JPH08294989A - 積層フィルム - Google Patents
積層フィルムInfo
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- JPH08294989A JPH08294989A JP7102849A JP10284995A JPH08294989A JP H08294989 A JPH08294989 A JP H08294989A JP 7102849 A JP7102849 A JP 7102849A JP 10284995 A JP10284995 A JP 10284995A JP H08294989 A JPH08294989 A JP H08294989A
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- Japan
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- transparent conductive
- gas barrier
- layer
- barrier layer
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- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 透明性、ガスバリヤー性、耐久性の優れた透
明で導電性を有するフィルムを提供すること。 【構成】 高分子フィルムの片面又は両面にＳｉＯｘ
（１.５＜ｘ≦２.０）又はＡｌ2Ｏ3からなるバリヤー
層、シランカップリング剤を含むエポキシアクリレート
紫外線硬化樹脂のコーティング層及び透明導電層を順次
積層してなることを特徴とする積層フィルム。
明で導電性を有するフィルムを提供すること。 【構成】 高分子フィルムの片面又は両面にＳｉＯｘ
（１.５＜ｘ≦２.０）又はＡｌ2Ｏ3からなるバリヤー
層、シランカップリング剤を含むエポキシアクリレート
紫外線硬化樹脂のコーティング層及び透明導電層を順次
積層してなることを特徴とする積層フィルム。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、フィルム液晶表示装置
に用いられる透明導電性フィルムに関するものである。
に用いられる透明導電性フィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】透明導電性フィルムとしては、ポリエス
テルフィルム等の透明高分子フィルム表面に酸化インジ
ウム、酸化錫、あるいは錫、インジウム合金の酸化膜等
の半導体膜や金、銀、パラジウムあるいはそれらの合金
等の金属膜、半導体膜と金属膜を組み合わせて形成され
たもの等がしられている。一方ガスバリヤー層として
は、高分子フィルム上の少なくとも片面にＳｉＯ2又は
Ａｌ2Ｏ3等を蒸着したもの、あるいは、高分子フィルム
上に塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポ
リマーなど相対的にガスバリヤー性のあるポリマーのコ
ーティング層を設けたものが知られている。高分子フィ
ルム液晶表示装置には、ガスバリヤー性、透明導電性を
合わせ持つフィルムが必要である。しかし、これらの機
能を有する各層をくみあわせ透明性、ガスバリアー性を
付与し、液晶表示装置材料として必要な耐久性のすべて
が十分な透明導電性フィルムは、いまだ工業的には生産
されていない。
テルフィルム等の透明高分子フィルム表面に酸化インジ
ウム、酸化錫、あるいは錫、インジウム合金の酸化膜等
の半導体膜や金、銀、パラジウムあるいはそれらの合金
等の金属膜、半導体膜と金属膜を組み合わせて形成され
たもの等がしられている。一方ガスバリヤー層として
は、高分子フィルム上の少なくとも片面にＳｉＯ2又は
Ａｌ2Ｏ3等を蒸着したもの、あるいは、高分子フィルム
上に塩化ビニリデン系ポリマーやビニルアルコール系ポ
リマーなど相対的にガスバリヤー性のあるポリマーのコ
ーティング層を設けたものが知られている。高分子フィ
ルム液晶表示装置には、ガスバリヤー性、透明導電性を
合わせ持つフィルムが必要である。しかし、これらの機
能を有する各層をくみあわせ透明性、ガスバリアー性を
付与し、液晶表示装置材料として必要な耐久性のすべて
が十分な透明導電性フィルムは、いまだ工業的には生産
されていない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる現状
に鑑みなされたもので透明性、ガスバリヤー性、耐久性
の優れた透明で導電性を有する積層フィルムを提供する
ことにある。
に鑑みなされたもので透明性、ガスバリヤー性、耐久性
の優れた透明で導電性を有する積層フィルムを提供する
ことにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上述の目的は下記の本発
明により達成される。即ち本発明は、高分子フィルムの
片面に、ＳｉＯｘ（１.５＜ｘ≦２.０）又はＡｌ2Ｏ3か
らなるバリヤー層、シランカップリング剤を含むエポキ
シアクリレート紫外線硬化樹脂のコーティング層及び透
明導電層を順次積層してなることを特徴とする積層フィ
ルムであり、高分子フィルムの両面に、ＳｉＯｘ（１.
５＜ｘ≦２.０）又はＡｌ2Ｏ3からなるバリヤー層、シ
ランカップリング剤を含むエポキシアクリレート紫外線
硬化樹脂のコーティング層及び透明導電層を順次積層し
てなることを特徴とする積層フィルムであり、また高分
子フィルムの両面にＳｉＯｘ（１.５＜ｘ≦２.０）又は
Ａｌ2Ｏ3からなるバリヤー層、及びシランカップリング
剤を含むエポキシアクリレート紫外線硬化樹脂のコーテ
ィング層を順次積層し、更に片面のみに透明導電層を積
層してなることを特徴とする積層フィルムである。
明により達成される。即ち本発明は、高分子フィルムの
片面に、ＳｉＯｘ（１.５＜ｘ≦２.０）又はＡｌ2Ｏ3か
らなるバリヤー層、シランカップリング剤を含むエポキ
シアクリレート紫外線硬化樹脂のコーティング層及び透
明導電層を順次積層してなることを特徴とする積層フィ
ルムであり、高分子フィルムの両面に、ＳｉＯｘ（１.
５＜ｘ≦２.０）又はＡｌ2Ｏ3からなるバリヤー層、シ
ランカップリング剤を含むエポキシアクリレート紫外線
硬化樹脂のコーティング層及び透明導電層を順次積層し
てなることを特徴とする積層フィルムであり、また高分
子フィルムの両面にＳｉＯｘ（１.５＜ｘ≦２.０）又は
Ａｌ2Ｏ3からなるバリヤー層、及びシランカップリング
剤を含むエポキシアクリレート紫外線硬化樹脂のコーテ
ィング層を順次積層し、更に片面のみに透明導電層を積
層してなることを特徴とする積層フィルムである。
【０００５】本発明で用いる透明の高分子フィルムとし
てはポリエステルフィルム、ポリエーテルイミドフィル
ム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテルサルフォン
フルム等があげられる。本発明で用いられる透明な高分
子フィルムの全光線等か率は少なくとも４０％以上、好
ましくは８０％以上が望ましい。本発明に用い透明な高
分子フィルムはガスバリヤー層導電層の形成に先立ち各
層及び透明な高分子フィルムの密着力を高めるために脱
ガス処理、コロナ放電処理、火炎処理等の表面処理やア
クリル系エポキシ系の公知のアンカーコートが施されて
いてもよい。
てはポリエステルフィルム、ポリエーテルイミドフィル
ム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテルサルフォン
フルム等があげられる。本発明で用いられる透明な高分
子フィルムの全光線等か率は少なくとも４０％以上、好
ましくは８０％以上が望ましい。本発明に用い透明な高
分子フィルムはガスバリヤー層導電層の形成に先立ち各
層及び透明な高分子フィルムの密着力を高めるために脱
ガス処理、コロナ放電処理、火炎処理等の表面処理やア
クリル系エポキシ系の公知のアンカーコートが施されて
いてもよい。
【０００６】本発明でいうガスバリヤー層は、ＳｉＯｘ
（１.５＜ｘ≦２.０）又はＡｌ2Ｏ3で示すことができ
る。該ガスバリヤー層は公知のＥＢ蒸着により形成する
ことができる。該バリヤー層の厚みは、１００〜１００
０Åが望ましい。好ましくは、２００〜６００Åが望ま
しい。１００Å以下では該ＳｉＯｘ層表面の凹凸を１０
０Å以下に抑えるが困難となることから連続構造を保つ
ことができず、良好なガスバリヤー性を得られない。１
０００Å以上では、着色によるの透明性の低下、ガスバ
リヤー層の内部応力起因するクラックの発生によるガス
バリヤー性の低下が起こり好ましくない。さらに言え
ば、ガスバリヤー性を高めるためには、ガスバリヤー層
の厚みが内部応力に起因するクラックが発生しない４０
０Å程度が好ましい。
（１.５＜ｘ≦２.０）又はＡｌ2Ｏ3で示すことができ
る。該ガスバリヤー層は公知のＥＢ蒸着により形成する
ことができる。該バリヤー層の厚みは、１００〜１００
０Åが望ましい。好ましくは、２００〜６００Åが望ま
しい。１００Å以下では該ＳｉＯｘ層表面の凹凸を１０
０Å以下に抑えるが困難となることから連続構造を保つ
ことができず、良好なガスバリヤー性を得られない。１
０００Å以上では、着色によるの透明性の低下、ガスバ
リヤー層の内部応力起因するクラックの発生によるガス
バリヤー性の低下が起こり好ましくない。さらに言え
ば、ガスバリヤー性を高めるためには、ガスバリヤー層
の厚みが内部応力に起因するクラックが発生しない４０
０Å程度が好ましい。
【０００７】本発明に使用されるガスバリヤー層を覆う
コーティング層としては、上述のガスバリヤー層と透明
導電層の双方に対して密着力が必要であり、エポキシア
クリレートプレポリマーにシランカップリング剤を添加
したとき、達成されることをみいだした。シランカップ
リング剤の添加量は、０.５〜１.０重量％が望ましい。
シランカップリング剤としては、例えば信越化学（株）
のＫＭＢ−５０３、ＫＭＢ−８０３，日本ユニカー
（株）のＡー１８７が用いられるが、特にエポキシ基、
アミノ基、メルカプトン基を有するものが好ましい。エ
ポキシアクリレートプレポリマーは、融点が、５０℃以
上のものが好ましく、昭和高分子株式会社のＶＲ−９０
があげられる。
コーティング層としては、上述のガスバリヤー層と透明
導電層の双方に対して密着力が必要であり、エポキシア
クリレートプレポリマーにシランカップリング剤を添加
したとき、達成されることをみいだした。シランカップ
リング剤の添加量は、０.５〜１.０重量％が望ましい。
シランカップリング剤としては、例えば信越化学（株）
のＫＭＢ−５０３、ＫＭＢ−８０３，日本ユニカー
（株）のＡー１８７が用いられるが、特にエポキシ基、
アミノ基、メルカプトン基を有するものが好ましい。エ
ポキシアクリレートプレポリマーは、融点が、５０℃以
上のものが好ましく、昭和高分子株式会社のＶＲ−９０
があげられる。
【０００８】即ち、該ガスバリヤー層は、該透明導電性
フィルムを用いてＬＣＤを作製する際に必要なＮａＯＨ
溶液浸せき処理、ＨＣｌ浸せき処理により、欠陥が生じ
ガスバリヤ−性が劣化するため実用不可能であったが、
ガスバリヤー層、透明導電層の双方に密着力優れ、か
つ、ガスバリヤー層に必要な耐久性が付与可能な該コー
ティングを施すことにより克服することができた。尚、
上述の透明導電層の形成法としては、従来から公知の真
空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ法等の物
理的堆積法が適用できる。
フィルムを用いてＬＣＤを作製する際に必要なＮａＯＨ
溶液浸せき処理、ＨＣｌ浸せき処理により、欠陥が生じ
ガスバリヤ−性が劣化するため実用不可能であったが、
ガスバリヤー層、透明導電層の双方に密着力優れ、か
つ、ガスバリヤー層に必要な耐久性が付与可能な該コー
ティングを施すことにより克服することができた。尚、
上述の透明導電層の形成法としては、従来から公知の真
空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタ法等の物
理的堆積法が適用できる。
【０００９】
＜実施例１＞高分子フィルムにに厚さ１００μｍのポリ
エーテルスルフォンフィルムを用い、その両側にＥＢ蒸
着でＳｉＯ1.9層を４００Å形成し、該ガスバリヤー層
を覆うように該コーティング層として分子量約１０４
０、融点５５℃のエポキシアクリレートプレポリマー
（昭和高分子株式会社製ＶＲ−９０）１００重量部、ジ
エチレングリコール２００重量部、酢酸エチル１００重
量部、ベンゼンエチルエーテル２重量部、シランカップ
リング剤（信越化学株式会社製ＫＭＢ−５０３）１重量
部を５０℃にて撹はん溶解して均一な溶液をディップ法
により両面に塗布し８０℃１０分加熱した後紫外線を照
射して該コーティングを形成した後、ロール・ツ・ロー
ル方式のリアクティブマグネトロンスパッタ装置により
厚さ３００ÅのＩＴＯ膜を形成した。このようにして作
成した透明導電性フィルムにおいてＩＴＯを形成する前
の状態で濃度１規定、液温３０℃のＨＣｌに５分間浸せ
きする前後で酸素バリヤー性を測定したところ処理前後
ともに２.４ｃｃ／ｍ2・ｄａｙであった。 ＜比較例１＞コーティング層を省略した以外は実施例と
同様にしてつっくた透明導電性フィルムにおいてＩＴＯ
形成前の状態での酸素バリヤー性が２.５ｃｃ／ｍ2・ｄ
ａｙであったが濃度１規定、液温３０℃のＨＣｌに５分
間浸せきごに測定したところ５ｃｃ／ｍ2・ｄａｙと劣
化していることが確認された。
エーテルスルフォンフィルムを用い、その両側にＥＢ蒸
着でＳｉＯ1.9層を４００Å形成し、該ガスバリヤー層
を覆うように該コーティング層として分子量約１０４
０、融点５５℃のエポキシアクリレートプレポリマー
（昭和高分子株式会社製ＶＲ−９０）１００重量部、ジ
エチレングリコール２００重量部、酢酸エチル１００重
量部、ベンゼンエチルエーテル２重量部、シランカップ
リング剤（信越化学株式会社製ＫＭＢ−５０３）１重量
部を５０℃にて撹はん溶解して均一な溶液をディップ法
により両面に塗布し８０℃１０分加熱した後紫外線を照
射して該コーティングを形成した後、ロール・ツ・ロー
ル方式のリアクティブマグネトロンスパッタ装置により
厚さ３００ÅのＩＴＯ膜を形成した。このようにして作
成した透明導電性フィルムにおいてＩＴＯを形成する前
の状態で濃度１規定、液温３０℃のＨＣｌに５分間浸せ
きする前後で酸素バリヤー性を測定したところ処理前後
ともに２.４ｃｃ／ｍ2・ｄａｙであった。 ＜比較例１＞コーティング層を省略した以外は実施例と
同様にしてつっくた透明導電性フィルムにおいてＩＴＯ
形成前の状態での酸素バリヤー性が２.５ｃｃ／ｍ2・ｄ
ａｙであったが濃度１規定、液温３０℃のＨＣｌに５分
間浸せきごに測定したところ５ｃｃ／ｍ2・ｄａｙと劣
化していることが確認された。
【００１０】＜実施例２＞高分子フィルムにに厚さ１０
０μｍのポリエーテルスルフォンフィルムを用い、その
両側にＥＢ蒸着でＡｌ2Ｏ3層を４００Å形成し、該ガス
バリヤー層を覆うように該コーティング層として分子量
約１０４０、融点５５℃のエポキシアクリレートプレポ
リマー（昭和高分子株式会社製ＶＲ−９０）１００重量
部、ジエチレングリコール２００重量部、酢酸エチル１
００重量部、ベンゼンエチルエーテル２重量部、シラン
カップリング剤（信越化学株式会社製ＫＭＢ−５０３）
１重量部を５０℃にて撹はん溶解して均一な溶液をディ
ップ法により両面に塗布し８０℃１０分加熱した後紫外
線を照射して該コーティングを形成した後、ロール・ツ
・ロール方式のリアクティブマグネトロンスパッタ装置
により厚さ３００ÅのＩＴＯ膜を形成した。このように
してつっくた透明導電性フィルムにおいてＩＴＯを形成
する前の状態で濃度１規定、液温３０℃のＨＣｌに５分
間浸せきする前後で酸素バリヤー性を測定したところ処
理前後ともに１.４ｃｃ／ｍ2・ｄａｙであった。 ＜比較例２＞コーティング層を省略した以外は実施例と
同様にしてつっくた透明導電性フィルムにおいてＩＴＯ
形成前の状態での酸素バリヤー性が２.５ｃｃ／ｍ2・ｄ
ａｙであったが濃度１規定、液温３０℃のＨＣｌに５分
間浸せきごに測定したところ３ｃｃ／ｍ2・ｄａｙと劣
化していることが確認された。
０μｍのポリエーテルスルフォンフィルムを用い、その
両側にＥＢ蒸着でＡｌ2Ｏ3層を４００Å形成し、該ガス
バリヤー層を覆うように該コーティング層として分子量
約１０４０、融点５５℃のエポキシアクリレートプレポ
リマー（昭和高分子株式会社製ＶＲ−９０）１００重量
部、ジエチレングリコール２００重量部、酢酸エチル１
００重量部、ベンゼンエチルエーテル２重量部、シラン
カップリング剤（信越化学株式会社製ＫＭＢ−５０３）
１重量部を５０℃にて撹はん溶解して均一な溶液をディ
ップ法により両面に塗布し８０℃１０分加熱した後紫外
線を照射して該コーティングを形成した後、ロール・ツ
・ロール方式のリアクティブマグネトロンスパッタ装置
により厚さ３００ÅのＩＴＯ膜を形成した。このように
してつっくた透明導電性フィルムにおいてＩＴＯを形成
する前の状態で濃度１規定、液温３０℃のＨＣｌに５分
間浸せきする前後で酸素バリヤー性を測定したところ処
理前後ともに１.４ｃｃ／ｍ2・ｄａｙであった。 ＜比較例２＞コーティング層を省略した以外は実施例と
同様にしてつっくた透明導電性フィルムにおいてＩＴＯ
形成前の状態での酸素バリヤー性が２.５ｃｃ／ｍ2・ｄ
ａｙであったが濃度１規定、液温３０℃のＨＣｌに５分
間浸せきごに測定したところ３ｃｃ／ｍ2・ｄａｙと劣
化していることが確認された。
【００１１】
【発明の効果】本発明により、透明性、ガスバリヤー
性、耐久性の優れた透明導電性フィルムを提供すること
が可能となった。
性、耐久性の優れた透明導電性フィルムを提供すること
が可能となった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ３２Ｂ 27/16 Ｂ３２Ｂ 27/16 27/18 27/18 Ｄ 27/30 27/30 Ａ Ｃ０８Ｊ 7/04 Ｃ０８Ｊ 7/04 Ｄ Ｇ０２Ｆ 1/1343 Ｇ０２Ｆ 1/1343
Claims (3)
- 【請求項１】 高分子フィルムの片面に、ＳｉＯｘ
（１.５＜ｘ≦２.０）又はＡｌ2Ｏ3からなるバリヤー
層、シランカップリング剤を含むエポキシアクリレート
紫外線硬化樹脂のコーティング層及び透明導電層を順次
積層してなることを特徴とする積層フィルム。 - 【請求項２】 高分子フィルムの両面に、ＳｉＯｘ
（１.５＜ｘ≦２.０）又はＡｌ2Ｏ3からなるバリヤー
層、シランカップリング剤を含むエポキシアクリレート
紫外線硬化樹脂のコーティング層及び透明導電層を順次
積層してなることを特徴とする積層フィルム。 - 【請求項３】 高分子フィルムの両面に、ＳｉＯｘ
（１.５＜ｘ≦２.０）又はＡｌ2Ｏ3からなるバリヤー
層、及びシランカップリング剤を含むエポキシアクリレ
ート紫外線硬化樹脂のコーティング層を順次積層し、更
に片面のみ透明導電層を積層してなることを特徴とする
積層フィルム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7102849A JP3027315B2 (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 積層フィルム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7102849A JP3027315B2 (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 積層フィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08294989A true JPH08294989A (ja) | 1996-11-12 |
| JP3027315B2 JP3027315B2 (ja) | 2000-04-04 |
Family
ID=14338393
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7102849A Expired - Lifetime JP3027315B2 (ja) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | 積層フィルム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3027315B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09174747A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-08 | Teijin Ltd | 透明導電フィルム |
| JP2002273836A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-09-25 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 複合シート。 |
| WO2006035364A1 (en) * | 2004-09-30 | 2006-04-06 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | Gas-barrier material |
| KR100888990B1 (ko) * | 2001-05-11 | 2009-03-19 | 도요 세이칸 가부시키가이샤 | 규소 산화막 |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9676168B2 (en) | 2010-11-19 | 2017-06-13 | Lamart Corporation | Fire barrier layer and fire barrier film laminate |
| US20120128959A1 (en) | 2010-11-19 | 2012-05-24 | Fernando Joseph A | Fire barrier layer and fire barrier film laminate |
| US20130129963A1 (en) * | 2011-11-18 | 2013-05-23 | Unifrax I Llc | Fire barrier layer and fire barrier film laminate |
-
1995
- 1995-04-27 JP JP7102849A patent/JP3027315B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09174747A (ja) * | 1995-12-25 | 1997-07-08 | Teijin Ltd | 透明導電フィルム |
| JP2002273836A (ja) * | 2001-03-19 | 2002-09-25 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 複合シート。 |
| KR100888990B1 (ko) * | 2001-05-11 | 2009-03-19 | 도요 세이칸 가부시키가이샤 | 규소 산화막 |
| WO2006035364A1 (en) * | 2004-09-30 | 2006-04-06 | Ecole Polytechnique Federale De Lausanne (Epfl) | Gas-barrier material |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3027315B2 (ja) | 2000-04-04 |
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