JPS59201853A - 透明導電性フイルムおよびその製造方法 - Google Patents

透明導電性フイルムおよびその製造方法

Info

Publication number
JPS59201853A
JPS59201853A JP7619783A JP7619783A JPS59201853A JP S59201853 A JPS59201853 A JP S59201853A JP 7619783 A JP7619783 A JP 7619783A JP 7619783 A JP7619783 A JP 7619783A JP S59201853 A JPS59201853 A JP S59201853A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
film
melting point
prepolymer
transparent
acrylate prepolymer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7619783A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6232101B2 (ja
Inventor
節夫 鈴木
高須 信孝
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Bakelite Co Ltd filed Critical Sumitomo Bakelite Co Ltd
Priority to JP7619783A priority Critical patent/JPS59201853A/ja
Publication of JPS59201853A publication Critical patent/JPS59201853A/ja
Publication of JPS6232101B2 publication Critical patent/JPS6232101B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Laminated Bodies (AREA)
  • Non-Insulated Conductors (AREA)
  • Manufacturing Of Electric Cables (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は高分子フィルムを用いた導電性フィルムおよび
その製造方法に係るものであり、更に詳しくは■l湿性
、耐溶剤性、耐摩耗性、導電性(1陵れ、且つ製造作業
性(1優れた透明冑電性フィルムおよびその製造方法口
開するものである。
近年、液晶を用いる表示素子の伸長は著じるしいものが
あり、これに用いられる透明′電極の重要性が1曽しつ
つある。
従来、液晶表示素子用の透明電極としては、薄いガラス
板上に半導体薄膜を形成した謂ゆるネザガラヌが広く用
いられて来たが、素子の薄型化、軽侮、化、沿岸化が要
求され、高分子フィルム上(二半榎体薄膜を形成した透
明電極の検討が広範に行なわれるよう(二なり、一部実
用化され始めている。
然しなから閤分子フィルノ・を用いた心電フィルムは薄
型化、軽)71化、連続製造、打抜きが可能であること
のための世塵化等の要求は満足するものの各朴の問題を
有していることも事実である。
即ち、 (1)液晶の配向処理(−際してのラビング処理工程で
耐摩耗性が悪く表面抵抗が高くなる。
(2)一般にポリエステルフィルムが高分子フィルム支
持体として用いられるが耐熱性(−劣る。
(3)水蒸気透過性の大きい支持体の場合、液晶(1悪
影響を及ぼす。
(4)  高分子支持体によってはエツチング等の加工
(=耐えない場合がある。
(5)光学異方性を有する支持体の場合、光学異方性軸
を偏光板軸と厳密に一致させなくてはならず作業性に劣
る。
等である。
これら欠点を克服する方法として、半尋体層とフィルム
支持体との間C1謂ゆるアンダーコート層を設ける方法
が提案されている。この様な用途で用いるアンダーコー
ト剤としては、一般にエポキン樹脂、メラミン樹脂、ア
ルキッドメラミン樹脂等の熱硬化性樹脂およびアクリル
系プレポリマーをモノマーによって希釈したUV硬化型
樹脂等が提案されている。然しなからアンダコート剤と
して要求される以下の特性を兼備した樹脂は無く。
優れた樹脂が強く望まれて来ている。
即ち、 m  *<塗布することが可能であること。この理由と
してはコーティング厚が厚い場合、フィルムの曲げに際
して表面層の変形が大きくなり、複屈折が生じ易くなる
からであり、アンダーコ) frr’:ば可及的(=薄
いことが望ましい。
(2)  耐熱性が良好であること。この理由としては
液晶素子の袋造工稈(−おいて熱工程があることによる
。フィルム支持体がポリエーテルスルフォン等の耐熱フ
ィルムであっても、アンダーコート層の耐熱性が劣る場
合、耐熱フィルムを使う意味が半減してしまう。
(3)  支持フィルム及び蒸着等によって形成される
半41体膜との密着性が良好である。
(4)支持フィルム上(二重−(二アンダーコートな施
こす必要から、造膜性(1優れた樹脂系であって、塗布
乾燥後は常温(二おいて粘着性の無いこと。この理由と
しては作業性が良好であるためである。
(5)UV硬化樹脂の場合は酸素禁止効果の無いこと。
(6)  アンダーコート硬化層が、エツチング加工等
の際に用いる薬品(二耐える層であること。
(7)  支持フィルムがポリエーテルサルフォンフィ
ルムのように水蒸気透過性の大きいフィルムの場合、水
蒸気バリヤー性を有している硬化層であること。
等の要求性能を満足しなければならない。
発明者らはこれらの性能を兼備したアンダーコート剤を
各種検討した結果1本発明(=到達した。
以下(二本発明の詳細を述べる。
本発明において用いられる高分子フィルムは、可撓性を
有する透明なフィルムであり、ポリエステル、ポリカー
ボネート、セルロース誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリエ
ーテルサルフォン、ポリサルフォン等である。特(1非
品性で光学異方性のない耐熱性の良好なポリサルフォン
、ポリエーテルスルフォン等のフィルムが好んで用いら
れるので、以■の説明はこれらのフィルムを使用する例
(二つき述べる。
周知の如く、ポリサルフォン、ポリエーテルサルフォン
は、前述の液晶電極として優れ′[いるものの、同時(
1水蒸気透過性が非常(二大きい、耐溶剤性に劣る、該
フィルム上に直接半導体層を形成した場合耐摩耗性(1
劣るといった重大欠点を有しており、何らかのアンダー
コート層の必要性があるTヅf以である。
次いで該フィルム上にアンダーコート層を形成せしめる
が、作りト性の点から放射線硬化樹脂、特に紫外線硬化
樹脂系が好ましい。紫外線硬化樹脂系は、例えばエポキ
シアクリレート、ウレタンアクリレート等の謂ゆるプレ
ポリマーを二重結合を有する液状上ツマ−(二溶解せし
め、増感剤を添加せしめて、これを塗布硬化せしめるの
が通例である。然しなから5この様な樹脂系であるとN
膜コートが出来ない上(−1造膜性が無いためはじき等
が生じ、均一コートが回動−であり、加えて薄膜にした
場合酸素禁止効果のため硬化阻害を生じてしまう。更に
加えて造膜性が無いため塗布面が粘着性を有しているた
め非常に取り扱いが難しい。
発明者らは、これらの欠点を克服すべく鋭意研究を重ね
た結果、室温で固形のエポキンアクリレートプレポリマ
ーおよび/またはウレタンアクリレートプレポリマーを
希釈上ツマ−を使用すること無く、溶剤(二溶解せしめ
た塗液を塗布し乾燥させて薄膜を形成した後、紫外線を
照射・硬化せしめること(二より優れたアンダーコート
層の得られることを見い出した。加えてポリエーテルサ
ルフォンの如き耐溶剤性の劣るフィルムであっても、塗
布後可及的速やかに溶剤を除去することが可能なため、
支持フィルムを傷めることが無いと云った副次的効果も
見い出した。極く通常のプレポリマーのみでかかる効果
が得られることは予想もされなかったことである。
本発明で用いられる該プレポリマーは室温状態で固形で
あり、好ましくは作業性の点から融点50℃以上のもの
が好ましい。
またエボキンアクリレートプレボリマーとクレタンアク
リレートプレポリマーを併用することにより優れた効果
を得ることも可能である。
塗布厚み(一ついても溶剤とプレポリマーの混合割合で
廂宜d1■整可能であり、実質的には1〜5μ程度f二
琥1倍することが望ましい。塗布膜もディップυk、バ
ーコーター法、ロールコータ−法等の◇在方法がil(
コ官採用可能である。また増感剤としてはベンゾフェノ
ン、ベンゾインメチルエーテルベンゾインエチルエーテ
ル等が用いられ、溶媒もゴ[1′、l宜選択可能である
かくして得、られ、少くとも支持体透明フィルムの片面
に硬化釜膜が形成されたフィルムの硬化塗!I!’>上
に迫1]J、j半4’J体層が形成される、酪化インジ
ウム、蒙化錫、酢化カドミウム等の酸化物を主体とした
博膜が一般的であり、その膜+)j+4.は50〜50
0 A私・度であり、形成方法はスパンタリング法やイ
オンブレーティング法が好んで用いられる。。
以下に実施例を示す。
実施例 分子b1約1,540、融点70℃のエボキンアクリレ
ートブレポリマー(昭和高分子株式会社製、■几−60
)100重量部、酢酸ブチル400重量部、セロソルブ
アセテート100重量部、ベンゾインエチルエーテル2
重量部を50℃(二で攪拌、溶解して均一な溶液とした
。この溶液を75μm厚のポリエーテルサルフォノフィ
ルム上(=ディップ法により両面(=塗布し、80℃で
10分間加熱して溶媒を除去したところ、室温(二おい
てはタンクフリーなコーテイング膜が均一に形成された
。このコーテイング膜(=80 W/cmの高圧水銀灯
(二より15傭の距離で30秒間紫外線を照射し樹脂層
を硬化せしめた一 次にこのコートフィルムの片面(二酸化インジウムと酸
化錫の混合物を真空中で、電子ビームで加熱しながら蒸
着し、これを空気中で180℃、1時間熱処理すること
により、約30OAの透明導電層を設けた。
この透明導電性フィルムの特性を第1表(二記す。
実施例2 イソンアネート成分としてインポロンジイソンアネート
、ポリオール成分として水累添加とスフエノールA、ア
クリル成分として2−ヒドロギシエテルメタクリレート
を反応させて得られたウレタンアクリレートプレポリマ
ー(分子7約4,000、融点60 ’c ) 30 
’−44cm=、、−、H部、実施例1で用いたエボキ
シアクリレートブレボリマー70重計部、ベンゾインエ
チルエーテル2重t6:部、ブチルカルピトール600
7I’fJ部、ブヅール力ルビトールアセテート150
月4+にト部を50℃にて攪拌、溶解して均一な溶液と
した。この溶液を75μm厚のポリエーテルサルフォノ
フィルム上(ニディップ法(二より両面塗布し、 80
℃で10分1:ij乾燥したところ、室温(二おいては
タックフリーなコーテイング膜が均一(二形成された1
、このコーテイング膜を実が1部1例1と同様な条件で
硬化、引き心″1、ぎ蒸着を行なった。
このようにして得られた透明導電性フィルムの4・、5
性を第1表に記す。
比斡例 実施例1で用いたエポキジアクリレートプレボリマー3
0砕置j1部、トリメチロールプロパントリアクリレ−
F 60 ’jjfi、、 0部、2〜ヒドロキン工チ
ルメタクリレート101Ftfi1部、酢酸ブチル20
ON、@部、セロソルブアセテート50重量部、ベンゾ
インエチルエーテル2重量部を50℃(二で攪拌、溶解
して均一な溶液とした。この溶液を75μfrL厚のポ
リエーテルサルフォノフィルム上(=ディップ法(二よ
り両面塗布し、80℃で10分間乾燥したところ、室温
ではフィルムはべたつくため取り扱いが困M:であり、
また塗布膜厚は不均一であり、且つピンホールの発生が
認められた。実施例1と同様な条件での硬化、蒸着を施
こして得られた透明募電性フィルムの特性を第1表(二
記す。

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)高分子フィルム上の少くとも片面(=、融点50
    ℃以上のエポキシアクリレートプレポリマーおよび/ま
    たは融点50℃以上のウレタンアクリレートプレポリマ
    ーの放射線硬化塗膜がもうけられ、更(=該受膜面上に
    酸化インジウムを主成分とする半導体薄膜が形成されて
    いることを特徴とする透明さび電性フィルム。
  2. (2)融点50℃以上のエポキシアクリレートプレポリ
    マーが次式で示され、且つ1】の値が3す、上のプレポ
    リマーである特許請求の範囲第(1)項記載の透明非電
    性フィルム。 OHす
  3. (3)  融点50℃以上のウレタンアクリレートプレ
    ポリマーが次式で表され、且つnの値が3以上であるプ
    レポリマーである特許請求の範囲第(1)項記載の透明
    導電性フィルム。 几 −R,−QC−C= C)J2 1 CH2= C−C0−塊+0CNI(−R2(冑co−
    馬九0C−C−酎。 0  0   0  0
  4. (4)高分子フィルムがポリエーテルヌルフォンまたは
    ポリスルフォンフィルムである特許請求の範囲第(1)
    項、第(2)項または第(3)項記載の透明等電性フィ
    ルム。
  5. (5)高分子フィルム上の少くとも片面に、融点50℃
    以上のエポキシアクリレートプレポリマーおよび/また
    は融点50℃以上のウレタンアクリレートプレポリ−7
    −および増感剤を溶解せしめた溶液を、塗布乾燥し、予
    め室温下でタックフリーの塗膜を形成せしめた後、該塗
    膜(′−放射線照射を施こし、これを硬化せしめて、ア
    ンダーコート層を形成し、然る後肢コート層上に酸化イ
    ンジウムを主成分とする半導体薄膜を形成することを特
    徴とする透明導電性フィルムの製造方法。
  6. (6)エポキシアクリレートプレポリマーが次式で示す
    プレポリマーである特許請求の範囲第(5)−0−C−
    C=CH2 1
  7. (7)  ウレタンアクリレートプレポリマーが次式で
    示すプレポリマーである特許請求の範囲第(5)項記載
    の製造方法。 −oc−占−CH2
  8. (8)高分子フィルムがポリエーテルスルフォンまたは
    ポリスルフォンフィルムである特許請求の範囲第(5)
    項、第(6)項、または第(力項記載の製造方法。
JP7619783A 1983-05-02 1983-05-02 透明導電性フイルムおよびその製造方法 Granted JPS59201853A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7619783A JPS59201853A (ja) 1983-05-02 1983-05-02 透明導電性フイルムおよびその製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7619783A JPS59201853A (ja) 1983-05-02 1983-05-02 透明導電性フイルムおよびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59201853A true JPS59201853A (ja) 1984-11-15
JPS6232101B2 JPS6232101B2 (ja) 1987-07-13

Family

ID=13598420

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7619783A Granted JPS59201853A (ja) 1983-05-02 1983-05-02 透明導電性フイルムおよびその製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59201853A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60232612A (ja) * 1984-05-02 1985-11-19 東洋紡績株式会社 透明導電膜
JPH09174747A (ja) * 1995-12-25 1997-07-08 Teijin Ltd 透明導電フィルム

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60232612A (ja) * 1984-05-02 1985-11-19 東洋紡績株式会社 透明導電膜
JPH053686B2 (ja) * 1984-05-02 1993-01-18 Toyo Boseki
JPH09174747A (ja) * 1995-12-25 1997-07-08 Teijin Ltd 透明導電フィルム

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6232101B2 (ja) 1987-07-13

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5181142A (en) Plastic lens and method of forming an anti-reflecting layer on a plastic lens
JP3194855B2 (ja) 積層フィルム
JPS59201853A (ja) 透明導電性フイルムおよびその製造方法
JPH11133207A (ja) 光学薄膜および反射防止性物品
JP2013011874A (ja) 眼鏡レンズの製造方法
JPH11211901A (ja) 反射防止性物品
JP4889135B2 (ja) 反射防止膜フィルム
JPS59202229A (ja) 透明コ−テイングフイルムの製造方法
JPS6045952A (ja) 情報記録用ディスク
JP3027315B2 (ja) 積層フィルム
JPH0414444B2 (ja)
JP2001293818A (ja) 反射防止性ハードコートフイルム
JPS60203433A (ja) 透明導電性フイルムの製造方法
JPS6065036A (ja) 透明導電性フイルムの製造方法
JPS6116815A (ja) 光デイスク基板の製造方法
JPS60255969A (ja) 透明導電性フイルムの製造方法
JP2002296407A (ja) 凹凸形成方法及びそれを用いた光学フィルム及びその用途
JPS6127841B2 (ja)
JPS60136043A (ja) 情報記録用デイスクの製造方法
JPS6346236A (ja) 表面処理されたプラスチツク成形品
JPS6345581B2 (ja)
JPH0112664B2 (ja)
JPS6192450A (ja) 光学的記録媒体用基板および基板成形方法
JP3040512B2 (ja) 耐熱性光学用フイルムの製造方法
JPS5917531A (ja) プラスチツクパネル用基板材料