JPH0378698B2 - - Google Patents
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Description
（技術分野）
本発明はレーザー光の反射または透過により信
号の記録・再生を行う光学式情報記録体に関す
る。 （従来技術） 従来、ビデオテイクス、オーデオデイスク、情
報フアイルボツクス等の光学式デイスの基板用材
料としては、ポリメチルメタクリレート、ポリカ
ーボネート等の透明性に優れた合成樹脂が使われ
ている。 しかしながら、ポリメチルメタクリレートは、
成型加工性と強度に優れているが、耐透湿性に劣
り、片面に記録層が設けられ、該記録層上にアル
ミニウム等の反射膜が設けられた光学式デイスク
の記録層からの侵入は反射膜により阻止される
が、記録層が設けられていない方の片面から水分
の侵入があるため、高湿下では、成形品にそりが
生じ信号の読み取りに誤差が生じたり、また、吸
湿と乾燥との繰り返しにより、ポリメチルメタア
クリレートと反射膜との間に剥離が生じるという
欠点がある。この点を改善するため、例えば特開
昭58−32238号公報に記載の如く、透明樹脂基板
の一面に、不透湿性の記録媒体層または反射膜
を、他面にCaF2、SiO2の不透湿膜を設けること
により、デイスク周囲の温度、湿度変形に対し安
定化させることが提案されているが、耐透湿性は
十分でなく、前記欠点を解消するに至つていな
い。 また、ポリカーボネートは、成形加工性が悪
く、成形時の歪が樹脂中に残り、複屈折が生じや
すく、大形のデイスクには使用できないという欠
点がある。 （発明の目的） 本発明は、叙上の如き従来の欠点を解消し、透
明性、成形性、に優れ、複屈折がなく、且つ耐透
湿性に優れた光学式情報記録体を提供することを
目的としてなされたものである。 （発明の要旨） 本発明の要旨は、一面に記録層が設けられた透
明な合成樹脂基板の記録層が設けられていない方
の面に、マグネシウム酸化物の透明薄膜層が形成
され、該透明薄膜層上にSiO2、B2O3、BaO、
Al2O3がモル比で、（SiO2）：（B2O3）：（BaO＋
Al2O3）＝２〜４：１〜２：３〜１とされたアモ
フアス状透明薄膜層が形成されてなる光学式情報
記録体に存する。 （発明の構成） 第１図に図示する如き、ポリメチルアクリレー
ト等の透明な合成樹脂基板１の一面に信号トラツ
ク溝１が形成された如き記録層２が設けられ、記
録層２上にアルミニウム等の反射膜３が形成さ
れ、反射膜３上に保護膜４が形成されている。合
成樹脂板１の記録層２が設けられていない方の面
に、マグネシウム酸化物の透明薄膜層５が形成さ
れ、透明薄膜層５上にSiO2、B2O3、BaO、
Al2O3からなるアモルフアス状透明薄膜層６が形
成されている。 マグネシウム酸化物の透明薄膜層は、真空蒸着
やマグネシウムの反応蒸着により形成される。真
空蒸着では、蒸着物質として酸化マグネシウムが
採用され、これを電子銃で加熱蒸着される。反応
蒸着の方法は、真空層内に酸素ガスを導入しなが
ら金属マグネシウムを加熱蒸発させ、マグネシウ
ム酸化物薄膜層を形成する。いずれの場合も、耐
透湿性を向上させるためにH2Oなどのガスを導
入しながら、マグネシウム酸化物の透明薄膜層を
形成することも可能である。 アモルフアス状透明薄膜層はSiO2、B2O3、
BaO、Al2O3がモル比で（SiO2）：（B2O3）：
（BaO＋Al2O3）＝２〜４：１〜２：0.3〜１となさ
れた組成物からなる。BaOとAl2O3は、その一方
が実質的に含まれなくてもよい。 アモルフアス状透明薄膜層の上記の組成に
Na2Oなどのアルカリ金属の酸化物が多量に入る
と、その親水性のために耐透湿性は損われ、真空
蒸着を行うにも組成が変動しやすい欠点が生じ
る。 また、アモルフアス状透明薄膜層のモル比が、
上記の範囲を外れると、層分離を起しやすくな
り、耐透湿性が悪化し、（BaO＋Al2O3）の量が
小さくなると耐透湿性が劣る傾向となる。 上記酸化組成物を酸化マグネシウムの透明薄膜
層上に形成する方法として最も好ましいのはスパ
ツタリングであり、スパツクリングのターゲツト
を上記の組成とすることでほぼ同じ組成のアモル
フアス状透明薄膜層を形成することができる。ま
た、真空蒸着法、イオンプレーテイング法によつ
ても、上記組成のアモルフアス状透明薄膜層を形
成することができる。真空蒸着の場合は、蒸気圧
の異なる混合物質をそのままの組成で薄膜層を形
成するのは困難であるとされている。しかし、本
発明者等は上気組成物を予め電子炉で熔融しガラ
ス化したものを蒸発材として使用し、電気銃方式
で蒸発させれば、略同じ組成の蒸発膜が得られる
ことを確認した。また、一般に混合物を真空蒸着
する時に用いられるフラツシユ蒸着法によつて
も、上気の組成の蒸着膜を形成することができ
る。 本発明においては、合成樹脂基板上に、酸化マ
グネシウムの透明薄膜層とSiO、B2O3、BaO、
Al2O3がモル比で（SiO2）：（B2O3）：（BaO＋
Al2O3）＝２〜４：１〜２：0.3〜１とされた組成
物からなるアモルフアス状透明薄膜層が順次形成
されている点に特徴がある。酸化マグネシウムの
透明薄膜は、Ｘ線回折、RHEED（反射型高速電
子線回折）、SEM（走査電子顕微鏡）等の観察結
果から、多結晶薄膜となつており、水や酸素等は
結晶の粒界を拡散して透過すると推定できるが、
そこにアモルフアス状透明薄膜層が積層されてい
るため、その粒界の通路が遮蔽されて、耐透湿
性、耐ガス透過性が格段改善されるものと推察さ
れる。尚、酸化マグネシウムは水分と直接接する
と水酸化マグネシウムに変化する可能性があり、
また、アモルフアス状透明薄膜の強度は引つ掻き
等に対して傷がつきにくく、表面保護はなくても
よいという特性があり、上記の両層を逆に形成す
るのは問題がある。アモルフアス状透明薄膜層上
に更に保護膜を形成するのは何らかまわない。 マグネシウム酸化物の透明薄膜層及びアモルフ
アス状透明薄膜層の厚みは、それぞれ、100Å以
上でなければ一様な連続膜が形成されにくいた
め、100Å以上必要である。また両層の合計厚み
が5000Åを越えると透明性を損うことはないが、
亀裂や剥離が生じやすくなるので好ましくない。 （発明の効果） 本発明光学式情報記録体は、叙上の如き構成と
されているので、透明合成樹脂基板の諸特性を害
することなく、しかも、耐透湿性は著しく小さ
く、高温、高湿化においても反りが生じることは
殆んどない。 （実施例） 以下に本発明の実施例を示す。 実施例 １ 厚さ２mm、縦120mm、横120mmの大きさのポリメ
チルメタアクリレート基板の一面に、真空槽内で
真空度５×10-5TORRに排気した状態で、純度
99.9％の酸化マグネシウムを電子ビーム加熱方式
により、成膜速度約100Å／secで厚み500Åのマ
グネシウム酸化物の透明薄膜層を形成した。マグ
ネシウム酸化物の透明薄膜層上に、SiO、B2O3、
BaO、Al2O3がモル比で（SiO2）：（B2O3）：
（BaO）：（Al2O3）＝３：１：0.67：0.33とした酸
化物の混合物を電気炉で溶解しガラス化したもの
を、真空度５×10-5TORRの状態で、電子ビーム
加熱方式により、成膜速度約100Å／secで厚み
500Åのアモルフアス状透明薄膜層を形成した。 両層の厚みは水晶発振式のモニターにより計測
した。透明薄膜層の組成は、Ｘ線マイクロアナラ
イザーで分折したところ、当初の混合物の組成と
略同等であつた。 形成された両層の密着性はJISD−0202で確認
したが非常に良好であつた。 このポリメチルメタクリレート基板の両層が蒸
着されていない方の面に及び周囲にアルミニウム
を1500Åに蒸着し、その上に保護層をコートし
て、両層が蒸着された面以外の部分からの水の侵
入を遮断した試料を作成した。 この試料の吸水後の反り、全光線透過率、曇
価、および複屈折率を測定した。その結果を第１
表に示す。 尚、吸水後の反りは、試料を20℃の水中に浸漬
し、72時間後の中央部の反りを測定した。また、
全光線透過率はASTMD−1003の方法により測
定した。また、曇化はASTMD−1003の方法に
より測定した。また、複屈折の有無は試料を２枚
の偏光板の間にはさみ、可視光を透過して干渉稿
を観察することにより調べた。 実施例 ２ 実施例１に準じて、ポリメチルメタアクリレー
ト基板の一面に厚み500Åのマグネシウム酸化物
の透明薄膜層を形成し、その層上に厚み1000Åの
アモルフアス状透明薄膜層を形成し、それ以外は
実施例１と同様とした試料を作成し、この試料に
ついて実施例１と同様の測定を行つた。その結果
を第１表に併せて示す。 実施例 ３ 実施例１に準じて、ポリメチルメタアクリレー
ト基板の一面に厚み500Åのマグネシウム酸化物
の透明薄膜層を形成し、その層上にSiO2、B2O3、
BaO、Al2O3がモル比で（SiO2）：（B2O3）：
（BaO）：（Al2O3）＝４：２：0.75：0.25とした酸
化物の混合物により実施例１に準じて厚み500Å
のアモルフアス状透明薄膜層を形成し、それ以外
は実施例１と同様とした試料を作成し、この試料
について実施例１と同様の測定を行つた。その結
果を第１表に併せて示す。 比較例 １ 厚み２mm、縦120mm、横120mmの大きさのポリメ
チルメタアクリレート基板の何も処理していない
試料について、実施例１と同様の測定を行なつ
た。その結果を第１表に併せて示す。 比較列 ２ 実施例１に準じて、ポリメチルメタアクリレー
ト基板の一面に厚み500Åのマグネシウム酸化物
の透明薄膜層を形成し、その層上にアモルフアス
状透明薄膜層を設けない以外は実施例１と同様と
した試料を作成し、この試料について実施例１と
同様の測定を行つた。その結果を第１表に併せて
示す。 比較例 ３ 厚み２mm、縦120mm、横120mmの大きさのポリメ
チルメタアクリレート基板の一面上に、SiO、
B2O3、BaO、Al2O3がモル比で（SiO2）：
（B2O3）：（BaO）：（Al2O3）＝３：１：0.67：0.33
とした酸化物の混合物により、実施例１に準じ
て、厚み500Åのアモルフアス状透明薄膜層を形
成し、それ以外は実施例１と同様としと試料を作
成し、この試料について実施例１と同様の測定を
行つた。その結果を第１表に併せて示す。 比較例 ４ 厚み２mm、縦120mm、横120mmの大きさのポリメ
チルメタアクリレート基板の一面上に、純度99.9
％のSiO2を電気炉で溶解しガラス化したものを、
真空度５×10-5TORRの状態で、電子ビーム加熱
方式により、成膜速度約100Åの透明保護膜層を
形成し、その層が蒸着された面以外を実施例１に
準じ保護層をコートした試料を作成し、この試料
について、実施例１と同様の測定を行なつた。そ
の結果を第１表に併せて示す。
号の記録・再生を行う光学式情報記録体に関す
る。 （従来技術） 従来、ビデオテイクス、オーデオデイスク、情
報フアイルボツクス等の光学式デイスの基板用材
料としては、ポリメチルメタクリレート、ポリカ
ーボネート等の透明性に優れた合成樹脂が使われ
ている。 しかしながら、ポリメチルメタクリレートは、
成型加工性と強度に優れているが、耐透湿性に劣
り、片面に記録層が設けられ、該記録層上にアル
ミニウム等の反射膜が設けられた光学式デイスク
の記録層からの侵入は反射膜により阻止される
が、記録層が設けられていない方の片面から水分
の侵入があるため、高湿下では、成形品にそりが
生じ信号の読み取りに誤差が生じたり、また、吸
湿と乾燥との繰り返しにより、ポリメチルメタア
クリレートと反射膜との間に剥離が生じるという
欠点がある。この点を改善するため、例えば特開
昭58−32238号公報に記載の如く、透明樹脂基板
の一面に、不透湿性の記録媒体層または反射膜
を、他面にCaF2、SiO2の不透湿膜を設けること
により、デイスク周囲の温度、湿度変形に対し安
定化させることが提案されているが、耐透湿性は
十分でなく、前記欠点を解消するに至つていな
い。 また、ポリカーボネートは、成形加工性が悪
く、成形時の歪が樹脂中に残り、複屈折が生じや
すく、大形のデイスクには使用できないという欠
点がある。 （発明の目的） 本発明は、叙上の如き従来の欠点を解消し、透
明性、成形性、に優れ、複屈折がなく、且つ耐透
湿性に優れた光学式情報記録体を提供することを
目的としてなされたものである。 （発明の要旨） 本発明の要旨は、一面に記録層が設けられた透
明な合成樹脂基板の記録層が設けられていない方
の面に、マグネシウム酸化物の透明薄膜層が形成
され、該透明薄膜層上にSiO2、B2O3、BaO、
Al2O3がモル比で、（SiO2）：（B2O3）：（BaO＋
Al2O3）＝２〜４：１〜２：３〜１とされたアモ
フアス状透明薄膜層が形成されてなる光学式情報
記録体に存する。 （発明の構成） 第１図に図示する如き、ポリメチルアクリレー
ト等の透明な合成樹脂基板１の一面に信号トラツ
ク溝１が形成された如き記録層２が設けられ、記
録層２上にアルミニウム等の反射膜３が形成さ
れ、反射膜３上に保護膜４が形成されている。合
成樹脂板１の記録層２が設けられていない方の面
に、マグネシウム酸化物の透明薄膜層５が形成さ
れ、透明薄膜層５上にSiO2、B2O3、BaO、
Al2O3からなるアモルフアス状透明薄膜層６が形
成されている。 マグネシウム酸化物の透明薄膜層は、真空蒸着
やマグネシウムの反応蒸着により形成される。真
空蒸着では、蒸着物質として酸化マグネシウムが
採用され、これを電子銃で加熱蒸着される。反応
蒸着の方法は、真空層内に酸素ガスを導入しなが
ら金属マグネシウムを加熱蒸発させ、マグネシウ
ム酸化物薄膜層を形成する。いずれの場合も、耐
透湿性を向上させるためにH2Oなどのガスを導
入しながら、マグネシウム酸化物の透明薄膜層を
形成することも可能である。 アモルフアス状透明薄膜層はSiO2、B2O3、
BaO、Al2O3がモル比で（SiO2）：（B2O3）：
（BaO＋Al2O3）＝２〜４：１〜２：0.3〜１となさ
れた組成物からなる。BaOとAl2O3は、その一方
が実質的に含まれなくてもよい。 アモルフアス状透明薄膜層の上記の組成に
Na2Oなどのアルカリ金属の酸化物が多量に入る
と、その親水性のために耐透湿性は損われ、真空
蒸着を行うにも組成が変動しやすい欠点が生じ
る。 また、アモルフアス状透明薄膜層のモル比が、
上記の範囲を外れると、層分離を起しやすくな
り、耐透湿性が悪化し、（BaO＋Al2O3）の量が
小さくなると耐透湿性が劣る傾向となる。 上記酸化組成物を酸化マグネシウムの透明薄膜
層上に形成する方法として最も好ましいのはスパ
ツタリングであり、スパツクリングのターゲツト
を上記の組成とすることでほぼ同じ組成のアモル
フアス状透明薄膜層を形成することができる。ま
た、真空蒸着法、イオンプレーテイング法によつ
ても、上記組成のアモルフアス状透明薄膜層を形
成することができる。真空蒸着の場合は、蒸気圧
の異なる混合物質をそのままの組成で薄膜層を形
成するのは困難であるとされている。しかし、本
発明者等は上気組成物を予め電子炉で熔融しガラ
ス化したものを蒸発材として使用し、電気銃方式
で蒸発させれば、略同じ組成の蒸発膜が得られる
ことを確認した。また、一般に混合物を真空蒸着
する時に用いられるフラツシユ蒸着法によつて
も、上気の組成の蒸着膜を形成することができ
る。 本発明においては、合成樹脂基板上に、酸化マ
グネシウムの透明薄膜層とSiO、B2O3、BaO、
Al2O3がモル比で（SiO2）：（B2O3）：（BaO＋
Al2O3）＝２〜４：１〜２：0.3〜１とされた組成
物からなるアモルフアス状透明薄膜層が順次形成
されている点に特徴がある。酸化マグネシウムの
透明薄膜は、Ｘ線回折、RHEED（反射型高速電
子線回折）、SEM（走査電子顕微鏡）等の観察結
果から、多結晶薄膜となつており、水や酸素等は
結晶の粒界を拡散して透過すると推定できるが、
そこにアモルフアス状透明薄膜層が積層されてい
るため、その粒界の通路が遮蔽されて、耐透湿
性、耐ガス透過性が格段改善されるものと推察さ
れる。尚、酸化マグネシウムは水分と直接接する
と水酸化マグネシウムに変化する可能性があり、
また、アモルフアス状透明薄膜の強度は引つ掻き
等に対して傷がつきにくく、表面保護はなくても
よいという特性があり、上記の両層を逆に形成す
るのは問題がある。アモルフアス状透明薄膜層上
に更に保護膜を形成するのは何らかまわない。 マグネシウム酸化物の透明薄膜層及びアモルフ
アス状透明薄膜層の厚みは、それぞれ、100Å以
上でなければ一様な連続膜が形成されにくいた
め、100Å以上必要である。また両層の合計厚み
が5000Åを越えると透明性を損うことはないが、
亀裂や剥離が生じやすくなるので好ましくない。 （発明の効果） 本発明光学式情報記録体は、叙上の如き構成と
されているので、透明合成樹脂基板の諸特性を害
することなく、しかも、耐透湿性は著しく小さ
く、高温、高湿化においても反りが生じることは
殆んどない。 （実施例） 以下に本発明の実施例を示す。 実施例 １ 厚さ２mm、縦120mm、横120mmの大きさのポリメ
チルメタアクリレート基板の一面に、真空槽内で
真空度５×10-5TORRに排気した状態で、純度
99.9％の酸化マグネシウムを電子ビーム加熱方式
により、成膜速度約100Å／secで厚み500Åのマ
グネシウム酸化物の透明薄膜層を形成した。マグ
ネシウム酸化物の透明薄膜層上に、SiO、B2O3、
BaO、Al2O3がモル比で（SiO2）：（B2O3）：
（BaO）：（Al2O3）＝３：１：0.67：0.33とした酸
化物の混合物を電気炉で溶解しガラス化したもの
を、真空度５×10-5TORRの状態で、電子ビーム
加熱方式により、成膜速度約100Å／secで厚み
500Åのアモルフアス状透明薄膜層を形成した。 両層の厚みは水晶発振式のモニターにより計測
した。透明薄膜層の組成は、Ｘ線マイクロアナラ
イザーで分折したところ、当初の混合物の組成と
略同等であつた。 形成された両層の密着性はJISD−0202で確認
したが非常に良好であつた。 このポリメチルメタクリレート基板の両層が蒸
着されていない方の面に及び周囲にアルミニウム
を1500Åに蒸着し、その上に保護層をコートし
て、両層が蒸着された面以外の部分からの水の侵
入を遮断した試料を作成した。 この試料の吸水後の反り、全光線透過率、曇
価、および複屈折率を測定した。その結果を第１
表に示す。 尚、吸水後の反りは、試料を20℃の水中に浸漬
し、72時間後の中央部の反りを測定した。また、
全光線透過率はASTMD−1003の方法により測
定した。また、曇化はASTMD−1003の方法に
より測定した。また、複屈折の有無は試料を２枚
の偏光板の間にはさみ、可視光を透過して干渉稿
を観察することにより調べた。 実施例 ２ 実施例１に準じて、ポリメチルメタアクリレー
ト基板の一面に厚み500Åのマグネシウム酸化物
の透明薄膜層を形成し、その層上に厚み1000Åの
アモルフアス状透明薄膜層を形成し、それ以外は
実施例１と同様とした試料を作成し、この試料に
ついて実施例１と同様の測定を行つた。その結果
を第１表に併せて示す。 実施例 ３ 実施例１に準じて、ポリメチルメタアクリレー
ト基板の一面に厚み500Åのマグネシウム酸化物
の透明薄膜層を形成し、その層上にSiO2、B2O3、
BaO、Al2O3がモル比で（SiO2）：（B2O3）：
（BaO）：（Al2O3）＝４：２：0.75：0.25とした酸
化物の混合物により実施例１に準じて厚み500Å
のアモルフアス状透明薄膜層を形成し、それ以外
は実施例１と同様とした試料を作成し、この試料
について実施例１と同様の測定を行つた。その結
果を第１表に併せて示す。 比較例 １ 厚み２mm、縦120mm、横120mmの大きさのポリメ
チルメタアクリレート基板の何も処理していない
試料について、実施例１と同様の測定を行なつ
た。その結果を第１表に併せて示す。 比較列 ２ 実施例１に準じて、ポリメチルメタアクリレー
ト基板の一面に厚み500Åのマグネシウム酸化物
の透明薄膜層を形成し、その層上にアモルフアス
状透明薄膜層を設けない以外は実施例１と同様と
した試料を作成し、この試料について実施例１と
同様の測定を行つた。その結果を第１表に併せて
示す。 比較例 ３ 厚み２mm、縦120mm、横120mmの大きさのポリメ
チルメタアクリレート基板の一面上に、SiO、
B2O3、BaO、Al2O3がモル比で（SiO2）：
（B2O3）：（BaO）：（Al2O3）＝３：１：0.67：0.33
とした酸化物の混合物により、実施例１に準じ
て、厚み500Åのアモルフアス状透明薄膜層を形
成し、それ以外は実施例１と同様としと試料を作
成し、この試料について実施例１と同様の測定を
行つた。その結果を第１表に併せて示す。 比較例 ４ 厚み２mm、縦120mm、横120mmの大きさのポリメ
チルメタアクリレート基板の一面上に、純度99.9
％のSiO2を電気炉で溶解しガラス化したものを、
真空度５×10-5TORRの状態で、電子ビーム加熱
方式により、成膜速度約100Åの透明保護膜層を
形成し、その層が蒸着された面以外を実施例１に
準じ保護層をコートした試料を作成し、この試料
について、実施例１と同様の測定を行なつた。そ
の結果を第１表に併せて示す。
【表】
【表】
第１表からも明らかな如く、実施例１〜３の場
合は、比較例１〜４の場合と比べて、反りが著し
く小さく、全光線透過率が高く、且つ曇価、複屈
折透は劣ることがない。
合は、比較例１〜４の場合と比べて、反りが著し
く小さく、全光線透過率が高く、且つ曇価、複屈
折透は劣ることがない。
第１図は本発明の一例を示す断面図である。
符号の説明、１……合成樹脂基板、２……記録
層、３……反射膜、４……保護膜、５……マグネ
シウム酸化物の透明薄膜層、６……アモルフアス
状透明薄膜層。
層、３……反射膜、４……保護膜、５……マグネ
シウム酸化物の透明薄膜層、６……アモルフアス
状透明薄膜層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一面に記録層が設けられた透明な合成樹脂基
板の、記録層が設けられていない方の面に、マグ
ネシウム酸化物の透明薄膜層が形成され、該透明
薄膜層上にSiO2、B2O3、BaO、Al2O3がモル比
で、（SiO2）：（B2O3）：BaO＋Al2O3）＝２〜４：
１〜２：３〜１とされた組成物のアモルフアス状
透明薄膜層が形成されてなる光学式情報記録体。 ２ 合成樹脂基板がポリメチルメタクリレートで
ある特許請求の範囲第１項記載の光学式情報記録
体。 ３ マグネシウム酸化物の透明薄膜層とアモルフ
アス状透明薄膜層の合計の厚みが200〜5000Åで
ある特許請求の範囲第１項記載の光学式情報記録
体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59141244A JPS6120243A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 光学式情報記録体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59141244A JPS6120243A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 光学式情報記録体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6120243A JPS6120243A (ja) | 1986-01-29 |
| JPH0378698B2 true JPH0378698B2 (ja) | 1991-12-16 |
Family
ID=15287434
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59141244A Granted JPS6120243A (ja) | 1984-07-06 | 1984-07-06 | 光学式情報記録体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6120243A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006003572A2 (en) * | 2004-06-28 | 2006-01-12 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Optical data storage medium and combi-foil cover for the production thereof |
| CN112142498B (zh) * | 2020-09-15 | 2022-07-19 | 上海富乐华半导体科技有限公司 | 一种dbc基板两面铜箔同时烧结时用的垫板及其制备方法 |
-
1984
- 1984-07-06 JP JP59141244A patent/JPS6120243A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6120243A (ja) | 1986-01-29 |
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