JP2002309015A - 光学フィルム - Google Patents
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Abstract
示に優れたポリカーボネート樹脂およびポリエステルカ
ーボネート樹脂より形成される光学フィルムを提供す
る。 【解決手段】 全ジヒドロキシ成分の5〜100モル%
が、9,9−ビス(ヒドロキシアルコキシフェニル)フ
ルオレン類からなるポリカーボネート樹脂またはポリエ
ステルカーボネート樹脂より形成される光学フィルム。
Description
液晶基板用フィルム、光メモリーカード等に好適に使用
される光学フィルムに関する。さらに詳しくは透明性、
色相および耐熱性が良好で、液晶表示に優れた光学フィ
ルムに関する。
し、モバイル端末などの表示部分には液晶ディスプレー
が用いられ、この液晶ディスプレーに用いられる液晶基
板用フィルムや位相差フィルムに、割れない、軽い特徴
を持ったポリカーボネート樹脂等のプラスチックフィル
ムが使用されるようになってきた。
り得られるポリカーボネート樹脂において、芳香環がそ
の分極率異方性から光学的に異方性を有し、位相差を生
じ易く、液晶ディスプレー用のフィルムに使用した際に
視野角が狭くなり、またコントラストに劣り視認性を損
なう場合があった。
ポリカーボネート樹脂およびポリエステルカーボネート
樹脂は、それぞれ特開平10−101786号公報およ
び特開平10−87800号公報に記載されている。か
かる公報には、これらの樹脂が耐熱性に優れ、殊に射出
成形して光ディスクに用いられることが示されているに
過ぎない。
フィルムとして使用する際に、透明性、色相および耐熱
性が良好で、液晶表示に優れたポリカーボネート樹脂お
よびポリエステルカーボネート樹脂より形成される光学
フィルムを提供することにある。
研究を重ねた結果、9,9−ビス(ヒドロキシアルコキ
シフェニル)フルオレン類を使用することにより得られ
た特定構造のポリカーボネート樹脂およびポリエステル
カーボネート樹脂より形成されたフィルムが、驚くべき
ことに色相、透明性、フィルム強度および耐熱性に優
れ、延伸フィルム特性が良好で液晶表示に優れることを
見出し、本発明に到達した。
ば、全ジヒドロキシ成分の5〜100モル%が、下記一
般式(1)
子、炭素原子数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜
20のアルコキシル基、炭素原子数6〜20のシクロア
ルキル基、炭素原子数6〜20のシクロアルコキシル
基、炭素原子数6〜20のアリール基、炭素原子数6〜
20のアリールオキシ基を表し、X、Yはそれぞれ炭素
原子数2〜10のアルキレン基、炭素原子数6〜20の
アリーレン基、炭素原子数7〜20のアラルキレン基を
表す。)で表される化合物よりなる群から選ばれた少な
くとも1種のジヒドロキシ成分からなるポリカーボネー
ト樹脂またはポリエステルカーボネート樹脂より形成さ
れる光学フィルムが提供される。
およびポリエステルカーボネート樹脂は、それを構成す
るジヒドロキシ成分として、前記式(1)で表される化
合物を全ジヒドロキシ成分の5〜100モル%、好まし
くは10〜95モル%、さらに好ましくは30〜85モ
ル%含有する。5モル%未満の場合、本発明の目的であ
る光学フィルム用材料として液晶表示に使用した際に視
野角が狭くなるなどの不満足な性質となり好ましくな
い。
は、ジヒドロキシ化合物とカーボネート前駆体とを反応
させて得る事ができる。
ーボネート樹脂は、ジヒドロキシ化合物、ジカルボン酸
化合物およびカーボネート前駆体とを反応させて得る事
ができる。
るジヒドロキシ成分としては、例えば9,9−ビス[4
−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレン、
9,9−ビス[3−メチル−4−(2−ヒドロキシエト
キシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス[3−te
rt−ブチル−4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニ
ル]フルオレン、9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシ
イソプロポキシ)フェニル]フルオレン、9,9−ビス
[3−メチル−4−(2−ヒドロキシイソプロポキシ)
フェニル]フルオレン、9,9−ビス[4−(3−ヒド
ロキシネオペンチルオキシ)フェニル]フルオレン、
9,9−ビス[3−メチル−4−(3−ヒドロキシネオ
ペンチルオキシ)フェニル]フルオレン等が挙げられ、
なかでも9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシエトキ
シ)フェニル]フルオレンが好ましく使用される。
シ成分以外のジヒドロキシ成分としては、通常ポリカー
ボネート樹脂またはポリエステルカーボネート樹脂のジ
ヒドロキシ成分として使用されているものであればよ
く、例えばハイドロキノン、レゾルシノール、4,4′
−ビフェノール、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)エタン(ビスフェノールE)、2,2−ビス(4−
ヒドロキシフェニル)プロパン(ビスフェノールA)、
2,2−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)
プロパン(ビスフェノールC)、2,2−ビス(4−ヒ
ドロキシフェニル)ブタン、1,1−ビス(4−ヒドロ
キシフェニル)−1−フェニルエタン、1,1−ビス
(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサン(ビスフェ
ノールZ)、1,1−ビス(4−ヒドロキシフェニル)
−3,3,5−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)ペンタン、4,4′−
(p−フェニレンジイソプロピリデン)ジフェノール、
α,α′−ビス(4−ヒドロキシフェニル)−m−ジイ
ソプロピルベンゼン(ビスフェノールM)、1,1−ビ
ス(4−ヒドロキシフェニル)−4−イソプロピルシク
ロヘキサン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチ
ルフェニル)フルオレン(ビスクレゾールフルオレ
ン)、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオ
レン(ビスフェノールフルオレン)などが挙げられ、な
かでもビスフェノールA、ビスフェノールZ、ビスフェ
ノールC、ビスフェノールE、ビスフェノールM、ビス
クレゾールフルオレンが好ましく、特にビスフェノール
Aが好ましい。
タル酸、イソフタル酸、ナフタレンジカルボン酸等が好
ましく、これらのジカルボン酸は酸クロライドまたはエ
ステル化合物として反応させることが好ましく採用され
る。また、ポリエステルカーボネート樹脂を製造する際
に、ジカルボン酸は、前記ジヒドロキシ成分とジカルボ
ン酸成分との合計を100モル%とした時に、0.5〜
45モル%の範囲で使用することが好ましく、1〜40
モル%の範囲で使用することがより好ましい。
およびポリエステルカーボネート樹脂は、通常のポリカ
ーボネート樹脂およびポリエステルカーボネート樹脂を
製造するそれ自体公知の反応手段、例えばジヒドロキシ
成分、二官能性カルボン酸にホスゲンや炭酸ジエステル
などのカーボネート前駆物質を反応させる方法により製
造される。次にこれらの製造方法について基本的な手段
を簡単に説明する。
ゲンを使用する反応では、通常酸結合剤および溶媒の存
在下に反応を行う。酸結合剤としては、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属水酸化物
またはピリジンなどのアミン化合物が用いられる。溶媒
としては、例えば塩化メチレン、クロロベンゼンなどの
ハロゲン化炭化水素が用いられる。また反応促進のため
に例えば第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩など
の触媒を用いることもできる。その際、反応温度は通常
0〜40℃であり、反応時間は数分〜5時間である。
ルを用いるエステル交換反応は、不活性ガス雰囲気下所
定割合の芳香族ジヒドロキシ成分を炭酸ジエステルと加
熱しながら撹拌して、生成するアルコールまたはフェノ
ール類を留出させる方法により行われる。反応温度は生
成するアルコールまたはフェノール類の沸点などにより
異なるが、通常120〜350℃の範囲である。反応は
その初期から減圧にして生成するアルコールまたはフェ
ノール類を留出させながら反応を完結させる。また反応
を促進するために通常エステル交換反応に使用される触
媒を使用することもできる。前記エステル交換反応に使
用される炭酸ジエステルとしては、例えばジフェニルカ
ーボネート、ジナフチルカーボネート、ビス(ジフェニ
ル)カーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカ
ーボネート、ジブチルカーボネートなどが挙げられる。
これらのうち特にジフェニルカーボネートが好ましい。
およびポリエステルカーボネート樹脂は、その重合反応
において、末端停止剤として通常使用される単官能フェ
ノール類を使用することができる。殊にカーボネート前
駆物質としてホスゲンを使用する反応の場合、単官能フ
ェノール類は末端停止剤として分子量調節のために一般
的に使用され、また得られた樹脂は、末端が単官能フェ
ノール類に基づく基によって封鎖されているので、そう
でないものと比べて熱安定性に優れている。
一般式(2)で表される単官能フェノール類を示すこと
ができる。
鎖または分岐のアルキル基あるいはアリールアルキル基
であり、rは1〜5、好ましくは1〜3の整数であ
る。]前記単官能フェノール類の具体例としては、例え
ばフェノール、p−tert−ブチルフェノール、p−
クミルフェノールおよびイソオクチルフェノールが挙げ
られる。
テルカーボネート樹脂は、そのポリマーを塩化メチレン
に溶解した溶液を20℃で測定した極限粘度が0.3〜
1.5の範囲が好ましく、0.35〜1.3の範囲のも
のがより好ましく、0.4〜1.2の範囲のものが特に
好ましい。極限粘度が上記範囲内であるとフィルム強度
が強く、溶融粘度および溶液粘度が適当で、取り扱いが
容易であり好ましい。
ボネート樹脂およびポリエステルカーボネート樹脂は、
その100μmのフィルムの光線透過率が89%以上で
あることが好ましい。
場合無荷重下で測定したリターデーションが20nm以
下であることが望ましい。また、このフィルムを延伸し
た位相差フィルムの無荷重下で測定したリターデーショ
ンが100〜1200nmであることが望ましい。未延
伸フィルムを液晶基板用フィルムとして用いる場合リタ
ーデーションが大きいとコントラストに劣り好ましくな
い。また、延伸した位相差フィルムで着色を解消するた
めにはリターデーションは100〜1200の範囲が好
ましい。
ーボネート樹脂およびポリエステルカーボネート樹脂
は、耐熱性が高いことが加工耐久性を高めるために重要
であり、ガラス転移温度(Tg)で120℃以上が好ま
しく、140℃以上がより好ましい。主鎖に芳香族基を
有するポリカーボネート樹脂やポリエステルカーボネー
ト樹脂は透明性、耐熱性に優れ、フィルムに適した材料
として好ましく用いられる。また、これらを2種以上ブ
レンドしても用いることができる。
脂およびポリエステルカーボネート樹脂に必要に応じ
て、リン酸、亜リン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸およ
びこれらのエステルよりなる群から選択された少なくと
も1種のリン化合物を配合することができる。かかるリ
ン化合物の配合量は、前記樹脂に対して0.0001〜
0.05重量%が好ましく、0.0005〜0.02重量
%がより好ましく、0.001〜0.01重量%が特に好
ましい。このリン化合物を配合することにより、かかる
樹脂の熱安定性が向上し、成形時における分子量の低下
や色相の悪化が防止される。
ン酸、ホスホン酸、亜ホスホン酸およびこれらのエステ
ルよりなる群から選択される少なくとも1種のリン化合
物であり、好ましくは下記一般式
て、水素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、tert−ブチル、ペンチ
ル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、
ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシルなどの炭素数1
〜20のアルキル基、フェニル、トリル、ナフチルなど
の炭素数6〜15のアリール基またはベンジル、フェネ
チルなどの炭素数7〜18のアラルキル基を表し、また
1つの化合物中に2つのアルキル基が存在する場合は、
その2つのアルキル基は互いに結合して環を形成してい
てもよい。]よりなる群から選択された少なくとも1種
のリン化合物である。
は、例えばトリフェニルホスファイト、トリスノニルフ
ェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−tert−
ブチルフェニル)ホスファイト、トリデシルホスファイ
ト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホス
ファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオク
チルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフ
ェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイ
ト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチル
ジフェニルホスファイト、ビス(2,6−ジ−tert
−ブチル−4−メチルフェニル)ペンタエリスリトール
ジホスファイト、2,2−メチレンビス(4,6−ジ−
tert−ブチルフェニル)オクチルホスファイト、ビ
ス(ノニルフェニル)ペンタエリスリトールジホスファ
イト、ビス(2,4−ジ−tert−ブチルフェニル)
ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペ
ンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。
は、例えばトリブチルホスフェート、トリメチルホスフ
ェート、トリフェニルホスフェート、トリエチルホスフ
ェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、
ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイ
ソプロピルホスフェートなどが挙げられ、上記(5)式
で示されるリン化合物としては、テトラキス(2,4−
ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4−ジフェニレ
ンホスホナイトなどが挙げられ、また上記(6)式で示
される化合物としては、ベンゼンホスホン酸ジメチル、
ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプ
ロピルなどが挙げられる。
ルフェニルホスファイト、トリス(2,4−ジ−ter
t−ブチルフェニル)ホスファイト、テトラキス(2,
4−ジ−tert−ブチルフェニル)−4,4−ジフェ
ニレンホスホナイトが好ましく使用される。
テルカーボネート樹脂には、酸化防止の目的で通常知ら
れた酸化防止剤を添加することができる。その例として
はフェノール系酸化防止剤を示すことができ、具体的に
は例えばトリエチレングリコール−ビス[3−(3−t
ert−ブチル−5−メチル−4−ヒドロキシフェニ
ル)プロピオネート]、1,6−ヘキサンジオール−ビ
ス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒドロ
キシフェニル)プロピオネート]、ペンタエリスリトー
ル−テトラキス[3−(3,5−ジ−tert−ブチル
−4−ヒドロキシフェニル)プロピオネート]、オクタ
デシル−3−(3,5−ジ−tert−ブチル−4−ヒ
ドロキシフェニル)プロピオネート、1,3,5−トリ
メチル−2,4,6−トリス(3,5−ジ−tert−
ブチル−4−ヒドロキシベンジル)ベンゼン、N,N−
ヘキサメチレンビス(3,5−ジ−tert−ブチル−
4−ヒドロキシ−ヒドロシンナマイド)、3,5−ジ−
tert−ブチル−4−ヒドロキシ−ベンジルホスホネ
ート−ジエチルエステル、トリス(3,5−ジ−ter
t−ブチル−4−ヒドロキシベンジル)イソシアヌレー
ト、3,9−ビス{1,1−ジメチル−2−[β−(3
−tert−ブチル−4−ヒドロキシ−5−メチルフェ
ニル)プロピオニルオキシ]エチル}−2,4,8,1
0−テトラオキサスピロ(5,5)ウンデカン等が挙げ
られる。これら酸化防止剤の好ましい添加量の範囲は前
記樹脂に対して0.0001〜0.05重量%である。
リエステルカーボネート樹脂には、必要に応じて一価ま
たは多価アルコールの高級脂肪酸エステルを加えること
もできる。
原子数1〜20の一価または多価アルコールと炭素原子
数10〜30の飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エ
ステルであるのが好ましい。また、かかる一価または多
価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エ
ステルとしては、ステアリン酸モノグリセリド、ステア
リン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、
ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリス
リトールテトラステアレート、プロピレングリコールモ
ノステアレート、ステアリルステアレート、パルミチル
パルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレー
ト、イソプロピルパルミテート、2−エチルヘキシルス
テアレートなどが挙げられ、なかでもステアリン酸モノ
グリセリド、ペンタエリスリトールテトラステアレート
が好ましく用いられる。
ルの配合量は、前記樹脂に対して0.01〜2重量%が
好ましく、0.015〜0.5重量%がより好ましく、
0.02〜0.2重量%がさらに好ましい。配合量がこの
範囲内であれば離型性に優れ、また離型剤がマイグレー
トし金属表面に付着することもなく好ましい。
テルカーボネート樹脂には、さらに光安定剤、着色剤、
帯電防止剤、滑剤、充填剤などの添加剤、他のポリカー
ボネート樹脂や他の熱可塑性樹脂を本発明の目的を損な
わない範囲で添加することもできる。
テルカーボネート樹脂からフィルムを製造する方法とし
ては、厚みの均一性に優れ、ゲル、ブツ、フィッシュア
イ、スクラッチ等の光学欠点の生じない方法が好まし
く、例えば溶剤キャスト法、溶融押出し法、カレンダー
法等が挙げられる。なかでも、本発明の樹脂フィルムが
好適に使用される光学用途は高度な均一性を要求される
ために、溶液からのキャスティング法が好ましく採用さ
れる。キャスティング法は、一般にはダイから溶液を押
出すキャスティング法、ドクターナイフ法等が好ましく
用いられる。溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロ
ロホルム、ジオキソラン、トルエン、ジメチルホルムア
ミド、N−メチルピロリドン等の有機溶媒が好ましい。
これらは一種でもよいし、二種以上の混合溶媒でもよ
い。液晶ディスプレー用フィルムは厚膜であり、溶液濃
度は15重量%以上、好適には20重量%以上の高濃度
溶液が好ましく用いられる。
テルカーボネート樹脂フィルムの膜厚は用途に応じて選
択すればよいが、50〜500μmの範囲が好ましく、
80〜300μmの範囲がより好ましく用いられる。こ
の範囲内では、位相差フィルムにおいて屈折率異方性に
基づく充分なリターデーションが得られ、また液晶基板
用フィルム(プラセル基板)では充分に腰のある(剛直
な)フィルムが得られ、また、製膜が容易であり好まし
い。さらに、位相差フィルムにおいて延伸により精度良
く目的のリターデーションが得られやすく好ましい。
相差フィルムとして用いるためには、最適な複屈折特性
を有するよう少なくとも一軸方向に延伸配向して位相差
フィルムにする。一軸延伸方法としてはテンター法によ
る横一軸延伸、ロール間による縦一軸延伸、ロール間圧
延法等の任意の方法を用いることができる。
(Tg)−50℃以上、Tg+20℃以下が好ましく、
Tg−30℃以上、Tg+10℃以下がより好ましい。
かかる範囲の温度で延伸することにより、ポリマー分子
の運動が凍結されることなく均一配向が容易になり好ま
しく、また、ポリマーの分子運動が適度であり、延伸に
よる配向の緩和が起り難く、所望した配向度が得られ易
く配向抑制が容易になり好ましい。
ターデーションの大きさに応じて適宜選択すればよい。
この値は、延伸温度、膜厚にも依存する。一般に厚膜で
は延伸倍率は小さくてもよく、薄膜では大きくとる必要
が有る。STN型液晶ディスプレーに用いる位相差板の
リターデーションの値は、一般には100〜1200n
mであり、好ましくは150〜650nmの範囲が用い
られる。更にリターデーションの振れ幅は10%以下が
好ましく、5%以下が特に好ましい。リターデーション
の振れ幅が大きくなりすぎると色補償の偏差が生じ、色
むらになりやすい。
ウム、酸化スズをターゲットとした液晶用透明電極を形
成した後、偏向板に積層して複合偏向板として好ましく
用いられる。この複合偏向板は、通常の偏向板の光学軸
と位相差フィルムの光学軸を40〜50度の範囲で単層
または複層張り合わせることにより形成できる。この複
合偏向板は耐熱耐久性に優れ、リターデーションの経時
変化が少ない等の優れた特徴を有する。
面内方向の屈折率nxとnyの平均値と厚み方向の屈折率
nzの差の絶対値とフィルム厚みt(nm)の積で規定
されるK値=|(nx+ny)/2−nz|×tがあり、
K値が大きくなると液晶表示素子として用いた場合に表
示が浮いて見える等視野角が狭くなるため、この値は好
ましくは120nm以下、より好ましくは80nm以下
に押さえるのが好ましい。
を配置した液晶表示パネルは、視面側の偏向板と液晶セ
ルの間に前記位相差フィルムを配することにより、液晶
の複屈折による着色を解消した白黒表示の液晶表示パネ
ルを形成することができ、更に白黒表示用液晶パネルに
カラーマスクを被せRGBの3色を発色させることによ
りフルカラーの液晶表示パネルを形成することができ
る。
エステルカーボネート樹脂より形成されるフィルムは、
光学フィルムとして使用する際に、透明性、色相および
耐熱性が極めて良好で、液晶表示に優れる。該フィルム
は例えば、得られたフィルムの両面にガスバリヤー膜、
耐溶剤膜を付けたり、透明導電膜や偏光板と共に液晶基
板用フィルムまたは位相差フィルム等の液晶ディスプレ
ー用フィルム等の光学フィルムとして、特に位相差フィ
ルム用途に好適に用いられ、具体的には、ポケベル、携
帯電話、ハンディーターミナル、種々の表示素子等に有
利に使用することができる。
る。なお、実施例中の部は重量部であり、%は重量%で
ある。評価は下記の方法によった。 (1)極限粘度:ポリマーを塩化メチレンに溶解し20
℃の温度で測定した。 (2)ガラス転移点(Tg):デュポン社製910型D
SCにより測定した。 (3)引張り破断強度、引っ張り破断伸度:実施例で得
られた厚み0.1mmのフィルムの引張り破断強度、引
っ張り破断伸度をオリエンテック製テンシロン万能試験
機を用いて測定した。 (4)フィルムのb値:実施例で得られた厚み0.1m
mのフィルムを、C光源により日立U−3000分光光
度計を用いて測定した。 (5)全光線透過率:ASTM D−1003に準拠し
て日本電色(株)シグマ80により測定した。
き反応器にピリジン38部および塩化メチレン360部
を仕込み、これに9,9−ビス[4−(2−ヒドロキシ
エトキシ)フェニル]フルオレン(以下“BHEPF”
と略称することがある)48.4部を溶解し、撹拌下1
5〜25℃でホスゲン9.6部を25分を要して吹き込
んだ。ホスゲン吹込みと同時にテレフタル酸クロライド
10.4部(ジヒドロキシ成分とジカルボン酸成分の合
計モル数に対して30モル%)、およびp−tert−
ブチルフェノール0.54部を塩化メチレン100部に
溶解して滴下した。ホスゲン吹き込み終了後、さらに2
8〜33℃で1時間攪拌して反応を終了した。反応終了
後、生成物を塩化メチレンで希釈して水洗したのち塩酸
酸性にして水洗し、水相の導電率がイオン交換水と殆ど
同じになったところで、塩化メチレン相を濃縮、脱水し
てポリエステルカーボネート樹脂濃度が20%の溶液を
得た(ポリマー収率95%)。このポリマーのエステル
基の割合は59モル%(エステル基とカーボネート基と
の合計100モル%)、極限粘度は0.474、Tgは
162℃であった。
イより移動しているステンレス板上に流延し、徐々に温
度を上げながら塩化メチレンを蒸発し、ステンレス板よ
り剥離して更に加熱して塩化メチレンを除去して100
μmの厚みのフィルムを得た。キャスティング製膜性は
良好で、このフィルムのb値は0.5、全光線透過率は
90%、破断強度は78.4MPa、引っ張り破断伸度
は20%であった。次いで、このフィルムをテンター法
により160℃で100%一軸延伸した。この一軸延伸
したフィルムにバリヤー層および液晶用透明電極をスパ
ッタリングした後、粘着剤を用いて偏向板の片面に光学
軸が45度になるように接着して複合偏向板を得た。次
いでこのものをSTN液晶表示装置の液晶セルと上部偏
向板の間に貼り合わせて用いたところ、視野角が広く、
背景色が白、表示色が黒のコントラストのよい白黒表示
が得られた。またこの上部にカラーフィルターを被せ、
RGBのセルを白黒のグレー濃度で発色表示させること
により、鮮明なフルカラー表示が得られた。
釜にBHEPF24.2部(ジヒドロキシ成分の合計モ
ル数に対して50モル%)、ビスフェノールA13.6
部(ジヒドロキシ成分の合計モル数に対して50モル
%)、ジメチルテレフタレート8.2部(ジヒドロキシ
成分とジカルボン酸成分の合計モル数に対して25モル
%)、ジメチルイソフタレート1.7部(ジヒドロキシ
成分とジカルボン酸成分の合計モル数に対して5モル
%)およびジフェニルカーボネート20.8部を仕込
み、これに触媒としてテトラブトキシチタン6×10-5
部を加え、200〜220℃で脱メタノールおよび脱フ
ェノールを行った。殆ど留出が終了した後リン酸トリメ
チル1μlおよび0.5%酸化ゲルマニウム水溶液0.
1mlを加え、260〜280℃まで徐々に昇温すると
同時に徐々に減圧度を上げて13.3Paにした。溶融
粘度が十分になった後反応を停止し、ポリエステルカー
ボネート樹脂46.4部(収率97%)を得た。このポ
リマーのエステル基の割合は58モル%(エステル基と
カーボネート基との合計100モル%)、極限粘度は
0.457、Tgは155℃であった。このポリカーボ
ネート溶液を実施例1と同様の方法により100μmの
厚みのフィルムを得た。キャスティング製膜性は良好
で、全光線透過率は90%であった。次いで、このフィ
ルムをテンター法により155℃で100%一軸延伸
し、実施例1と同様の方法で液晶表示させたところ、視
野角の広い鮮明なフルカラー表示が得られた。
HEPFを439部、ジフェニルカーボネート214部
およびテトラメチルアンモニウムヒドロキシド9.1×
10-3部を仕込み、窒素置換後140℃で溶融した。3
0分攪拌後、内温を180℃に昇温しながら徐々に減圧
し1.33×104Paで30分間反応させ生成するフ
ェノールを留去した。ついで200℃に昇温しつつ徐々
に減圧し、6.67×103Paで30分間フェノール
を留出せしめ反応させた。さらに220〜260℃、
1.33×102Paまで徐々に昇温減圧し、最終的に
1.33×102Pa以下で1時間反応後、末端停止剤
としてビス(2−メトキシカルボニルフェニル)カーボ
ネート10.3部を添加して260℃、1.33×10
2Paで30分間攪拌後ドデシルベンゼンスルホン酸テ
トラブチルホスホニウム塩1.2×10-2部を添加し攪
拌し反応を終了した(ポリマー収率99%)。このポリ
マーの極限粘度は1.15、Tgは145℃であった。
このポリマーの塩化メチレン溶液から実施例1と同様の
方法により100μmの厚みのフィルムを得た。キャス
ティング製膜性は良好で、このフィルムの全光線透過率
は90%であった。次いで、このフィルムをテンター法
により145℃で100%一軸延伸し、実施例1と同様
の方法で液晶表示させたところ、視野角の広い鮮明なフ
ルカラー表示が得られた。
HEPF219部(ジヒドロキシ成分の合計量の50モ
ル%)、ビスフェノールA114部(ジヒドロキシ成分
の合計量の50モル%)、ジフェニルカーボネート21
8部およびテトラメチルアンモニウムヒドロキシド9.
1×10-3部、カセイソーダ4.0×10-4部を仕込
み、実施例3と同様にして反応し、ポリマーを得た(収
率99%)。このポリマーの極限粘度は1.09、Tg
は147℃であった。このポリマーの塩化メチレン溶液
から実施例1と同様の方法により100μmの厚みのフ
ィルムを得た。次いで、このフィルムをテンター法によ
り147℃で100%一軸延伸し、実施例1と同様の方
法で液晶表示させたところ、視野角の広い鮮明なフルカ
ラー表示が得られた。
5%カセイソーダ水溶液89部、イオン交換水464
部、ハイドロサルファイト0.14部、ビスフェノール
A71部を溶解し、塩化メチレン173.4部を加えて
激しく攪拌しながら20〜25℃でホスゲン34.4部
を約100分かけて吹き込み反応した。ホスゲン吹き込
み終了後、48.5%カセイソーダ水溶液5.3部、p
−tert−ブチルフェノール0.75部を加えて乳化
させ4時間攪拌を続けて反応を終了した。反応終了後塩
化メチレン400部を加えて希釈し、イオン交換水を用
いて水洗を繰り返して精製後、塩化メチレン層を分離
し、塩化メチレンを蒸発濃縮して濃度20%のポリカー
ボネート溶液を得た(収率98%)。このポリマーの極
限粘度は0.812、Tgは154℃であった。このポ
リマーの塩化メチレン溶液から実施例1と同様の方法に
より100μmの厚みのフィルムを得た。次いで、この
フィルムをテンター法により154℃で100%一軸延
伸した。この一軸延伸したフィルムを実施例1と同様の
方法で液晶表示させたところ、液晶表示は視野角が狭
く、黒表示における着色があり、それによりコントラス
トが劣り、視認性を損なっていた。
および耐熱性が良好で、液晶表示に優れ、プラセル基
板、位相差フィルム等の液晶ディスプレー用フィルム材
料として好適に用いられる。
Claims (4)
- 【請求項1】 全ジヒドロキシ成分の5〜100モル%
が、下記一般式(1) 【化1】 (式中R1〜R4はそれぞれ独立して水素原子、炭素原子
数1〜20のアルキル基、炭素原子数1〜20のアルコ
キシル基、炭素原子数6〜20のシクロアルキル基、炭
素原子数6〜20のシクロアルコキシル基、炭素原子数
6〜20のアリール基、炭素原子数6〜20のアリール
オキシ基を表し、X、Yはそれぞれ炭素原子数2〜10
のアルキレン基、炭素原子数6〜20のアリーレン基、
炭素原子数7〜20のアラルキレン基を表す。)で表さ
れる化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種のジ
ヒドロキシ成分からなるポリカーボネート樹脂より形成
される光学フィルム。 - 【請求項2】 全ジヒドロキシ成分の5〜100モル%
が、前記一般式(1)で表される化合物よりなる群から
選ばれた少なくとも1種のジヒドロキシ成分からなるポ
リエステルカーボネート樹脂より形成される光学フィル
ム。 - 【請求項3】 光学フィルムが液晶ディスプレー用フィ
ルムである請求項1または2記載の光学フィルム。 - 【請求項4】 ジヒドロキシ成分が9,9−ビス[4−
(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル]フルオレンであ
る請求項1または2記載の光学フィルム。
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