JP2018059107A - ポリカーボネート樹脂、その製造方法および光学成形体 - Google Patents

Abstract

【課題】高屈折率、低アッベ数、高透明性、射出成形に適したガラス転移温度、低複屈折等の物性を有するポリカーボネート樹脂、及びこれを用いた実質的に光学歪みのない優れた光学レンズの提供。【解決手段】式（Ａ）で表される２，２’−ビス（ヒドロキシアルコキシ）−１，１’−ビナフチル及び／又は９，９’−ビス[４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル]フルオレン及び好ましくは、置換基を有しても良い９，９’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン由来の構造単位を有するポリカーボネート樹脂。【選択図】なし

Description

本発明は、ポリカーボネート樹脂およびその製造方法に関する。また、本発明は、ポリカーボネート樹脂を含む光学成形体にも関する。

＜背景技術１＞
カメラ、フィルム一体型カメラ、ビデオカメラ等の各種カメラの光学系に使用される光学レンズの材料として、光学ガラスあるいは光学用樹脂が使用されている。光学ガラスは、耐熱性、透明性、寸法安定性、耐薬品性等に優れるが、材料コストが高く、成形加工性が悪く、生産性が低いという問題点を有している。

一方、光学用樹脂からなる光学レンズは、射出成形により大量生産が可能であるという利点を有している。例えば、カメラ用レンズにおいて、ポリカーボネート樹脂等が使用されている。しかしながら、近年、製品の軽薄短小化により、高い屈折率の樹脂の開発が求められている。一般に光学材料の屈折率が高いと、同一の屈折率を有するレンズエレメントを、より曲率の小さい面で実現できるため、この面で発生する収差量を小さくできる。その結果、レンズの枚数を減らしたり、レンズの偏心感度を低減したり、レンズ厚みを薄くして軽量化することが可能になる。

また、光学用樹脂を光学レンズとして用いる場合、屈折率やアッベ数以外にも、耐熱性、透明性、低吸水性、耐薬品性、耐光性、低複屈折性、耐湿熱性等が求められる。そのため、樹脂の物性バランスによって用途が限定されるという弱点がある。特に近年、画素数の向上による解像度のアップに伴い、より結像性能が高く、より複屈折が低いカメラ用レンズが求められている。また、鮮明な画像を映し出すためには、可視光領域の全ての波長において高い透過率を維持する必要がある。

そこで、屈折率が高く、複屈折が低く、かつ物性バランスに優れた光学レンズ向け樹脂の開発が行われてきた。例えば、フルオレン含有ジヒドロキシ化合物とナフタレンジカルボン酸からなるポリエステルが提案されている（特許文献１）。しかし、該ポリエステルは高屈折率ではあるものの、複屈折が大きいという問題があった。

また、ナフタレン構造を有する（１，１’‐ビナフタレン）‐２，２’‐ジオールから誘導されたポリカーボネート共重合体が提案されている（特許文献２および３）。この樹脂は、複屈折が低いことが記載されている。しかし、（１，１’‐ビナフタレン）‐２，２’‐ジオールの反応性が悪く、その含有量は最大で共重合組成の４０モル％が限度であり、良好な物性値を有するホモポリマーの生成には至っていない。

また他にも、１，１’‐ビナフタレン構造を有するポリカーボネート共重合体が提案されている（特許文献４および５）。しかし、特許文献４に記載の共重合体は、１，１’‐ビナフタレン構造を有するモノマーを共重合組成の４０モル％含有するのが最大であり、共重合体の屈折率はホモポリマーの屈折率に比べ大きく劣ることが推察される。また、共重合体の屈折率および複屈折に関して具体的な数値が示されていない。特許文献５も同様に、重合体の屈折率に関して具体的な数値が述べられていない。

また、ビナフタレン構造を有し、高屈折率を発現する４，４’−ジアルコキシ−２，２’−ビナフタレン−１，１’−ジ（メタ）アクリレートモノマーの提案がなされている（特許文献６）。しかし、引用文献６では、モノマーに言及するのみで、樹脂化後の物性等々については述べられていない。また、このモノマーは分子内に２つ以上の重合性基を有するため、重合した場合は熱可塑性樹脂とはならない。

＜背景技術２＞
光学ユニットの光学設計においては、互いにアッベ数が異なる複数のレンズを組み合わせて使用することにより色収差を補正することが知られている。例えば、アッベ数ν＝４５〜６０の脂環式ポリオレフィン樹脂製のレンズと低アッベ数のビスフェノールＡからなるポリカーボネート（ｎＤ＝１．５８６、ν＝３０）樹脂製のレンズを組み合わせて色収差を補正することが行われている。

レンズ材料として、光学ガラスや光学用透明樹脂が広く使用されている。光学用透明樹脂は、射出成形により非球面レンズの製造が可能である上に大量生産が可能である利点を有している。射出成形は、樹脂を加熱して軟化させ、射出圧を加えて金型に押込み、型に充填して成形し、樹脂を冷却後に成形体を取り出す方法である。
樹脂を軟化させる温度が高くなるほど樹脂の流動性は向上するものの、樹脂の分解や着色が発生しやすいため、軟化させる温度には制約がある。
現在、多くの成形機で金型の温度が一定に保たれるようになっており、面精度の高い製品を製造できるようになっている。この中で、熱媒として加圧水を使用する金型温調機の場合、金型温度の上限は１５０℃程度である。従って、この装置で面精度の高い製品を製造しようとする場合、使用出来る樹脂のガラス転移点温度の上限は１６０℃程度という制約が発生することがある。

光学レンズ用透明樹脂としては、ビスフェノールＡからなるポリカーボネート樹脂が広く使用されている。これは、前述のとおり高屈折率および低アッベ数（ｎＤ＝１．５８６、ν＝３０）を有し、なおかつ優れた耐熱性および優れた機械特性を有するためである。

ビスフェノールＡからなるポリカーボネート樹脂は、光学レンズ用途に幅広く使用されているが、光学レンズの用途拡大により更なる屈折率の向上が求められている。また、ビスフェノールＡからなるポリカーボネート樹脂は、複屈折が大きいという弱点を有するため、用途に制約がある。このため、高屈折率と低複屈折を兼備する光学レンズ向け樹脂の開発が幅広く行われてきた。

例えば、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンから誘導される下記繰り返し単位（Ｂ２）を有するポリカーボネート樹脂が知られている（特許文献７）。特許文献７の実施例には、屈折率１．６４６〜１．６５３を達成したことが記載されている。しかし、得られたレンズは、屈折率が高くなったものの、ガラス転移点は１６０℃を超えていることが記載されている。

また、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレンから誘導される下記繰り返し単位（Ｂ１）を有するポリカーボネート樹脂が知られている（特許文献８）。特許文献８の実施例には、ガラス転移点１６０℃以下で屈折率１．６４９を達成したことが記載されているが、屈折率１．６５０以上の実用的な組成は提案されていない。

＜背景技術３＞
さらに、ビスフェノールＡ型のポリカーボネート構成単位と下記式（Ｅ）で表される構成単位との共重合体は、屈折率が向上することが特許文献９に開示されている。特許文献９の実施例には、屈折率１．６２〜１．６４、アッベ数２３〜２６を達成したことが記載されている。このように屈折率が向上するのは、式（Ｅ）で表される構成単位によるためと考えられる。

また、フルオレン構造を有する構成単位を含むポリカーボネート樹脂とビスフェノールＡの共重合体が、特許文献１０に開示されている。この文献の実施例には、屈折率１．６１６〜１．６３６を達成したことが記載されている。なお、この文献に開示されている構成単位は、式（Ｅ）とは異なる。

次に複屈折について述べる。ビスフェノールＡからなるポリカーボネート樹脂は、光学レンズ用途に幅広く使用されているが、複屈折が大きいという弱点を有するため用途に制約がある。そのため、特に近年の携帯電話用カメラやデジタルカメラ用途においては、画素数の向上による解像度のアップに伴い、結像性能が高く、複屈折が低いカメラ用レンズが求められている。

樹脂材料の低複屈折化を実現する方法として、符号の異なる正負の複屈折を持つ樹脂同士で互いの複屈折を打ち消しあう手法が挙げられる（特許文献９）。複屈折の正負は、高分子主鎖方向の分極率と高分子側鎖方向の分極率との差で決定される。例えば、高分子主鎖方向の分極率の方が高分子側鎖方向の分極率より大きいビスフェノールＡからなるポリカーボネート樹脂は正の複屈折となり、高分子側鎖方向の分極率の方が大きいフルオレン構造を有するビスフェノールからなるポリカーボネート樹脂は負の複屈折となる。そのため、これら異符号の複屈折を持つ材料の構成比率は非常に重要となる。

なお、１，１’−ビナフタレン構造を有するポリマーは、特許文献２〜４および１１に記載されている。しかしながら、特許文献２および特許文献３は、下記式（Ａ）に示される構成単位を有する樹脂を開示していない。特許文献４及び特許文献１１には、下記式（Ａ）で示される構成単位を含むポリマーが記載されているが、ポリカーボネート樹脂共重合体ではない。

（式（Ａ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）

上記のように、高い屈折率および成形に適した流動性を有し、低複屈折で光学歪みが起こりづらいポリカーボネート樹脂共重合体および光学成形体は、未だ提供されていなかった。

特開２００６−３３５９７４号公報 特開２０００−３０２８５７号公報 特開２０００−３０２８５８号公報 特開２００１−７２８７２号公報 特開２００５−２６３７７８号公報 特開２０１１−２５６１１９号公報 特開２０１０−１３２７８２号公報 特開２０１１−２４６５８３号公報 国際公開第２００７／１４２１４９号 特開平６−２５３９８号公報 特開２００２−３３２３４５号公報

本発明が解決しようとする課題は、高屈折率、低アッベ数、高透明性、射出成形に適したガラス転移温度、低複屈折等の物性を有するポリカーボネート樹脂を提供することである。また、この樹脂を使用することにより、実質的に光学歪みのない優れた光学レンズを提供することも目的とする。

本発明者らは上記課題を解決するべく鋭意検討を重ねた結果、下記ポリカーボネート樹脂および光学成形体によって、上記課題を解決することができることを見出し、本発明に到達した。
本発明は、例えば以下の通りである。
［１］ 一般式（Ａ）で表される構成単位を有するポリカーボネート樹脂。

（式（Ａ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）
［２］ 一般式（Ａ）で表される構成単位のみからなる［１］記載のポリカーボネート樹脂。
［３］ ［１］または［２］に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法であって、一般式（Ｉ）で表される化合物を原料として使用する製造方法。

（式（Ｉ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）
［４］ 一般式（Ｉ）で表される化合物および炭酸ジエステルを反応させ、モノヒドロキシ化合物を留去することを含む、［３］記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
［５］ 前記一般式（Ｉ）で表される化合物と炭酸ジエステルとの反応は、一般式（Ｉ）で表される化合物および炭酸ジエステルを溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物を滞留させた状態で少なくとも３０分反応させることにより行う、［４］記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
［６］ さらに、一般式（Ｂ）で表される構成単位を含有する［１］に記載のポリカーボネート樹脂。

（式（Ｂ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
［７］ 構成単位（Ａ）と構成単位（Ｂ）とのモル比（Ａ／Ｂ）が２０／８０以上９９／１以下の範囲である［６］記載のポリカーボネート樹脂。
［８］ 構成単位（Ａ）が下記式

で表される構成単位（Ａ１）である［６］または［７］に記載のポリカーボネート樹脂。
［９］ 構成単位（Ｂ）が下記式

で表される構成単位（Ｂ１）である［６］〜［８］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂。
［１０］ 構成単位（Ｂ）が下記式

で表される構成単位（Ｂ２）である［６］〜［８］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂。
［１１］ ［６］〜［１０］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂の製造方法であって、一般式（Ｃ）で表される化合物を原料として使用する製造方法。

（式（Ｃ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）
［１２］ 一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルを反応させ、モノヒドロキシ化合物を留去することを含む［１１］記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。

（式（Ｄ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
［１３］ さらに一般式（Ｂ’）で表される構成単位を含有する［１］に記載のポリカーボネート樹脂。

（式（Ｂ’）中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
［１４］ 一般式（Ａ）で表される構成単位が全構成単位中１〜９９ｍｏｌ％である［１３］記載のポリカーボネート樹脂。
［１５］ 前記一般式（Ｂ’）で表される構成単位のみからなるポリカーボネート樹脂。
［１６］ 屈折率ｎＤが１．６４０〜１．６８０であり且つアッベ数νが２４以下である［１３］〜［１５］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂。
［１７］ 配向複屈折Δｎが１．０×１０^−３以下である［１３］〜［１６］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂。
［１８］ 昇温速度１０℃／ｍｉｎにて測定した５％重量減少温度が３５０℃以上である［１３］〜［１７］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂。
［１９］ ［１３］〜［１８］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂の製造方法であって、一般式（Ｃ）で表される化合物を原料として使用する製造方法。

（式（Ｃ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）
［２０］ 一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ’）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルを反応させ、モノヒドロキシ化合物を留去することを含む［１９］記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。

（式（Ｄ’）中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
［２１］ 前記一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ’）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルの反応は、一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ’）で表される化合物および炭酸ジエステルを溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物の留去をせずに滞留させた状態で少なくとも３０分反応させることにより行う［２０］記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
［２２］ ［１］、［２］、［６］〜［１０］、および［１３］〜［１８］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂を含む光学成形体。
［２３］ ［１］、［２］、［６］〜［１０］、および［１３］〜［１８］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂を含む光学レンズ。
［２４］ ［１］、［２］、［６］〜［１０］、および［１３］〜［１８］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂を含む光学フィルム。

本発明のポリカーボネート樹脂は、高屈折率、低アッベ数、高透明性、射出成形に適したガラス転移温度、低複屈折等の物性を示す。また、樹脂を使用することにより、実質的に光学歪みのない優れた光学レンズを得ることができる。

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
＜第１の態様＞
第１の態様は、例えば以下の発明を含む。
［１］ 一般式（Ａ）で表される構成単位を有するポリカーボネート樹脂。

（式（Ａ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）
［２］ 一般式（Ａ）で表される構成単位のみからなる［１］記載のポリカーボネート樹脂。
［３］ 重量平均分子量Ｍｗが２００００〜２０００００である［１］または［２］記載のポリカーボネート樹脂。
［４］ ［１］〜［３］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂を含む光学成形体。
［５］ ［１］〜［３］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂を含む光学レンズ。
［６］ ［１］〜［３］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂を含む光学フィルム。
［７］ ［１］〜［３］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂の製造方法であって、一般式（Ｉ）で表される化合物を原料として使用する製造方法。

（式（Ｉ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）
［８］ 一般式（Ｉ）で表される化合物および炭酸ジエステルを反応させ、モノヒドロキシ化合物を留去することを含む、［７］記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
［９］ 前記一般式（Ｉ）で表される化合物と炭酸ジエステルとの反応は、一般式（Ｉ）で表される化合物および炭酸ジエステルを溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物を滞留させた状態で少なくとも３０分反応させることにより行う、［８］記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。

以下、上記発明について詳細に説明する。
（１）ポリカーボネート樹脂
第１態様のポリカーボネート樹脂は、式（Ａ）で表される構成単位（以下、「構成単位（Ａ）」という）を有するポリカーボネート樹脂である。このポリカーボネート樹脂は、後述するように一般式（Ｉ）で表される化合物をジヒドロキシ成分として使用し、炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質と反応させて生成する化合物である。

第１態様第１態様のポリカーボネート樹脂は、基本的に主鎖中にエステル結合を有さないポリカーボネート樹脂であり、ポリエステルカーボネートは含まない。

ジヒドロキシ成分としては、一般式（Ｉ）の化合物に加えて、芳香族ジヒドロキシ化合物や脂肪族ジヒドロキシ化合物を併用することができる。

芳香族ジヒドロキシ化合物として、例えば、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡＰ、ビスフェノールＡＦ、ビスフェノールＢ、ビスフェノールＢＰ、ビスフェノールＣ、ビスフェノールＥ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＧ、ビスフェノールＭ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＰ、ビスフェノールＰＨ、ビスフェノールＴＭＣ、ビスフェノールＺ、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレン等が例示される。

中でも、第１態様のポリカーボネート樹脂は、式（Ａ）で表される構成単位のみからなるポリカーボネート樹脂が好適である。

第１態様のポリカーボネート樹脂の好ましいポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００００〜２０００００である。

より好ましくは、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は、２５０００〜１２００００である。

Ｍｗが２００００より小さいと、成形体が脆くなるため好ましくない。Ｍｗが２０００００より大きいと、溶融粘度が高くなるため製造後の樹脂の取り出しが困難になり、更には流動性が悪くなり溶融状態で射出成形しにくくなるため好ましくない。

第１態様のポリカーボネート樹脂の２３℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率（ｎＤ）は、好ましくは１．６３５〜１．６９５、より好ましくは１．６４０〜１．６９０、さらに好ましくは１．６４５〜１．６８５である。第１態様のポリカーボネート樹脂は、屈折率（ｎＤ）が高く、光学レンズ材料に適している。屈折率は、厚さ０．１ｍｍフィルムについて、アッベ屈折計を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２の方法で測定することができる。

第１態様のポリカーボネート樹脂のアッベ数（ν）は、好ましくは２４以下、より好ましくは２２以下、さらに好ましくは２０以下である。アッベ数は、２３℃下での波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍおよび６５６ｎｍの屈折率から、下記式を用いて算出することができる。
ν＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
ｎＤ：波長５８９ｎｍでの屈折率
ｎＣ：波長６５６ｎｍでの屈折率
ｎＦ：波長４８６ｎｍでの屈折率

第１態様のポリカーボネート樹脂に他の樹脂をブレンドして、成形体の製造に供することができる。他の樹脂としては、例えば、ポリアミド、ポリアセタール、ポリカーボネート、変性ポリフェニレンエーテル、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等が例示される。

さらに第１態様のポリカーボネート樹脂には、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、結晶核剤、強化剤、染料、帯電防止剤あるいは抗菌剤等を添加することができる。

成形方法としては、射出成形の他、圧縮成形、注型、ロール加工、押出成形、延伸などが例示されるがこれに限らない。

第１態様のポリカーボネート樹脂を射出成形に使用する場合、好ましいガラス転移温度（Ｔｇ）は９０〜１７０℃であり、より好ましくは９５〜１６５℃であり、さらに好ましくは１００〜１６０℃である。Ｔｇが９０℃より低いと、使用温度範囲が狭くなるため好ましくない。また１７０℃を越えると、樹脂の溶融温度が高くなり、樹脂の分解や着色が発生しやすくなるため好ましくない。樹脂のガラス転移温度が高すぎると、汎用の金型温調機では、金型温度と樹脂ガラス転移温度の差が大きくなってしまう。そのため、製品に厳密な面精度が求められる用途においては、ガラス転移温度が高すぎる樹脂の使用は難しく、好ましくない。

第１態様のポリカーボネート樹脂は、射出成形時の加熱に耐えるための熱安定性の指標として、昇温速度１０℃／ｍｉｎにて測定した５％重量減少温度（Ｔｄ）が３５０℃以上であることが好ましい。５％重量減少温度が３５０℃より低い場合は、成形の際の熱分解が激しく、良好な成形体を得ることが困難となるため好ましくない。

第１態様のポリカーボネート樹脂は、複屈折量の尺度である配向複屈折（Δｎ）が、好ましくは１．０×１０^−３以下、より好ましくは０．４×１０^−３以下である。
Δｎは、厚さ０．１ｍｍのキャストフィルムを５．０ｃｍ角の正方形に切出した後、フィルムの両端をチャックに挟み（チャック間３．０ｃｍ）、ポリカーボネート樹脂のＴｇ＋５℃で１．５倍に延伸し、日本分光（株）製エリプソメーターＭ−２２０を用いて５８９ｎｍにおける位相差（Ｒｅ）を測定した後、下記式より求めることができる。
Δｎ＝Ｒｅ／ｄ
Δｎ：配向複屈折
Ｒｅ：位相差
ｄ：厚さ

第１態様のポリカーボネート樹脂を用いて得られる光学成形体は、全光線透過率が８５％以上であり、ビスフェノールＡ型ポリカーボネート樹脂などと比べても遜色ない。

（２）ポリカーボネート樹脂の製造方法
第１態様のポリカーボネート樹脂は、上記一般式（Ｉ）で表されるジヒドロキシ化合物を原料として使用して製造することができる。具体的には、一般式（Ｉ）で表される化合物および炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質を、塩基性化合物触媒もしくはエステル交換触媒もしくはその双方からなる混合触媒の存在下、または無触媒下において、溶融重縮合法により反応させて製造することができる。

式（Ｉ）で表されるジヒドロキシ化合物の例として、２，２’−ビス（１−ヒドロキシメトキシ）−１，１’−ビナフタレン、２，２’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１’−ビナフタレン、２，２’−ビス（３−ヒドロキシプロピルオキシ）−１，１’−ビナフタレン、２，２’−ビス（４−ヒドロキシブトキシ）−１，１’−ビナタレン等が挙げられる。なかでも２，２’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１’−ビナフタレンが好ましい。これらは単独で使用してもよく、または二種以上組み合わせて用いても良い。

第１態様に用いられる炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジフェニルカーボネートが好ましい。ジフェニルカーボネートは、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して０．９７〜１．２０モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは０．９８〜１．１０モルの比率である。

エステル交換触媒のうち、塩基性化合物触媒としては、特にアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、および含窒素化合物等が挙げられる。

本願発明に使用されるアルカリ金属化合物としては、例えばアルカリ金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩もしくは２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩もしくはリチウム塩等が用いられる。

アルカリ土類金属化合物としては、例えばアルカリ土類金属化合物の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。

含窒素化合物としては、例えば４級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル基、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類；トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類；ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類；プロピルアミン、ブチルアミン等の１級アミン類；２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類；あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基もしくは塩基性塩等が用いられる。

エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛等の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。

エステル交換触媒としては、具体的には、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ（II）、塩化スズ（IV）、酢酸スズ（II）、酢酸スズ（IV）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛（II）、酢酸鉛（IV）等が用いられる。

これらの触媒は、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して、１０^−９〜１０^−３モルの比率で、好ましくは１０^−７〜１０^−４モルの比率で用いられる。

溶融重縮合法は、前記の原料および触媒を用いて、加熱下で、さらに常圧または減圧下で、エステル交換反応により副生成物を除去しながら溶融重縮合を行うものである。

本組成系での溶融重縮合は、一般式（Ｉ）で表される化合物および炭酸ジエステルを反応容器中で溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物を滞留させた状態で、反応を行うことが望ましい。滞留させるために、反応装置を閉塞したり、減圧したり加圧したりするなど圧力を制御することができる。この工程の反応時間は、２０分以上２４０分以下であり、好ましくは４０分以上１８０分以下、特に好ましくは６０分以上１５０分以下である。この際、副生するモノヒドロキシ化合物を生成後すぐに留去すると、最終的に得られるポリカーボネート樹脂は高分子量体の含有量が少ない。しかし、副生したモノヒドロキシ化合物を反応容器中に一定時間滞留させると、最終的に得られるポリカーボネート樹脂は高分子量体の含有量が多いものが得られる。

溶融重縮合反応は、連続式で行っても良くまたバッチ式で行ってもよい。反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であっても、スクリューを装備した押出機型であってもよい。また、重合物の粘度を勘案してこれらの反応装置を適宜組み合わせた反応装置を使用することが好適に実施される。

第１態様に係る発明に使用されるポリカーボネート樹脂の製造方法では、重合反応終了後、熱安定性および加水分解安定性を保持するために、触媒を除去もしくは失活させてもよい。公知の酸性物質の添加による触媒の失活を行う方法を好適に実施できる。酸性物質としては、具体的には、安息香酸ブチル等のエステル類、ｐ−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類；亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類；亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジｎ−プロピル、亜リン酸ジｎ−ブチル、亜リン酸ジｎ−ヘキシル、亜リン酸ジオクチル、亜リン酸モノオクチル等の亜リン酸エステル類；リン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸ジブチル、リン酸ジオクチル、リン酸モノオクチル等のリン酸エステル類；ジフェニルホスホン酸、ジオクチルホスホン酸、ジブチルホスホン酸等のホスホン酸類；フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類；トリフェニルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン等のホスフィン類；ホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類；ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類；ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物；ジメチル硫酸等のアルキル硫酸；塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。これらの失活剤は、触媒量に対して０．０１〜５０倍モル、好ましくは０．３〜２０倍モル使用される。触媒量に対して０．０１倍モルより少ないと、失活効果が不充分となり好ましくない。また、触媒量に対して５０倍モルより多いと、樹脂の耐熱性が低下し、成形体が着色しやすくなるため好ましくない。

触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を、０．１〜１ｍｍＨｇの圧力、２００〜３５０℃の温度で脱揮除去する工程を設けても良い。この工程には、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、あるいは薄膜蒸発器が好適に用いられる。

第１態様のポリカーボネート樹脂は、異物含有量が極力少ないことが望まれ、溶融原料の濾過、触媒液の濾過等が好適に実施される。フィルターのメッシュは、５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以下である。さらに、生成する樹脂のポリマーフィルターによる濾過が好適に実施される。ポリマーフィルターのメッシュは、１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以下である。また、樹脂ペレットを採取する工程は、当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。

（３）光学成形体
第１態様のポリカーボネート樹脂を用いて光学成形体を製造できる。例えば射出成形法、圧縮成形法、押出成形法、溶液キャスティング法など任意の方法により成形される。第１態様のポリカーボネート樹脂は、成形性および耐熱性に優れているので、射出成形が必要となる光学レンズにおいて特に有利に使用することができる。成形の際には、第１態様のポリカーボネート樹脂を他のポリカーボネート樹脂やポリエステル樹脂などの他の樹脂と混合して使用することが出来る。また、酸化防止剤、加工安定剤、光安定剤、重合金属不活性化剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、抗菌剤、離型剤、紫外線吸収剤、可塑剤、相溶化剤等の添加剤を混合しても構わない。

酸化防止剤としては、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマイド）、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートおよび３，９−ビス｛１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカンなどが挙げられる。ポリカーボネート樹脂中の酸化防止剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．３重量部であることが好ましい。

加工安定剤としては、リン系加工熱安定剤、硫黄系加工熱安定剤等が挙げられる。リン系加工熱安定剤としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびこれらのエステル等が挙げられる。具体的には、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリブチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェート、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイトおよびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等が挙げられる。ポリカーボネート樹脂中のリン系加工熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．２重量部が好ましい。

硫黄系加工熱安定剤としては、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ミリスチルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ステアリルチオプロピオネート）、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート等が挙げられる。ポリカーボネート樹脂中の硫黄系加工熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．２重量部が好ましい。

離型剤としては、その９０重量％以上がアルコールと脂肪酸とのエステルからなるものが好ましい。アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、具体的には一価アルコールと脂肪酸とのエステルや、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルが挙げられる。上記一価アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、炭素原子数１〜２０の一価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸とのエステルが好ましい。また、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルとしては、炭素原子数１〜２５の多価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルが好ましい。

具体的に、一価アルコールと飽和脂肪酸とのエステルとしては、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート等が挙げられる。多価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルとしては、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、カプリン酸モノグリセリド、ラウリン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトラペラルゴネート、プロピレングリコールモノステアレート、ビフェニルビフェネ−ト、ソルビタンモノステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、ジペンタエリスリトールヘキサステアレート等のジペンタエリスルトールの全エステルまたは部分エステル等が挙げられる。これら離型剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００５〜２．０重量部の範囲が好ましく、０．０１〜０．６重量部の範囲がより好ましく、０．０２〜０．５重量部の範囲がさらに好ましい。

紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、環状イミノエステル系紫外線吸収剤およびシアノアクリレート系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤が好ましい。すなわち、以下に挙げる紫外線吸収剤は、いずれかを単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｎ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２，２’−メチレンビス（４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェニル）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾ−ル等が挙げられる。

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。

トリアジン系紫外線吸収剤としては、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２−（４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（オクチル）オキシ］−フェノール等が挙げられる。

環状イミノエステル系紫外線吸収剤としては、２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，５−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）などが挙げられる。

シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、１，３−ビス−［（２’−シアノ−３’，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ］−２，２−ビス［（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイル）オキシ］メチル）プロパン、および１，３−ビス−［（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイル）オキシ］ベンゼンなどが挙げられる。

紫外線吸収剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜３．０重量部であり、より好ましくは０．０２〜１．０重量部であり、さらに好ましくは０．０５〜０．８重量部である。かかる配合量の範囲であれば、用途に応じ、ポリカーボネート樹脂に十分な耐候性を付与することが可能である。

第１態様のポリカーボネート樹脂は、高屈折率と優れた耐熱性を示し、しかも成形に適した流動性を有する。さらに、低複屈折で光学歪みが起こりづらいため、光学レンズの他に、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、太陽電池等に使用される透明導電性基板、光学ディスク、液晶パネル、光カード、シート、フィルム、光ファイバー、コネクター、蒸着プラスチック反射鏡、ディスプレイなどの光学部品の構造材料または機能材料用途に適した光学用成形体として有利に使用することができる。

光学成形体の表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていても良い。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。

（光学レンズ）
第１態様のポリカーボネート樹脂を用いて製造される光学レンズは、高屈折率であり、耐熱性に優れるため、望遠鏡、双眼鏡、テレビプロジェクター等、従来、高価な高屈折率ガラスレンズが用いられていた分野に用いることができ、極めて有用である。必要に応じて、非球面レンズの形で用いることが好ましい。非球面レンズは、１枚のレンズで球面収差を実質的にゼロとすることが可能であるため、複数の球面レンズの組み合わせによって球面収差を取り除く必要がなく、軽量化および生産コストの低減化が可能になる。従って、非球面レンズは、光学レンズの中でも特にカメラレンズとして有用である。
光学レンズは、例えば射出成形法、圧縮成形法、射出圧縮成形法など任意の方法により成形される。第１態様に係る発明により、ガラスレンズでは技術的に加工の困難な高屈折率低複屈折非球面レンズをより簡便に得ることができる。

光学レンズへの異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。

（光学フィルム）
第１態様のポリカーボネート樹脂を用いて製造される光学フィルムは、透明性および耐熱性に優れるため、液晶基板用フィルム、光メモリーカード等に好適に使用される。

光学フィルムへの異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。

＜実施例＞
以下に第１の態様を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何らの制限を受けるものではない。なお、実施例中の測定値は以下の方法あるいは装置を用いて測定した。
１）ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）：ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）を用い、テトラヒドロフランを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムからＭｗを算出した。
２）屈折率（ｎＤ）：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ０．１ｍｍフィルムについて、アッベ屈折計を用い、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２の方法で測定した。
３）アッベ数（ν）：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ０．１ｍｍフィルムについて、アッベ屈折計を用い、２３℃下での波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍおよび６５６ｎｍの屈折率を測定し、さらに下記式を用いてアッベ数を算出した。
ν＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
ｎＤ：波長５８９ｎｍでの屈折率
ｎＣ：波長６５６ｎｍでの屈折率
ｎＦ：波長４８６ｎｍでの屈折率
４）ガラス転移温度（Ｔｇ）：示差熱走査熱量分析計（ＤＳＣ）により測定した。
５）熱分解開始温度（Ｔｄ）：示差熱天秤（ＴＧ−ＤＴＡ）を用い、空気気流下、重量が５％減少した温度を測定した。昇温速度は１０℃／ｍｉｎである。
６）配向複屈折（Δｎ）：厚さ０．１ｍｍのキャストフィルムを５．０ｃｍ角の正方形に切出した後、フィルムの両端をチャックに挟み（チャック間３．０ｃｍ）、ポリカーボネート樹脂のＴｇ＋５℃で１．５倍に延伸した。日本分光（株）製エリプソメーターＭ−２２０を用いて５８９ｎｍにおける位相差（Ｒｅ）を測定し、下記式より配向複屈折（Δｎ）を求めた。
Δｎ＝Ｒｅ／ｄ
Δｎ：配向複屈折
Ｒｅ：位相差
ｄ：厚さ
７）全光線透過率：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ０．１ｍｍフィルムについて、日本電色工業（株）製濁度計ＮＤＨ２０００を用い、ＪＩＳ−Ｋ−７３６１−１の方法で測定した。

（１）ポリカーボネート樹脂の製造
（実施例１）
２，２’‐ビス（２‐ヒドロキシエトキシ）‐１，１’‐ビナフタレン（以下“ＢＨＥＢＮ”と省略することがある）４３．１ｇ（０．１１５モル）、ジフェニルカーボネート（以下“ＤＰＣ”と省略することがある）２５．０ｇ（０．１１７モル）、および炭酸水素ナトリウム１．１×１０^−４ｇ（１．３×１０^−６モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れ、窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下、１８０℃に加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１１０分間攪拌を行った。その後、減圧度を２００ｍｍＨｇに調整すると同時に、６０℃／ｈｒの速度で２００℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。その後、２０分間その温度に保持して反応を行った。さらに、７５℃／ｈｒの速度で２３０℃まで昇温し、昇温終了１０分後、その温度で保持しながら、１時間かけて減圧度を１ｍｍＨｇ以下とした。その後、６０℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、さらに３０分間攪拌下で反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（比較例１）
１，５−ジ（２‐ヒドロキシエトキシ）ナフタレン（以下“１，５−ＤＨＥＮ”と省略することがある）３０．０ｇ（０．１２１モル）、ＤＰＣ２６．４ｇ（０．１２３モル）、および炭酸水素ナトリウム６．１×１０^−５ｇ（７．２×１０^−７モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れ、窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下、１８０℃に加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で２０分間攪拌を行った。その後、減圧度を２００ｍｍＨｇに調整すると同時に、６０℃／ｈｒの速度で２００℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。その後、２０分間その温度に保持して反応を行った。さらに、７５℃／ｈｒの速度で２３０℃まで昇温し、昇温終了１０分後、その温度で保持しながら、１時間かけて減圧度を１ｍｍＨｇ以下とした。その後、６０℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、さらに３０分間攪拌下で反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（比較例２）
比較例１の１，５−ＤＨＥＮを２，３−ジ（２‐ヒドロキシエトキシ）ナフタレン（以下“２，３−ＤＨＥＮ”と省略することがある）に変更し、２，３−ＤＨＥＮの使用量を３１．２ｇ（０．１２６モル）、ＤＰＣの使用量を２７．６ｇ（０．１２９モル）、および炭酸水素ナトリウムの使用量を６．３×１０^−５ｇ（７．５×１０^−７モル）とする以外は比較例１と同様に行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。
生成したポリカーボネート樹脂は、分子量が低く、フィルム製造ができなかった。

（比較例３）
比較例１の１，５−ＤＨＥＮを２，６−ジ（２‐ヒドロキシエトキシ）ナフタレン（以下“２，６−ＤＨＥＮ”と省略することがある）に変更し、２，６−ＤＨＥＮの使用量を３１．１ｇ（０．１２５モル）、ＤＰＣの使用量を２７．４ｇ（０．１２８モル）、および炭酸水素ナトリウムの使用量を６．３×１０^−５ｇ（７．５×１０^−７モル）とする以外は比較例１と同様に行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。
生成したポリカーボネート樹脂は、非晶性とはならず、また溶剤に不溶だったため、光学特性が測定できなかった。

（比較例４）
比較例１の１，５−ＤＨＥＮを２，７−ジ（２‐ヒドロキシエトキシ）ナフタレン（以下“２，７−ＤＨＥＮ”と省略することがある）に変更し、２，７−ＤＨＥＮの使用量を３０．１ｇ（０．１２１モル）、ＤＰＣの使用量を２６．５ｇ（０．１２４モル）、および炭酸水素ナトリウムの使用量を６．１×１０^−５ｇ（７．３×１０^−７モル）とする以外は比較例１と同様に行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。
生成したポリカーボネート樹脂は、非晶性とはならず、また溶剤に不溶だったため、光学特性が測定できなかった。

（比較例５）
ビスフェノールＡ（以下“ＢＰＡ”と省略することがある）からなるポリカーボネート樹脂として、商品名「ユーピロンＨ−４０００」（三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製；Ｍｗ＝３３，０００、Ｔｇ＝１４８℃）を用いた。

（２）光学フィルムの製造
実施例１および比較例１〜５で得られたポリカーボネート樹脂を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度５．３重量％の樹脂溶液を作製した。この樹脂溶液から厚み０．１ｍｍのキャストフィルムを作製し、屈折率（ｎＤ）、アッベ数（ν）および全光線透過率を評価した。また、得られたキャストフィルムをＴｇ＋５℃で１．５倍に延伸し、配向複屈折（Δｎ）を評価した。
なお、実施例１および比較例１および５のポリカーボネート樹脂以外は、キャストフィルム化できなかった。

上述した実施例および比較例で得られた樹脂について、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）、ガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解開始温度（Ｔｄ）、屈折率（ｎＤ）、アッベ数（ν）、全光線透過率、配向複屈折（Δｎ）を測定し、その結果を表１−１に記載した。また、配向複屈折（Δｎ）の評価基準を表１−２に示した。

＜第２の態様＞
第２の態様は、例えば以下の発明を含む。
［１］一般式（Ａ）および一般式（Ｂ）で表される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂共重合体。

（式（Ａ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）

（式（Ｂ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
［２］ 構成単位（Ａ）と構成単位（Ｂ）とのモル比（Ａ／Ｂ）が２０／８０以上９９／１以下の範囲である［１］記載のポリカーボネート樹脂共重合体。
［３］ 構成単位（Ａ）が下記式

で表される構成単位（Ａ１）である［１］または［２］に記載のポリカーボネート樹脂共重合体。
［４］ 構成単位（Ｂ）が下記式

で表される構成単位（Ｂ１）である［１］〜［３］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体。
［５］ 構成単位（Ｂ）が下記式

で表される構成単位（Ｂ２）である［１］〜［３］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体。
［６］ 屈折率ｎＤが１．６５０以上１．６７０以下の範囲であり、且つガラス転移温度が１２０℃〜２００℃である［１］〜［５］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体。
［７］ ［１］〜［６］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体を含む光学成形体。
［８］ ［１］〜［６］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体を含む光学レンズ。
［９］ ［１］〜［６］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体を含む光学フィルム。
［１０］ ［１］〜［６］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体の製造方法であって、一般式（Ｃ）で表される化合物を原料として使用する製造方法。

（式（Ｃ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）
［１１］ 一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルを反応させ、モノヒドロキシ化合物を留去することを含む、［１０］記載のポリカーボネート樹脂共重合体の製造方法。

（式（Ｄ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）

以下、上記発明について詳細に説明する。
（１）ポリカーボネート樹脂共重合体
第２態様の共重合体は、式（Ａ）で表される構成単位（以下、「構成単位（Ａ）」という）と、式（Ｂ）で表される構成単位（以下、「構成単位（Ｂ）」という）とを含むポリカーボネート樹脂である（以下、「第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体」とも称する）。

上記構成単位（Ａ）および（Ｂ）の合計割合は、第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体を構成するカーボネート構成単位全量に対し５０ｍｏｌ％以上が好ましく、さらには８０ｍｏｌ％以上が好ましく、９０ｍｏｌ％以上が特に好ましく、１００ｍｏｌ％が最も好ましい。第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体は、上記構成単位（Ａ）および（Ｂ）以外の構成単位を含んでいてもよい。
構成単位（Ａ）と構成単位（Ｂ）のモル比（Ａ／Ｂ）は２０／８０〜９９／１が好ましく、さらには３０／７０〜９５／５が好ましく、４０／６０〜９０／１０がより好ましい。
（Ｂ）が（Ｂ１）の場合は、構成単位（Ａ）と構成単位（Ｂ１）のモル比（Ａ／Ｂ１）は２０／８０〜９９／１が好ましく、さらには４５／５５〜９５／５が好ましく、７５／２５〜９０／１０がより好ましい。
（Ｂ）が（Ｂ２）の場合は、構成単位（Ａ）と構成単位（Ｂ２）のモル比（Ａ／Ｂ２）は（Ｂ２）の割合は２０／８０〜９９／１が好ましく、さらには４０／６０〜９５／５が好ましい。

第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体は、ランダム、ブロックおよび交互共重合構造のいずれを含んでもよい。

第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体の２３℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率（ｎＤ）は、好ましくは１．６４０〜１．６８０である。
（Ｂ）が（Ｂ１）の場合は、１．６６６以上が望ましく、１．６６８以上がより望ましく、１．６６９以上が極めて望ましい。
（Ｂ）が（Ｂ２）の場合は、１．６５０以上が望ましく、１．６６０以上がより望ましい。
第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体は、屈折率（ｎＤ）が高く、光学レンズ材料に適している。屈折率は、第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体からなる厚さ０．１ｍｍのフィルムについて、アッベ屈折計を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２の方法で測定することができる。

第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体のアッベ数（ν）は、好ましくは２４以下である。
（Ｂ）が（Ｂ１）の場合は、２２以下が望ましく、２０以下がより望ましく、１９以下が極めて望ましい。
（Ｂ）が（Ｂ２）の場合は、２３以下が望ましく、１９以下が極めて望ましい。
アッベ数は、２３℃下での波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍおよび６５６ｎｍの屈折率から、下記式を用いて算出することができる。
ν＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
ｎＤ：波長５８９ｎｍでの屈折率
ｎＣ：波長６５６ｎｍでの屈折率
ｎＦ：波長４８６ｎｍでの屈折率

第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体を射出成形に使用する場合、好ましいガラス転移温度（Ｔｇ）は１２０〜１９０℃である。
（Ｂ）が（Ｂ１）の場合は、１２０〜１８０℃が望ましく、１３０〜１７０℃がより望ましく、１４０〜１６０℃が極めて望ましい。
（Ｂ）が（Ｂ２）の場合は、１２０〜１９０℃が望ましく、１３０〜１７０℃がより望ましく、１４０〜１６０℃が極めて望ましい。
Ｔｇが９５℃より低いと、使用温度範囲が狭くなるため好ましくない。また２００℃を越えると、樹脂の溶融温度が高くなり、樹脂の分解や着色が発生しやすくなるため好ましくない。樹脂のガラス転移温度が高すぎると、汎用の金型温調機では金型温度と樹脂ガラス転移温度の差が大きくなってしまう。そのため、製品に厳密な面精度が求められる用途においては、ガラス転移温度が高すぎる樹脂の使用は難しく、好ましくない。

第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体を用いて得られる光学成形体は、全光線透過率が８５％以上であることが好ましい。

さらに第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体には、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、結晶核剤、強化剤、染料、帯電防止剤あるいは抗菌剤等を添加することができる。

（２）ポリカーボネート樹脂共重合体の製造方法
第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体は、化合物（Ｃ）を原料として使用して製造することができる。具体的には、化合物（Ｃ）、化合物（Ｄ）および炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質を、塩基性化合物触媒もしくはエステル交換触媒もしくはその双方からなる混合触媒の存在下、もしくは無触媒下において、溶融重縮合法により反応させて製造することができる。

（式（Ｃ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）

（式（Ｄ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）

式（Ｃ）で表されるジヒドロキシ化合物として、例えば２，２’−ビス（１−ヒドロキシメトキシ）−１，１’−ビナフタレン、２，２’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１’−ビナフタレン、２，２’−ビス（３−ヒドロキシプロピルオキシ）−１，１’−ビナフタレン、２，２’−ビス（４−ヒドロキシブトキシ）−１，１’−ビナタレン等が挙げられる。なかでも２，２’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１’−ビナフタレンが好ましい。これらは単独で使用してもよく、または二種以上組み合わせて用いても良い。

式（Ｄ）で表されるジヒドロキシ化合物として、例えば９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−エチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−プロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｎ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｓｅｃ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−２−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス〔４−ヒドロキシ−３−（３−メチルフェニル）フェニル〕フルオレン等から誘導される単位が挙げられる。なかでも９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレンが好ましい。これらは単独で使用してもよく、または二種以上組み合わせて用いてもよい。

第２態様に用いられる炭酸ジエステルとしては、例えばジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジフェニルカーボネートが好ましい。ジフェニルカーボネートは、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して０．９７〜１．２０モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは０ ．９８〜１．１０モルの比率である。

塩基性化合物触媒としては、特にアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、および含窒素化合物等が挙げられる。

本願発明に使用されるアルカリ金属化合物としては、例えばアルカリ金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩もしくは２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩もしくはリチウム塩等が用いられる。

アルカリ土類金属化合物としては、例えばアルカリ土類金属化合物の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。

含窒素化合物としては、例えば４級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル基、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類；トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類；ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類；プロピルアミン、ブチルアミン等の１級アミン類；２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類；あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基もしくは塩基性塩等が用いられる。

エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛等の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。

エステル交換触媒としては、具体的には、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ（II）、塩化スズ（IV）、酢酸スズ（II）、酢酸スズ（IV）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛（II）、酢酸鉛（IV）等が用いられる。

これらの触媒は、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して、１０^−９〜１０^−３モルの比率で、好ましくは１０^−７〜１０^−４モルの比率で用いられる。

溶融重縮合法は、前記の原料および触媒を用いて、加熱下で、さらに常圧または減圧下で、エステル交換反応により副生成物を除去しながら溶融重縮合を行うものである。

溶融重縮合反応は、連続式で行っても良くまたバッチ式で行ってもよい。反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であってもスクリューを装備した押出機型であってもよい。また、重合物の粘度を勘案してこれらの反応装置を適宜組み合わせて使用することが好適に実施される。

第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体の製造方法では、重合反応終了後、熱安定性および加水分解安定性を保持するために、触媒を除去もしくは失活させてもよい。公知の酸性物質の添加による触媒の失活を行う方法を好適に実施できる。酸性物質としては、具体的には、安息香酸ブチル等のエステル類；ｐ−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類；亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類；亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジｎ−プロピル、亜リン酸ジｎ−ブチル、亜リン酸ジｎ−ヘキシル、亜リン酸ジオクチル、亜リン酸モノオクチル等の亜リン酸エステル類；リン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸ジブチル、リン酸ジオクチル、リン酸モノオクチル等のリン酸エステル類；ジフェニルホスホン酸、ジオクチルホスホン酸、ジブチルホスホン酸等のホスホン酸類；フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類；トリフェニルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン等のホスフィン類；ホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類；ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類；ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物；ジメチル硫酸等のアルキル硫酸；塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。これらの失活剤は、触媒量に対して０．０１〜５０倍モル、好ましくは０．３〜２０倍モル使用される。触媒量に対して０．０１倍モルより少ないと、失活効果が不充分となり好ましくない。また、触媒量に対して５０倍モルより多いと、樹脂の耐熱性が低下し、成形体が着色しやすくなるため好ましくない。

触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を、０．１〜１ｍｍＨｇの圧力、２００〜３５０℃の温度で脱揮除去する工程を設けても良い。この工程には、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、あるいは薄膜蒸発器が好適に用いられる。

第２態様のポリカーボネート樹脂は、異物含有量が極力少ないことが望まれ、溶融原料の濾過、触媒液の濾過等が好適に実施される。フィルターのメッシュは、５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以下である。さらに、生成する樹脂のポリマーフィルターによる濾過が好適に実施される。ポリマーフィルターのメッシュは、１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以下である。また、樹脂ペレットを採取する工程は、当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。

（３）光学成形体
第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体を用いて光学成形体を製造できる。例えば射出成形法、圧縮成形法、押出成形法、溶液キャスティング法など任意の方法により成形される。第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体は、成形性および耐熱性に優れているので、射出成形が必要となる光学レンズにおいて特に有利に使用することができる。成形の際には、第２態様のポリカーボネート樹脂を他のポリカーボネート樹脂やポリエステル樹脂などの他の樹脂と混合して使用することが出来る。また、酸化防止剤、加工安定剤、光安定剤、重合金属不活性化剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、抗菌剤、離型剤、紫外線吸収剤、可塑剤、相溶化剤等の添加剤を混合しても構わない。

酸化防止剤としては、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマイド）、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートおよび３，９−ビス｛１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカンなどが挙げられる。ポリカーボネート樹脂中の酸化防止剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．３重量部であることが好ましい。

加工安定剤としては、リン系加工熱安定剤、硫黄系加工熱安定剤等が挙げられる。リン系加工熱安定剤としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびこれらのエステル等が挙げられる。具体的には、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリブチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェート、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイトおよびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等が挙げられる。ポリカーボネート樹脂中のリン系加工熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．２重量部が好ましい。

硫黄系加工熱安定剤としては、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ミリスチルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ステアリルチオプロピオネート）、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート等が挙げられる。ポリカーボネート樹脂中の硫黄系加工熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．２重量部が好ましい。

離型剤としては、その９０重量％以上がアルコールと脂肪酸とのエステルからなるものが好ましい。アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、具体的には一価アルコールと脂肪酸とのエステルや、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルが挙げられる。上記一価アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、炭素原子数１〜２０の一価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸とのエステルが好ましい。また、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルとしては、炭素原子数１〜２５の多価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルが好ましい。

具体的に、一価アルコールと飽和脂肪酸とのエステルとしては、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート等が挙げられる。多価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルとしては、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、カプリン酸モノグリセリド、ラウリン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトラペラルゴネート、プロピレングリコールモノステアレート、ビフェニルビフェネ−ト、ソルビタンモノステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、ジペンタエリスリトールヘキサステアレート等のジペンタエリスルトールの全エステルまたは部分エステル等が挙げられる。これら離型剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００５〜２．０重量部の範囲が好ましく、０．０１〜０．６重量部の範囲がより好ましく、０．０２〜０．５重量部の範囲がさらに好ましい。

紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、環状イミノエステル系紫外線吸収剤およびシアノアクリレート系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤が好ましい。すなわち、以下に挙げる紫外線吸収剤は、いずれかを単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｎ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２，２’−メチレンビス（４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェニル）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾ−ル等が挙げられる。

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。

トリアジン系紫外線吸収剤としては、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２−（４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（オクチル）オキシ］−フェノール等が挙げられる。

環状イミノエステル系紫外線吸収剤としては、２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，５−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）などが挙げられる。

シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、１，３−ビス−［（２’−シアノ−３’，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ］−２，２−ビス［（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイル）オキシ］メチル）プロパン、および１，３−ビス−［（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイル）オキシ］ベンゼンなどが挙げられる。

紫外線吸収剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜３．０重量部であり、より好ましくは０．０２〜１．０重量部であり、さらに好ましくは０．０５〜０．８重量部である。かかる配合量の範囲であれば、用途に応じ、ポリカーボネート樹脂に十分な耐候性を付与することが可能である。

第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体は、高屈折率と優れた耐熱性を示し、しかも成形に適した流動性を有する。さらに、低複屈折で光学歪みが起こりづらいため、光学レンズの他に、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、太陽電池等に使用される透明導電性基板、光学ディスク、液晶パネル、光カード、シート、フィルム、光ファイバー、コネクター、蒸着プラスチック反射鏡、ディスプレイなどの光学部品の構造材料または機能材料用途に適した光学用成形体として有利に使用することができる。

光学成形体の表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていても良い。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。

（光学レンズ）
第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体を用いて製造される光学レンズは、高屈折率であり、耐熱性に優れるため、望遠鏡、双眼鏡、テレビプロジェクター等、従来、高価な高屈折率ガラスレンズが用いられていた分野に用いることができ、極めて有用である。必要に応じて、非球面レンズの形で用いることが好ましい。非球面レンズは、１枚のレンズで球面収差を実質的にゼロとすることが可能であるため、複数の球面レンズの組み合わせで球面収差を取り除く必要がなく、軽量化および生産コストの低減化が可能になる。従って、非球面レンズは、光学レンズの中でも特にカメラレンズとして有用である。
さらに、光学レンズは、例えば射出成形法、圧縮成形法、射出圧縮成形法など任意の方法により成形される。第２態様に係る発明により、ガラスレンズでは技術的に加工の困難な高屈折率低複屈折非球面レンズをより簡便に得ることができる。

光学レンズへの異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。

（光学フィルム）
第２態様のポリカーボネート樹脂共重合体を用いて製造される光学フィルムは、透明性および耐熱性に優れるため、液晶基板用フィルム、光メモリーカード等に好適に使用される。

光学フィルムへの異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。

＜実施例＞
以下に第２の態様を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何らの制限を受けるものではない。なお、実施例中の測定値は以下の方法あるいは装置を用いて測定した。
１）ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）：ゲル浸透クロマトグラフ（ＧＰＣ）を用い、テトラヒドロフランを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムからＭｗを算出した。
２）屈折率（ｎＤ）：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ０．１ｍｍフィルムについて、アッベ屈折計を用い、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２の方法で測定した。
３）アッベ数（ν）：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ０．１ｍｍフィルムについて、アッベ屈折計を用い、２３℃下での波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍおよび６５６ｎｍの屈折率を測定し、さらに下記式を用いてアッベ数を算出した。
ν＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
ｎＤ：波長５８９ｎｍでの屈折率
ｎＣ：波長６５６ｎｍでの屈折率
ｎＦ：波長４８６ｎｍでの屈折率
４）ガラス転移温度（Ｔｇ）：示差熱走査熱量分析計（ＤＳＣ）により測定した。
５）光学歪み：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ３ｍｍの成形片を二枚の偏光板の間に挟み、直交ニコル法で後ろからの光漏れを目視することにより評価した。より具体的には、実施例１〜９、参考例および比較例で得られたポリカーボネート樹脂を使用し、ファナック（株）製ＲＯＢＯＳＨＯＴ Ｓ‐２０００ｉ３０Ａ射出成形機を用いてφ５０、厚さ３．０ｍｍの成型片を射出成型した。この成型片を二枚の偏光板の間に挟み、直交ニコル法で後ろからの光漏れを目視することにより評価した。評価は、Ａ：僅かに光漏れが認められる、Ｂ：光漏れがある、Ｃ：光漏れが顕著であるとした。
６）全光線透過率：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ０．１ｍｍフィルムについて、日本電色工業（株）製濁度計ＮＤＨ２０００を用いて測定した。

（実施例１）
式（Ｅ）で示される２，２’‐ビス（２‐ヒドロキシエトキシ）‐１，１’‐ビナフタレン（以下“ＢＨＥＢＮ”と省略することがある）４．７４ｋｇ（１２．７モル）、式（Ｆ）で示される９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）フルオレン（以下“ＢＰＰＦ”と省略することがある）１４．９ｋｇ（２９．６モル）、ジフェニルカーボネート（以下“ＤＰＣ”と省略することがある）９．５０ｋｇ（４４．３モル）、および炭酸水素ナトリウム４．３×１０^−２ｇ（５．１×１０^−４モル）を攪拌機および留出装置付きの５０リットル反応器に入れ、窒素雰囲気下で１８０℃に加熱して溶融させた。その後、２０分かけて減圧度を２０ｋＰａに調整した。その後、２０．０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行い、１０分間その温度で保持した後、８０分かけて０．１３ｋＰａ以下まで減圧した。更に２６０℃、０．１３ｋＰａ以下の条件下で２０分間撹拌しながら重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで加圧した後、生成したポリカーボネート樹脂をペレタイズしながら取り出した。

（実施例２）
ＢＨＥＢＮおよびＢＰＰＦの量を、ＢＨＥＢＮ９．４９ｋｇ（２５．３モル）およびＢＰＰＦ８．４９ｋｇ（１６．９モル）に変更した以外は、実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例３）
ＢＨＥＢＮおよびＢＰＰＦの量を、ＢＨＥＢＮ１１．０ｋｇ（２９．５モル）およびＢＰＰＦ６．３６ｋｇ（１２．７モル）に変更した以外は、実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例４）
ＢＨＥＢＮおよびＢＰＰＦの量を、ＢＨＥＢＮ１２．６ｋｇ（３３．８モル）およびＢＰＰＦ４．２４ｋｇ（８．４４モル）に変更した以外は、実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例５）
ＢＨＥＢＮおよびＢＰＰＦの量を、ＢＨＥＢＮ１４．２ｋｇ（３８．０モル）およびＢＰＰＦ２．１２ｋｇ（４．２２モル）に変更した以外は、実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例６）
ＢＨＥＢＮ４．７４ｋｇ（１２．７モル）、式（Ｇ）で示される９，９−ビス（４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）フルオレン（以下“ＢＭＰＦ”と省略することがある）１１．２ｋｇ（２９．６モル）、ＤＰＣ９．５０ｋｇ（４４．３モル）、および炭酸水素ナトリウム４．３×１０^−２ｇ（５．１×１０^−４モル）を攪拌機および留出装置付きの５０リットル反応器に入れ、窒素雰囲気下で１８０℃に加熱して溶融させた。その後、２０分かけて減圧度を２０ｋＰａに調整した。その後、２０．０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行い、１０分間その温度で保持した後、８０分かけて０．１３ｋＰａ以下まで減圧した。更に２６０℃、０．１３ｋＰａ以下の条件下で、２０分間撹拌しながら重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで加圧した後、生成したポリカーボネート樹脂をペレタイズしながら取り出した。

（実施例７）
ＢＨＥＢＮおよびＢＭＰＦの量を、ＢＨＥＢＮ７．９１ｋｇ（２１．２モル）およびＢＭＰＦ８．００ｋｇ（２１．２モル）に変更した以外は、実施例６と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例８）
ＢＨＥＢＮおよびＢＭＰＦの量を、ＢＨＥＢＮ９．４９ｋｇ（２５．３モル）およびＢＭＰＦ６．３９ｋｇ（１６．９モル）に変更した以外は、実施例６と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例９）
ＢＨＥＢＮおよびＢＭＰＦの量を、ＢＨＥＢＮ１４．２ｋｇ（３８．０モル）およびＢＭＰＦ１．６０ｋｇ（４．２２モル）に変更した以外は、実施例６と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（参考例）
ＢＨＥＢＮ１５．８ｋｇ（４２．２モル）、ＤＰＣ９．３７ｋｇ（４３．７モル）、および炭酸水素ナトリウム５．３×１０^−２ｇ（６．３×１０^−４モル）を攪拌機および留出装置付きの５０リットル反応器に入れ、窒素雰囲気下で１８０℃に加熱して溶融させた。原料溶融後、１１０分間撹拌した後に、２０分かけて減圧度を２０ｋＰａに調整した。その後、２０．０℃／ｈｒの速度で２６０℃まで昇温を行い、１０分間その温度で保持した後、８０分かけて０．１３ｋＰａ以下まで減圧した。更に２６０℃、０．１３ｋＰａ以下の条件下で２０分間撹拌しながら重合反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで加圧した後、生成したポリカーボネート樹脂をペレタイズしながら取り出した。

（比較例）
ビスフェノールＡ（以下“ＢＰＡ”と省略することがある）からなるポリカーボネート樹脂として、商品名「ユーピロンＨ−４０００」（三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製；Ｍｗ＝３３，０００、Ｔｇ＝１４８℃）を用いた。

実施例１〜９、参考例および比較例で得られたポリカーボネート樹脂から厚み０．１ｍｍのフィルムを作製し、屈折率（ｎＤ）、アッベ数（ν）および全光線透過率を評価した。

上述した実施例、参考例および比較例で得られた樹脂について、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）、ガラス転移温度（Ｔｇ）、屈折率（ｎＤ）、アッベ数（ν）および全光線透過率を測定し、その結果を表２−１に記載した。

＜第３の態様＞
第３の態様は、例えば以下の発明を含む。
［１］一般式（Ａ）および一般式（Ｂ’）で表される構成単位を含有するポリカーボネート樹脂共重合体。

（式（Ａ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）

（式（Ｂ’）中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
［２］ 一般式（Ａ）で表される構成単位が全構成単位中１〜９９ｍｏｌ％である［１］記載のポリカーボネート樹脂共重合体。
［３］ 重量平均分子量Ｍｗが２００００〜２０００００である［１］または［２］に記載のポリカーボネート樹脂共重合体。
［４］ 屈折率ｎＤが１．６４０〜１．６８０であり且つアッベ数νが２４以下である［１］〜［３］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体。
［５］ 配向複屈折Δｎが１．０×１０^−３以下である［１］〜［４］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体。
［６］ ガラス転移点が１１０〜１６０℃である［１］〜［５］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体。
［７］ 昇温速度１０℃／ｍｉｎにて測定した５％重量減少温度が３５０℃以上である［１］〜［６］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体。
［８］ 全光線透過率が８８％以上である［１］〜［７］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体。
［９］ ［１］〜［８］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体を含む光学成形体。
［１０］ ［１］〜［８］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体を含む光学レンズ。
［１１］ ［１］〜［８］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体を含む光学フィルム。
［１２］ ［１］〜［８］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂共重合体の製造方法であって、一般式（Ｃ）で表される化合物を原料として使用する製造方法。

（式（Ｃ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）
［１３］ 一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ’）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルを反応させ、モノヒドロキシ化合物を留去することを含む［１２］記載のポリカーボネート樹脂共重合体の製造方法。

（式（Ｄ’）中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
［１４］ 前記一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ’）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルの反応は、一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ’）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルを溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物の留去をせずに滞留させた状態で少なくとも３０分反応させることにより行う［１３］記載のポリカーボネート樹脂共重合体の製造方法。

［１５］ 前記一般式（Ｂ’）で表される構成単位のみからなるポリカーボネート樹脂。
［１６］ 重量平均分子量Ｍｗが２００００〜２０００００である［１５］に記載のポリカーボネート樹脂。
［１７］ 屈折率ｎＤが１．６４０〜１．６８０であり且つアッベ数νが２４以下である［１５］または［１６］に記載のポリカーボネート樹脂。
［１８］ 配向複屈折Δｎが１．０×１０^−３以下である［１５］〜［１７］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂。
［１９］ ガラス転移点が１１０〜１８０℃である［１５］〜［１８］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂。
［２０］ 昇温速度１０℃／ｍｉｎにて測定した５％重量減少温度が３５０℃以上である［１５］〜［１９］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂。
［２１］ 全光線透過率が８５％以上である［１５］〜［２０］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂。
［２２］ ［１５］〜［２１］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂を含む光学成形体。
［２３］ ［１５］〜［２１］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂を含む光学レンズ。
［２４］ ［１５］〜［２１］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂を含む光学フィルム。
［２５］ 上記一般式（Ｄ’）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルを反応させ、モノヒドロキシ化合物を留去することを含む［１５］〜［２１］のいずれかに記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。

（式（Ｄ’）中、Ｒ^１およびＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
［２６］ 前記一般式（Ｄ’）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルの反応は、一般式（Ｄ’）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルを溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物の留去をせずに滞留させた状態で少なくとも３０分反応させることにより行う［２５］記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。

以下、上記発明について詳細に説明する。
（１）ポリカーボネート樹脂
第３態様の共重合体は、式（Ａ）で表される構成単位（以下、「構成単位（Ａ）」という）と、式（Ｂ’）で表される構成単位（以下、「構成単位（Ｂ’）」という）とを含むポリカーボネート樹脂である（以下、樹脂が共重合体である場合には「第３態様のポリカーボネート樹脂共重合体」とも称する）。

上記構成単位（Ａ）の割合は、第３態様のポリカーボネート樹脂を構成するカーボネート単位全量に対し１〜９９ｍｏｌ％が好ましい。

より好ましくは、上記構成単位（Ａ）の割合は、第３態様のポリカーボネート樹脂を構成するカーボネート単位全量に対し３０〜９０ｍｏｌ％であり、さらに好ましくは４０〜８０ｍｏｌ％である。
あるいは、第３態様の樹脂は、上記一般式（Ｂ’）で表される構成単位のみからなるポリカーボネート樹脂であってもよい。

第３態様のポリカーボネート樹脂の好ましいポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００００〜２０００００である。

より好ましくは、ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は２５０００〜１２００００である。

Ｍｗが２００００より小さいと、成形体が脆くなるため好ましくない。Ｍｗが２０００００より大きいと、溶融粘度が高くなるため製造後の樹脂の取り出しが困難になり、更には流動性が悪くなり溶融状態で射出成形しにくくなるため好ましくない。

第３態様のポリカーボネート樹脂共重合体は、ランダム、ブロックおよび交互共重合構造を含むポリカーボネート樹脂共重合体である。

第３態様のポリカーボネート樹脂の２３℃、波長５８９ｎｍにおける屈折率（ｎＤ）は、好ましくは１．６４０〜１．６８０、より好ましくは１．６４５〜１．６７５、さらに好ましくは１．６５０〜１．６７０である。第３態様のポリカーボネート樹脂は、屈折率（ｎＤ）が高く光学レンズ材料に適している。屈折率は、厚さ０．１ｍｍフィルムについて、アッベ屈折計を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２の方法で測定することができる。

第３態様のポリカーボネート樹脂のアッベ数（ν）は、好ましくは２４以下、より好ましくは２３以下、さらに好ましくは２２以下である。アッベ数は、２３℃下での波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍおよび６５６ｎｍの屈折率から、下記式を用いて算出することができる。
ν＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
ｎＤ：波長５８９ｎｍでの屈折率
ｎＣ：波長６５６ｎｍでの屈折率
ｎＦ：波長４８６ｎｍでの屈折率

第３態様の樹脂を射出成形に使用する場合、好ましいガラス転移点（Ｔｇ）は９５〜１８０℃であり、より好ましくは１１０〜１７０℃であり、さらに好ましくは１１５〜１６０℃である。Ｔｇが９５℃より低いと、使用温度範囲が狭くなるため好ましくない。また１８０℃を越えると、樹脂の溶融温度が高くなり、樹脂の分解や着色が発生しやすくなるため好ましくない。また、樹脂のガラス転移点が高すぎる場合、汎用の金型温調機では、金型温度と樹脂ガラス転移温度の差が大きくなってしまう。そのため、製品に厳密な面精度が求められる用途においては、ガラス転移温度が高すぎる樹脂の使用は難しく、好ましくない。

第３態様のポリカーボネート樹脂は、射出成形時の加熱に耐えるための熱安定性の指標として、昇温速度１０℃／ｍｉｎにて測定した５％重量減少温度（Ｔｄ）が３５０℃以上であることが好ましい。５％重量減少温度が３５０℃より低い場合は、成形の際の熱分解が激しく、良好な成形体を得ることが困難となるため好ましくない。

第３態様のポリカーボネート樹脂は、複屈折量の尺度である配向複屈折（Δｎ）が、好ましくは１．０×１０^−３以下、より好ましくは０．８×１０^−３以下、さらに好ましくは０．３×１０^−３以下、特に好ましくは０．２×１０^−３以下である。
Δｎは、厚さ０．１ｍｍのキャストフィルムを５．０ｃｍ角の正方形に切出した後、フィルムの両端をチャックに挟み（チャック間３．０ｃｍ）、ポリカーボネート樹脂のＴｇ＋５℃で１．５倍に延伸し、日本分光（株）製エリプソメーターＭ−２２０を用いて５８９ｎｍにおける位相差（Ｒｅ）を測定することにより、下記式より求めることができる。
Δｎ＝Ｒｅ／ｄ
Δｎ：配向複屈折
Ｒｅ：位相差
ｄ：厚さ

複屈折（Δｎ）の符号は、フィルム延伸方向における屈折率（ｎ_／／）と延伸方向に垂直な方向における屈折率（ｎ_⊥）を用いて下記式で表され、Δｎが正になる場合を正の複屈折、負になる場合を負の複屈折と呼ぶ。

第３態様のポリカーボネート樹脂を用いて得られる光学成形体は、全光線透過率が好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上であり、ビスフェノールＡ型ポリカーボネート樹脂などと比べても遜色ない。

さらに第３態様のポリカーボネート樹脂には、酸化防止剤、離型剤、紫外線吸収剤、流動性改質剤、結晶核剤、強化剤、染料、帯電防止剤あるいは抗菌剤等を添加することが好適に実施される。

（２）ポリカーボネート樹脂の製造方法
第３態様のポリカーボネート樹脂は、化合物（Ｃ）を原料として使用して製造することができる。具体的には、化合物（Ｃ）、化合物（Ｄ’）および炭酸ジエステルなどのカーボネート前駆物質を、塩基性化合物触媒もしくはエステル交換触媒もしくはその双方からなる混合触媒の存在下、もしくは無触媒下において、溶融重縮合法により反応させて製造することができる。第３態様のポリカーボネート樹脂が一般式（Ｂ’）で表される構成単位のみからなるポリカーボネート樹脂である場合、化合物（Ｃ）を使用しないことを除き、上記と同様に製造することができる。

式（Ｃ）で表されるジヒドロキシ化合物として、２，２’−ビス（１−ヒドロキシメトキシ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（３−ヒドロキシプロピルオキシ）−１，１’−ビナフチル、２，２’−ビス（４−ヒドロキシブトキシ）−１，１’−ビナフチルが挙げられる。なかでも２，２’−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）−１，１’−ビナフチルが好ましい。これらは単独で使用してもよく、または二種以上組み合わせて用いても良い。

式（Ｄ’）で表されるジヒドロキシ化合物として、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−イソプロピルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−シクロヘキシルフェニル）フルオレン、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレン等が挙げられる。なかでも９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレンが好ましい。これらは単独で使用してもよく、または二種以上組み合わせて用いてもよい。

第３態様に用いられる炭酸ジエステルとしては、ジフェニルカーボネート、ジトリールカーボネート、ビス（クロロフェニル）カーボネート、ｍ−クレジルカーボネート、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、ジブチルカーボネート、ジシクロヘキシルカーボネート等が挙げられる。これらの中でも特に、ジフェニルカーボネートが好ましい。ジフェニルカーボネートは、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して０．９７〜１．２０ モルの比率で用いられることが好ましく、更に好ましくは０ ．９８〜１．１０モルの比率である。

塩基性化合物触媒としては、特にアルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、および含窒素化合物等が挙げられる。

本願発明に使用されるアルカリ金属化合物としては、例えばアルカリ金属の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化セシウム、水酸化リチウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウム、炭酸リチウム、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸セシウム、酢酸リチウム、ステアリン酸ナトリウム、ステアリン酸カリウム、ステアリン酸セシウム、ステアリン酸リチウム、水素化ホウ素ナトリウム、フェニル化ホウ素ナトリウム、安息香酸ナトリウム、安息香酸カリウム、安息香酸セシウム、安息香酸リチウム、リン酸水素２ナトリウム、リン酸水素２カリウム、リン酸水素２リチウム、フェニルリン酸２ナトリウム、ビスフェノールＡの２ナトリウム塩、２カリウム塩、２セシウム塩もしくは２リチウム塩、フェノールのナトリウム塩、カリウム塩、セシウム塩もしくはリチウム塩等が用いられる。

アルカリ土類金属化合物としては、例えばアルカリ土類金属化合物の有機酸塩、無機塩、酸化物、水酸化物、水素化物又はアルコキシド等が挙げられる。具体的には、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化ストロンチウム、水酸化バリウム、炭酸水素マグネシウム、炭酸水素カルシウム、炭酸水素ストロンチウム、炭酸水素バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸ストロンチウム、炭酸バリウム、酢酸マグネシウム、酢酸カルシウム、酢酸ストロンチウム、酢酸バリウム、ステアリン酸マグネシウム、ステアリン酸カルシウム、安息香酸カルシウム、フェニルリン酸マグネシウム等が用いられる。

含窒素化合物としては、例えば４級アンモニウムヒドロキシドおよびそれらの塩、アミン類等が挙げられる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキシド等のアルキル基、アリール基等を有する４級アンモニウムヒドロキシド類；トリエチルアミン、ジメチルベンジルアミン、トリフェニルアミン等の３級アミン類；ジエチルアミン、ジブチルアミン等の２級アミン類；プロピルアミン、ブチルアミン等の１級アミン類；２−メチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾール等のイミダゾール類；あるいは、アンモニア、テトラメチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムボロハイドライド、テトラブチルアンモニウムテトラフェニルボレート、テトラフェニルアンモニウムテトラフェニルボレート等の塩基もしくは塩基性塩等が用いられる。

エステル交換触媒としては、亜鉛、スズ、ジルコニウム、鉛等の塩が好ましく用いられ、これらは単独もしくは組み合わせて用いることができる。

エステル交換触媒としては、具体的には、酢酸亜鉛、安息香酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸亜鉛、塩化スズ（II）、塩化スズ（IV）、酢酸スズ（II）、酢酸スズ（IV）、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズオキサイド、ジブチルスズジメトキシド、ジルコニウムアセチルアセトナート、オキシ酢酸ジルコニウム、ジルコニウムテトラブトキシド、酢酸鉛（II）、酢酸鉛（IV）等が用いられる。

これらの触媒は、ジヒドロキシ化合物の合計１モルに対して、１０^−９〜１０^−３モルの比率で、好ましくは１０^−７〜１０^−４モルの比率で用いられる。

溶融重縮合法は、前記の原料および触媒を用いて、加熱下で、さらに常圧または減圧下で、エステル交換反応により副生成物を除去しながら溶融重縮合を行うものである。

本組成系での溶融重縮合は、一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ’）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルを反応容器中で溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物の留去をせずに滞留させた状態で、反応を行ってもよい。反応時間は２０分以上２４０分以下であり、好ましくは４０分以上１８０分以下、特に好ましく６０分以上１５０分以下である。この際、副生するモノヒドロキシ化合物を生成後すぐに留去すると、最終的に得られるポリカーボネート樹脂は高分子量体の含有量が少なくなる。

溶融重縮合反応は、連続式で行っても良くまたバッチ式で行ってもよい。反応を行うに際して用いられる反応装置は、錨型攪拌翼、マックスブレンド攪拌翼、ヘリカルリボン型攪拌翼等を装備した縦型であっても、パドル翼、格子翼、メガネ翼等を装備した横型であってもスクリューを装備した押出機型であってもよい。また、重合物の粘度を勘案してこれらの反応装置を適宜組み合わせて使用することが好適に実施される。

第３態様のポリカーボネート樹脂の製造方法では、重合反応終了後、熱安定性および加水分解安定性を保持するために、触媒を除去もしくは失活させる。公知の酸性物質の添加による触媒の失活を行う方法を好適に実施できる。酸性物質としては、具体的には、安息香酸ブチル等のエステル類；ｐ−トルエンスルホン酸等の芳香族スルホン酸類；ｐ−トルエンスルホン酸ブチル、ｐ−トルエンスルホン酸ヘキシル等の芳香族スルホン酸エステル類；亜リン酸、リン酸、ホスホン酸等のリン酸類；亜リン酸トリフェニル、亜リン酸モノフェニル、亜リン酸ジフェニル、亜リン酸ジエチル、亜リン酸ジｎ−プロピル、亜リン酸ジｎ−ブチル、亜リン酸ジｎ−ヘキシル、亜リン酸ジオクチル、亜リン酸モノオクチル等の亜リン酸エステル類；リン酸トリフェニル、リン酸ジフェニル、リン酸モノフェニル、リン酸ジブチル、リン酸ジオクチル、リン酸モノオクチル等のリン酸エステル類；ジフェニルホスホン酸、ジオクチルホスホン酸、ジブチルホスホン酸等のホスホン酸類；フェニルホスホン酸ジエチル等のホスホン酸エステル類；トリフェニルホスフィン、ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン等のホスフィン類；ホウ酸、フェニルホウ酸等のホウ酸類；ドデシルベンゼンスルホン酸テトラブチルホスホニウム塩等の芳香族スルホン酸塩類；ステアリン酸クロライド、塩化ベンゾイル、ｐ−トルエンスルホン酸クロライド等の有機ハロゲン化物；ジメチル硫酸等のアルキル硫酸；塩化ベンジル等の有機ハロゲン化物等が好適に用いられる。これらの失活剤は、触媒量に対して０．０１〜５０倍モル、好ましくは０．３〜２０倍モル使用される。触媒量に対して０．０１倍モルより少ないと、失活効果が不充分となり好ましくない。また、触媒量に対して５０倍モルより多いと、樹脂の耐熱性が低下し、成形体が着色しやすくなるため好ましくない。

触媒失活後、ポリマー中の低沸点化合物を、０．１〜１ｍｍＨｇの圧力、２００〜３５０℃の温度で脱揮除去する工程を設けても良い。この工程には、パドル翼、格子翼、メガネ翼等、表面更新能の優れた攪拌翼を備えた横型装置、あるいは薄膜蒸発器が好適に用いられる。

第３態様のポリカーボネート樹脂は、異物含有量が極力少ないことが望まれ、溶融原料の濾過、触媒液の濾過等が好適に実施される。フィルターのメッシュは、５μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１μｍ以下である。さらに、生成する樹脂のポリマーフィルターによる濾過が好適に実施される。ポリマーフィルターのメッシュは、１００μｍ以下であることが好ましく、より好ましくは３０μｍ以下である。また、樹脂ペレットを採取する工程は当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。

（３）光学成形体
第３態様のポリカーボネート樹脂を用いて光学成形体を製造できる。例えば射出成形法、圧縮成形法、押出成形法、溶液キャスティング法など任意の方法により成形される。第３態様のポリカーボネート樹脂は、成形性および耐熱性に優れているので射出成形が必要となる光学レンズにおいて特に有利に使用することができる。成形の際には、第３態様のポリカーボネート樹脂を他のポリカーボネート樹脂やポリエステル樹脂などの他の樹脂と混合して使用することが出来る。また、酸化防止剤、加工安定剤、光安定剤、重合金属不活性化剤、難燃剤、滑剤、帯電防止剤、界面活性剤、抗菌剤、離型剤、紫外線吸収剤、可塑剤、相溶化剤等の添加剤を混合しても構わない。

酸化防止剤としては、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、Ｎ，Ｎ−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマイド）、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルホスホネート−ジエチルエステル、トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレートおよび３，９−ビス｛１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］エチル｝−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ（５，５）ウンデカンなどが挙げられる。ポリカーボネート樹脂中の酸化防止剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．３重量部であることが好ましい。

加工安定剤としては、リン系加工熱安定剤、硫黄系加工熱安定剤等が挙げられる。リン系加工熱安定剤としては、亜リン酸、リン酸、亜ホスホン酸、ホスホン酸およびこれらのエステル等が挙げられる。具体的には、トリフェニルホスファイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、トリデシルホスファイト、トリオクチルホスファイト、トリオクタデシルホスファイト、ジデシルモノフェニルホスファイト、ジオクチルモノフェニルホスファイト、ジイソプロピルモノフェニルホスファイト、モノブチルジフェニルホスファイト、モノデシルジフェニルホスファイト、モノオクチルジフェニルホスファイト、ビス（２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２−メチレンビス（４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ビス（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、トリブチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリメチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、ジフェニルモノオルソキセニルホスフェート、ジブチルホスフェート、ジオクチルホスフェート、ジイソプロピルホスフェート、ベンゼンホスホン酸ジメチル、ベンゼンホスホン酸ジエチル、ベンゼンホスホン酸ジプロピル、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，４’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−４，３’−ビフェニレンジホスホナイト、テトラキス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−３，３’−ビフェニレンジホスホナイト、ビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４−フェニル−フェニルホスホナイトおよびビス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−３−フェニル−フェニルホスホナイト等が挙げられる。ポリカーボネート樹脂中のリン系加工熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．２重量部が好ましい。

硫黄系加工熱安定剤としては、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ラウリルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ミリスチルチオプロピオネート）、ペンタエリスリトール−テトラキス（３−ステアリルチオプロピオネート）、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート等が挙げられる。ポリカーボネート樹脂中の硫黄系加工熱安定剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００１〜０．２重量部が好ましい。

離型剤としては、その９０重量％以上がアルコールと脂肪酸とのエステルからなるものが好ましい。アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、具体的には一価アルコールと脂肪酸とのエステルや、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルが挙げられる。上記一価アルコールと脂肪酸とのエステルとしては、炭素原子数１〜２０の一価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸とのエステルが好ましい。また、多価アルコールと脂肪酸との部分エステルあるいは全エステルとしては、炭素原子数１〜２５の多価アルコールと炭素原子数１０〜３０の飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルが好ましい。

具体的に、一価アルコールと飽和脂肪酸とのエステルとしては、ステアリルステアレート、パルミチルパルミテート、ブチルステアレート、メチルラウレート、イソプロピルパルミテート等が挙げられる。多価アルコールと飽和脂肪酸との部分エステルまたは全エステルとしては、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸モノグリセリド、ステアリン酸ジグリセリド、ステアリン酸トリグリセリド、ステアリン酸モノソルビテート、ベヘニン酸モノグリセリド、カプリン酸モノグリセリド、ラウリン酸モノグリセリド、ペンタエリスリトールモノステアレート、ペンタエリスリトールテトラステアレート、ペンタエリスリトールテトラペラルゴネート、プロピレングリコールモノステアレート、ビフェニルビフェネ−ト、ソルビタンモノステアレート、２−エチルヘキシルステアレート、ジペンタエリスリトールヘキサステアレート等のジペンタエリスルトールの全エステルまたは部分エステル等が挙げられる。これら離型剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して０．００５〜２．０重量部の範囲が好ましく、０．０１〜０．６重量部の範囲がより好ましく、０．０２〜０．５重量部の範囲がさらに好ましい。

紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、環状イミノエステル系紫外線吸収剤およびシアノアクリレート系紫外線吸収剤からなる群より選ばれる少なくとも１種の紫外線吸収剤が好ましい。すなわち、以下に挙げる紫外線吸収剤は、いずれかを単独で使用してもよく、２種以上を組み合わせて使用してもよい。

ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジクミルフェニル）フェニルベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｎ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２，２’−メチレンビス（４−クミル−６−ベンゾトリアゾールフェニル）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（１，３−ベンゾオキサジン−４−オン）、２−［２−ヒドロキシ−３−（３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５−メチルフェニル］ベンゾトリアゾ−ル等が挙げられる。

ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ベンジロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホキシトリハイドライドレイトベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシ−５−ソジウムスルホキシベンゾフェノン、ビス（５−ベンゾイル−４−ヒドロキシ−２−メトキシフェニル）メタン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルオキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−２’−カルボキシベンゾフェノン等が挙げられる。

トリアジン系紫外線吸収剤としては、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］−フェノール、２−（４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（オクチル）オキシ］−フェノール等が挙げられる。

環状イミノエステル系紫外線吸収剤としては、２，２’−ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（４，４’−ジフェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２，６−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（１，５−ナフタレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−メチル−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）、２，２’−（２−ニトロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）および２，２’−（２−クロロ−ｐ−フェニレン）ビス（３，１−ベンゾオキサジン−４−オン）などが挙げられる。

シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、１，３−ビス−［（２’−シアノ−３’，３’−ジフェニルアクリロイル）オキシ］−２，２−ビス［（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイル）オキシ］メチル）プロパン、および１，３−ビス−［（２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリロイル）オキシ］ベンゼンなどが挙げられる。

紫外線吸収剤の含有量は、ポリカーボネート樹脂１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜３．０重量部であり、より好ましくは０．０２〜１．０重量部であり、さらに好ましくは０．０５〜０．８重量部である。かかる配合量の範囲であれば、用途に応じ、ポリカーボネート樹脂に十分な耐候性を付与することが可能である。

第３態様のポリカーボネート樹脂は、高屈折率と優れた耐熱性を示し、しかも成形に適した流動性を有する。さらに、低複屈折で光学歪みが起こりづらいため、光学レンズの他に、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、太陽電池等に使用される透明導電性基板、光学ディスク、液晶パネル、光カード、シート、フィルム、光ファイバー、コネクター、蒸着プラスチック反射鏡、ディスプレイなどの光学部品の構造材料または機能材料用途に適した光学用成形体として有利に使用することができる。

光学成形体の表面には、必要に応じ、反射防止層あるいはハードコート層といったコート層が設けられていても良い。反射防止層は、単層であっても多層であっても良く、有機物であっても無機物であっても構わないが、無機物であることが好ましい。具体的には、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタニウム、酸化セリウム、酸化マグネシウム、フッ化マグネシウム等の酸化物あるいはフッ化物が例示される。

（光学レンズ）
第３態様のポリカーボネート樹脂を用いて製造される光学レンズは、高屈折率であり、耐熱性に優れるため、望遠鏡、双眼鏡、テレビプロジェクター等、従来、高価な高屈折率ガラスレンズが用いられていた分野に用いることができ、極めて有用である。必要に応じて、非球面レンズの形で用いることが好ましい。非球面レンズは、１枚のレンズで球面収差を実質的にゼロとすることが可能であるため、複数の球面レンズの組み合わせで球面収差を取り除く必要がなく、軽量化および生産コストの低減化が可能になる。従って、非球面レンズは、光学レンズの中でも特にカメラレンズとして有用である。
さらに、光学レンズは、例えば射出成形法、圧縮成形法、射出圧縮成形法など任意の方法により成形される。第２態様に係る発明により、ガラスレンズでは技術的に加工の困難な高屈折率低複屈折非球面レンズをより簡便に得ることができる。

光学レンズへの異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。

（光学フィルム）
第３態様のポリカーボネート樹脂を用いて製造される光学フィルムは、透明性および耐熱性に優れるため、液晶基板用フィルム、光メモリーカード等に好適に使用される。

光学フィルムへの異物の混入を極力避けるため、成形環境も当然低ダスト環境でなければならず、クラス６以下であることが好ましく、より好ましくはクラス５以下である。
なお、上記光学成形体以外の用途として、光ファイバー、光ディスク、自動車のテールライトやメーターカバーや、シリカなど適当な充填剤を用いた人工大理石等も挙げられる。

＜実施例＞
以下に第３の態様を実施例により説明するが、本発明はこれらの実施例に何らの制限を受けるものではない。なお、実施例中の測定値は以下の方法あるいは装置を用いて測定した。
１）ポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）：ＧＰＣを用い、テトラヒドロフランを展開溶媒として、既知の分子量（分子量分布＝１）の標準ポリスチレンを用いて検量線を作成した。この検量線に基づいて、ＧＰＣのリテンションタイムからＭｗを算出した。
２）屈折率（ｎＤ）：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ０．１ｍｍフィルムについて、アッベ屈折計を用い、ＪＩＳ−Ｋ−７１４２の方法で測定した。
３）アッベ数（ν）：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ０．１ｍｍフィルムについて、アッベ屈折計を用い、２３℃下での波長４８６ｎｍ、５８９ｎｍおよび６５６ｎｍの屈折率を測定し、さらに下記式を用いてアッベ数を算出した。
ν＝（ｎＤ−１）／（ｎＦ−ｎＣ）
ｎＤ：波長５８９ｎｍでの屈折率
ｎＣ：波長６５６ｎｍでの屈折率
ｎＦ：波長４８６ｎｍでの屈折率
４）ガラス転移温度（Ｔｇ）：示差熱走査熱量分析計（ＤＳＣ）により測定した。
５）熱分解開始温度（Ｔｄ）：示差熱天秤（ＴＧ−ＤＴＡ）を使用し、空気気流下、重量が５％減少した温度を測定した。昇温速度は１０℃／ｍｉｎである。
６）配向複屈折（Δｎ）：厚さ０．１ｍｍのキャストフィルムを５．０ｃｍ角の正方形に切出した後、フィルムの両端をチャックに挟み（チャック間３．０ｃｍ）、ポリカーボネート樹脂のＴｇ＋５℃で１．５倍に延伸した。日本分光（株）製エリプソメーターＭ−２２０を用いて５８９ｎｍにおける位相差（Ｒｅ）を測定し、下記式より配向複屈折（Δｎ）を求めた。
Δｎ＝Ｒｅ／ｄ
Δｎ：配向複屈折
Ｒｅ：位相差
ｄ：厚さ
また複屈折符号は、日本分光（株）製エリプソメーターＭ−２２０を用い、上記延伸フィルムの面内で屈折率が最大となる方向を求め、延伸方向との関係から判断した。
複屈折符号が正の場合：延伸方向は、フィルム面内で屈折率が最大となる方向。
複屈折符号が負の場合：延伸方向は、フィルム面内で屈折率が最大となる方向と直交する方向。
７）全光線透過率：実施例で製造したポリカーボネート樹脂からなる厚さ０．１ｍｍフィルムについて、日本電色工業（株）製濁度計ＮＤＨ２０００を用い、ＪＩＳ−Ｋ−７３６１−１の方法で測定した。

（１−１）ポリカーボネート樹脂の製造
（実施例１）
２，２’‐ビス（２‐ヒドロキシエトキシ）‐１，１’‐ビナフチル（以下“ＢＨＥＢＮ”と省略することがある）１３．４ｇ（０．０３５モル）、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル）フルオレン（以下“ＢＰＥＦ”と省略することがある）３５．６ｇ（０．０８１モル）、ジフェニルカーボネート（以下“ＤＰＣ”と省略することがある）２５．０ｇ（０．１１７モル）、および炭酸水素ナトリウム８．８×１０^−５ｇ（１．０×１０^−６モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れ、窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下、１８０℃に加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１１０分間攪拌を行った。その後、減圧度を２００ｍｍＨｇに調整すると同時に、６０℃／ｈｒの速度で２００℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。その後、２０分間その温度に保持して反応を行った。さらに、７５℃ ／ｈｒの速度で２３０℃まで昇温し、昇温終了１０分後、その温度で保持しながら、１時間かけて減圧度を１ｍｍＨｇ以下とした。その後、６０℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、さらに３０分間攪拌下で反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例２）
ＢＨＥＢＮ、ＢＰＥＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ１７．１ｇ（０．０４６モル）、ＢＰＥＦ３０．１ｇ（０．０６９モル）、ＤＰＣ１７．１ｇ（０．０４６モル）および炭酸水素ナトリウム８．７×１０^−５ｇ（１．０×１０^−６モル）に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例３）
ＢＨＥＢＮ、ＢＰＥＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ３０．０ｇ（０．０８０モル）、ＢＰＥＦ１５．１ｇ（０．０３４モル）、ＤＰＣ２５．０ｇ（０．１１７モル）、および炭酸水素ナトリウム８．７×１０^−５ｇ（１．０×１０^−６モル）に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例４）
ＢＨＥＢＮ、ＢＰＥＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ３８．９ｇ（０．１０４モル）、ＢＰＥＦ５．０７ｇ（０．０１２モル）、ＤＰＣ２５．０ｇ（０．１１７モル）、および炭酸水素ナトリウム１．１×１０^−４ｇ（１．３×１０^−６モル）に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例５）
窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下で１８０℃に加熱し、原料の完全溶解を確認後、同条件で１１０分間攪拌を行う操作を、３０分間に短縮した以外は実施例１と同様に行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例６）
ＢＰＥＦ４９．７ｇ（０．１１３モル）、ジフェニルカーボネート２５．０ｇ（０．１１７モル）、および炭酸水素ナトリウム８．７×１０^−５ｇ（１．０×１０^−６モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れ、窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下で１８０℃に加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で２０分間攪拌した。その後、減圧度を２００ｍｍＨｇに調整すると同時に、６０℃／ｈｒの速度で２００℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。その後、２０分間その温度に保持し反応を行った。さらに、７５℃／ｈｒの速度で２３０℃まで昇温し、昇温終了１０分後、その温度で保持しながら、１時間かけて減圧度を１ｍｍＨｇ以下とした。その後、６０℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、さらに３０分間攪拌下で反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（比較例１）
ビスフェノールＡ（以下“ＢＰＡ”と省略することがある）からなるポリカーボネート樹脂として、商品名「ユーピロンＨ−４０００」（三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製；Ｍｗ＝３３，０００、Ｔｇ＝１４８℃）を用いた。

（１−２）光学フィルムの製造
実施例１〜６および比較例１で得られたポリカーボネート樹脂を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度５．３重量％の樹脂溶液を作製した。この樹脂溶液をキャストフィルム作成型に流し込み、塩化メチレン揮発後に剥離、乾燥して、厚み０．１ｍｍのキャストフィルムを作製した。そのキャストフィルムについて、屈折率（ｎＤ）、アッベ数（ν）および全光線透過率を評価した。また、得られたキャストフィルムをＴｇ＋５℃で１．５倍に延伸し、配向複屈折（Δｎ）を評価した。
なお、実施例５で得られたポリカーボネート樹脂は、分子量が低いため脆くキャストフィルム化できなかった。

上述した実施例および比較例で得られた樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）、ガラス転移温度（Ｔｇ）、および熱分解開始温度（Ｔｄ）を測定し、表３−１および表３−２に記載した。また、表３−２における配向複屈折（Δｎ）の評価基準を表３−３に示した。

（２−１）ポリカーボネート樹脂の製造
（実施例７）
２，２´‐ビス（２‐ヒドロキシエトキシ）‐１，１´‐ビナフタレン（以下“ＢＨＥＢＮ”と省略することがある）３．４４ｇ（０．００９モル）、９，９−ビス（４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル）フルオレン（以下“ＢＥＰＦ”と省略することがある）４８．９ｇ（０．０８３モル）、ジフェニルカーボネート（以下“ＤＰＣ”と省略することがある）２０．３ｇ（０．０９５モル）、および炭酸水素ナトリウム１．５×１０^−４ｇ（１．８×１０^−６モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れ、窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下、１８０℃に加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で１１０分間攪拌を行った。その後、減圧度を２００ｍｍＨｇに調整すると同時に、６０℃／ｈｒの速度で２００℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。その後、２０分間その温度に保持して反応を行った。さらに、７５℃／ｈｒの速度で２３０℃まで昇温し、昇温終了１０分後、その温度で保持しながら、１時間かけて減圧度を１ｍｍＨｇ以下とした。その後、６０℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、さらに３０分間攪拌下で反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例８）
ＢＨＥＢＮ、ＢＥＰＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ５．１７ｇ（０．０１４モル）、ＢＥＰＦ１９．０ｇ（０．０３２モル）、ＤＰＣ１０．０ｇ（０．０４７モル）、炭酸水素ナトリウム９．７×１０^−５ｇ（１．２×１０^−６モル）に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例９）
ＢＨＥＢＮ、ＢＥＰＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ１３．８ｇ（０．０３７モル）、ＢＥＰＦ３２．６ｇ（０．０５５モル）、ＤＰＣ２０．０ｇ（０．０９３モル）、炭酸水素ナトリウム１．５×１０^−４ｇ（１．８×１０^−６モル）に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例１０）
ＢＨＥＢＮ、ＢＥＰＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ２４．４ｇ（０．０６５モル）、ＢＥＰＦ１６．５ｇ（０．０２８モル）、ＤＰＣ２０．２ｇ（０．０９４モル）、炭酸水素ナトリウム１．６×１０^−４ｇ（１．９×１０^−６モル）に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例１１）
ＢＨＥＢＮ、ＢＥＰＦ、ＤＰＣおよび炭酸水素ナトリウムの量を、ＢＨＥＢＮ３１．０ｇ（０．０８３モル）、ＢＥＰＦ５．４ｇ（０．００９モル）、ＤＰＣ２０．０ｇ（０．０９３モル）、炭酸水素ナトリウム１．５×１０^−４ｇ（１．８×１０^−６モル）に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（実施例１２）
ＢＥＰＦ５４．３ｇ（０．０９２モル）、ＤＰＣ２０．２ｇ（０．０９４モル）、および炭酸水素ナトリウム１．５×１０^−４ｇ（１．８×１０^−６モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れ、窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下、１８０℃に加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で２０分間攪拌を行った。その後、減圧度を２００ｍｍＨｇに調整すると同時に、６０℃／ｈｒの速度で２００℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。その後、２０分間その温度に保持して反応を行った。さらに、７５℃／ｈｒの速度で２３０℃まで昇温し、昇温終了１０分後、その温度で保持しながら、１時間かけて減圧度を１ｍｍＨｇ以下とした。その後、６０℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、さらに３０分間攪拌下で反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（比較例１）
ビスフェノールＡ（以下“ＢＰＡ”と省略することがある）からなるポリカーボネート樹脂として、商品名「ユーピロンＨ−４０００」（三菱エンジニアリングプラスチックス（株）製；Ｍｗ＝３３，０００、Ｔｇ＝１４８℃）を用いた。

（比較例２）
ＢＨＥＢＮ２４．４ｇ（０．０６５モル）、ＢＰＥＦ１６．５ｇ（０．０２８モル）、ＤＰＣ２０．２ｇ（０．０９４モル）、および炭酸水素ナトリウム１．６×１０^−４ｇ（１．９×１０^−６モル）を攪拌機および留出装置付きの３００ｍｌ四口フラスコに入れ、窒素雰囲気７６０ｍｍＨｇの下、１８０℃に加熱した。加熱開始１０分後に原料の完全溶解を確認し、その後同条件で２０分間攪拌を行った。その後、減圧度を２００ｍｍＨｇに調整すると同時に、６０℃／ｈｒの速度で２００℃まで昇温を行った。この際、副生したフェノールの留出開始を確認した。その後、２０分間その温度に保持して反応を行った。さらに、７５℃ ／ｈｒの速度で２３０℃まで昇温し、昇温終了１０分後、その温度で保持しながら、１時間かけて減圧度を１ｍｍＨｇ以下とした。その後、６０℃／ｈｒの速度で２４０℃まで昇温し、さらに３０分間攪拌下で反応を行った。反応終了後、反応器内に窒素を吹き込んで常圧に戻し、生成したポリカーボネート樹脂を取り出した。

（２−２）光学フィルムの製造
実施例７〜１２、比較例１および２で得られたポリカーボネート樹脂を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度５．３重量％の樹脂溶液を作製した。この樹脂溶液をキャストフィルム作成型に流し込み、塩化メチレン揮発後に剥離、乾燥して、厚み０．１ｍｍのキャストフィルムを作製した。そのキャストフィルムについて、屈折率（ｎＤ）、アッベ数（ν）および全光線透過率を評価した。また、得られたキャストフィルムをＴｇ＋５℃で１．５倍に延伸し、配向複屈折（Δｎ）を評価した。
なお、比較例２で得られたポリカーボネート樹脂は、分子量が低いため脆くキャストフィルム化できなかった。

上述した実施例および比較例で得られた樹脂のポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）、ガラス転移温度（Ｔｇ）、熱分解開始温度（Ｔｄ）を測定し、表３−４および表３−５に記載した。また、表３−５における配向複屈折（Δｎ）の評価基準を表３−６に示した。

Claims (24)

1. 一般式（Ａ）で表される構成単位を有するポリカーボネート樹脂。
   
   （式（Ａ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）
2. 一般式（Ａ）で表される構成単位のみからなる請求項１記載のポリカーボネート樹脂。
3. 請求項１または２に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法であって、一般式（Ｉ）で表される化合物を原料として使用する製造方法。
   
   （式（Ｉ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）
4. 一般式（Ｉ）で表される化合物および炭酸ジエステルを反応させ、モノヒドロキシ化合物を留去することを含む、請求項３記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
5. 前記一般式（Ｉ）で表される化合物と炭酸ジエステルとの反応は、一般式（Ｉ）で表される化合物および炭酸ジエステルを溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物を滞留させた状態で少なくとも３０分反応させることにより行う、請求項４記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
6. さらに、一般式（Ｂ）で表される構成単位を含有する請求項１に記載のポリカーボネート樹脂。
   
   （式（Ｂ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
7. 構成単位（Ａ）と構成単位（Ｂ）とのモル比（Ａ／Ｂ）が２０／８０以上９９／１以下の範囲である請求項６記載のポリカーボネート樹脂。
8. 構成単位（Ａ）が下記式
   
   で表される構成単位（Ａ１）である請求項６または７に記載のポリカーボネート樹脂。
9. 構成単位（Ｂ）が下記式
   
   で表される構成単位（Ｂ１）である請求項６〜８のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂。
10. 構成単位（Ｂ）が下記式
    
    で表される構成単位（Ｂ２）である請求項６〜８のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂。
11. 請求項６〜１０のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法であって、一般式（Ｃ）で表される化合物を原料として使用する製造方法。
    
    （式（Ｃ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）
12. 一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルを反応させ、モノヒドロキシ化合物を留去することを含む請求項１１記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
    
    （式（Ｄ）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
13. さらに一般式（Ｂ’）で表される構成単位を含有する請求項１に記載のポリカーボネート樹脂。
    
    （式（Ｂ’）中、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
14. 一般式（Ａ）で表される構成単位が全構成単位中１〜９９ｍｏｌ％である請求項１３記載のポリカーボネート樹脂。
15. 前記一般式（Ｂ’）で表される構成単位のみからなるポリカーボネート樹脂。
16. 屈折率ｎＤが１．６４０〜１．６８０であり且つアッベ数νが２４以下である請求項１３〜１５のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂。
17. 配向複屈折Δｎが１．０×１０^−３以下である請求項１３〜１６のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂。
18. 昇温速度１０℃／ｍｉｎにて測定した５％重量減少温度が３５０℃以上である請求項１３〜１７のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂。
19. 請求項１３〜１８のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂の製造方法であって、一般式（Ｃ）で表される化合物を原料として使用する製造方法。
    
    （式（Ｃ）中、Ｘは炭素数１〜４のアルキレン基である。）
20. 一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ’）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルを反応させ、モノヒドロキシ化合物を留去することを含む請求項１９記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
    
    （式（Ｄ’）中、Ｒ^１およびＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシル基、炭素数５〜２０のシクロアルキル基、炭素数５〜２０のシクロアルコキシル基、炭素数６〜２０のアリール基または炭素数６〜２０のアリールオキシ基である。）
21. 前記一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ’）で表される化合物ならびに炭酸ジエステルの反応は、一般式（Ｃ）および一般式（Ｄ’）で表される化合物および炭酸ジエステルを溶融後、副生するモノヒドロキシ化合物の留去をせずに滞留させた状態で少なくとも３０分反応させることにより行う請求項２０記載のポリカーボネート樹脂の製造方法。
22. 請求項１、２、６〜１０、および１３〜１８のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂を含む光学成形体。
23. 請求項１、２、６〜１０、および１３〜１８のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂を含む光学レンズ。
24. 請求項１、２、６〜１０、および１３〜１８のいずれか一項に記載のポリカーボネート樹脂を含む光学フィルム。