JP2001083489A

JP2001083489A - 液晶表示パネル用基板

Info

Publication number: JP2001083489A
Application number: JP26013799A
Authority: JP
Inventors: Kazuo Hachiman; 一雄八幡; Naoya Saito; 直也斎藤; Takashi Kushida; 尚串田
Original assignee: Teijin Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 1999-09-14
Filing date: 1999-09-14
Publication date: 2001-03-30

Abstract

(57)【要約】【課題】光学特性に優れ、表示品位に優れた液晶表示
パネルを実現する耐熱性にすぐれた液晶表示パネル用基
板を提供する。【解決手段】例えば、フルオレン−９,９−ジ（３−
メチル−４−フェノール）（A)とビスフェノールＡをビ
スフェノール成分とする共重合ポリカーボネート樹脂か
らなり、かつ該樹脂における（A)の組成が５〜７０モル
％であるポリカーボネート樹脂を基材とした液晶表示パ
ネル用基板。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示パネル用
基板に関するものであり、さらに詳しくは、ポリカーボ
ネート樹脂からなる基材を用いることにより、光学特性
に優れ、表示品位に優れた液晶表示パネルを実現する液
晶表示パネル用基板に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年液晶表示素子にはより薄膜化、より
軽量化、より大型化、任意の形状化、曲面表示対応等高
度な要求がある。特にペイジャー（ポケベル）やセルラ
ー（携帯電話）、電子手帳、ペン入力機器等の携帯機器
利用の拡大につれて、従来のガラス基板に替わってプラ
スチックを基板とする液晶パネルが検討され、一部で実
用化され始めた。

【０００３】プラスチック基板はガラス基板と比較して
軽量化、薄葉化の要望を満たし、液晶表示パネルの視認
性向上の効果を有しているが、光学特性の面においては
ガラス基板に劣るといわざるを得ない。ガラスは本質的
に光学等方的であるが、プラスチックの場合にはプラス
チック基板の成形時に生じる分子配向や残留歪みと樹脂
特有の光学弾性係数との相関から、レターデーションが
生じるといった問題がある。

【０００４】液晶ディスプレイが表示機能は、偏光の光
スイッチングによる表示の可視化という原理に従ってい
る。従って基板として用いられるプラスチック基板に複
屈折性があると、表示の着色、コントラストの低下等著
しいディスプレイの表示品位の低下をもたらす事とな
る。

【０００５】また一方で近年液晶ディスプレイの高精細
化が進むにつれ、加工時における耐熱性が要求されるよ
うになってきた。そのためプラスチック基板において
も、優れた光学的等方性と高いガラス転移温度（Ｔｇ）
を有するものが要求されるようになっている。特に耐熱
性に関しては、ＭＩＭ型のアクティブマトリックス液晶
の作成やアモルファスシリコンのエキシマーレーザーア
ニールが１８０℃以上の温度で行えるようになりつつあ
り、より耐熱性の高い樹脂基板が要求されている。

【０００６】上記特性の必要性から、プラスチック基板
のベース樹脂として、ポリカーボネート、非晶性ポリア
リレート、ポリエーテルスルホン、非晶性ポレオレフィ
ン等の非晶性樹脂が検討されている。中でも、樹脂の着
色が少ない、吸湿性が少ないことなどからポリカーボネ
ートが好ましいが、耐熱性にやや劣ることや、光弾性係
数がやや大きい問題がある。

【０００７】このポリカーボネートの欠点を改良するた
めに、各種の共重合ポリカーボネートが検討されてい
る。なかでも、耐熱性を改善するためにフルオレン基を
共重合したポリカーボネートが知られている。（USP3,5
46,165) また、フルオレン基を共重合したポリカーボ
ネートの光学用フィルムへの応用が知られている。（特
許2828569号、特開平7-52270号、特開平8-54615号）し
かし、これらに記載されているフルオレン基を共重合し
たポリカーボネートは、主に、９，９−ビス（４−ヒド
ロキシフェニル）フルオレンである。

【０００８】一方、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−置
換フェニル）フルオレンのポリカーボネートに関して、
耐ストレスクラック性の向上が知られている（特開平8-
134198）が、光学特性等についてはまったく考慮されて
いない。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、光学
特性に優れ、表示品位に優れた液晶表示パネルを実現す
る耐熱性にすぐれた液晶表示パネル用基板を提供するこ
とである。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明者は鋭意検討を行
った結果、光学的異方性が小さく、寸法安定性ならびに
耐熱性を有する液晶表示パネル用基板を与えるポリカー
ボネートからなる基材を見出した。本発明の液晶表示パ
ネル用基板はガラス基板を用いた場合と同様の表示品位
を有するのみならず、ガラス基板以上の機械特性を有す
るものである。すなわち本発明は、下記式（１）

【００１１】

【化３】

【００１２】[上記式（１）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６
の炭化水素基から選ばれ、Ｘは炭素数１〜１５の炭化水
素基である。ただしＲ₁〜Ｒ₈がすべて水素原子ではな
い。]で表わされる繰り返し単位と、下記式（２）

【００１３】

【化４】

【００１４】[上記式（２）において、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₈はそ
れぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜
６の炭化水素基から選ばれ、Ｘは炭素数１〜１５の炭化
水素基である。]で表わされる繰り返し単位とからな
り、上記式（１）で表わされる繰り返し単位が、全繰り
返し単位中５〜７０モル％であり、極限粘度が０．１５
〜２．０ｄｌ／ｇであり、光弾性係数が、８０×１０
^-13ｃｍ²／ｄｙｎｅ以下である共重合ポリカーボネート
樹脂を基材とした液晶表示パネル用基板である。

【００１５】本発明の液晶表示パネル用基板は、上記式
（１）で表わされる繰り返し単位が、上記式（１）及び
（２）で表わされる合計の繰り返し単位中５〜７０モル
％を占める共重合ポリカーボネート樹脂からなる基材よ
り構成される。上記式（１）中、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれぞれ独
立に水素原子、ハロゲン原子及び炭素数１から６の炭化
水素基から選ばれるが、Ｒ₁〜Ｒ₈がすべて水素原子であ
る場合を除く。ハロゲン原子としてはフッ素原子、塩素
原子、臭素原子等が例示できる。炭素数１〜６の炭化水
素基としてはメチル基、エチル基が例示できる。具体的
には、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェ
ニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−
３，５−ジメチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス
（４−ヒドロキシ−３−クロロフェニル）フルオレン等
からなるポリカーボネートが例示され、９，９−ビス
（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンか
らなるポリカーボネートが好ましい。

【００１６】上記式（２）において、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₈はそれ
ぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６
の炭化水素基から選ばれ、Ｘは炭素数１〜１５の炭化水
素基である。具体的には、２，２−ビス（４−ヒドロキ
シフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ
フェニル）シクロヘキサン、１，１−ビス（４−ヒドロ
キシフェニル）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサ
ン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニ
ル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５
−ジメチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒ
ドロキシ−３−クロロフェニル）プロパン等が例示さ
れ、中でも、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）
プロパン（ビスフェノールＡ）が好ましい。

【００１７】上記式（１）で示される繰り返し単位の割
合は、繰り返し単位全体に対し好ましくは５〜７０モル
％、より好ましくは２０〜５０モル％である。５モル％
より少ない場合は耐熱性が不十分となる場合がある。

【００１８】上記式（１）で示される繰り返し単位は２
種類以上組み合わせてもよく、上記式（２）で示される
繰り返し単位は２種類以上組み合わせてもよい。

【００１９】本発明に用いる共重合ポリカーボネート樹
脂は、上記共重合ポリカーボネート樹脂を２種類以上混
合して用いてもよい。

【００２０】本発明の液晶表示パネル用基板の基材とし
て用いる上記共重合ポリカーボネート樹脂の重合度は、
ウベローデ型粘度計を用い、塩化メチレン溶媒、２０℃
で測定し外挿して求めた極限粘度 [η]の値で０．１５
〜２．０ｄｌ／ｇであることが好ましい。[η]が０．１
５ｄｌ／ｇより低い場合は、十分な強度を有するフィル
ムもしくはシート状成型物を得ることができないことが
ある。また２．０ｄｌ／ｇより大きい場合は、成型が困
難になる場合がある。かかる極限粘度としてはより好ま
しくは０．３〜１．５ｄｌ／ｇである。

【００２１】また、共重合ポリカーボネート樹脂を２種
類以上混合して用いる場合には、上記極限粘度の範囲を
超える共重合ポリカーボネート樹脂を、かかる範囲内の
共重合ポリカーボネート樹脂と混合することで、好まし
い極限粘度範囲の共重合ポリカーボネート樹脂とするこ
とも可能である。

【００２２】上記ポリカーボネート樹脂の重合方法は特
に限定するものではないが、通常の界面重合法、溶融重
合法等を挙げることができる。

【００２３】本発明の共重合ポリカーボネートの光弾性
係数は、８０×１０^-13ｃｍ²／dyne以下である。８０×
１０^-13ｃｍ²／dyneを超えると、パネル化工程やパネル
化後の応力、例えば、シール剤硬化時の応力や偏光板の
反りによる応力等で複屈折性が発現し、表示品位が劣化
してしまう。

【００２４】本発明の液晶表示パネル用基板を構成する
基材の厚みは５０〜７００μｍが好ましい。５０μｍよ
り薄い場合は基材の作製プロセスにおいてハンドリング
が困難となるといった問題がある。７００μｍより厚い
場合は、軽量であるという樹脂基材の特徴が失われるの
みならず、視差が大きくなることによる表示品位の低下
が生じ好ましくない。基材の厚みはより好ましくは７０
〜５００μｍである。

【００２５】また厚みムラは、液晶セルのセルギャップ
のムラに直接影響するため±５％以下であることが好ま
しい。さらにはレターデイションは遅相軸と進相軸の屈
折率差Δｎと基材の厚さｄの積Δｎ・ｄで表わされるた
め、厚みムラの少ない基材はレターデイションのバラツ
キも小さくなる。従って厚みムラはより好ましくは±
２.５％以下である。

【００２６】上記基材は優れた耐熱性を有し、ガラス転
移温度は１６０℃以上が望ましい。１６０℃未満の場
合、配向膜形成プロセスや電極形成プロセスにおいて、
制限が生じる可能性がある。更にはＭＩＭ素子形成に耐
えるため、ガラス転移温度は１８０℃以上であることが
好ましい。

【００２７】基材のレターデイション値は好適には２０
ｎｍ以下である。２０ｎｍより大きい場合は表示の着
色、反転等が生じ表示品位の低下が起きる。レターデイ
ションの値はより好ましくは１０ｎｍ以下、更に好まし
くは５ｎｍ以下である。

【００２８】またSTN等の大型パネルでドットマトリッ
クス駆動を行う場合には、分子配向軸の方向を示す最大
屈折率方向つまり遅相軸のバラツキが少ないことが望ま
れる。通常±１５度以下が好ましく用いられるが、精細
な表示を行う場合には、±１０度以下が好ましく用いら
れる。STN大型パネルでマルチカラー等の表示を色再現
良く実現するためには、レターデイション値で１０ｎｍ
以下、遅相軸の角度バラツキが±７.５度以下である事
が特に好ましい。

【００２９】さらに基材のヘイズの値は１％以下が好ま
しい。ヘイズが大きい場合には表示品位の低下を招く場
合が多い。したがってヘイズの値はより好ましくは０.
５％以下である。

【００３０】上記基材の製造方法については特に限定す
るものではないが、上記ポリカーボネート樹脂を通常の
押し出し成形法、溶液キャスト法等により得る方法を例
示することができる。溶液キャスト法のほうがレターデ
イションの低減といった点では有利であるが、分子配向
を低減させる十分な方策を取りうる場合は、生産性の点
で押し出し成形法の方が好ましい。

【００３１】本発明における共重合ポリカーボネート樹
脂は、通常のビスフェノールＡのみからなるポリカーボ
ネートと比較して、塩化メチレン等の溶媒に高濃度で溶
解可能であり、その溶液安定性も優れている。そのた
め、溶液キャスト法にて基材を得る場合、特に厚みが厚
いものを得る場合、通常のビスフェノールＡのみからな
るポリカーボネート対比、生産性に優れている。

【００３２】本発明の液晶表示パネル用基板は液晶表示
素子の長期信頼性を確保するために、上記共重合ポリカ
ーボネート樹脂からなる基材の少なくとも片面に、酸素
と水分の侵入を防御するガスバリア層、ハードコート等
の架橋構造を有する耐溶剤層、または透明導電層を積層
したもの等を設けることができる。

【００３３】例えば湿式のコーティング法でガスバリア
層を形成する場合には、バリア材料としてはポリビニル
アルコール、ポリビニルアルコール−エチレン共重合体
等のポリビニルアルコール系重合体、ポリアクリロニト
リル、ポリアクリロニトリル−スチレン共重合体等のポ
リアクリロニトリル系重合体、あるいはポリビニリデン
クロリド等の公知のコーティング材料を用いる事ができ
る。

【００３４】コーティング法に関しても特に制限はない
が、リバースロールコーティング法、グラビアロールコ
ーティング法あるいはダイコーティング法等の公知の方
法を用いる事ができる。また、基板あるいは基材表面と
の接着性、濡れ性等が不良の場合には、適宜プライマー
処理等の易接着処理を行う事もできる。

【００３５】しかし、本発明に用いる共重合ポリカーボ
ネートは、塗工溶媒に対して、ダメージを受けやすい場
合もあり、塗工溶媒の選択や塗工条件を選択する必要が
ある。塗工溶媒としては、水や、イソプロパノール等の
アルコール系、シクロヘキサン等の炭化水素系溶媒が好
ましい。

【００３６】またスパッタリングあるいは真空蒸着等の
ドライプロセスでガスバリア層を形成する場合には、公
知のバリア材であるSi、Al、Ti、MgおよびZr等から選ば
れた少なくとも1種の金属あるいは2種以上の金属混合物
の酸化物、窒化物あるいは酸窒化物の薄膜を、公知の方
法で形成する事ができる。ガスバリア層としては、Si酸
化物、Al酸化物の薄膜を用いるのが好ましい。

【００３７】これらのガスバリア層の膜厚は、目的とす
る性能が発現できる厚さに設定すれば良い。なおドライ
／湿式、ドライ／ドライおよび湿式／湿式等の2種以上
の層を適宜組み合わせて積層しても良い。

【００３８】また上記基材に耐溶剤性を付与する耐溶剤
性層は、公知の材料例えばシリコン樹脂系の架橋構造を
有する樹脂構成体、アクリル系樹脂の架橋構造体、ウレ
タン系樹脂の架橋構造体、エポキシ系樹脂の架橋構造体
等を公知の塗工法および硬化法を用いる事により形成す
ることができる。耐溶剤性層が、本発明における共重合
ポリカーボネートからなる基材に直接接して設けられる
場合、接着性の観点では、アクリル系樹脂の架橋構造体
またはウレタン系樹脂の架橋構造体が好ましい場合が多
い。ここで耐溶剤性は液晶パネル組み立て時の溶剤や化
学薬品に対する耐久性を付与する事が目的であり、耐ア
ルカリ性、耐酸性およびＮ−メチルピロリドン等の有機
溶剤に対する安定性を十分に確保できる材料と硬化条件
を選定する事が好ましい。

【００３９】ガスバリア層および耐溶剤層を相互に積層
させる場合には、各層間の接着性を向上させる目的で適
宜プライマー層を設ける事ができる。プライマー層とし
てはシランカップリング剤等を含むシリコン系材料、ア
クリル系材料、アクリル−ウレタン系材料あるいはアル
コキシチタン等を含む材料を、グラビアあるいはマイク
ログラビアコーティング等の方法で塗工、乾燥を行い適
宜設けることができる。

【００４０】ところで、上記基材を液晶表示パネル用基
板として用いるためには、基材に直接または例えば上記
ガスバリア層あるいは耐溶剤層などの加工が施された少
なくとも片面に透明導電膜からなる層を形成させてもよ
い。透明導電膜としては、透明性、導電性および信頼性
等の点でガラス基板でも使用されている公知の電極材料
を用いることができる。かかる電極材料としては例えば
インジウム−スズ酸化物、フッ素ドープスズ酸化物、カ
ドミウム−スズ酸化物、バナジウム酸化物、アルミニウ
ム−亜鉛酸化物系材料等をあげることができる。好まし
くはインジウム−スズ酸化物である。また必要に応じて
添加物を添加する事も可能である。例えばインジウム−
スズ酸化物に対して酸化亜鉛を添加する場合、インジウ
ム酸化物に対して酸化亜鉛を添加する場合等を例示する
事ができる。

【００４１】インジウム−スズ酸化物の透明導電膜はス
パッタリング法、真空蒸着法およびイオンプレーティン
グ法等公知の方法で形成する事ができる。またインジウ
ム−スズ酸化物層と下地になる材料との接着性を向上さ
せる目的で、上記プライマー層を適宜選択して下塗りす
る事も可能である。

【００４２】本発明の液晶表示パネル用基板の厚みは５
０〜７００μｍが好ましい。５０μｍより薄い場合は基
板の作製プロセスにおいてハンドリングが困難となると
いった問題がある。７００μｍより厚い場合は、軽量で
あるという樹脂基材の特徴が失われるのみならず、視差
が大きくなることによる表示品位の低下が生じ好ましく
ない。基板の厚みはより好ましくは７０〜５００μｍで
ある。

【００４３】

【発明の効果】本発明の液晶表示パネル用基板は、耐熱
性が高くかつ十分な光学特性と機械特性を有する。従っ
て樹脂基板の特徴を生かしつつ液晶ディスプレイの高精
細化の要求に対応可能であり、ガラス基板代替として有
用である。

【００４４】本発明の液晶表示パネル用基板は、液晶表
示装置はもちろんの事、その他の感光体用光電極、面発
熱体、有機ＥＬ用電極等ディスプレイ用途の電極材料と
して利用できる。またＥＬディスプレイ、エレクトロク
ロミックディスプレイ、電気泳動ディスプレイ等透明導
電性基板を必要とするすべてのディスプレイ基板に用い
る事ができる。

【００４５】

【実施例】以下実施例を挙げて本発明を詳しく説明する
が、本発明はこれに限定されるものではない。ポリカー
ボネート樹脂の極限粘度 [η]は、ウベローデ型粘度計
を用い、塩化メチレン溶媒、２０℃で測定し外挿して求
めた。なお以下の各実施例、比較例の各種評価は、下記
の要領で行った。

【００４６】＜光弾性係数＞理研計器（株）製光弾性測
定装置ＰＡ−１５０により測定した。

【００４７】＜耐有機溶剤性＞液晶配向膜前駆体の溶剤
として代表的なＮ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）を耐溶
剤層の形成されたサンプル面に数滴滴下し、８５℃で５
分間放置後、その表面の白濁、膨潤、溶解等の変化を目
視にて観察する事によって行い、変化が観測されない場
合に耐有機溶剤性を有すると評価した。

【００４８】＜耐アルカリ性＞パターニング後のレジス
トを溶解する際に用いられる３.５ｗｔ％水酸化ナトリ
ウム水溶液にサンプルを３０℃で１０分浸漬し、その後
流水にて十分洗浄を行った後に乾燥させ、その表面の外
観を目視にて観察した。その際、変化が見られない場合
に耐アルカリ水溶液性を有すると判断した。

【００４９】＜耐酸性＞透明導電層をパターニングする
際に用いるエッチング液（３５ｗｔ％塩化第二鉄水溶
液、３５ｗｔ％塩酸、水を１：１：１０の割合で混合し
たもの）に３０℃で１０分間浸漬し、その後流水にて十
分洗浄を行った後に乾燥させ、その表面の外観を目視に
て観察した。その際、変化が見られない場合に耐酸性を
有すると判断した。そして以上の耐有機溶剤性、耐アル
カリ性、耐酸性のすべてを有した場合に耐溶剤性を有す
るとした。

【００５０】＜ガスバリア性＞酸素透過度と水蒸気透過
度を測定する事によって行った。酸素透過度はＭＯＣＯ
Ｎ社製オキシトラン２／２０ＭＬを用い、３０℃、５０
％ＲＨの低湿度環境下と３０℃、９０％ＲＨの高湿度環
境下で測定した。また水蒸気透過度はＭＯＣＯＮ社製パ
ーマトランＷ１Ａを用い、透明導電層を設ける面と反対
面を加湿側に向けて配置し、４０℃、９０％ＲＨの加湿
下で測定した。

【００５１】＜レターデイション＞日本分光（株）製
Ｍ−１５０型エリプソメータを用いて５９０ｎｍで測定
した。

【００５２】［実施例１］水酸化ナトリウム水溶液に、
フルオレン−９,９−ジ（３−メチル−４−フェノー
ル）３７．８ｇ及びビスフェノールＡ５３．２ｇを仕込
み、少量のハイドロサルファイトを加え、続いて塩化メ
チレンを加えて、２０℃でホスゲンを約６０分かけて吹
き込んだ後、さらに、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール
を加えて乳化後、トリエチルアミンを加えて３０℃で約
３時間攪拌させて作成した。得られた共重合ポリカーボ
ネートの極限粘度[η]は、０．７０ｄｌ／ｇであった。

【００５３】この樹脂を塩化メチレンに溶解して２１重
量％の溶液を作成した。作成した溶液をダイコーティン
グ法によりポリエステルフィルム上に流延した後、乾燥
を行った。得られた基材の物性を表１にまとめる。

【００５４】この基材に耐溶剤性層を両面に形成した。
耐溶剤性層を形成するための塗液としてはジメチロール
トリシクロデカンジアクリレートを５０重量部、１−メ
トキシ−２−プロパノール５０重量部、開始剤として１
−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンを３．５重
量部を混合したものを用いた。

【００５５】この塗液をバーコーターを用いてコーティ
ングし、６０℃で１分間加熱して塗膜中の残留溶媒を揮
発除去した後、１６０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯を用いて、
積算光量７００ｍJ／ｃｍ²の条件で紫外線を照射して塗
膜の硬化を行い、厚さ４.５μｍの耐溶剤性層を形成し
た。

【００５６】更に上記の両面に耐溶剤性層を形成した積
層基板の片面にガスバリア層としてSiOx層をスパッタリ
ングにより形成した。連続スパッタ装置に基板をセット
し１.３ｍＰａまで排気した後、Ａｒ／Ｏ₂＝７０／３０
の混合ガスを導入して雰囲気圧力を０.２２Ｐａにし
た。スパッタリングターゲットとしてシリコンを用い
て、投入電力密度１Ｗ／ｃｍ²、基板温度は室温でＤＣ
スパッタリングを行ない、膜厚が３０ｎｍのSiOx層を形
成した。

【００５７】更に上記ガスバリア層と逆面に透明導電薄
膜であるインジウム−スズ酸化物薄膜層をスパッタリン
グにより形成した。そのためのスパッタリングターゲッ
トとしてはインジウム−スズ酸化物ターゲット（モル比
はインジウム／スズ＝９０／１０、充填密度は９５％）
を用いた。連続スパッタ装置にフィルムをセットし、
１.３ｍＰａの圧力まで排気した後、Ａｒ／Ｏ₂＝９８.
５／１.５の混合ガスを導入して雰囲気圧力を０.２７Ｐ
ａにした。そして基板温度を６０℃に設定し、投入電力
密度１Ｗ／ｃｍ2でＤＣスパッタリングを行った。その
結果得られた透明導電膜は、膜厚が３０ｎｍであり、表
面抵抗が２５０Ω／sq.であった。

【００５８】この液晶表示パネル用基板のガスバリア
性、水蒸気バリア性、耐溶剤性試験の結果を表２にまと
める。

【００５９】また140℃で2時間の熱処理を行ったが、カ
ール変化（反りの変化）および外観変化は生じなかっ
た。

【００６０】次に液晶表示用パネル基板から７ｃｍ角の
試料を２枚切り出した。そして2枚の試料それぞれに、
配向剤として低温硬化型ポリイミドである日立化成製 S
TX-24をN-メチルピロリドンの希釈溶解して、スピンコ
ートした。続いてこれを140℃で２時間硬化させ、ラビ
ングマシンにてポリエステル系のラビングロールで15回
ラビングした。その後スぺーサーとして積水ファインケ
ミカル製ミクロパールを散布した。然る後封止剤とし
てチバガイギー製アラルダイトをスクリーン印刷し
た。

【００６１】以上の加工を行った2枚の試料を、１７０
℃で2時間圧力をかけながら貼り合わせて硬化させ液晶
セルを作成した。この液晶セルのセルギャップは、キャ
パシタンス容量法で測定したところ6μｍであった。

【００６２】この液晶セルの開口部より、液晶材料とし
て旭電化製キラコール６２２８を液晶注入装置を用い
て注入した。注入後、液晶材料の液晶相転移温度まで加
熱し、その後室温まで徐冷して配向を完了した。配向は
基板を１８０度配向で貼り合わせた事で１８０度のSTN
配向をしている事を確認した。

【００６３】この結果得られたセルは、色調が均一であ
るとともに、1.8Ｖの印加電圧でＯＮ応答は６０ｍｓｅ
ｃ以下、ＯＦＦ応答は２５ｍｓｅｃ以下であるＳＴＮ液
晶セルの応答を示す事を確認した。

【００６４】［実施例２］実施例１において、ビスフェ
ノールＡの仕込み量を２２．８ｇに変えた以外は、同様
に行った。得られた共重合ポリカーボネートの極限粘度
[η]は、０．５２ｄｌ／ｇであった。

【００６５】この樹脂を塩化メチレンに溶解して２５重
量％の溶液を作成した。作成した溶液をダイコーティン
グ法によりポリエステルフィルム上に流延した後、乾燥
を行った。得られ基材の物性を表１にまとめる。

【００６６】液晶表示用パネル基板の作成法は実施例１
と同様に行った。このパネルのガスバリア、水蒸気バリ
ア、耐溶剤性試験の結果を表２に示す。この結果得られ
たセルは、色調が均一であるとともに、1.8Ｖの印加電
圧でＯＮ応答は６０ｍｓｅｃ以下、ＯＦＦ応答は２５ｍ
ｓｅｃ以下であるＳＴＮ液晶セルの応答を示す事を確認
した。

【００６７】［実施例３］実施例１において、ビスフェ
ノールＡの仕込み量を２０５．２ｇに変えた以外は、同
様に行った。得られた共重合ポリカーボネートの極限粘
度[η]は、１．１ｄｌ／ｇであった。

【００６８】この樹脂を塩化メチレンに溶解して１６重
量％の溶液を作成した。作成した溶液をダイコーティン
グ法によりポリエステルフィルム上に流延した後、乾燥
を行った。得られ基材の物性を表１にまとめる。

【００６９】液晶表示用パネル基板の作成法は実施例１
と同様に行った。このパネルのガスバリア、水蒸気バリ
ア、耐溶剤性試験の結果を表２に示す。

【００７０】この結果得られたセルは、色調が均一であ
るとともに、1.8Ｖの印加電圧でＯＮ応答は６０ｍｓｅ
ｃ以下、ＯＦＦ応答は２５ｍｓｅｃ以下であるＳＴＮ液
晶セルの応答を示す事を確認した。

【００７１】［実施例４］実施例１において、ビスフェ
ノールＡの替わりに、１，１−ビス（４−ヒドロキシフ
ェニル）シクロヘキサンを、仕込み量を６２．５ｇに変
えた以外は、同様に行った。得られた共重合ポリカーボ
ネートの極限粘度[η]は、０．５０ｄｌ／ｇであった。

【００７２】この樹脂を塩化メチレンに溶解して１５重
量％の溶液を作成した。作成した溶液をダイコーティン
グ法によりポリエステルフィルム上に流延した後、乾燥
を行った。得られ基材の物性を表１にまとめる。

【００７３】液晶表示用パネル基板の作成法は実施例１
と同様に行った。このパネルのガスバリア、水蒸気バリ
ア、耐溶剤性試験の結果を表２に示す。

【００７４】この結果得られたセルは、色調が均一であ
るとともに、1.8Ｖの印加電圧でＯＮ応答は６０ｍｓｅ
ｃ以下、ＯＦＦ応答は２５ｍｓｅｃ以下であるＳＴＮ液
晶セルの応答を示す事を確認した。

【００７５】

【表１】

【００７６】

【表２】

【００７７】［比較例］ビスフェノール成分がビスフェ
ノールＡのみからなるポリカーボネート樹脂（[η]＝
０．７５）を、塩化メチレンに溶解して濃度２０重量％
の溶液を作成した。作成した溶液を温度２０℃、湿度６
０％ＲＨの環境下でダイを使用した流延法により、研磨
ステンレスベルト上にキャストした後、乾燥を行った。
この基材の物性値を上記表１に示す。

フロントページの続き (72)発明者串田尚東京都日野市旭が丘４丁目３番２号帝人株式会社東京研究センター内Ｆターム(参考） 2H090 JA07 JA09 JB03 JB13 JD11 JD17 LA01 4F071 AA50 AA50X AA81 AA86 AF12 AF45 AH16 BA02 BB02 BC01 4J029 AA10 AB07 AC02 AD01 AD07 AE04 BB12A BB12B BB13A BB13B BD08 BD09A BD09C BG08X HC01 KB02

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】下記式（１）【化１】 [上記式（１）において、Ｒ₁〜Ｒ₈はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６の炭化水素基
から選ばれ、Ｘは炭素数１〜１５の炭化水素基であり、
ただしＲ₁〜Ｒ₈がすべて水素原子ではない。]で表わさ
れる繰り返し単位と、下記式（２）【化２】 [上記式（２）において、Ｒ₁₁〜Ｒ₁₈はそれぞれ独立に
水素原子、ハロゲン原子および炭素数１〜６の炭化水素
基から選ばれ、Ｘは炭素数１〜１５の炭化水素基であ
る。]で表わされる繰り返し単位とからなり、上記式
（１）で表わされる繰り返し単位が、全繰り返し単位中
５〜７０モル％であり、極限粘度が０．１５〜２．０ｄ
ｌ／ｇであり、かつ光弾性係数が８０×１０^-13ｃｍ²／
ｄｙｎｅ以下である共重合ポリカーボネート樹脂を基材
とした液晶表示パネル用基板。
【請求項２】上記式（１）で示される繰り返し単位
が、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３メチルフェニ
ル）フルオレンより誘導されたものである液晶表示パネ
ル用基板。
【請求項３】上記式（２）で示される繰り返し単位
が、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン
より誘導されたものである請求項１または２記載の液晶
表示パネル用基板。
【請求項４】基材のレターデーション値が２０ｎｍ以
下であり、遅相軸のバラツキが±１０度以下であり、か
つヘイズ値が１％以下である請求項１〜３のいずれかに
記載の液晶表示パネル用基板。
【請求項５】基材の厚みが５０〜７００μｍであり、
かつ基材の厚みムラが±５％以下である請求項１〜４の
いずれかに記載の液晶表示パネル用基板。
【請求項６】基材のガラス転移温度が１６０℃以上で
ある請求項１〜５のいずれかに記載の液晶表示パネル用
基板。
【請求項７】基材の少なくとも片面に透明導電層が配
置されている請求項１〜６のいずれかに記載の液晶表示
パネル用基板。
【請求項８】基材の少なくとも片面にガスバリアー
層、耐溶剤性層、および透明導電層が配置されている請
求項１〜７のいずれかに記載の液晶表示パネル用基板。