JPH0912701A - ポリカーボネート共重合体およびその製造方法 - Google Patents
ポリカーボネート共重合体およびその製造方法Info
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- JPH0912701A JPH0912701A JP16869795A JP16869795A JPH0912701A JP H0912701 A JPH0912701 A JP H0912701A JP 16869795 A JP16869795 A JP 16869795A JP 16869795 A JP16869795 A JP 16869795A JP H0912701 A JPH0912701 A JP H0912701A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 光弾性効果が小さく溶融粘度の低いポリカー
ボネートおよびその製造方法を提供する。 【構成】 ５〜８５モル％の下記一般式（Ｉ）で表わさ
れる繰返し単位および１５〜９５モル％の下記一般式
（II）で表わされる繰返し単位からなり ［式中、Ｒ1 は炭素数４〜２０のアルキル基等を表
す。］ 塩化メチレンを溶媒として０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の
２０℃における還元粘度（ηsp／ｃ）が０．３ｄｌ／ｇ
以上であることを特徴とするポリカーボネート共重合体
およびその製造方法。
ボネートおよびその製造方法を提供する。 【構成】 ５〜８５モル％の下記一般式（Ｉ）で表わさ
れる繰返し単位および１５〜９５モル％の下記一般式
（II）で表わされる繰返し単位からなり ［式中、Ｒ1 は炭素数４〜２０のアルキル基等を表
す。］ 塩化メチレンを溶媒として０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の
２０℃における還元粘度（ηsp／ｃ）が０．３ｄｌ／ｇ
以上であることを特徴とするポリカーボネート共重合体
およびその製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規共重合体とその製
造方法に関し、詳しくは新規ポリカーボネート共重合体
とその効率のよい製造方法に関する。
造方法に関し、詳しくは新規ポリカーボネート共重合体
とその効率のよい製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】２，２―ビス（４―ヒドロキシフェニ
ル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）とホスゲンと炭
酸ジエフェニルなどの炭酸エステル形成性化合物と反応
させて製造されるポリカーボネート樹脂は、透明性、耐
熱性および機械的強度にすぐれているため広汎な用途に
供されている。
ル）プロパン（通称ビスフェノールＡ）とホスゲンと炭
酸ジエフェニルなどの炭酸エステル形成性化合物と反応
させて製造されるポリカーボネート樹脂は、透明性、耐
熱性および機械的強度にすぐれているため広汎な用途に
供されている。
【０００３】しかし、様々な用途の拡大に伴なって、ポ
リカーボネート樹脂に対する要求特性が、厳しくなり、
よりすぐれた性能を有するポリカーボネート樹脂の出現
が要望されている。特に従来のポリカーボネート樹脂を
用いて射出成形などにより成形品を得た場合、この成形
品は応力光学歪が大きく、そのため複屈折が大きくなっ
て光学機器の素材には適さないという問題点がある。
リカーボネート樹脂に対する要求特性が、厳しくなり、
よりすぐれた性能を有するポリカーボネート樹脂の出現
が要望されている。特に従来のポリカーボネート樹脂を
用いて射出成形などにより成形品を得た場合、この成形
品は応力光学歪が大きく、そのため複屈折が大きくなっ
て光学機器の素材には適さないという問題点がある。
【０００４】かかる問題点を改良するため下記式（Ｖ）
【０００５】
【化７】
【０００６】で表わされる如き、ベンゼン環上に対称に
置換基を有する二価フェノール類を使用したり（特開昭
６３―１７８１３０号公報、特開昭６３―１８２３３８
号公報他）、あるいは、Ｘ部の構造を種々検討している
（特開昭６３―９５２２８号公報）。しかし未だ充分な
解決には到っていない。
置換基を有する二価フェノール類を使用したり（特開昭
６３―１７８１３０号公報、特開昭６３―１８２３３８
号公報他）、あるいは、Ｘ部の構造を種々検討している
（特開昭６３―９５２２８号公報）。しかし未だ充分な
解決には到っていない。
【０００７】また、式（Ｖ）に於て
【０００８】
【化８】
【０００９】Ｒの一方を水素原子として、他方をメチル
基、メトキシ基、ｉｓｏ―プロピル基、シクロヘキシル
基等とするモノマーのカーボネートが知られているが、
（H, Schcell, "Chemistry and Physics of Polycarbon
ate", John Wiley & Song. Inc., 1964 ）、かかるモノ
マーを使用したポリカーボネートでは効果を充分には達
成できない。
基、メトキシ基、ｉｓｏ―プロピル基、シクロヘキシル
基等とするモノマーのカーボネートが知られているが、
（H, Schcell, "Chemistry and Physics of Polycarbon
ate", John Wiley & Song. Inc., 1964 ）、かかるモノ
マーを使用したポリカーボネートでは効果を充分には達
成できない。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、透明
性、耐熱性および機械的強度などの従来のポリカーボネ
ート樹脂のすぐれた、特性を維持するとともに、流動性
や光弾性係数などを改善して成形品の光学歪や複屈折を
小さくし、光学的性質の向上したポリカーボネート系の
新規な共重合体を開発することを目的とする。
性、耐熱性および機械的強度などの従来のポリカーボネ
ート樹脂のすぐれた、特性を維持するとともに、流動性
や光弾性係数などを改善して成形品の光学歪や複屈折を
小さくし、光学的性質の向上したポリカーボネート系の
新規な共重合体を開発することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記問題点
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定のビスフ
ェノール類を共重合させることにより、その目的を達成
することを見い出し本発明に到った。
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、特定のビスフ
ェノール類を共重合させることにより、その目的を達成
することを見い出し本発明に到った。
【００１２】すなわち、本発明は、５〜８５モル％の下
記一般式（Ｉ）で表わされる繰返し単位および１５〜９
５モル％の下記一般式（II）で表わされる繰返し単位か
らなり
記一般式（Ｉ）で表わされる繰返し単位および１５〜９
５モル％の下記一般式（II）で表わされる繰返し単位か
らなり
【００１３】
【化９】
【００１４】［式中、Ｒ1 は炭素数４〜２０のアルキル
基、炭素数４〜２０のアルコキシ基、炭素数７〜２０の
シクロアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素
数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のシクロア
ルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基または
炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基を表す。
基、炭素数４〜２０のアルコキシ基、炭素数７〜２０の
シクロアルキル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素
数７〜２０のアラルキル基、炭素数７〜２０のシクロア
ルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基または
炭素数７〜２０のアラルキルオキシ基を表す。
【００１５】
【化１０】
【００１６】（ここでＲ2 とＲ3 は同一または異なり、
水素原子または炭素数１〜１２の炭化水素基を表し、Ｒ
4 は、炭素数３〜１０のアルキレン基を表す。）］塩化
メチレンを溶媒として０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０
℃における還元粘度（ηsp／ｃ）が０．３ｄｌ／ｇ以上
であることを特徴とするポリカーボネート共重合体であ
る。
水素原子または炭素数１〜１２の炭化水素基を表し、Ｒ
4 は、炭素数３〜１０のアルキレン基を表す。）］塩化
メチレンを溶媒として０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０
℃における還元粘度（ηsp／ｃ）が０．３ｄｌ／ｇ以上
であることを特徴とするポリカーボネート共重合体であ
る。
【００１７】Ｒ1 の炭素数４〜２０のアルキル基として
は、ｔｒｅｔ―アミル基、１，１，３，３―テトラブチ
ル基、イソノニル基、ドデシル基等が挙げられ、３級ア
ルキル基が好ましい。炭素数４〜２０のアルコキシ基と
しては、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘキサ
デシルオキシ基等が挙げられる。炭素数７〜２０のシク
ロアルキル基としては、置換されていてもよいシクロヘ
プチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。炭素数７
〜２０のシクロアルコキシ基としては、シクロオクチル
オキシ基等が挙げられる。炭素数６〜２０のアリール基
としては、置換されていてもよいフェニル基、トリル基
等が挙げられる。炭素数７〜２０のアラルキル基として
は、ベンジル基、ジメチルベンジル基等が挙げられる。
炭素数６〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキ
シ基、ナフチルオキシ基が挙げられる。炭素数７〜２０
のアラルキルオキシ基としてはベンジルオキシ基等が挙
げられる。
は、ｔｒｅｔ―アミル基、１，１，３，３―テトラブチ
ル基、イソノニル基、ドデシル基等が挙げられ、３級ア
ルキル基が好ましい。炭素数４〜２０のアルコキシ基と
しては、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘキサ
デシルオキシ基等が挙げられる。炭素数７〜２０のシク
ロアルキル基としては、置換されていてもよいシクロヘ
プチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。炭素数７
〜２０のシクロアルコキシ基としては、シクロオクチル
オキシ基等が挙げられる。炭素数６〜２０のアリール基
としては、置換されていてもよいフェニル基、トリル基
等が挙げられる。炭素数７〜２０のアラルキル基として
は、ベンジル基、ジメチルベンジル基等が挙げられる。
炭素数６〜２０のアリールオキシ基としては、フェノキ
シ基、ナフチルオキシ基が挙げられる。炭素数７〜２０
のアラルキルオキシ基としてはベンジルオキシ基等が挙
げられる。
【００１８】Ｒ2 、Ｒ3 の炭化水素基としては、炭素数
１〜１２の脂肪族炭化水素基あるいは炭素数６〜１２の
芳香族炭化水素基が好ましい。かかる脂肪族炭化水素基
として、アルキル基、アルケニル基等が挙げられ、メチ
ル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。また芳香
族基として置換もしくは非置換のフェニル基、ナフチル
基等が挙げられる。
１〜１２の脂肪族炭化水素基あるいは炭素数６〜１２の
芳香族炭化水素基が好ましい。かかる脂肪族炭化水素基
として、アルキル基、アルケニル基等が挙げられ、メチ
ル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。また芳香
族基として置換もしくは非置換のフェニル基、ナフチル
基等が挙げられる。
【００１９】Ｒ4 のアルキレン基として、ブチレン基、
ペンチレン基等が例示される。
ペンチレン基等が例示される。
【００２０】式（Ｉ）および（II）の共重合組成は、任
意の組成とすることができるが、（Ｉ）で示される繰返
し、単位の共重合体中の割合は式（Ｉ）および（II）で
表わされる繰返し単位の合計量の５モル％は必要であ
る。
意の組成とすることができるが、（Ｉ）で示される繰返
し、単位の共重合体中の割合は式（Ｉ）および（II）で
表わされる繰返し単位の合計量の５モル％は必要であ
る。
【００２１】光学的性質の向上のためには好ましくは５
〜８５モル％の範囲であり、より一層好ましくは７〜８
５モル％、さらに好ましくは８〜８５モル％の範囲であ
る。
〜８５モル％の範囲であり、より一層好ましくは７〜８
５モル％、さらに好ましくは８〜８５モル％の範囲であ
る。
【００２２】また、（Ｉ）および（II）以外の繰返し単
位を所望により全体の１０〜３０モル％程度導入するこ
ともできる。かかる繰返し単位を与えるモノマーとして
は、例えば従来公知の一般式（III ）、（IV）で表され
る二価フェノール以外の二価フェノール類、例えば
位を所望により全体の１０〜３０モル％程度導入するこ
ともできる。かかる繰返し単位を与えるモノマーとして
は、例えば従来公知の一般式（III ）、（IV）で表され
る二価フェノール以外の二価フェノール類、例えば
【００２３】
【化１１】
【００２４】で表わされるテルペンジフェノール、ある
いは
いは
【００２５】
【化１２】
【００２６】の如き２，２―ビス（３―メチル―４―ヒ
ドロキシフェニル）プロパン、ジフェノール類、ヒドロ
キノン、２，６―ジヒドロキシナフタレンなどが挙げら
れる。
ドロキシフェニル）プロパン、ジフェノール類、ヒドロ
キノン、２，６―ジヒドロキシナフタレンなどが挙げら
れる。
【００２７】また、２価の脂肪族ジヒドロキシ化合物、
例えば、エチレングリコール、１，４―シクロヘキサン
ジメタノール等が挙げられる。
例えば、エチレングリコール、１，４―シクロヘキサン
ジメタノール等が挙げられる。
【００２８】また、オキシ酸類、例えばＰ―ヒドロキシ
安息香酸、２―ヒドロキシ―７―カルボキシナフタレン
等が挙げられる。
安息香酸、２―ヒドロキシ―７―カルボキシナフタレン
等が挙げられる。
【００２９】また、２価のカルボン酸類、例えばテレフ
タル酸、イソフタル酸、ナフタレン―２，６―ジカルボ
ン酸、コハク酸、アジピン酸等が挙げられる。
タル酸、イソフタル酸、ナフタレン―２，６―ジカルボ
ン酸、コハク酸、アジピン酸等が挙げられる。
【００３０】本発明のポリカーボネート共重合体は、５
〜８５モル％の下記式（III ）で表わされる二価フェノ
ールおよび１５〜９５モル％の下記一般式（IV）で表さ
れる二価フェノールからなる二価フェノール類を、
〜８５モル％の下記式（III ）で表わされる二価フェノ
ールおよび１５〜９５モル％の下記一般式（IV）で表さ
れる二価フェノールからなる二価フェノール類を、
【００３１】
【化１３】
【００３２】［式（III ）および（IV）中の、Ｒ1 、
Ｘ、Ｙは、式（Ｉ）および（II）と同じである。］炭酸
エステル形成性化合物と反応せしめることにより製造す
ることができる。
Ｘ、Ｙは、式（Ｉ）および（II）と同じである。］炭酸
エステル形成性化合物と反応せしめることにより製造す
ることができる。
【００３３】式（IV）のビスフェノールとしては例え
ば、ビス（４―ヒドロキシフェニル）メタン、１，１―
ビス（４―ヒドロキシフェニル）エタン、２，２―ビス
（４―ヒドロキシフェニル）ブタン、４，４―ビス（４
―ヒドロキシフェニル）ペンタン、４，４―ビス（４―
ヒドロキシフェニル）ヘキサン、４，４―ビス（４―ヒ
ドロキシフェニル）ヘプタン、２，２―ビス（４―ヒド
ロキシフェニル）オクタン、１，１―ビス（４―ヒドロ
キシフェニル）―１―フェニルエタン、１，１―ビス
（４―ヒドロキシフェニル）―１―フェニルメタン、
１，１―ビス（４―ヒドロキシフェニル）―１―（４―
エチルフェニル）メタン、１，１―ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）―１，１―ジフェニルメタン、１，１―ビ
ス（４―ヒドロキシフェニル）―ベンジルメタン、１，
１―ビス（４―ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等
が挙げられる。
ば、ビス（４―ヒドロキシフェニル）メタン、１，１―
ビス（４―ヒドロキシフェニル）エタン、２，２―ビス
（４―ヒドロキシフェニル）ブタン、４，４―ビス（４
―ヒドロキシフェニル）ペンタン、４，４―ビス（４―
ヒドロキシフェニル）ヘキサン、４，４―ビス（４―ヒ
ドロキシフェニル）ヘプタン、２，２―ビス（４―ヒド
ロキシフェニル）オクタン、１，１―ビス（４―ヒドロ
キシフェニル）―１―フェニルエタン、１，１―ビス
（４―ヒドロキシフェニル）―１―フェニルメタン、
１，１―ビス（４―ヒドロキシフェニル）―１―（４―
エチルフェニル）メタン、１，１―ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）―１，１―ジフェニルメタン、１，１―ビ
ス（４―ヒドロキシフェニル）―ベンジルメタン、１，
１―ビス（４―ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等
が挙げられる。
【００３４】本発明の新規重合体を構成する一般式
（Ｉ）で表わされる繰返し単位を与える一般式（III ）
で表わされる二価フェノールは、非対称に置換されたも
の内で、一方のフェニル基上にのみ、特に水酸基に対
し、オルソ位にのみ置換基を有するものである。かかる
二価フェノール化合物は、原料コストの面で好ましいだ
けでなく、得られるポリカーボネートの流動性、および
光学材料としての性質がすぐれている等の利点を有する
これらの具体例として以下の化合物を挙げることができ
る。（式中、Ｐｈはフェニル基、Ａｍはアミル基を表
す。）
（Ｉ）で表わされる繰返し単位を与える一般式（III ）
で表わされる二価フェノールは、非対称に置換されたも
の内で、一方のフェニル基上にのみ、特に水酸基に対
し、オルソ位にのみ置換基を有するものである。かかる
二価フェノール化合物は、原料コストの面で好ましいだ
けでなく、得られるポリカーボネートの流動性、および
光学材料としての性質がすぐれている等の利点を有する
これらの具体例として以下の化合物を挙げることができ
る。（式中、Ｐｈはフェニル基、Ａｍはアミル基を表
す。）
【００３５】
【化１４】
【００３６】
【化１５】
【００３７】また、本発明において使用する炭酸エステ
ル形成性化合物の種類は、製造すべき、重合体の用途等
に応じて適宜選定すれば良いが、一般にはジフェニルカ
ーボネート、ジ―Ｐ―トリルカーボネート、フェニル―
Ｐ―トリルカーボネート、ジ―Ｐ―クロロフェニルカー
ボネートあるいはジナフチルカーボネートなどのジアリ
ールカーボネート、さらにはホスゲン、ブロムホスゲン
などの炭酸のハロゲン化物等が用いられ、そのうちジフ
ェニルカーボネート、あるいはホスゲンが好ましい。
ル形成性化合物の種類は、製造すべき、重合体の用途等
に応じて適宜選定すれば良いが、一般にはジフェニルカ
ーボネート、ジ―Ｐ―トリルカーボネート、フェニル―
Ｐ―トリルカーボネート、ジ―Ｐ―クロロフェニルカー
ボネートあるいはジナフチルカーボネートなどのジアリ
ールカーボネート、さらにはホスゲン、ブロムホスゲン
などの炭酸のハロゲン化物等が用いられ、そのうちジフ
ェニルカーボネート、あるいはホスゲンが好ましい。
【００３８】本発明の製造方法では、上述した二価フェ
ノールと炭酸エステル形成性化合物とを重縮合させる
が、この際の条件、ならびに操作法は、従来から、ポリ
カーボネートの製造に用いられている、いわゆる、ホス
ゲン法やエステル交換法に準ずれば良い。モノマーとし
て、脂肪族の水酸基およびカルボキシル基を有するもの
を使用するときは、エステル交換法を採用することが好
ましい。
ノールと炭酸エステル形成性化合物とを重縮合させる
が、この際の条件、ならびに操作法は、従来から、ポリ
カーボネートの製造に用いられている、いわゆる、ホス
ゲン法やエステル交換法に準ずれば良い。モノマーとし
て、脂肪族の水酸基およびカルボキシル基を有するもの
を使用するときは、エステル交換法を採用することが好
ましい。
【００３９】ホスゲン法に準ずる時は、通常、塩化メチ
レン、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ピリジ
ンなどの溶媒中で、好ましくは塩化メチレン溶媒中で、
適当な触媒、アルカリ、分子量調節剤などを用いれば良
い。ここで分子量調節剤としては、様々な一価フェノー
ルを挙げることができるが、好ましいものとしてはフェ
ノール、ｔｅｒｔ―ブチルフェノール、フェニルフェノ
ール、サミルフェノールなどが挙げられる。
レン、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素、ピリジ
ンなどの溶媒中で、好ましくは塩化メチレン溶媒中で、
適当な触媒、アルカリ、分子量調節剤などを用いれば良
い。ここで分子量調節剤としては、様々な一価フェノー
ルを挙げることができるが、好ましいものとしてはフェ
ノール、ｔｅｒｔ―ブチルフェノール、フェニルフェノ
ール、サミルフェノールなどが挙げられる。
【００４０】上述の如き方法によれば、本発明の新規重
合体が得られるが、これを用いて、各種成形品を成形す
る場合に、用途に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、
離形剤などの添加剤を加えても良い。
合体が得られるが、これを用いて、各種成形品を成形す
る場合に、用途に応じて、酸化防止剤、紫外線吸収剤、
離形剤などの添加剤を加えても良い。
【００４１】
【実施例】次に本発明を実施例を実施例および比較例に
より、さらに詳しく説明する。
より、さらに詳しく説明する。
【００４２】［実施例１］２―（４―ヒドロキシフェニ
ル）―２―（４―ヒドロキシ―３―ジメチルベンジル）
プロパン（ＭＷ＝３４６）を４１重量部および２，２―
ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロパン２７重量部
を、８重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液５００重量
部に溶解し、この溶液に塩化メチレン５５０重量部およ
び分子量調節剤であるＰ―ｔｅｒｔ―ブチルフェノール
３．０重量部および触媒であるトリエチルアミン１０重
量％濃度水溶液１重量部を加えて激しく攪拌しながら、
ホスゲンガスを３０分間吹き込んだ。
ル）―２―（４―ヒドロキシ―３―ジメチルベンジル）
プロパン（ＭＷ＝３４６）を４１重量部および２，２―
ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロパン２７重量部
を、８重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液５００重量
部に溶解し、この溶液に塩化メチレン５５０重量部およ
び分子量調節剤であるＰ―ｔｅｒｔ―ブチルフェノール
３．０重量部および触媒であるトリエチルアミン１０重
量％濃度水溶液１重量部を加えて激しく攪拌しながら、
ホスゲンガスを３０分間吹き込んだ。
【００４３】得られた反応生成物に、塩化メチレン６０
０重量部を加えて、有機層を希釈した後、水を１０００
重量部、０．０１規定濃度の水酸化ナトリウム水溶液を
５００重量部、水を５００重量部、０．０１規定濃度の
希塩酸を５００重量部および水５００重量部を各々用い
てこの順序で洗浄した。ついで有機層をメタノール中に
注入して白色沈殿重合体を得た。得られた重合体は塩化
メチレンを溶媒とする溶液の２０℃における還元粘度
［ηsp／ｃ］は０．５５ｄｌ／ｇであった。
０重量部を加えて、有機層を希釈した後、水を１０００
重量部、０．０１規定濃度の水酸化ナトリウム水溶液を
５００重量部、水を５００重量部、０．０１規定濃度の
希塩酸を５００重量部および水５００重量部を各々用い
てこの順序で洗浄した。ついで有機層をメタノール中に
注入して白色沈殿重合体を得た。得られた重合体は塩化
メチレンを溶媒とする溶液の２０℃における還元粘度
［ηsp／ｃ］は０．５５ｄｌ／ｇであった。
【００４４】この重合体のガラス転移温度は１４５℃で
あった。さらに重合体を厚さ１００μｍのフイルムに成
形し、理研計器製の光弾性係数測定機器（ＰＡ―１５
０）で測定した。光弾性係数は４６×１０-13 ｃｍ2 ／
ｄｙｎｅと低い値であった。
あった。さらに重合体を厚さ１００μｍのフイルムに成
形し、理研計器製の光弾性係数測定機器（ＰＡ―１５
０）で測定した。光弾性係数は４６×１０-13 ｃｍ2 ／
ｄｙｎｅと低い値であった。
【００４５】［実施例２］２―（４―ヒドロキシフェニ
ル）―２―（４―ヒドロキシ―３―ｔｅｒｔ―アミルフ
ェニル）プロパン（ＭＷ＝３１３）２３５重量部、２，
２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロパン５７重量
部、ジフェニルカーボネートを２２０重量部およびテト
ラメチルアンモニウムヒドロキシドを９．１×１０-3重
量部、水酸化ナトリウム４×１０-4重量部を攪拌装置、
蒸留器および減圧装置を備えた反応槽に仕込窒素置換を
した後、１４０℃で溶解した。３０分間攪拌後、内温を
１８０℃に昇温しつつ徐々に減圧し１００ｍｍＨｇで３
０分間反応させ生成するフェノールを溜去した。
ル）―２―（４―ヒドロキシ―３―ｔｅｒｔ―アミルフ
ェニル）プロパン（ＭＷ＝３１３）２３５重量部、２，
２―ビス（４―ヒドロキシフェニル）プロパン５７重量
部、ジフェニルカーボネートを２２０重量部およびテト
ラメチルアンモニウムヒドロキシドを９．１×１０-3重
量部、水酸化ナトリウム４×１０-4重量部を攪拌装置、
蒸留器および減圧装置を備えた反応槽に仕込窒素置換を
した後、１４０℃で溶解した。３０分間攪拌後、内温を
１８０℃に昇温しつつ徐々に減圧し１００ｍｍＨｇで３
０分間反応させ生成するフェノールを溜去した。
【００４６】次に２００℃に昇温しつつ徐々に減圧し、
５０ｍｍＨｇで３０分間フェノールを溜出せしめ反応さ
せた。さらに２２０℃／３０ｍｍＨｇまで、徐々に昇
温、減圧し、同温、同圧で３０分、さらに２４０℃／１
０ｍｍＨｇ、２６０℃／１ｍｍＨｇ、２７０℃／１ｍｍ
Ｈｇ以下にまで上記と同じ手順で昇温、減圧をくりかえ
して反応を続行し、最終的に２７０℃／１ｍｍＨｇ以下
で３時間反応せしめた。
５０ｍｍＨｇで３０分間フェノールを溜出せしめ反応さ
せた。さらに２２０℃／３０ｍｍＨｇまで、徐々に昇
温、減圧し、同温、同圧で３０分、さらに２４０℃／１
０ｍｍＨｇ、２６０℃／１ｍｍＨｇ、２７０℃／１ｍｍ
Ｈｇ以下にまで上記と同じ手順で昇温、減圧をくりかえ
して反応を続行し、最終的に２７０℃／１ｍｍＨｇ以下
で３時間反応せしめた。
【００４７】得られた重合体は、塩化メチレンを溶媒と
する溶液の２０℃に於る還元粘度［ηsp／ｃ］は０．４
２ｄｌ／ｇであった。
する溶液の２０℃に於る還元粘度［ηsp／ｃ］は０．４
２ｄｌ／ｇであった。
【００４８】得られた重合体のガラス転移温度は１２７
℃であり、光弾性係数は４１×１０ -13 ｃｍ2 ／ｄｙｎ
ｅと低い値であった（測定方法は実施例１と同じ）。
℃であり、光弾性係数は４１×１０ -13 ｃｍ2 ／ｄｙｎ
ｅと低い値であった（測定方法は実施例１と同じ）。
【００４９】［比較例１］２，２―ビス（４―ヒドロキ
シフェニル）プロパン５４．０重量部を用いた他は、実
施例１と同様の操作により還元粘度ηsp／ｃが０．５４
ｄｌ／ｇの重合体を得た。このもののガラス転移温度は
１４２℃であり、また光弾性係数は８１×１０-13 ｃｍ
2 ／ｄｙｎｅと大きな値であった。
シフェニル）プロパン５４．０重量部を用いた他は、実
施例１と同様の操作により還元粘度ηsp／ｃが０．５４
ｄｌ／ｇの重合体を得た。このもののガラス転移温度は
１４２℃であり、また光弾性係数は８１×１０-13 ｃｍ
2 ／ｄｙｎｅと大きな値であった。
【００５０】
【発明の効果】本発明のポリカーボネートは、従来のポ
リカーボネート樹脂に比べて、光弾性効果が小さく、溶
融粘度も低く、成形歪が、少ないため複屈折が小さく、
光学的性質の極めてすぐれたものである。
リカーボネート樹脂に比べて、光弾性効果が小さく、溶
融粘度も低く、成形歪が、少ないため複屈折が小さく、
光学的性質の極めてすぐれたものである。
【００５１】しかも、充分な耐熱性、並びに、機械的強
度を有するものである。したがって本発明のポリカーボ
ネートは、光ディスクなどの光学機器用素材を始めとし
て、各種産業用機器の素材として有効に利用しうる。
度を有するものである。したがって本発明のポリカーボ
ネートは、光ディスクなどの光学機器用素材を始めとし
て、各種産業用機器の素材として有効に利用しうる。
Claims (2)
- 【請求項１】 ５〜８５モル％の下記一般式（Ｉ）で表
わされる繰返し単位および１５〜９５モル％の下記一般
式（II）で表わされる繰返し単位からなり 【化１】 ［式中、Ｒ1 は炭素数４〜２０のアルキル基、炭素数４
〜２０のアルコキシ基、炭素数７〜２０のシクロアルキ
ル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０の
アラルキル基、炭素数７〜２０のシクロアルコキシ基、
炭素数６〜２０のアリールオキシ基または炭素数７〜２
０のアラルキルオキシ基を表す。 【化２】 （ここでＲ2 とＲ3 は同一または異なり、水素原子また
は炭素数１〜１２の炭化水素基を表し、Ｒ4 は、炭素数
３〜１０のアルキレン基を表す。）］塩化メチレンを溶
媒として０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０℃における還
元粘度（ηsp／ｃ）が０．３ｄｌ／ｇ以上であることを
特徴とするポリカーボネート共重合体。 - 【請求項２】 ５〜８５モル％の下記式（III ）で表わ
される二価フェノールおよび１５〜９５モル％の下記一
般式（IV）で表される二価フェノールからなる２価フェ
ノール類を、 【化３】 ［式中、Ｒ1 は炭素数４〜２０のアルキル基、炭素数４
〜２０のアルコキシ基、炭素数７〜２０のシクロアルキ
ル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０の
アラルキル基、炭素数７〜２０のシクロアルコキシ基、
炭素数６〜２０のアリールオキシ基または炭素数７〜２
０のアラルキルオキシ基を表す。 【化４】 （ここでＲ2 とＲ3 は同一または異なり、水素原子また
は炭素数１〜１２の炭化水素基を表し、Ｒ4 は、炭素数
３〜１０のアルキレン基を表す。）］炭酸エステル形成
性化合物と反応せしめることを特徴とする、５〜８５モ
ル％の下記一般式（Ｉ）で表わされる繰返し単位および
１５〜９５モル％の下記一般式（II）で表わされる繰返
し単位からなり、 【化５】 ［式中、Ｒ1 は炭素数４〜２０のアルキル基、炭素数４
〜２０のアルコキシ基、炭素数７〜２０のシクロアルキ
ル基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数７〜２０の
アラルキル基、炭素数７〜２０のシクロアルコキシ基、
炭素数６〜２０のアリールオキシ基または炭素数７〜２
０のアラルキルオキシ基を表す。 【化６】 （ここでＲ2 とＲ3 は同一または異なり、水素原子また
は炭素数１〜１２の炭化水素基を表し、Ｒ4 は、炭素数
３〜１０のアルキレン基を表す。）］塩化メチレンを溶
媒として０．５ｇ／ｄｌ濃度の溶液の２０℃における還
元粘度（ηsp／ｃ）が０．３ｄｌ／ｇ以上であるポリカ
ーボネート共重合体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16869795A JPH0912701A (ja) | 1995-07-04 | 1995-07-04 | ポリカーボネート共重合体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16869795A JPH0912701A (ja) | 1995-07-04 | 1995-07-04 | ポリカーボネート共重合体およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0912701A true JPH0912701A (ja) | 1997-01-14 |
Family
ID=15872792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16869795A Pending JPH0912701A (ja) | 1995-07-04 | 1995-07-04 | ポリカーボネート共重合体およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0912701A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002308808A (ja) * | 2001-02-08 | 2002-10-23 | Honshu Chem Ind Co Ltd | 新規な４，４”−ジヒドロキシ−ｐ−ターフェニル類 |
| JP2005089711A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Ricoh Co Ltd | ポリカーボネート樹脂 |
| JP2008231116A (ja) * | 2001-02-08 | 2008-10-02 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ４，４”−ジヒドロキシ−ｐ−ターフェニル類 |
| JP2008273975A (ja) * | 2001-04-27 | 2008-11-13 | Honshu Chem Ind Co Ltd | 新規な４−（４’−（４”−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル）−１−ヒドロキシベンゼン類 |
-
1995
- 1995-07-04 JP JP16869795A patent/JPH0912701A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002308808A (ja) * | 2001-02-08 | 2002-10-23 | Honshu Chem Ind Co Ltd | 新規な４，４”−ジヒドロキシ−ｐ−ターフェニル類 |
| JP2008231116A (ja) * | 2001-02-08 | 2008-10-02 | Honshu Chem Ind Co Ltd | ４，４”−ジヒドロキシ−ｐ−ターフェニル類 |
| JP2008273975A (ja) * | 2001-04-27 | 2008-11-13 | Honshu Chem Ind Co Ltd | 新規な４−（４’−（４”−ヒドロキシフェニル）シクロヘキシル）−１−ヒドロキシベンゼン類 |
| JP2005089711A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Ricoh Co Ltd | ポリカーボネート樹脂 |
| JP4584558B2 (ja) * | 2003-09-19 | 2010-11-24 | 株式会社リコー | ポリカーボネート樹脂 |
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