JPH04212732A - 光記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
光記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH04212732A JPH04212732A JP2406249A JP40624990A JPH04212732A JP H04212732 A JPH04212732 A JP H04212732A JP 2406249 A JP2406249 A JP 2406249A JP 40624990 A JP40624990 A JP 40624990A JP H04212732 A JPH04212732 A JP H04212732A
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Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体、特に、レ
ーザー等の高エネルギービームを用いて情報の消去、記
録、再生を行なうことができる光ディスクに関するもの
である。
ーザー等の高エネルギービームを用いて情報の消去、記
録、再生を行なうことができる光ディスクに関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】光記録媒体の両面貼合せあるいは保護基
板もしくは保護シートの貼合せには特公昭６３−６７２
５８にあるように、ホットメルト接着法が一般に用いら
れる。 ホットメルト工法は接着が早く、簡便かつ低コストであ
ることから、光記録媒体の接着に用いられる。ただし、
記録層の上に直接ホットメルト接着剤を塗布し、貼合せ
ることは、接着層を通しての水分等の侵入や、接着剤に
含まれる腐食成分の影響により記録膜が損傷をうけやす
い。そのため特開昭６１−６８７５０では記録層の上に
有機化合物による保護層を設けた後、貼合せることが提
案されている。この有機保護層はスピンコート、ディッ
ピング法等により形成されるが、通常直径数μｍ以上の
気泡を混入してしまう。この気泡はホットメルト接着剤
をロールコートする最に、熱や圧力をうけ、破裂してし
まい、この部分から水分等の侵入がおこり、記録層の劣
化をきたすものであった。
板もしくは保護シートの貼合せには特公昭６３−６７２
５８にあるように、ホットメルト接着法が一般に用いら
れる。 ホットメルト工法は接着が早く、簡便かつ低コストであ
ることから、光記録媒体の接着に用いられる。ただし、
記録層の上に直接ホットメルト接着剤を塗布し、貼合せ
ることは、接着層を通しての水分等の侵入や、接着剤に
含まれる腐食成分の影響により記録膜が損傷をうけやす
い。そのため特開昭６１−６８７５０では記録層の上に
有機化合物による保護層を設けた後、貼合せることが提
案されている。この有機保護層はスピンコート、ディッ
ピング法等により形成されるが、通常直径数μｍ以上の
気泡を混入してしまう。この気泡はホットメルト接着剤
をロールコートする最に、熱や圧力をうけ、破裂してし
まい、この部分から水分等の侵入がおこり、記録層の劣
化をきたすものであった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、気泡が存在
しないか、あるいは存在しても極めて微小であって、上
記問題を起さない有機保護層を有する光記録媒体および
その製造方法を提供しようとするものである。
しないか、あるいは存在しても極めて微小であって、上
記問題を起さない有機保護層を有する光記録媒体および
その製造方法を提供しようとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
の本発明の構成は、（１） 基板上に、記録層および直
径０．１μｍ以上の泡を含まない有機保護層を順次設け
た光記録媒体二枚を、基板が外側になるように、接着層
を介して貼り合わせたものである光記録媒体、（２）
基板上に、記録層および有機保護層を順次設ける光記録
媒体の製造方法において、有機保護層の形成を０．８気
圧以下の環境下で、記録層上に塗布し、塗布したときの
気圧より高い圧力下で硬質化する光記録媒体の製造方法
である。図１に本発明の構成の一例として光磁気記録媒
体を示す。基板１上に第１の誘電層２、磁性層３、第２
の誘電層４、反射層５が設けられ、更に有機保護層６を
設ける。この有機保護層６は直径０．１μｍ以上の泡を
含まないものである。有機保護層６上にホットメルト接
着剤７を塗布し、同じ層構成のもう一枚の光記録媒体を
その基板１が外側になるように貼合せたものである。も
う一枚の光記録媒体の方にはホットメルト接着剤を塗布
しなくても接着することはできる。言うまでもなく、記
録層を設けた基板でなく、保護基板もしくは保護シート
を設けることも可能である。有機保護層としては、一般
に紫外線硬化樹脂が用いられ、アクリルモノマー、ウレ
タンアクリレート、エポキシアクリレート等のアクリレ
ート系の樹脂や光重合性のエポキシ樹脂を用いることが
できる。また、熱硬化性の樹脂を用いることもできる。 次に本発明における有機保護層の形成法について述べる
。一般にスピンコート法、ディッピング法、スプレーコ
ート法、ロールコート法等を用いて上記材料の膜を１〜
１００μｍ形成するが、泡の混入を抑えることは、困難
であった。本発明では塗布環境を０．８気圧以下とし、
塗布時の圧力よりも高い圧力下で、塗膜の硬質化を行な
う。塗布時に混入した気泡は周囲の圧力が上昇すること
により縮小し、所望の範囲の大きさとなる。また、塗布
材料の脱泡や逆スパッタ等表面改質による被塗布面の塗
布材料との親和性向上手段等を併用すると更に効果があ
がる。基板１としてはガラス、アクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリア
レフィン樹脂等が用いられ、これらの樹脂上に直接案内
溝等を設けることもできるし、基板上に光硬化性樹脂層
を設け、この層に案内溝等を設けることもできる。記録
層としては光磁気記録層を例としてあげたがＴｅＯｘ、
ＳｂＧｅＴｅ、ＩｎＳｂＴｅ、ＩｎＳｅ等の相変化型の
記録層にも適用できる。
の本発明の構成は、（１） 基板上に、記録層および直
径０．１μｍ以上の泡を含まない有機保護層を順次設け
た光記録媒体二枚を、基板が外側になるように、接着層
を介して貼り合わせたものである光記録媒体、（２）
基板上に、記録層および有機保護層を順次設ける光記録
媒体の製造方法において、有機保護層の形成を０．８気
圧以下の環境下で、記録層上に塗布し、塗布したときの
気圧より高い圧力下で硬質化する光記録媒体の製造方法
である。図１に本発明の構成の一例として光磁気記録媒
体を示す。基板１上に第１の誘電層２、磁性層３、第２
の誘電層４、反射層５が設けられ、更に有機保護層６を
設ける。この有機保護層６は直径０．１μｍ以上の泡を
含まないものである。有機保護層６上にホットメルト接
着剤７を塗布し、同じ層構成のもう一枚の光記録媒体を
その基板１が外側になるように貼合せたものである。も
う一枚の光記録媒体の方にはホットメルト接着剤を塗布
しなくても接着することはできる。言うまでもなく、記
録層を設けた基板でなく、保護基板もしくは保護シート
を設けることも可能である。有機保護層としては、一般
に紫外線硬化樹脂が用いられ、アクリルモノマー、ウレ
タンアクリレート、エポキシアクリレート等のアクリレ
ート系の樹脂や光重合性のエポキシ樹脂を用いることが
できる。また、熱硬化性の樹脂を用いることもできる。 次に本発明における有機保護層の形成法について述べる
。一般にスピンコート法、ディッピング法、スプレーコ
ート法、ロールコート法等を用いて上記材料の膜を１〜
１００μｍ形成するが、泡の混入を抑えることは、困難
であった。本発明では塗布環境を０．８気圧以下とし、
塗布時の圧力よりも高い圧力下で、塗膜の硬質化を行な
う。塗布時に混入した気泡は周囲の圧力が上昇すること
により縮小し、所望の範囲の大きさとなる。また、塗布
材料の脱泡や逆スパッタ等表面改質による被塗布面の塗
布材料との親和性向上手段等を併用すると更に効果があ
がる。基板１としてはガラス、アクリル樹脂、ポリカー
ボネート樹脂、塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、ポリア
レフィン樹脂等が用いられ、これらの樹脂上に直接案内
溝等を設けることもできるし、基板上に光硬化性樹脂層
を設け、この層に案内溝等を設けることもできる。記録
層としては光磁気記録層を例としてあげたがＴｅＯｘ、
ＳｂＧｅＴｅ、ＩｎＳｂＴｅ、ＩｎＳｅ等の相変化型の
記録層にも適用できる。
【０００５】
【実施例】以下、実施例によって、本発明を具体的に説
明する。
明する。
【０００６】実施例１
案内溝を設けたポリカーボネート基板上にＳｉＮ層１０
００Å、ＴｂＤｙＴｅＣｏ層２５０Å、ＳｉＮ層３００
Å、Ａｌ層５００Åをマグネトロンスパッタ法で設けた
。この基板上に０．５気圧のチャンバー内において、光
硬化性エポキシ樹脂をスピンコートし、大気圧に戻した
後、紫外線を露光し、有機保護膜付の記録媒体を得た。 この有機保護層を顕微鏡で観察したが、０．１μｍ以上
の泡は存在しなかった。更にこの記録媒体２面をホット
メルト接着剤（ＭＵ−１０２、コニシ社）が外側になる
ように貼合せた。こうして得られた貼合せ記録媒体を８
０℃８５％ＲＨ環境下に２０００時間保存したがビット
エラー率は初期値に比べ１．０３倍となっただけであっ
た。
００Å、ＴｂＤｙＴｅＣｏ層２５０Å、ＳｉＮ層３００
Å、Ａｌ層５００Åをマグネトロンスパッタ法で設けた
。この基板上に０．５気圧のチャンバー内において、光
硬化性エポキシ樹脂をスピンコートし、大気圧に戻した
後、紫外線を露光し、有機保護膜付の記録媒体を得た。 この有機保護層を顕微鏡で観察したが、０．１μｍ以上
の泡は存在しなかった。更にこの記録媒体２面をホット
メルト接着剤（ＭＵ−１０２、コニシ社）が外側になる
ように貼合せた。こうして得られた貼合せ記録媒体を８
０℃８５％ＲＨ環境下に２０００時間保存したがビット
エラー率は初期値に比べ１．０３倍となっただけであっ
た。
【０００７】比較例１
実施例１と同様にして得られた記録層上に大気圧下で光
硬化性エポキシ樹脂をスピンコートし、紫外線を露光し
た。顕微鏡の観察では０．５〜２μｍサイズの泡が１ｃ
ｍ２あたり平均１０個存在した。実施例１と同様に貼合
せた後８０℃８５％ＲＨ２０００時間保存したところ、
ビットエラー率は初期値の５倍に増加した。
硬化性エポキシ樹脂をスピンコートし、紫外線を露光し
た。顕微鏡の観察では０．５〜２μｍサイズの泡が１ｃ
ｍ２あたり平均１０個存在した。実施例１と同様に貼合
せた後８０℃８５％ＲＨ２０００時間保存したところ、
ビットエラー率は初期値の５倍に増加した。
【０００８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の有機保護
膜は、０．１μｍ以上の気泡を含まないため、後工程の
ホットメルト工程において、膜の破れをひきおこさず、
高い信頼性が得られる。又、本発明の製造方法によれば
０．８気圧以下の減圧環境下で有機保護膜材料を塗布し
、更に塗布時の気圧よりも高い圧力下で硬質化させるこ
とにより、泡の存在しない有機保護膜を形成できるよう
になった。
膜は、０．１μｍ以上の気泡を含まないため、後工程の
ホットメルト工程において、膜の破れをひきおこさず、
高い信頼性が得られる。又、本発明の製造方法によれば
０．８気圧以下の減圧環境下で有機保護膜材料を塗布し
、更に塗布時の気圧よりも高い圧力下で硬質化させるこ
とにより、泡の存在しない有機保護膜を形成できるよう
になった。
【図１】本発明の記録媒体の一具体例を示す断面の模式
図。
図。
１ 基板
２ 第１の誘電層
３ 磁性層
４ 第２の誘電層
５ 反射層
６ 有機保護層
７ ホットメルト接着層
Claims (2)
- 【請求項１】 基板上に、記録層および直径０．１μ
ｍ以上の泡を含まない有機保護層を順次設けた光記録媒
体二枚を、基板が外側になるように、接着層を介して貼
り合わせたものであることを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】 基板上に、記録層および有機保護層を
順次設ける光記録媒体の製造方法において、有機保護層
の形成を０．８気圧以下の環境下で、記録層上に塗布し
、塗布したときの気圧より高い圧力下で硬質化すること
を特徴とする光記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2406249A JPH04212732A (ja) | 1990-12-07 | 1990-12-07 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2406249A JPH04212732A (ja) | 1990-12-07 | 1990-12-07 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04212732A true JPH04212732A (ja) | 1992-08-04 |
Family
ID=18515864
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2406249A Pending JPH04212732A (ja) | 1990-12-07 | 1990-12-07 | 光記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04212732A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0844608A2 (en) * | 1996-11-20 | 1998-05-27 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
| US6168682B1 (en) | 1998-02-10 | 2001-01-02 | 3M Innovative Properties Company | Method of manufacturing an optical recording medium |
-
1990
- 1990-12-07 JP JP2406249A patent/JPH04212732A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0844608A2 (en) * | 1996-11-20 | 1998-05-27 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
| EP0844608A3 (en) * | 1996-11-20 | 1999-09-08 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
| US6445676B1 (en) | 1996-11-20 | 2002-09-03 | Taiyo Yuden Co., Ltd. | Optical information medium |
| US6168682B1 (en) | 1998-02-10 | 2001-01-02 | 3M Innovative Properties Company | Method of manufacturing an optical recording medium |
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