JP2000347170A - 液晶表示パネル用基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光学特性に優れ、表示品位に優れた液晶表示
パネルを実現する耐熱性にすぐれた液晶表示パネル用基
板を提供する。 【解決手段】 例えば、３,３,５−トリメチル−１,１
−ジ（４−フェノール）シクロヘキシリデン（Ａ）とビ
スフェノールＡとをビスフェノール成分とする共重合ポ
リカーボネート樹脂であって、かつ該樹脂における
（Ａ）の組成が３０〜９９モル％であるポリカーボネー
ト樹脂を基材とした液晶表示パネル用基板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル用
基板に関するものであり、さらに詳しくは、特定のポリ
カーボネート樹脂からなる基材を用いることにより、光
学特性に優れ、表示品位に優れた液晶表示パネルを実現
する液晶表示パネル用基板に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年液晶表示素子にはより薄膜化、より
軽量化、より大型化、任意の形状化、曲面表示対応等高
度な要求がある。特にペイジャー（ポケベル）やセルラ
ー（携帯電話）、電子手帳、ペン入力機器等の携帯機器
利用の拡大につれて、従来のガラス基板に替わってプラ
スチックを基板とする液晶パネルが検討され、一部で実
用化され始めた。

【０００３】プラスチック基板はガラス基板と比較して
軽量化、薄葉化の要望を満たし、液晶表示パネルの視認
性向上の効果を有しているが、光学特性の面においては
ガラス基板に劣るといわざるを得ない。ガラスは本質的
に光学等方的であるが、プラスチックの場合にはプラス
チック基板の成形時に生じる分子配向や残留歪みと樹脂
特有の光学弾性係数との相関から、レターデーションが
生じるといった問題がある。

【０００４】液晶ディスプレイが表示機能は、偏光の光
スイッチングによる表示の可視化という原理に従ってい
る。従って基板として用いられるプラスチック基板に複
屈折性があると、表示の着色、コントラストの低下等著
しいディスプレイの表示品位の低下をもたらす事とな
る。

【０００５】この欠点を改良するために樹脂の光学特性
を改良する方法および枚葉シートで注型重合する方法
（特開平５−３２３３０３号公報）等が検討されてき
た。

【０００６】然るに従来の検討では特殊な樹脂材料を用
いたり、特別な生産条件を設定したり、枚葉で長時間成
形したりという著しく生産性を低下させる方法か、非常
に特殊な樹脂材料を用いるという方法のために、従来使
用されてきたガラス基板に対してコスト競争力のない改
良提案と言わざるを得なかった。

【０００７】また一方で近年液晶ディスプレイの高精細
化が進むにつれ、加工時における耐熱性が要求されるよ
うになってきた。そのためプラスチック基板において
も、優れた光学的等方性と高いガラス転移温度（Ｔｇ）
を有するものが要求されるようになっている。特に耐熱
性に関しては、ＭＩＭ型のアクティブマトリックス液晶
の作成やアモルファスシリコンのエキシマーレーザーア
ニールが１８０℃以上の温度で行えるようになりつつあ
り、より耐熱性の高い樹脂基板が要求されている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光学
特性に優れ、表示品位に優れた液晶表示パネルを実現す
る耐熱性にすぐれた液晶表示パネル用基板を提供するこ
とである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討を行
った結果、光学的異方性が小さく、寸法安定性ならびに
耐熱性を有する液晶表示パネル用基板を与えるポリカー
ボネートからなる基材を見出した。本発明の液晶表示パ
ネル用基板はガラス基板を用いた場合と同様の表示品位
を有するのみならず、ガラス基板以上の機械特性を有す
るものである。すなわち本発明は、下記式（１）

【００１０】

【化７】

【００１１】[上記式（１）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６
の炭化水素基から選ばれ、Ｘは炭素数１〜１５の炭化水
素基である。ただしＲ₁〜Ｒ₈が水素原子のときＸはイソ
プロピリデン基ではない。]で表わされる繰り返し単位
からなり、極限粘度が０．１５〜２．０ｄｌ／ｇである
芳香族ポリカーボネート樹脂を基材とした液晶表示パネ
ル用基板である。更には上記式（１）で示される繰り返
し単位と、下記式（２）

【００１２】

【化８】

【００１３】で表わされる繰り返し単位とからなる共重
合ポリカーボネート樹脂であって、かつ上記式（１）で
表わされる繰り返し単位が全体の３０〜９９モル％であ
り、極限粘度が０．１５〜２．０ｄｌ／ｇである共重合
ポリカーボネート樹脂を基材とした液晶表示パネル用基
板である。

【００１４】本発明の液晶表示パネル用基板は、上記式
（１）で示される繰り返し単位を有する芳香族ポリカー
ボネート樹脂からなる基材より構成される。上記式
（１）中、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲ
ン原子及び炭素数１から６の炭化水素基から選ばれる。
ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子
等が例示できる。炭素数１〜６の炭化水素基としてはメ
チル基、エチル基が例示できる。Ｘは炭素数１〜１５の
炭化水素基である。かかる炭化水素基としてはプロピリ
デン基、１,１−シクロヘキシリデン基、３,３,５−ト
リメチル−１,１−シクロヘキシリデン基、９,９−フル
オリデン基を好ましく例示する事ができる。

【００１５】但し、Ｒ₁〜Ｒ₈が水素原子であるとき、Ｘ
がイソプロピリデン基である、いわゆるビスフェノール
Ａ型ポリカーボネートは除外する。

【００１６】この様な液晶表示パネル用基板の基材とし
ては、例えばフルオレン−９,９−ジ（４−フェノー
ル）型ポリカーボネート、フルオレン−９,９−ジ（３
−メチル−４−フェノール）型ポリカーボネート、３,
３',５,５'−テトラメチルビスフェノールＡ型ポリカー
ボネート、３,３,５−トリメチル−１,１−ジ（４−フ
ェノール）シクロヘキシリデン型ポリカーボネートを挙
げることができる。

【００１７】上記芳香族ポリカーボネート樹脂は、上記
式（１）で表わされる繰り返し単位からなるポリカーボ
ネートと、上記式（２）で表わされる繰り返し単位を有
するいわゆるビスフェノールＡ型ポリカーボネートとの
共重合体であっても良い。共重合成分としてはフルオレ
ン−９,９−ジ（４−フェノール）、フルオレン−９,９
−ジ（３−メチル−４−フェノール）（ともに下記式
（４）に相当）、３,３',５,５'−テトラメチルビスフ
ェノールＡ（下記式（３）に相当）、３,３,５−トリメ
チル−１,１−ジ（４−フェノール）シクロヘキシリデ
ン（下記式（５）に相当）が好ましい。

【００１８】

【化９】

【００１９】[上記式（３）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６
の炭化水素基である。ただしＲ₁〜Ｒ₈は同時に水素原子
ではない。]

【００２０】

【化１０】

【００２１】[上記式（４）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６
の炭化水素基である。]

【００２２】

【化１１】

【００２３】［上記式（５）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜６
の炭化水素基である。]その場合、上記式（１）で示さ
れる繰り返し単位の割合は繰り返し単位全体に対し好ま
しくは３０〜９９モル％、より好ましくは３０〜７５モ
ル％である。３０モル％より少ない場合は耐熱性が不十
分となる場合がある。

【００２４】本発明の液晶表示パネル用基板の基材とし
て用いるポリカーボネート樹脂の重合度は、ウベローデ
型粘度計を用い、塩化メチレン溶媒、２０℃で測定し外
挿して求めた極限粘度 [η]の値で０．１５〜２．０ｄ
ｌ／ｇであることが好ましい。[η]が０．１５ｄｌ／ｇ
より低い場合は、十分な強度を有するフィルムもしくは
シート状成型物を得ることができないことがある。また
２．０ｄｌ／ｇより大きい場合は、成型が困難になる場
合がある。より好ましい極限粘度 [η]は１．０を越え
２．０ｄｌ／ｇ以下である。

【００２５】また、上記極限粘度の範囲を超えるポリカ
ーボネート樹脂を、範囲内のポリカーボネート樹脂と混
合することで、好ましい範囲に持っていくことも可能で
ある。

【００２６】上記ポリカーボネート樹脂の重合方法は特
に限定するものではないが、通常の界面重合法、溶融重
合法等を挙げることができる。

【００２７】本発明の液晶表示パネル用基板を構成する
基材の厚みは５０〜７００μｍが好ましい。５０μｍよ
り薄い場合は基材の作製プロセスにおいてハンドリング
が困難となるといった問題がある。７００μｍより厚い
場合は、軽量であるという樹脂基材の特徴が失われるの
みならず、視差が大きくなることによる表示品位の低下
が生じ好ましくない。基材の厚みはより好ましくは７０
〜５００μｍである。

【００２８】また厚みムラは、液晶セルのセルギャップ
のムラに直接影響するため±５％以下であることが好ま
しい。さらにはレターデイションは遅相軸と進相軸の屈
折率差Δｎと基材の厚さｄの積Δｎ・ｄで表わされるた
め、厚みムラの少ない基材はレターデイションのバラツ
キも小さくなる。従って厚みムラはより好ましくは±
２.５％以下である。

【００２９】上記基材は優れた耐熱性を有し、ガラス転
移温度は１６０℃以上が望ましい。１６０℃未満の場
合、配向膜形成プロセスや電極形成プロセスにおいて、
制限が生じる可能性がある。更にはＭＩＭ素子形成に耐
えるため、ガラス転移温度は１８０℃以上であることが
好ましい。

【００３０】基材のレターデイション値は好適には２０
ｎｍ以下である。２０ｎｍより大きい場合は表示の着
色、反転等が生じ表示品位の低下が起きる。レターデイ
ションの値はより好ましくは１０ｎｍ以下、更に好まし
くは５ｎｍ以下である。

【００３１】またSTN等の大型パネルでドットマトリッ
クス駆動を行う場合には、分子配向軸の方向を示す最大
屈折率方向つまり遅相軸のバラツキが少ないことが望ま
れる。通常±１５度以下が好ましく用いられるが、精細
な表示を行う場合には、±１０度以下が好ましく用いら
れる。STN大型パネルでマルチカラー等の表示を色再現
良く実現するためには、レターデイション値で１０ｎｍ
以下、遅相軸の角度バラツキが±７.５度以下である事
が特に好ましい。

【００３２】さらに基材のヘイズの値は１％以下が好ま
しい。ヘイズが大きい場合には表示品位の低下を招く場
合が多い。したがってヘイズの値はより好ましくは０.
５％以下である。

【００３３】上記基材の製造方法については特に限定す
るものではないが、上記ポリカーボネート樹脂を通常の
押し出し成形法、溶液キャスト法等により得る方法を例
示することができる。溶液キャスト法のほうがレターデ
イションの低減といった点では有利であるが、分子配向
を低減させる十分な方策を取りうる場合は、生産性の点
で押し出し成形法の方が好ましい。

【００３４】本発明におけるポリカーボネート樹脂は、
通常のビスフェノールＡのみからなるポリカーボネート
と比較して、塩化メチレン等の溶媒に高濃度で溶解可能
であり、その溶液安定性も優れている。そのため、溶液
キャスト法にて基材を得る場合、特に厚みが厚いものを
得る場合、通常のビスフェノールＡのみからなるポリカ
ーボネート対比、生産性に優れている。

【００３５】本発明の液晶表示パネル用基板は液晶表示
素子の長期信頼性を確保するために、上記ポリカーボネ
ート樹脂からなる基材の少なくとも片面に、酸素と水分
の侵入を防御するガスバリア層、ハードコート等の架橋
構造を有する耐溶剤層、または透明導電層を積層したも
の等を配置することができる。

【００３６】例えば湿式のコーティング法でガスバリア
層を形成する場合には、バリア材料としてはポリビニル
アルコール、ポリビニルアルコール−エチレン共重合体
等のポリビニルアルコール系重合体、ポリアクリロニト
リル、ポリアクリロニトリル−スチレン共重合体等のポ
リアクリロニトリル系重合体、あるいはポリビニリデン
クロリド等の公知のコーティング材料を用いる事ができ
る。

【００３７】コーティング法に関しても特に制限はない
が、リバースロールコーティング法、グラビアロールコ
ーティング法あるいはダイコーティング法等の公知の方
法を用いる事ができる。また、基板あるいは基材表面と
の接着性、濡れ性等が不良の場合には、適宜プライマー
処理等の易接着処理を行う事もできる。

【００３８】またスパッタリングあるいは真空蒸着等の
ドライプロセスでガスバリア層を形成する場合には、公
知のバリア材であるSi、Al、Ti、MgおよびZr等から選ば
れた少なくとも１種の金属あるいは２種以上の金属混合
物の酸化物、窒化物あるいは酸窒化物の薄膜を、公知の
方法で形成する事ができる。

【００３９】これらのガスバリア層の膜厚は、目的とす
る性能が発現できる厚さに設定すれば良い。なおドライ
／湿式、ドライ／ドライおよび湿式／湿式等の２種以上
の層を適宜組み合わせて積層しても良い。

【００４０】また耐溶剤性を付与する耐溶剤性層は、公
知の材料例えばシリコン樹脂系の架橋構造を有する樹脂
構成体、アクリル系樹脂の架橋構造体およびエポキシ系
樹脂の架橋構造体等を公知の塗工法および硬化法を用い
る事により形成可能である。ここで耐溶剤性は液晶パネ
ル組み立て時の溶剤や化学薬品に対する耐久性を付与す
る事が目的であり、耐アルカリ性、耐酸性およびＮ−メ
チルピロリドン等の有機溶剤に対する安定性を十分に確
保できる材料と硬化条件を選定する事が好ましい。

【００４１】ガスバリア層および耐溶剤層を相互に積層
させる場合には、各層間の接着性を向上させる目的で適
宜プライマー層を設ける事ができる。プライマー層とし
てはシランカップリング剤等を含むシリコン系材料、ア
クリル系材料、アクリル−ウレタン系材料あるいはアル
コキシチタン等を含む材料を、グラビアあるいはマイク
ログラビアコーティング等の方法で塗工、乾燥を行い適
宜設けることができる。

【００４２】ところで液晶表示パネル用基板として用い
るためには、例えば上記ガスバリア層あるいは耐溶剤層
などの加工が施された基材の少なくとも片面に透明導電
膜からなる層を形成させてもよい。透明導電膜として
は、透明性、導電性および信頼性等の点でガラス基板で
も使用されている公知の電極材料を用いることができ
る。かかる電極材料としては例えばインジウム−スズ酸
化物、フッ素ドープスズ酸化物、カドミウム−スズ酸化
物、バナジウム酸化物、アルミニウム−亜鉛酸化物系材
料等をあげることができる。好ましくはインジウム−ス
ズ酸化物である。また必要に応じて添加物を添加する事
も可能である。例えばインジウム−スズ酸化物に対して
酸化亜鉛を添加する場合、インジウム酸化物に対して酸
化亜鉛を添加する場合等を例示する事ができる。

【００４３】インジウム−スズ酸化物の透明導電膜はス
パッタリング法、真空蒸着法およびイオンプレーティン
グ法等公知の方法で形成する事ができる。またインジウ
ム−スズ酸化物層と下地になる材料との接着性を向上さ
せる目的で、上記プライマー層を適宜選択して下塗りす
る事も可能である。

【００４４】本発明の液晶表示パネル用基板の厚みは５
０〜７００μｍが好ましい。５０μｍより薄い場合は基
板の作製プロセスにおいてハンドリングが困難となると
いった問題がある。７００μｍより厚い場合は、軽量で
あるという樹脂基材の特徴が失われるのみならず、視差
が大きくなることによる表示品位の低下が生じ好ましく
ない。基板の厚みはより好ましくは７０〜５００μｍで
ある。

【００４５】

【発明の効果】本発明の液晶表示パネル用基板は、耐熱
性が高くかつ十分な光学特性と機械特性を有する。従っ
て樹脂基板の特徴を生かしつつ液晶ディスプレイの高精
細化の要求に対応可能であり、ガラス基板代替として有
用である。

【００４６】本発明の液晶表示パネル用基板は、液晶表
示装置はもちろんの事、その他の感光体用光電極、面発
熱体、有機ＥＬ用電極等ディスプレイ用途の電極材料と
して利用できる。またＥＬディスプレイ、エレクトロク
ロミックディスプレイ、電気泳動ディスプレイ等透明導
電性基板を必要とするすべてのディスプレイ基板に用い
る事ができる。

【００４７】

【実施例】以下実施例を挙げて本発明を詳しく説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。ポリカー
ボネート樹脂の極限粘度 [η]は、ウベローデ型粘度計
を用い、塩化メチレン溶媒、２０℃で測定し外挿して求
めた。なお以下の各実施例、比較例の各種評価は、下記
の要領で行った。

【００４８】＜耐有機溶剤性＞液晶配向膜前駆体の溶剤
として代表的なＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）を耐溶
剤層の形成されたサンプル面に数滴滴下し、８５℃で５
分間放置後、その表面の白濁、膨潤、溶解等の変化を目
視にて観察する事によって行い、変化が観測されない場
合に耐有機溶剤性を有すると評価した。

【００４９】＜耐アルカリ性＞パターニング後のレジス
トを溶解する際に用いられる３.５ｗｔ％水酸化ナトリ
ウム水溶液にサンプルを３０℃で１０分浸漬し、その後
流水にて十分洗浄を行った後に乾燥させ、その表面の外
観を目視にて観察した。その際、変化が見られない場合
に耐アルカリ水溶液性を有すると判断した。

【００５０】＜耐酸性＞透明導電層をパターニングする
際に用いるエッチング液（３５ｗｔ％塩化第二鉄水溶
液、３５ｗｔ％塩酸、水を１：１：１０の割合で混合し
たもの）に３０℃で１０分間浸漬し、その後流水にて十
分洗浄を行った後に乾燥させ、その表面の外観を目視に
て観察した。その際、変化が見られない場合に耐酸性を
有すると判断した。そして以上の耐有機溶剤性、耐アル
カリ性、耐酸性のすべてを有した場合に耐溶剤性を有す
るとした。

【００５１】＜ガスバリア性＞酸素透過度と水蒸気透過
度を測定する事によって行った。酸素透過度はＭＯＣＯ
Ｎ社製オキシトラン２／２０ＭＬを用い、３０℃、５０
％ＲＨの低湿度環境下と３０℃、９０％ＲＨの高湿度環
境下で測定した。また水蒸気透過度はＭＯＣＯＮ社製パ
ーマトランＷ１Ａを用い、透明導電層を設ける面と反対
面を加湿側に向けて配置し、４０℃、９０％ＲＨの加湿
下で測定した。

【００５２】＜レターデイション＞レターデイションは
日本分光（株）製 Ｍ−１５０型エリプソメータを用い
て５９０ｎｍで測定した。

【００５３】［実施例１]３,３',５,５'−テトラメチル
ビスフェノールＡ ２８４重量部とＤＰＣ ２２５重量部
をビスフェノールＡのナトリウム塩 0.2重量部を触媒と
して、窒素気流下、２００〜２８０℃で脱フェノール反
応で重合し、３,３',５,５'−テトラメチルビスフェノ
ールＡのホモポリマーを得た。[η]＝０．５５ｄｌ／ｇ
であった。

【００５４】この樹脂を塩化メチレンに溶解して２２重
量％の溶液を作成した。作成した溶液をダイコーティン
グ法によりポリエステルフィルム上に流延した後、乾燥
を行った。得られた基材の物性を表１にまとめる。

【００５５】この基材に耐溶剤性層を両面に形成した。
耐溶剤性層を形成するための塗液としては共栄社化学
（株）製 ライトアクリレート DCP−Aを５０重量部、１
−メトキシ−２−プロパノール５０重量部、チバガイギ
ー製 イルガキュアー１８４を３．５重量部、および東
レ−ダウコーニング社製 SH28PAを０.０２重量部を混合
したものを用いた。

【００５６】この塗液をバーコーターを用いてコーティ
ングし、６０℃で１分間加熱して塗膜中の残留溶媒を揮
発除去した後、１６０W／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、
積算光量７００ｍJ／ｃｍ²の条件で紫外線を照射して塗
膜の硬化を行い、厚さ４.５μｍの耐溶剤性層を形成し
た。

【００５７】更に上記の両面に耐溶剤性層を形成した積
層基板の片面にガスバリア層としてSiOx層をスパッタリ
ングにより形成した。連続スパッタ装置に基板をセット
し１.３ｍＰａまで排気した後、Ａｒ／Ｏ₂＝７０／３０
の混合ガスを導入して雰囲気圧力を０.２２Ｐａにし
た。スパッタリングターゲットとしてシリコンを用い
て、投入電力密度１Ｗ／ｃｍ²、基板温度は室温でＤＣ
スパッタリングを行ない、膜厚が３０ｎｍのSiOx層を形
成した。

【００５８】更に上記ガスバリア層と逆面に透明導電薄
膜であるインジウム−スズ酸化物薄膜層をスパッタリン
グにより形成した。そのためのスパッタリングターゲッ
トとしてはインジウム−スズ酸化物ターゲット（モル比
はインジウム／スズ＝９０／１０、充填密度は９５％）
を用いた。連続スパッタ装置にフィルムをセットし、
１.３ｍＰａの圧力まで排気した後、Ａｒ／Ｏ₂＝９８.
５／１.５の混合ガスを導入して雰囲気圧力を０.２７Ｐ
ａにした。そして基板温度を６０℃に設定し、投入電力
密度１Ｗ／ｃｍ²でＤＣスパッタリングを行った。その
結果得られた透明導電膜は、膜厚が３０ｎｍであり、表
面抵抗が２５０Ω／sq.であった。

【００５９】この液晶表示パネル用基板のガスバリア
性、水蒸気バリア性、耐溶剤性試験の結果を表２にまと
める。

【００６０】また１４０℃で２時間の熱処理を行った
が、カール変化（反りの変化）および外観変化は生じな
かった。

【００６１】次に液晶表示用パネル基板から７ｃｍ角の
試料を２枚切り出した。そして２枚の試料それぞれに、
配向剤として低温硬化型ポリイミドである日立化成製 S
TX-24をＮ−メチルピロリドンの希釈溶解して、スピン
コートした。続いてこれを１４０℃で２時間硬化させ、
ラビングマシンにてポリエステル系のラビングロールで
１５回ラビングした。その後スぺーサーとして積水ファ
インケミカル製 ミクロパールを散布した。然る後封止
剤としてチバガイギー製 アラルダイトをスクリーン印
刷した。

【００６２】以上の加工を行った２枚の試料を、１７０
℃で２時間圧力をかけながら貼り合わせて硬化させ液晶
セルを作成した。この液晶セルのセルギャップは、キャ
パシタンス容量法で測定したところ６μｍであった。

【００６３】この液晶セルの開口部より、液晶材料とし
て旭電化製 キラコール６２２８を液晶注入装置を用い
て注入した。注入後、液晶材料の液晶相転移温度まで加
熱し、その後室温まで徐冷して配向を完了した。配向は
基板を１８０度配向で貼り合わせた事で１８０度のSTN
配向をしている事を確認した。

【００６４】この結果得られたセルは、色調が均一であ
るとともに、１．８Ｖの印加電圧でＯＮ応答は６０ｍｓ
ｅｃ以下、ＯＦＦ応答は２５ｍｓｅｃ以下であるＳＴＮ
液晶セルの応答を示す事を確認した。

【００６５】［実施例２]水酸化ナトリウム水溶液に、
フルオレン−９,９−ジ（４−フェノール） ３５ｇ及び
ビスフェノールＡ ２２．８ｇを仕込み、少量のハイド
ロサルファイトを加え、続いて塩化メチレンを加えて、
２０℃でホスゲンを約６０分かけて吹き込んだ後、さら
に、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノールを加えて乳化後、
トリエチルアミンを加えて３０℃で約３時間攪拌させて
作成した。得られた共重合ポリカーボネートの極限粘度
[η]は、１．１ｄｌ／ｇであった。

【００６６】この樹脂を塩化メチレンに溶解して１６重
量％の溶液を作成した。作成した溶液をダイコーティン
グ法によりポリエステルフィルム上に流延した後、乾燥
を行った。得られ基材の物性を表１にまとめる。

【００６７】液晶表示用パネル基板の作成法は実施例１
と同様に行った。このパネルのガスバリア、水蒸気バリ
ア、耐溶剤性試験の結果を表２に示す。

【００６８】この結果得られたセルは、色調が均一であ
るとともに、１．８Ｖの印加電圧でＯＮ応答は６０ｍｓ
ｅｃ以下、ＯＦＦ応答は２５ｍｓｅｃ以下であるＳＴＮ
液晶セルの応答を示す事を確認した。

【００６９】［実施例３]水酸化ナトリウム水溶液に、
フルオレン−９,９−ジ（３−メチル−４−フェノー
ル）３７．８ｇ及びビスフェノールＡ２２．８ｇを仕込
み、少量のハイドロサルファイトを加え、続いて塩化メ
チレンを加えて、２０℃でホスゲンを約６０分かけて吹
き込んだ後、さらに、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール
を加えて乳化後、トリエチルアミンを加えて３０℃で約
３時間攪拌させて作成した。得られた共重合ポリカーボ
ネートの極限粘度[η]は、１．２１ｄｌ／ｇであった。

【００７０】この樹脂を塩化メチレンに溶解して１４重
量％の溶液を作成した。作成した溶液をダイコーティン
グ法によりポリエステルフィルム上に流延した後、乾燥
を行った。得られた基材の物性を表１にまとめる。

【００７１】液晶表示用パネル基板の作成法は実施例１
と同様に行った。このパネルのガスバリア、水蒸気バリ
ア、耐溶剤性試験の結果を表２に示す。

【００７２】この結果得られたセルは、色調が均一であ
るとともに、1.8Ｖの印加電圧でＯＮ応答は６０ｍｓｅ
ｃ以下、ＯＦＦ応答は２５ｍｓｅｃ以下であるＳＴＮ液
晶セルの応答を示す事を確認した。

【００７３】［実施例４]バイエル社製ポリカーボネー
ト樹脂 APEC-HT （３,３,５−トリメチル−１,１−ジ
（４−フェノール）シクロヘキシリデン／ビスフェノー
ルＡ＝５８／４２（モル比）、[η]＝０．４５）を塩化
メチレンに溶解して２７重量％の溶液を作成した。作成
した溶液をダイコーティング法によりポリエステルフィ
ルム上に流延した後、乾燥を行った。この基材の物性値
を表１にまとめる。

【００７４】液晶表示用パネル基板の作成法は実施例１
と同様に行った。このパネルのガスバリア、水蒸気バリ
ア、耐溶剤性試験の結果を表２に示す。

【００７５】この結果得られたセルは、色調が均一であ
るとともに、１．８Ｖの印加電圧でＯＮ応答は６０ｍｓ
ｅｃ以下、ＯＦＦ応答は２５ｍｓｅｃ以下であるＳＴＮ
液晶セルの応答を示す事を確認した。

【００７６】

【表１】

【００７７】

【表２】

【００７８】［比較例]ビスフェノール成分がビスフェ
ノールＡのみからなるポリカーボネート樹脂（[η]＝
０．７５ｄｌ／ｇ）を、塩化メチレンに溶解して濃度２
０重量％の溶液を作成した。作成した溶液を温度２０
℃、湿度６０％ＲＨの環境下でダイを使用した流延法に
より、研磨ステンレスベルト上にキャストした後、乾燥
を行った。この基材の物性値を上記表１に示す。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H090 JA07 JA09 JB03 JB13 JD11 JD15 LA01 4J029 AA09 AB01 AC02 AD01 AE04 BB12A BB12B BB13A BB13B BD09A BD09B BG08X BG17X HA01 HC01

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記式（１） 【化１】 [上記式（１）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれぞれ独立に水
   素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６の炭化水素基
   から選ばれ、Ｘは炭素数１〜１５の炭化水素基である。
   ただしＲ₁〜Ｒ₈が水素原子のときＸはイソプロピリデン
   基ではない。]で表わされる繰り返し単位からなり、極
   限粘度が０．１５〜２．０ｄｌ／ｇである芳香族ポリカ
   ーボネート樹脂を基材とした液晶表示パネル用基板。
2. 【請求項２】 上記式（１）で示される繰り返し単位
   と、下記式（２） 【化２】 で表わされる繰り返し単位とからなる共重合ポリカーボ
   ネート樹脂であって、かつ上記式（１）で表わされる繰
   り返し単位が全体の３０〜９９モル％であり、極限粘度
   が０．１５〜２．０ｄｌ／ｇである共重合ポリカーボネ
   ート樹脂を基材とした液晶表示パネル用基板。
3. 【請求項３】 下記式（３） 【化３】 [上記式（３）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれぞれ独立に水
   素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６の炭化水素基
   である。ただしＲ₁〜Ｒ₈は同時に水素原子ではない。]
   で表わされる繰り返し単位からなり、極限粘度が０．１
   ５〜２．０ｄｌ／ｇであるポリカーボネート樹脂を基材
   とした液晶表示パネル用基板。
4. 【請求項４】 下記式（４） 【化４】 [上記式（４）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれぞれ独立に水
   素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６の炭化水素基
   である。]で表わされる繰り返し単位と上記式（２）で
   示される繰り返し単位とからなる共重合ポリカーボネー
   ト樹脂であって、かつ上記式（４）で表わされる繰り返
   し単位が全体の３０〜９９モル％であり、極限粘度が
   ０．１５〜２．０ｄｌ／ｇである共重合ポリカーボネー
   ト樹脂を基材とした液晶表示パネル用基板。
5. 【請求項５】 下記式（５） 【化５】 ［上記式（５）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれぞれ独立に水
   素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜６の炭化水素基
   である。]で表わされる繰り返し単位と上記式（２）で
   表わされる繰り返し単位とからなる共重合ポリカーボネ
   ート樹脂であって、かつ上記式（５）で表わされる繰り
   返し単位が全体の３０〜９９モル％であり、極限粘度が
   ０．１５〜２．０ｄｌ／ｇである共重合ポリカーボネー
   ト樹脂を基材とした液晶表示パネル用基板。
6. 【請求項６】 基材において、レターデーション値が２
   ０ｎｍ以下であり、遅相軸のバラツキが±１０度以下で
   あり、かつヘイズ値が１％以下である請求項１〜５のい
   ずれかに記載の液晶表示パネル用基板。
7. 【請求項７】 基材の厚みが５０〜７００μｍであり、
   かつ基材の厚みムラが±５％以下である請求項１〜６の
   いずれかに記載の液晶表示パネル用基板。
8. 【請求項８】 基材のガラス転移温度が１６０℃以上で
   ある請求項１〜７のいずれかに記載の液晶表示パネル用
   基板。
9. 【請求項９】 基材の少なくとも片面に透明導電層が配
   置されている請求項１〜８のいずれかに記載の液晶表示
   パネル用基板。
10. 【請求項１０】 基材の少なくとも片面にガスバリアー
    層、耐溶剤性層、および透明導電層が配置されている請
    求項１〜９のいずれかに記載の液晶表示パネル用基板。
11. 【請求項１１】 下記式（１） 【化６】 [上記式（１）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれぞれ独立に水
    素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６の炭化水素基
    から選ばれ、Ｘは炭素数１〜１５の炭化水素基である。
    ただしＲ₁〜Ｒ₈が水素原子のときＸはイソプロピリデン
    基ではない。]で表わされる繰り返し単位からなり、極
    限粘度が０．１５〜２．０ｄｌ／ｇである芳香族ポリカ
    ーボネート樹脂からなる、液晶表示パネル用基板として
    好適な基材。