JPS6231045A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体Info
- Publication number
- JPS6231045A JPS6231045A JP60168608A JP16860885A JPS6231045A JP S6231045 A JPS6231045 A JP S6231045A JP 60168608 A JP60168608 A JP 60168608A JP 16860885 A JP16860885 A JP 16860885A JP S6231045 A JPS6231045 A JP S6231045A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- intermediate layer
- substrate
- metal
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はレーザー光等のエネルギー線を照射することに
よって、記録層の状態を変化させることにより、光学的
に情報の記録、再生を行うのに適した光記録媒体に関し
、特に上記記録層の経時変化を抑えるための改良された
保護層を有する光記録媒体に関するものである。
よって、記録層の状態を変化させることにより、光学的
に情報の記録、再生を行うのに適した光記録媒体に関し
、特に上記記録層の経時変化を抑えるための改良された
保護層を有する光記録媒体に関するものである。
光ディスク等の光記録媒体に要求される性質としては、
記録感度が高いこと、再生信号のＳＮ比が高いこと、保
存安定性がすぐれていること等が挙げられる。
記録感度が高いこと、再生信号のＳＮ比が高いこと、保
存安定性がすぐれていること等が挙げられる。
レーザー光照射部の温度上昇により記録層に物理的ある
いは化学的な変化を生じ、その光照射された部分の光学
的特性が変化することによって情報が記録される光記録
媒体は、−ｇにピットを形成するタイプにおいてはＴｅ
ｓ Ｂｉｓ Ｓｎ等、磁気光学効果を利用するタイプに
おいては主に希土類−遷移金属合金の薄膜よりなる記録
層を透明な基板上に蒸着やスパッタリング等の方法で設
けることにより得られる。
いは化学的な変化を生じ、その光照射された部分の光学
的特性が変化することによって情報が記録される光記録
媒体は、−ｇにピットを形成するタイプにおいてはＴｅ
ｓ Ｂｉｓ Ｓｎ等、磁気光学効果を利用するタイプに
おいては主に希土類−遷移金属合金の薄膜よりなる記録
層を透明な基板上に蒸着やスパッタリング等の方法で設
けることにより得られる。
さらに実用的には、記録層を保護するために、第１図に
示すように、記録層が互いに内側に位置する状態で上記
の基板を貼合わせてなるエアーサンドイッチ構造の記録
媒体として用いられることが多い、従来、この光記録媒
体に用いられる透明基板材料としてはガラスやプラスチ
ック等が用いられている。特に、プラスチック基板は割
れにくく、しかも軽量、安価であるといった長所を有す
るため、光記録媒体用の基板として広く用いられている
。
示すように、記録層が互いに内側に位置する状態で上記
の基板を貼合わせてなるエアーサンドイッチ構造の記録
媒体として用いられることが多い、従来、この光記録媒
体に用いられる透明基板材料としてはガラスやプラスチ
ック等が用いられている。特に、プラスチック基板は割
れにくく、しかも軽量、安価であるといった長所を有す
るため、光記録媒体用の基板として広く用いられている
。
（従来技術と問題点）
しかしながら、プラスチック基板は吸水率、透水率およ
び酸素透過率が高いため、透過した水分や酸素により記
録層が早期に劣化し、ノイズの増加や感度低下を生じる
といった問題を有している。この対策として、従来より
プラスチック基板の記録層が存在する側とは反対の面、
もしくは基板と記録層との間にＳｉＯ□や＾１２０１等
の金属酸化物やポリマー等の有機物よりなる保護膜を設
けることにより、水分や酸素の侵入を抑える方法が提案
されている。しかしながら、金属酸化物よりなる保護膜
は緻密な膜が得られにくく、特に酸素の侵入に対して大
きな保護効果は期待できない。
び酸素透過率が高いため、透過した水分や酸素により記
録層が早期に劣化し、ノイズの増加や感度低下を生じる
といった問題を有している。この対策として、従来より
プラスチック基板の記録層が存在する側とは反対の面、
もしくは基板と記録層との間にＳｉＯ□や＾１２０１等
の金属酸化物やポリマー等の有機物よりなる保護膜を設
けることにより、水分や酸素の侵入を抑える方法が提案
されている。しかしながら、金属酸化物よりなる保護膜
は緻密な膜が得られにくく、特に酸素の侵入に対して大
きな保護効果は期待できない。
また、ポリマー等の有機物よりなる保護膜は、基板と記
録層との間に設けても記録感度を低下させないといった
長所を有するが、水分や酸素を容易に透過するので保護
効果はあまり期待できない。
録層との間に設けても記録感度を低下させないといった
長所を有するが、水分や酸素を容易に透過するので保護
効果はあまり期待できない。
本発明の目的は、保護効果のすぐれた保ｇｉｎを設ける
ことにより、上記した従来技術の欠点を解決し、記録層
の特性を長期間係てるような光記録媒体を得ることにあ
る。
ことにより、上記した従来技術の欠点を解決し、記録層
の特性を長期間係てるような光記録媒体を得ることにあ
る。
本発明によれば上記の目的は、透明プラスチック基板を
用いたエアーサンドイッチ型の光記録媒体において、該
基板上に金属の酸化物よりなる中間層を設け、さらに該
中間層上に該中間層の酸化物と同種の金属の窒化物より
なる保Ｉ’ｌｌを設けたことにより解決された。
用いたエアーサンドイッチ型の光記録媒体において、該
基板上に金属の酸化物よりなる中間層を設け、さらに該
中間層上に該中間層の酸化物と同種の金属の窒化物より
なる保Ｉ’ｌｌを設けたことにより解決された。
金属窒化物は化学的に安定なものが多く、蒸着、スパッ
タリング等の方法により、容易に緻密で一様な薄膜が得
られ、比較的膜厚が薄い場合でも透水率および酸素透過
率が小さいため、前記の光記録媒体において良好な保護
膜となり得る。しかしながら、金属窒化物薄膜はプラス
チ、り基板に対する付着力が弱く、機械的な外力やプラ
スチック基板との熱膨張率の差により容易に剥離したり
、クラ、りを生じるといった欠点を有する。
タリング等の方法により、容易に緻密で一様な薄膜が得
られ、比較的膜厚が薄い場合でも透水率および酸素透過
率が小さいため、前記の光記録媒体において良好な保護
膜となり得る。しかしながら、金属窒化物薄膜はプラス
チ、り基板に対する付着力が弱く、機械的な外力やプラ
スチック基板との熱膨張率の差により容易に剥離したり
、クラ、りを生じるといった欠点を有する。
そこで本発明者等は金属窒化物薄膜とプラスチック基板
との間に該金属窒化物と同種の金属の酸化物よりなる中
間層を設けることにより、金属窒化物薄膜のプラスチッ
ク基板に対する付着力を改善した。この結果、金属窒化
物薄膜の剥離やクランクを防止することができ、光記録
媒体に対する良好な保護膜が得られた。
との間に該金属窒化物と同種の金属の酸化物よりなる中
間層を設けることにより、金属窒化物薄膜のプラスチッ
ク基板に対する付着力を改善した。この結果、金属窒化
物薄膜の剥離やクランクを防止することができ、光記録
媒体に対する良好な保護膜が得られた。
中間層および保護層に用いられる金属酸化物および金属
窒化物は化学的に安定なものであれば何れでも良（、例
えばＢ、ＡＩ、Ｓｉｓ Ｔｉ、 Ｖ、 Ｃｒ、、 Ｍｎ
ｓ Ｆｅ、 Ｃｏ、Ｎｉ、 Ｇｅｓ Ｚｒ、 Ｎｂ。
窒化物は化学的に安定なものであれば何れでも良（、例
えばＢ、ＡＩ、Ｓｉｓ Ｔｉ、 Ｖ、 Ｃｒ、、 Ｍｎ
ｓ Ｆｅ、 Ｃｏ、Ｎｉ、 Ｇｅｓ Ｚｒ、 Ｎｂ。
Ｍｏ、Ｈｆ５Ｔａの酸化物、窒化物の中から選ばれる。
中でもＳｉＯまたはＳｉＯ□と５ｉＪ４の組合せは基板
に対する付着力が特に高く、成膜が容易なことから特に
好ましい。
に対する付着力が特に高く、成膜が容易なことから特に
好ましい。
金属酸化物よりなる中間層と金属窒化物よりなる保ｔｉ
層は、第２図に示すように基板と記録層との間、もしく
は第３図に示すように基板の記録層が存在する側とは反
対の面の何れに設けても良いが、特にビットを形成する
タイプの追記型光記録媒体においては、基板と記録層と
の間に中間層および保護層を設けると記録感度が低下す
るおそれがあるため、このような場合には上記中間層お
よび保護層を基板の記録層が存在する側とは反対の面に
設けることが好ましい。さらに、金属窒化物膜は硬度が
大きいので、プラスチック基板を傷から保護するために
も上記中間層および保ｔ！層は上記光記録媒体の外面に
設けることが好ましい。
層は、第２図に示すように基板と記録層との間、もしく
は第３図に示すように基板の記録層が存在する側とは反
対の面の何れに設けても良いが、特にビットを形成する
タイプの追記型光記録媒体においては、基板と記録層と
の間に中間層および保護層を設けると記録感度が低下す
るおそれがあるため、このような場合には上記中間層お
よび保護層を基板の記録層が存在する側とは反対の面に
設けることが好ましい。さらに、金属窒化物膜は硬度が
大きいので、プラスチック基板を傷から保護するために
も上記中間層および保ｔ！層は上記光記録媒体の外面に
設けることが好ましい。
上記中間層および保護層は真空蒸着、スパッタリング、
イオンブレーティング等の何れの方法によっても形成す
ることができる。特にスパッタリング法においては、金
属酸化物および金属窒化物のターゲットを用いて順次形
成する方法以外に、金属をターゲットとし中間層はＯ８
を混入したＡｒガス中で、保ｔｉｍはＮ！を混入したＡ
ｒガス中で順次スパッタリングを行っても良い。
イオンブレーティング等の何れの方法によっても形成す
ることができる。特にスパッタリング法においては、金
属酸化物および金属窒化物のターゲットを用いて順次形
成する方法以外に、金属をターゲットとし中間層はＯ８
を混入したＡｒガス中で、保ｔｉｍはＮ！を混入したＡ
ｒガス中で順次スパッタリングを行っても良い。
金属窒化物膜のプラスチック基板に対する付着力を増加
させ、剥離やクランクを防止するためには、金属酸化物
膜の膜厚は２００Å以上あれば十分である。また、金属
窒化物膜の膜厚は５００Å以上であれば十分水分や酸素
の侵入を防ぐことができる。
させ、剥離やクランクを防止するためには、金属酸化物
膜の膜厚は２００Å以上あれば十分である。また、金属
窒化物膜の膜厚は５００Å以上であれば十分水分や酸素
の侵入を防ぐことができる。
本発明において用いられるプラスチック基板は透明なも
のなら何れでも良く、例えば、ポリメタクリル酸メチル
、ポリカーボネート、エポキシ樹脂基板等が用いられる
。
のなら何れでも良く、例えば、ポリメタクリル酸メチル
、ポリカーボネート、エポキシ樹脂基板等が用いられる
。
以上のように、エアーサンドイッチ型の光記録媒体にお
いては、上記の中間層と保護層を設けることにより、基
板側から記録層への水分や酸素の侵入を防ぐことができ
るが、２枚の基板にはさまれた中空部分に存在する水分
や酸素によって長期の間に記８Ｎが劣化するおそれがあ
る。従って、さらに記録層を安定に保存するためには、
上記の中間層および保ｍｓを設けるとともに、中空部分
の空気を窒素やアルゴン等の不活性ガスで置換すること
が好ましい。
いては、上記の中間層と保護層を設けることにより、基
板側から記録層への水分や酸素の侵入を防ぐことができ
るが、２枚の基板にはさまれた中空部分に存在する水分
や酸素によって長期の間に記８Ｎが劣化するおそれがあ
る。従って、さらに記録層を安定に保存するためには、
上記の中間層および保ｍｓを設けるとともに、中空部分
の空気を窒素やアルゴン等の不活性ガスで置換すること
が好ましい。
以下に本発明を実施例によって詳細に説明する。
実施例１
厚さ１．２鶴、外径２００ｆｉ、内径３５鶴のポリメタ
クリル酸メチルからなるディスク状基板にＳｎを主成分
とする記録層を真空蒸着法により形成した０次に真空蒸
着装置内の２個のルツボにそれぞれ、ＳｉＯとＳｉ３Ｎ
ｍを入れ、真空度ＩＸ １０−”Ｔａｒｔの条件におい
て、電子ビーム蒸着法を用い、前記の基板の記録層を設
けた側とは反対の面に、まずＳｉＯを５００人の厚さに
蒸着した。続いて、このＳｉＯＨ１上に厚さ１０００人
の５ｉＪ４ｒｉＪ膜を積層した０以上のようにして薄膜
を形成した基板の２枚を、記録層が互いに内側に位置す
る状態に貼合わせることによりエアーサンドイッチ構造
とし、２枚の基板にはさまれた中空部分の空気を窒素で
置換した。
クリル酸メチルからなるディスク状基板にＳｎを主成分
とする記録層を真空蒸着法により形成した０次に真空蒸
着装置内の２個のルツボにそれぞれ、ＳｉＯとＳｉ３Ｎ
ｍを入れ、真空度ＩＸ １０−”Ｔａｒｔの条件におい
て、電子ビーム蒸着法を用い、前記の基板の記録層を設
けた側とは反対の面に、まずＳｉＯを５００人の厚さに
蒸着した。続いて、このＳｉＯＨ１上に厚さ１０００人
の５ｉＪ４ｒｉＪ膜を積層した０以上のようにして薄膜
を形成した基板の２枚を、記録層が互いに内側に位置す
る状態に貼合わせることによりエアーサンドイッチ構造
とし、２枚の基板にはさまれた中空部分の空気を窒素で
置換した。
上記の如くして作製した光記録媒体を６０℃、９０％Ｒ
Ｈの恒温恒湿槽内に入れ、１２０日間の耐湿熱性試験を
行った。試験前の記録層の反射率は２７％であったが、
試験後もこの反射率の値に変化はなく、またＳｉＯ膜、
５ｉＪ４膜共にクラック、剥離等の変化は見られなかっ
た。
Ｈの恒温恒湿槽内に入れ、１２０日間の耐湿熱性試験を
行った。試験前の記録層の反射率は２７％であったが、
試験後もこの反射率の値に変化はなく、またＳｉＯ膜、
５ｉＪ４膜共にクラック、剥離等の変化は見られなかっ
た。
実施例２
実施例１と同様の記録層を形成したポリメタクリル酸メ
チルのディスク基板をスパッタリング装置内に入れ、Ｓ
ｉをターゲットとしてＡｒと０２がｔｒｉである混合ガ
スを５×１０−’Ｔｏｒｒの圧力になるように導入しな
がらスパッタリングを行うことによって、基板の記録層
が存在する側とは反対の面に５００人の厚さのＳｉ０ｇ
薄膜を形成した。続いて、同様にＳｔをターゲットとし
てＡｒとＮ、が１：ｌである混合ガスを５ Ｘ １０−
”Ｔｏｒｒの圧力になるように導入しながらスパッタリ
ングを行うことによって、上記のＳｉＯ□薄膜上に１０
００人の厚さのＳｉ＋Ｎａ ＴＲ膜を形成した。以上の
ようにして薄膜を形成した基板を実施例１と同様の方法
でエアーサンドイッチ構造とした。
チルのディスク基板をスパッタリング装置内に入れ、Ｓ
ｉをターゲットとしてＡｒと０２がｔｒｉである混合ガ
スを５×１０−’Ｔｏｒｒの圧力になるように導入しな
がらスパッタリングを行うことによって、基板の記録層
が存在する側とは反対の面に５００人の厚さのＳｉ０ｇ
薄膜を形成した。続いて、同様にＳｔをターゲットとし
てＡｒとＮ、が１：ｌである混合ガスを５ Ｘ １０−
”Ｔｏｒｒの圧力になるように導入しながらスパッタリ
ングを行うことによって、上記のＳｉＯ□薄膜上に１０
００人の厚さのＳｉ＋Ｎａ ＴＲ膜を形成した。以上の
ようにして薄膜を形成した基板を実施例１と同様の方法
でエアーサンドイッチ構造とした。
上記の如くして作製した光記録媒体について実施例１と
同様の耐湿熱性試験を行った。試験前の記録層の反射率
は２７％であったが、試験後もこの反射率の値に変化は
なく、またＳｉＯ膜、Ｓｉ＋Ｎａ膜共にクランク、剥離
等の変化は見られなかった。
同様の耐湿熱性試験を行った。試験前の記録層の反射率
は２７％であったが、試験後もこの反射率の値に変化は
なく、またＳｉＯ膜、Ｓｉ＋Ｎａ膜共にクランク、剥離
等の変化は見られなかった。
実施例３
実施例２においてターゲットをＳｉからＡＩに変え、Ａ
１．０゜およびＡＩＮ ｍ膜を形成した以外は同様の方
法で光記録媒体を作製した。この記録媒体について実施
例１と同様の耐湿熱性試験を行った。試験前の記録層の
反射率は２７％であったが、試験後もこの反射率の値に
変化はなく、またＡｌｚＯｚ膜、ＡＩＮ膜共にクランク
、剥離等の変化は見られなかった。
１．０゜およびＡＩＮ ｍ膜を形成した以外は同様の方
法で光記録媒体を作製した。この記録媒体について実施
例１と同様の耐湿熱性試験を行った。試験前の記録層の
反射率は２７％であったが、試験後もこの反射率の値に
変化はなく、またＡｌｚＯｚ膜、ＡＩＮ膜共にクランク
、剥離等の変化は見られなかった。
比較例１
実施例１と同様の記録層を形成したポリメタクリル酸メ
チルのディスク基板をスパッタリング装置内に入れ、Ａ
１□０３をターゲットとして５ Ｘ １０−３Ｔｏｒｒ
のへｒ中でスパッタリングを行い、基板の記録層が存在
する側とは反対の面に２０００人の厚さのＡｔ、Ｏ，薄
膜を形成し、実施例１と同様の方法でエアーサンドイッ
チ構造とした。
チルのディスク基板をスパッタリング装置内に入れ、Ａ
１□０３をターゲットとして５ Ｘ １０−３Ｔｏｒｒ
のへｒ中でスパッタリングを行い、基板の記録層が存在
する側とは反対の面に２０００人の厚さのＡｔ、Ｏ，薄
膜を形成し、実施例１と同様の方法でエアーサンドイッ
チ構造とした。
上記の如くして作製した光記録媒体について実施例１と
同様の耐湿熱性試験を行った。試験前の記録層の反射率
は２７％であったが、試験後は１９％にまで低下した。
同様の耐湿熱性試験を行った。試験前の記録層の反射率
は２７％であったが、試験後は１９％にまで低下した。
比較例２
実施例１と同様の記録層を形成したポリメタクリル酸メ
チルのディスク基板をスパッタリング装置内に入れ、Ｓ
ｉをターゲットとしてＡｒとＮ２が１＝１である混合ガ
スを５×１０−’Ｔｏｒｒの圧力になるように導入しな
からスパッタリングを行い、基板の記録層が存在する側
とは反対の面に２０００人の厚さの５ＬＮａ薄膜を形成
し、実施例１と同様の方法でエアーサンドイッチ構造と
した。
チルのディスク基板をスパッタリング装置内に入れ、Ｓ
ｉをターゲットとしてＡｒとＮ２が１＝１である混合ガ
スを５×１０−’Ｔｏｒｒの圧力になるように導入しな
からスパッタリングを行い、基板の記録層が存在する側
とは反対の面に２０００人の厚さの５ＬＮａ薄膜を形成
し、実施例１と同様の方法でエアーサンドイッチ構造と
した。
上記の如くして作製した光記録媒体について実施例１と
同様の耐湿熱性試験を行ったところ、５ｉｚＮ４薄膜の
全体にわたってクラックが発生した。
同様の耐湿熱性試験を行ったところ、５ｉｚＮ４薄膜の
全体にわたってクラックが発生した。
本発明によれば、プラスチック基板に対する５ｉｉＮ４
等の金属窒化物よりなる薄膜の付着力を改善することが
可能となり、水分や酸素の侵入を防ぐ良好な保護膜が得
られる。
等の金属窒化物よりなる薄膜の付着力を改善することが
可能となり、水分や酸素の侵入を防ぐ良好な保護膜が得
られる。
このため、記ｉ！層の劣化を大幅に抑えることができ、
光記録媒体の保存安定性の向上には非常に有利である。
光記録媒体の保存安定性の向上には非常に有利である。
第１図はエアーサンドイッチ構造の光記録媒体を示す断
面図、第２図は中間層と保護層とを基板と記録層との間
に設けた状態を示す断面図、第３図は中間層と保護層と
を基板の記録層が存在する側とは反対の面に設けた状態
を示す断面図である。 図において １：基 板 ２：記録層 ３：中間層 ４：保護層 代理人 弁理士 高 橋 勝 利 第 ／ 図 第２図 、２−−−４億騒
面図、第２図は中間層と保護層とを基板と記録層との間
に設けた状態を示す断面図、第３図は中間層と保護層と
を基板の記録層が存在する側とは反対の面に設けた状態
を示す断面図である。 図において １：基 板 ２：記録層 ３：中間層 ４：保護層 代理人 弁理士 高 橋 勝 利 第 ／ 図 第２図 、２−−−４億騒
Claims (1)
- レーザー光により情報を書き込み、読み取ることのでき
る記録層を有する２枚の透明プラスチック基板を記録層
が互いに内側に位置する状態に貼合わせてなるエアーサ
ンドイッチ型の光記録媒体において、該基板と記録層と
の間、もしくは該基板の記録層が存在する側とは反対の
面に金属の酸化物よりなる中間層および該中間層上に該
中間層の酸化物と同種の金属の窒化物よりなる保護層を
設けたことを特徴とする光記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60168608A JPS6231045A (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60168608A JPS6231045A (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | 光記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6231045A true JPS6231045A (ja) | 1987-02-10 |
Family
ID=15871207
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60168608A Pending JPS6231045A (ja) | 1985-08-01 | 1985-08-01 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6231045A (ja) |
-
1985
- 1985-08-01 JP JP60168608A patent/JPS6231045A/ja active Pending
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