２）上に順次ＴｉＯ2（屈折率：２．３０、膜厚１５０Å）、ＳｉＯ2（屈折率：１．４６、膜厚２９０Å）、ＴｉＯ2（屈折率：２．３０、膜厚１０９０Å）、ＳｉＯ2（屈折率：１．４６、膜厚８７０Å）を積層することで反射防止処理層（１４）を形成した。
【００６８】
ＴｉＯ2薄膜を形成するには、チタンをターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、真空度は３×１０-3Ｔｏｒｒ、ガスとしてＡｒを５００ｓｃｃｍ、Ｏ2を８０ｓｃｃｍ流した。また、基板フィルムの背面に０℃の冷却ロールを設けて、プラスチックフィルムを冷却した。このときのターゲットには７．８Ｗ／ｃｍ2の電力を供給し、ダイナミックレートは２３０Å・ｍ／ｍｉｎであった。
【００６９】
ＳｉＯ2薄膜を形成するには、シリコンをターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、真空度は３×１０-3Ｔｏｒｒ、ガスとしてＡｒを５００ｓｃｃｍ、Ｏ2を８０ｓｃｃｍ流した。また、基板フィルムの背面に０℃の冷却ロールを設けて、プラスチックフィルムを冷却した。このときのターゲットには７．８Ｗ／ｃｍ2の電力を供給し、ダイナミックレートは２３０Å・ｍ／ｍｉｎであった。
【００７０】
次に、プラスチックフィルム（１１）のハードコート層（１３）を形成していない面にインジウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、２８０Å厚、酸化すず含有率１０重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜（１２）として製膜した。この時、真空度は３×１０-3Ｔｏｒｒとし、ガスとしてＡｒを１３０ｓｃｃｍ、Ｏ2を２ｓｃｃｍ流し、ターゲット印加電力は１．５Ｗ／ｃｍ2とした。また、基板フィルムは製膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のままとし、ライン速度は２ｍ／ｍｉｎとした。
【００７１】
この透明導電性フィルム（１）を一方のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上に上記と同等の方法で膜厚４００Åの透明導電性薄膜を形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。
【００７２】
実施例３
厚さが１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績(株）製：コスモシャイン Ａ４１４０）を透明なプラスチックフィルム（１１）として用いた。このフィルムの易接着処理面に、ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートとの混合物からなる紫外線硬化型樹脂（大日精化製：ＥＸＧ）を膜厚５μｍ（乾燥時）になるようにグラビアリバース法により塗工し、溶剤を乾燥した。その後、実施例１と同様のマット賦型フィルム（東レ製：Ｘ）をマット面が紫外線硬化型樹脂と接するようにラミネートし、１６０Ｗの紫外線照射装置の下を１０ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ、紫外線硬化型樹脂を硬化させた。次いで、マット賦型フィルムを剥離して、表面に凹形状加工が施されたハードコート層（１３）を形成した。
【００７３】
このハードコート層（１３）／プラスチックフィルム（１１）からなる積層体を４０℃の１ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液中に1分間浸漬した。さらに、純水中に1分間浸漬し水酸化ナトリウムを除去した。このように処理した透明なプラスチックフィルム（１１）を純水中から引き上げ、窒素ガスを吹きかけ、表面に斑紋が残らないように乾燥した。
【００７４】
このアルカリ処理した積層体のハードコートを施していない面に、インジウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、直流マグネトロンスパッタリング法で、膜厚２５０Å、酸化すず含有率２０重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜（１２）として製膜した。この時、真空度は３×１０-3Ｔｏｒｒとし、ガスとしてＡｒを１３０ｓｃｃｍ、Ｏ2を２ｓｃｃｍ流し、ターゲット印加電力は１．３Ｗ／ｃｍ2とした。また、基板フィルムは製膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のままとし、ライン速度は１．８ｍ／ｍｉｎとした。
【００７５】
この透明導電性フィルム（１）を一方のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上に上記と同等の方法で膜厚４００Åの透明導電性薄膜を形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。
【００７６】
実施例４
厚さが１８８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績(株）製：コスモシャイン Ａ４１４０）を透明なプラスチックフィルム（１１）として用いた。このフィルムの易接着処理面に、ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートとの混合物からなる紫外線硬化型樹脂（大日精化製：ＥＸＧ）を膜厚５μｍ（乾燥時）になるようにグラビアリバース法により塗工し、溶剤を乾燥した。その後、実施例１と同様のマット賦型フィルム（東レ製：Ｘ）をマット面が紫外線硬化型樹脂と接するようにラミネートし、１６０Ｗの紫外線照射装置の下を１０ｍ／ｍｉｎの速度で通過させ、紫外線硬化型樹脂を硬化させた。次いで、マット賦型フィルムを剥離して、表面に凹形状加工が施されたハードコート層（１２）を形成した。
【００７７】
さらに、プラスチックフィルム（１１）のハードコート層（１３）が形成されていない面に、ポリエステル樹脂（東洋紡績（株）製 バイロンＲＶ２８０）を０．８重量％、イソシアネート系架橋剤（日本ポリウレタン工業（株）製 コロネートＬ）を０．７重量％、及び溶剤として、メチルエチルケトンを６５．０重量％、トルエンを２５．０重量％、シクロヘキサノンを８．５重量％、混合したコーティング液を用いて、バーコート法を用いてコーティングした。ワイヤーバーは＃３を使用した。コーティングされたフィルムは、１３０℃で３０分間熱処理を施した。コーティング厚さ（固形分）は、０．０８μｍであった。
【００７８】
ポリエステル樹脂を主成分としたプライマー層（１５）上に、インジウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、ＤＣマグネトロンスパッタリング法で、膜厚３００Å、酸化すず含有率３５重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜として製膜した。この時、真空度は１×１０-3Ｔｏｒｒとし、ガスとしてＡｒを６０ｓｃｃｍ、Ｏ2を２ｓｃｃｍ流した。また製膜中、基板フィルムの温度は５℃とした。ターゲット印加電力は１．７Ｗ／ｃｍ2とし、ライン速度は１．７ｍ／ｍｉｎとした。
【００７９】
この透明導電性フィルムを一方のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上に上記と同等の方法で膜厚４００Åの透明導電性薄膜を形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径３０μｍのエポキシビーズを介して、配置しタッチパネルを作製した。
【００８０】
比較例１
実施例１と同様のプラスチックフィルム（１１）上に、マット剤を含むハードコート層（１３）を形成した。このハードコート層（１３）は、マット剤である粒径５μｍのシリカを４重量部添加したポリエステルアクリレート樹脂を膜厚５μｍになるように塗工して、紫外線照射を行って硬化させた。さらに、プラスチックフィルム（１１）のハードコート層（１３）を形成していない面に実施例１と同様にして、透明導電性薄膜（１２）を形成して、透明導電性フィルム（１）を作製した。また、この透明導電性フィルムを用いて、実施例1と同様にしてタッチパネルを作製した。
【００８１】
以上の実施例１〜５および比較例１の透明導電性フィルム（１）について、ハードコート層表面の凹形状測定、表面抵抗率、光線透過率、ヘイズ、グロス、透明導電性薄膜（１２）の下地との付着力、透明導電性薄膜（１２）のエッチング時間、透明導電性薄膜（１２）の電子線回折像を下記の方法で測定した。また、実施例1〜５および比較例1の透明導電性フィルムをも使用して作製したタッチパネルについて、ペン入力耐久試験を実施した。
【００８２】
＜ハードコート層表面の凹形状測定＞
表面形状測定装置（（株）キーエンス製：ＶＦ−７５００）を用いて、表面に存在する５０個のハードコート層表面の凹形状に関し直径および深さを測定し、この平均値を凹形状の直径および深さとした。また、０．１ｍｍ×０．１ｍｍの視野内における凹形状の数を顕微鏡の写真像からカウントした。
【００８３】
＜鉛筆硬度＞
JIS K 5400における鉛筆引っかき試験に準じ、ヘイドン−１４（新東科学社）を使用して測定した。
【００８４】
＜表面抵抗率＞
JIS K 7194に準拠し、４端子法にて測定した。測定機としては、三菱油化（株）製：Lotest AMCP-T400を用いた。
【００８５】
＜光線透過率、ヘイズ＞
JIS K 7105に準拠し、日本電色工業（株）製：NDH-1001DPを用いて、光線透過率およびヘイズを測定した。
【００８６】
＜グロス＞
JIS K 7105に準拠し、日本電色工業（株）製：VGS-1001DPを用いて、グロスを測定した。投光角、受光角はともに６０°とした。
【００８７】
＜付着力測定＞
厚み４０μｍのアイオノマーフィルム（タマポリ株式会社製：ＨＭ−０７）をポリエステル系接着剤（武田薬品株式会社製：タケネートＡ３１０／タケラックＡ−３）を用いて、厚み７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績株式会社製：エステルフィルム Ｅ５１００）にラミネートし、付着力測定用積層体を作製した。この付着力測定用積層体のアイオノマー面と透明導電性フィルムの透明導電性薄膜面を対向させ、５ｋｇ／ｃｍ2下で温度１３０℃で２秒間熱圧着した。この積層体を付着力測定用積層体と透明導電性フィルムとを１８０度剥離法で剥離し、この剥離力を付着力とした。この時の剥離速度は、１０００ｍｍ／分とした。
【００８８】
＜エッチング時間＞
１０ｃｍ×１ｃｍのサイズに切り出した透明導電性フィルムの両端にテスターを接続し、抵抗を測定しながら、温度４０℃の２０％硫酸水溶液中に浸漬し、抵抗が１０ＭΩ以上となる時間をエッチング時間とした。
【００８９】
＜透明導電性薄膜の電子線回折＞
プラスチックフィルムおよび硬化性高分子硬化層を溶解し、透明導電性薄膜の単独膜を得るために、透明導電性フィルムを１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロパノール中に２日間浸漬する。溶液中の透明導電性薄膜をマイクログリッドに乗せ、溶液を乾燥させるために１日間風乾した。この試料の電子線回折像を透過型電子顕微鏡（日本電子（株）製：ＪＥＭ−２０１０）にて測定した。電子線の条件は、加速電圧２００ｋＶ、波長０．００２５ｎｍで行った。この回折像から、透明導電性薄膜が結晶質または非晶質のどちらであるかを測定した。
【００９０】
＜ペン入力耐久試験＞
まず、ペン入力試験前のリニアリティ測定を以下のようにして実施した。
本発明の透明導電性フィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍに切り出し、透明導電性薄膜形成面の両端辺に幅５ｍｍの電極を銀ペーストを塗布して作成した。この電極間に定電圧電源により５Ｖを印加し、サンプルの中心部５０ｍｍ×５０ｍｍの範囲を縦横１ｍｍ間隔で、（x1, y1)〜（x50, y50)の２５００点について電圧Vi,j（i,j=1〜50）を測定した。
各電圧測定点での理論電圧
Ui,j＝V1,1＋(V50,50−V1,1)/50×(j−1)
からのズレを
Δi,j＝(Vi,j-Ui,j)/Ui,j
で定義し、このΔi,jの絶対値の最大値をリニアリティと定義した。
【００９１】
ペン入力試験前のリニアリティを測定した透明導電性フィルムを用い、実施例および比較例に記載されているようにしてタッチパネルを作製した。透明導電性フィルムで構成されたパネル板側から、ポリアセタール樹脂からなるペン先半径０．８ｍｍのタッチペンを用いて、リニアリティ測定を行った部位に、プロッタ（ローランド(株）製：ＤＸＹ−１１５０）により、２ｃｍ角サイズのカタカナのア〜ンまでの文字の筆記を行い、ペン入力試験を行った。この時、ペン荷重２５０ｇｆ、文字筆記速度２０００字／時間とした。
【００９２】
筆記が終了したタッチパネルから、透明導電性フィルムを取り外して、ペン入力試験後の透明導電性フィルムのリニアリティを前述と同様の手法で測定した。この評価を様々な筆記文字数に対して行い、リニアリティが３％を越えたときの文字数をペン入力耐久文字数とした。
【００９３】
以上の結果を表１に示す。この結果より、特定の直径及び深さの凹形状を特定の密度で有するハードコート層を使用した本発明の透明導電性フィルムは、従来のマット剤を含有しているハードコートフィルムと同等のグロス値を示す。したがって、従来品と同等の防眩性を維持し、かつ光線透過率とヘイズが共に優れた、透明性に優れた導電性フィルムであることがわかる。さらに反射防止層を形成することで、透明性を一層向上することができる。また、透明導電性薄膜と下地との付着力に優れているので、ペン入力耐久性も優れたものとなっている。
【００９４】
【表１】
【発明の効果】
本発明によると、透明なプラスチックフィルム（１１）の一方の面に透明導電性薄膜（１２）が積層され、他の面にはハードコート層（１３）が積層された透明導電性フィルム（1）であって、かつハードコート層（１３）の表面に直径が３〜３０μｍで、深さが０．１〜３μｍである凹形状を５〜５００００個／０．０１ｍｍ2の密度で形成されているため、タッチパネルに使用した際に、外光の映り込みが少なく、かつ像解像度の優れたものとなる。また、透明なプラスチックフィルム（１１）表面あるいはプライマー層（１５）表面と透明導電性薄膜（１２）との付着力が極めて強いため、ペン入力用タッチパネルに用いた際のペンの押圧で対向の透明導電性薄同士が接触しても、剥離、クラック等を生じることがなく、ペン入力耐久性に極めて優れたタッチパネルを得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１及び３の透明導電性フィルムの層構成を示す説明図である。
【図２】実施例２の透明導電性フィルムの層構成を示す説明図である。
【図３】実施例４の透明導電性フィルムの層構成を示す説明図である。
【図４】タッチパネルの断面図である。
【符号の説明】
１ 透明導電性フィルム
２ ガラス板
３ ビーズ
１１ プラスチックフィルム
１２ 透明導電性薄膜
１３ ハードコート層
１４ 反射防止層
１５ プライマー層
Claims (7)
- 透明なプラスチックフィルム（１１）の一方の面に透明導電性薄膜（１２）が積層され、他の面にはハードコート層（１３）が積層された透明導電性フィルム（１）であって、かつ前記ハードコート層（１３）が、電離放射線硬化型樹脂組成物を塗工し、未硬化の塗膜上にマット賦型フィルムで賦型され、電離放射線照射により硬化された後、マット賦型フィルムが剥離されてなり、ハードコート層（１３）の表面に直径が１５〜１８μｍで、深さが０．７〜１．２μｍである凹形状を４００〜７００個／０．０１ｍｍ2の密度で形成されていることを特徴とする透明導電性フィルム。
- ハードコート層（１３）の鉛筆硬度がＨ以上であることを特徴とする請求項1記載の透明導電性フィルム。
- 表面に凹形状を有するハードコート層（１３）上に反射防止層（１４）が形成されていることを特徴とする請求項1または２記載の透明導電性フィルム。
- 透明導電性薄膜（１２）と下地との付着力が１０ｇ／１５ｍｍ以上であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
- 透明導電性薄膜（１２）と透明なプラスチックフィルム（１１）との間にポリエステル樹脂を主成分としたプライマー層（１５）を設けたことを特徴とする請求項１乃至４のいすれかに記載の透明導電性フィルム。
- 透明導電性薄膜（１２）が非晶質であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載の透明導電性フィルム。
- 透明導電性薄膜を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなるタッチパネルにおいて、少なくとも一方のパネル板が請求項１乃至６のいずれかに記載の透明導電性フィルム（１）を使用することを特徴とするタッチパネル。
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