JP2003281918A - サイドライト型バックライト装置および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】高輝度で耐久性、生産性に優れ、さらに反射体
に歪みが発生した場合に、その歪みによる輝度ムラを防
止可能な、輝線の発生を防止する反射体および高輝度で
耐久性に優れたランプリフレクターを組み込んだサイド
ライト型バックライト装置および液晶表示装置を提供す
る。 【解決手段】少なくとも基材と反射層とからなり、反射
層が少なくとも（ａ）下地層３０、（ｂ）銀を主体とす
る金属層２０、（ｃ）保護層１０を（ａ）（ｂ）（ｃ）
の順に積層してなるランプリフレクターが導光板の側面
に設置された光源を覆うように配置され、少なくとも基
板５０と反射層とからなり、全反射率に対する拡散反射
率の割合（拡散率）が１％〜５０％である反射体が光源
から入射される光を上面に出射する導光板の下面に配置
されていることを特徴とするサイドライト型バックライ
ト装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、輝度が高く輝度ムラの
少ないサイドライト型のバックライト装置、および液晶
表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイはこれまでのＣＲＴ
（Cathode Ray Tube）ディスプレイに比べ、薄型であり
省スペース化できること、また、低電圧で作動するこ
と、消費電力が少なく省エネルギー化できるなどの特徴
から、中小型機器のディスプレイを中心に広く用いられ
ている。

【０００３】現在広く使用されている液晶ディスプレイ
は、光源にバックライトを用いる透過型液晶ディスプレ
イである。この液晶ディスプレイにおける表示の見やす
さは、液晶自身の性能もさることながら、バックライト
の性能によるところも大きくなっている。バックライト
の方式は近年の液晶ディスプレイのさらなる軽量、薄型
化が必須事項となっていることや、輝度の均一性や、光
源からの熱が液晶パネルに伝達しにくいなどの理由よ
り、光源の前方に反射板を置く直下型ではなく、導光板
を用い、その一端に配置された光源からの光を多重反射
させることで面光源化するサイドライト式バックライト
が多く用いられている。

【０００４】バックライト部のランプリフレクターには
近年ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）／銀薄膜層
／接着層／アルミ板からなるいわゆる銀反射板や、ＰＥ
Ｔ／銀薄膜層／白塗装／接着層／アルミ蒸着層／高分子
フィルム／白塗装からなるいわゆる銀反射シートが使用
される例がある。これらは、透明高分子フィルムである
ＰＥＴを銀の保護層として用いることにより、従来から
問題点であった大気暴露による銀の硫化、酸化を防止
し、高反射率を維持することができる。例えば、上記銀
反射板の信頼性を例に挙げると、高温試験（８０℃）で
１０００時間行ったが、硫化などによる黒化は観察され
ず、また、反射率の低下も観察されない。しかしなが
ら、８０℃の高温下で、数百から数千時間で銀が紫色に
変色し、反射率が急激に低下する。また、耐湿熱性試験
（６０℃、相対湿度９０％）では、点状の白点が多数発
生し、反射率が低下するという問題がある。またＰＥＴ
フィルム層内での反射が起こることにより、輝度を高め
ると輝線が発生するという問題があった。

【０００５】導光板の下には、白色ＰＥＴフィルム等か
らなる乱反射部材が配設されている場合が多く、この乱
反射部材で光を拡散させることにより、均一な輝度を得
ることが出来る。しかしながら、この乱反射部材では、
正反射成分が殆どないため、全体としては均一ではある
が十分な輝度は得ることができないという問題がある。
また、透明性または透光性を有するＰＥＴフィルム上に
アルミニウムを蒸着したシートを用いると、白色ＰＥＴ
に比べ輝度は向上するものの、拡散反射成分が無いた
め、シートの僅かな歪みが輝度ムラに大きく影響してし
まい、美しい画像を得ることができない。この問題を解
決するため、表面を粗面化したフィルムに金属を蒸着し
たシートが開発されたが、用いる金属にアルミニウムを
使うと、耐久性は優れるがそれ程高い輝度が得られな
い。また、可視光域で最も反射率の高い銀を使うと、十
分な輝度が得られるものの、銀は耐久性が乏しい為、劣
化が早く、輝度が経時的に低下してしまうという問題が
あった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、高輝度で耐
久性、生産性に優れ、さらに反射体に歪みが発生した場
合に、その歪みによる輝度ムラを防止可能で、輝線の発
生を防止する反射体および高輝度で耐久性に優れたラン
プリフレクターを組み込んだサイドライト型バックライ
ト装置および液晶表示装置を提供することを目的とす
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するため鋭意検討した結果、特定のランプリフ
レクターおよび導光板下反射体を用いると上記の問題を
解決できることを見出し、本発明を完成した。

【０００８】本発明は少なくとも基材と反射層とからな
り、前記反射層が少なくとも（ａ）下地層、（ｂ）銀を
主体とする金属層、（ｃ）保護層を（ａ）（ｂ）（ｃ）
の順に積層してなり反射層をランプ側に設置することを
特徴とするランプリフレクターと少なくとも基板と反射
層とからなり、全反射率に対する拡散反射率の割合（拡
散率）が１％〜５０％であることを特徴とする導光板下
反射体とを用いて形成されることを特徴とするサイドラ
イト型バックライト装置である。本発明に従えば、高輝
度で耐久性、生産性に優れたサイドライト型バックライ
ト装置が得られる。

【０００９】本発明において、（ａ）下地層が、金、
銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデ
ン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタ
ン、もしくは、パラジウムから選ばれた金属の単体およ
び／またはこれらの２種以上からなる合金で、厚さが５
ｎｍ以上５０ｎｍ以下の金属層および／または透明酸化
物で、厚さが１ｎｍ以上２０ｎｍ以下の透明酸化物層で
あることは好ましい態様である。本態様に従えば、十分
なバリヤー効果が得られ、銀を主体とする金属層形成時
に凝集が発生せず、また粘着剤、接着剤と反射層との密
着性にも優れる。

【００１０】本発明においては（ｂ）銀を主体とする金
属層が、銀単体或いは、不純物として金、銅、ニッケ
ル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタ
ル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウ
ムから選ばれる少なくとも１種類の金属を含有している
もの、或いは、銀を主体とした合金からなり、その厚み
が、７０ｎｍ以上４００ｎｍ以下は好ましい態様であ
る。 本態様に従えば、十分な厚みの金属層により所望
の反射率を実現できる。

【００１１】本発明においては（ｃ）保護層が、金、
銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデ
ン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタ
ン、もしくは、パラジウムから選ばれた金属の単体およ
び／またはこれらの２種以上からなる合金で、厚さが５
ｎｍ以上５０ｎｍ以下の金属層および／または透明酸化
物で、厚さ１ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の透明酸化物層で
あることは好ましい態様である。本態様に従えば、十分
なバリヤー効果が得られ、銀を主体とする金属層形成時
に凝集が発生しない。

【００１２】本発明においては、ランプリフレクターの
基板がアルミ板、真鍮板、ステンレス板、鋼板、または
プラスチック製の板またはシートであることは好ましい
態様である。本態様に従えば、用途に応じて軽量、放熱
性、強度、耐腐食性、成型性に優れたランプリフレクタ
ーを作り分けることが出来る。

【００１３】本発明においては、ランプリフレクターを
打ち抜き加工を行うことは好ましい態様である。本態様
に従えば、生産性を高めることが出来る。

【００１４】本発明は、ランプリフレクターが反射層側
の曲率半径が５ｍｍ以下の形状であることを特徴とす
る。本発明に従えば、高輝度で美しい画像を得ることが
出来る。

【００１５】本発明は、導光板下反射体が最大幅０．１
μｍ〜５０μｍ、高さ０．１μｍ〜４５μｍの突起物を
１ｍｍ²当たり２個以上１００個以下有することを特徴
とする。本発明に従えば、高輝度で美しい画像を得るこ
とが出来る。

【００１６】本発明は、上記のバックライト装置を備え
ることを特徴とする液晶表示装置である。本発明に従え
ば、高輝度で美しい画像を表示することが出来る。

【００１７】本発明のサイドライト型バックライト装置
は、高輝度であり反射体に歪みが発生した場合でも、そ
の歪みによる輝度ムラが生じないため、視認性のよい液
晶表示装置を提供することができる。また、本発明のサ
イドライト型バックライト装置は耐久性にも優れるた
め、長期にわたり、均一で、高輝度な光を得られること
から、液晶の表示能力を向上させることができるため、
本発明の工業的意義は大きい。

【００１８】

【発明の実施の態様】以下図面を参考にして本発明の好
適な実施例を詳細に説明する。図１は、本発明の実施の
一形態である導光板下反射体の例を示す断面図である。
本発明の反射体は基板５０、粒子４０、下地層３０、銀
を主体とする層２０、保護層１０とからなる。図２、図
３は、本発明の実施の一形態であるランプリフレクター
の例を示す断面図および斜視図である。本発明の反射体
は支持体９０、基板５０、下地層３０、銀を主体とする
層２０、保護層１０とからなり、保護層側に折り曲げ加
工される。図４は、導光板下反射体、ランプリフレクタ
ーを備えたサイドライト型バックライト装置の斜視図で
ある。サイドライト型バックライト装置は、導光板７０
の裏面に、保護層１０が接するように導光板下反射体が
配置され、側面に光源７０とランプリフレクター８０と
が備えられている。光源７０からの光は、ランプリフレ
クター、導光板下反射体によって反射され、液晶表示パ
ネルの背面に取り付けることで面光源装置として機能す
る。

【００１９】本発明のサイドライト型バックライトに用
いられるランプリフレクターは、基板に少なくとも
（ａ）下地層、（ｂ）銀を主体とする層、（ｃ）保護層
が形成された反射シートを用いることを特徴とし、好ま
しくは支持体に装着し、所定の形状に加工することによ
って得られる。

【００２０】（ａ）下地層の好ましい例としては、銀と
は異なる金属層や金属酸化物層を挙げることが出来る。
具体的には、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タング
ステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、
マンガン、チタン、パラジウム、ジルコニウム、ビスマ
ス、スズ、亜鉛、アンチモン、セリウム、ネオジウム、
ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウムなどの金
属単体、もしくは２種以上からなる合金、インジウム、
チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチ
モン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、ト
リウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、これら酸
化物の混合物や硫化亜鉛等の金属化合物が例示できる。
これらの中でも金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タン
グステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウ
ム、マンガン、チタン、パラジウム単体、またはこれら
の２種類以上からなる合金、酸化亜鉛、酸化インジウ
ム、酸化スズ、酸化珪素が好ましく、特に好ましくは酸
化アルミニウムが５重量％以下でドープされた酸化亜
鉛、ガリウムが１０重量％以下でドープされた酸化亜
鉛、インジウムとスズとの酸化物（ＩＴＯ）または二酸
化珪素などの透明性および透光性を有する酸化物を挙げ
ることが出来る。またこれらの２種類以上を組み合わせ
たり、多層化して用いることも出来る。

【００２１】（ｂ）銀を主体とする金属層には、銀単体
或いは、不純物として金、銅、ニッケル、鉄、コバル
ト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、イ
ンジウム、マンガン、チタン、パラジウムなどを少量含
有しているものや銀を主体とした合金が好ましく用いら
れる。これらの不純物の含有量は、金属の種類によって
異なるが、０．００２〜８重量％であり、好ましくは
０．００４〜５重量％、特に好ましくは０．００５〜４
重量％である。

【００２２】（ｃ）保護層には上記（ａ）下地層と同様
の金属や酸化物の他、これらと銀を主体とした合金から
選ばれる２種類以上を組み合わせたり、多層化して用い
ることが出来る。

【００２３】これらの中でも金属酸化物、好ましくは、
インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、
亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、
ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化
物、これら酸化物の混合物、特に好ましくは酸化アルミ
ニウムが５重量％以下でドープされた酸化亜鉛、ガリウ
ムが１０重量％以下でドープされた酸化亜鉛、インジウ
ムとスズとの酸化物（ＩＴＯ）、二酸化珪素などの透明
酸化物が用いられる。

【００２４】上記の下地層、銀を主体とする金属層およ
び保護層である金属薄膜層の形成法としては、主として
湿式法及び乾式法があるが、本発明においては乾式法を
採用することが好ましい。乾式法とは、真空成膜法の総
称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空
蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ
法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜する
ロール・ツー・ロール方式が可能な真空成膜法により粘
着層、接着層上に成膜する方法が好ましく用いられる。

【００２５】真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビー
ム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇
させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏｒｒ）
以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなど
のガスを１３．３ｍＰａ以上で導入し、高周波もしくは
直流のグロー放電を起こしても良い。

【００２６】スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを用い
る。スパッタ法においては、原材料として金属の板状の
ターゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウ
ム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使
用するが、好ましくはアルゴンを用いる。ガスの純度は
９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％以
上である。また、透明酸化膜の形成には、真空成膜法が
好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使用され、ス
パッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプ
トン、キセノンなどを使用し、条件によっては酸素ガス
を用いて行うこともある。

【００２７】通常、基板上に形成する薄膜の厚さは、ラ
ンプリフレクターや導光板下反射体を構成した際に光線
透過率が１％未満になるように考慮して決められる。本
発明の反射層における各層の厚みは、以下のようにする
ことが好ましい。

【００２８】（ａ）下地層の厚みは、金属層を用いた場
合、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましく
は５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。該層の厚みが５ｎｍ
より薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、
（ｂ）銀を主体とする金属層に凝集を発生させる場合が
ある。また、５０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が
無い。また、透明酸化物を用いた場合、透明酸化物層の
厚みは、１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、さらに好
ましくは、５ｎｍ以上１０ｎｍ以下である。透明酸化物
層の厚みが１ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果
が得られず、（ｂ）銀を主体とする金属層に凝集を発生
させる。また、１０ｎｍより厚くしてもその効果に変化
が無い。

【００２９】（ｂ）銀を主体とする金属層の厚みは、７
０ｎｍ以上４００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは
１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下、さらに好ましくは１３
０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下である。銀を主体とする層の
厚みが７０ｎｍより薄い場合は、十分な金属層の形成が
出来ていないため、所望の反射率を得ることが出来ない
場合がある。また、４００ｎｍより厚くしてもその効果
に変化はない。

【００３０】（ｃ）保護層の厚みは、金属層を用いた場
合、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましく
は５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。該層の厚みが５ｎｍ
より薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、
（ｂ）銀を主体とする金属層に凝集を発生させる場合が
ある。また、５０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が
無い。また、透明酸化物を用いた場合、該層の厚みは、
１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましく
は、５以上１０ｎｍ以下である。透明酸化物層の厚みが
１ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られ
ず、（ｂ）銀を主体とする金属層に凝集を発生させる。
また、１０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無い。

【００３１】上記の（ａ）下地層、（ｂ）銀を主体とす
る層、（ｃ）保護層は（ａ）（ｂ）（ｃ）の順に積層さ
れるが３層に限定されるものではなく例えば（ａ）
（ｂ）（ｃ）（ｂ）（ｃ）（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｂ）
（ａ）（ｂ）（ｃ）の様に任意に（ａ）（ｂ）（ｃ）の
順となっていれば３層以上の多層構造であっても良い
が、層数が増えると生産効率が低下する傾向にあるの
で、好ましくは３〜２０層より好ましくは３〜１５層で
ある。

【００３２】前記各層の膜厚の測定方法としては、触針
粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶
振動子法などの方法があり、特に水晶振動子法では成膜
中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得るのに適
している。また、前もって成膜の条件を定めておき、試
料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を調べた
上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もある。

【００３３】上記の反射シートには、必要に応じてベン
ゾトリアゾールやアクリル系等の透明樹脂他の有機物を
コートしても良い。この際には主に湿式法が用いられ、
その厚みは０．１〜１００μｍ、好ましくは０．５〜５
０μｍである。

【００３４】基板６０は、物理的、化学的に安定なガラ
ス板、セラミック板等の板状、シート状の無機材料、高
分子シート、高分子フィルム等の有機材料等が適宜用い
られる。これらの中でも、形状の自由度が高く、例えば
（ａ）下地層、（ｂ）銀を主体とする層、（ｃ）保護層
を作成する際にロールツーロールプロセスが適用できる
高分子フィルムが望ましい。

【００３５】本発明の反射体において、使用するに好ま
しい高分子フィルムは、例えばポリエチレンテレフタレ
ート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリ
エステル類、ビスフェノールＡ系ポリカーボネートなど
のポリカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、環状オレフィン共重合体、エチレン-酢酸ビニル共
重合体等のポリオレフィン類、セルローストリアセテー
トなどのセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニリデン、ポ
リビニルブチラール類などのビニル系樹脂、ポリスチレ
ン類、ポリイミド類、ナイロン等のポリアミド類、ポリ
エーテルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレー
ト系樹脂、フッ素系樹脂、ポリエーテルーテルケトン
類、ポリウレタン類、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸
エステル類、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エス
テル類、ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリ
ルなどのニトリル類、ポリエチレンオキシドなどのポリ
エーテル類、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール類、
ポバール等のポリアセタール類等各種プラスチックから
なるフィルムが挙げられるが、必ずしもこれらに限定さ
れるものではなく、結晶化温度やガラス転移点が室温よ
り高く、平滑な表面を持つものであれば使用できる。な
かでもポリエチレンテレフタレート等のポリエステル
類、ポリカーボネート類、ポリアミド類が好ましい。

【００３６】使用される高分子フィルムの厚みは、通常
は１〜２５０μｍであり、好ましくは５〜２００μｍ、
特に好ましくは１０〜２００μｍである。本発明の基板
６０は、特に後述する導光板下反射体に用いられる場
合、その引張弾性率や曲げ弾性率が１００ＭＰａ以上、
好ましくは５００ＭＰａ以上、更に好ましくは８００Ｍ
Ｐａ以上、特に好ましくは１０００ＭＰａ以上である。
また熱収縮率は８０℃で０．５％以下のものが好まし
い。

【００３７】本発明の支持板６０は、特にランプリフレ
クターに用いられる場合、下記のような金属板が用いら
れる。即ち、アルミニウム、アルミニウム合金、ステン
レス鋼、鋼亜鉛合金、鋼等である。これらの金属にはそ
れぞれ長所があり、次のように使い分けることができ
る。アルミニウムは軽量かつ加工性に優れ、また、熱伝
導率が高くそれにかかる熱を効果的に大気中に逃がすこ
とができるため、ランプ発光によって反射体が加熱され
るＬＣＤ用バックライトに好適に利用できる。アルミ合
金は軽量かつ機械的強度が強い。ステンレス鋼は機械的
が適度にあり、また耐蝕性に優れている。鋼亜鉛合金す
なわち黄銅または真鍮は、機械的強度の強いことに加
え、はんだづけが容易なため電気的端子をとり易い。鋼
は安価なため、コストを抑える必要がある時に好ましく
用いられる。また形状記憶合金を用いれば加工性に優れ
る等の利点がある。

【００３８】プラスチックの板やシート を用いること
も出来る。用いられる材質としては、二軸延伸ポリプロ
ピレン、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ））、ポ
リエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレ
フタラート（ＰＢＴ）、アクリル樹脂、メタアクリル樹
脂、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテル
エーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリアレリート、ポリエ
ーテルイミド、ポリイミドなどのホモポリマーまたは、
コポリマーがあげられる。特に好ましくは、ポリエチレ
ンテレフタラートフィルムであり、該高分子フィルムが
最外層である場合には外観上白色のものが好まれる。こ
れらの材料は一般的に金属板に比べて軽量化が図れる特
徴がある。支持体としての高分子フィルム、シートの厚
みは、コスト低減及び、曲げやすさから、薄い方が好ま
しく、反射体とのラミネートする際の取扱い（ハンドリ
ング）性及び、形状保持性からは、厚い方が好まれる。
好ましいフィルムの厚みは、５μｍ以上５００μｍ以
下、より好ましくは１０μｍ以上２００μｍ以下であ
り、さらに好ましくは１５μｍ以上１００μｍ以下であ
る。また、上記の支持体は前述の基板で兼用することも
可能である。また、後述する折り曲げ加工が困難な場合
は、環状オレフィンポリマー等の形状記憶樹脂を用いて
解決することもできる。

【００３９】基板５０と支持体９０は、好ましくは粘着
剤や接着剤を介して板状成形体である支持体に固定され
る。上記の粘着剤は上述の下地層、銀を主体とする層、
保護層等を形成する際に安定なものであれば特に制限は
ないが、具体的に例示すると、ゴム系粘着剤、アクリル
系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ビニル系粘着剤等であ
る。中でもアクリル系粘着剤は、安価であるために広く
用いられる。

【００４０】上記の接着剤は、熱または触媒の助けによ
り接着される接着剤であり、具体的には、シリコン系接
着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系接着剤、シア
ノアクリレート系接着剤、アクリル系接着剤など一般的
な接着剤を用いることができる。エポキシ系接着剤は強
度、耐熱性に優れているため、これもまた好適に利用で
きる。シアノアクリレート系接着剤は、即効性と強度に
優れているため、効率的な反射体作製に利用できる。こ
れらの接着剤は、接着方法によって熱硬化型、ホットメ
ルト型、２液混合型に大別されるが、好ましくは連続生
産が可能な熱硬化型あるいはホットメルト型が使用され
る。どの接着剤を使用した場合でもその厚みは、０．５
μｍ〜５０μｍが好ましい。

【００４１】上記の基材５０と支持板９０とはラミネー
ターなどで貼り合わせることによって得られる。貼り合
わせる際に必要に応じて加温することもできる。上記貼
りあわせの際の温度は０〜２００℃、好ましくは１０〜
１５０℃、より好ましくは２０〜１２０℃である。

【００４２】上記の基板と支持体との接着強度は、１８
０度ピール強度で測定して１００ｇ／ｃｍ以上であるこ
とが好ましい。この接着強度に達しない場合には、加工
した際、反射シートの、板状成形体からの剥がれ等が生
じ、変形等を引き起こす可能性があるため好ましくない
場合がある。

【００４３】本発明で使用されるランプリフレクター
は、金属反射層側から測定される反射率が５５０ｎｍの
波長の光に対して好ましくは９０％以上であり、より好
ましくは９２％以上であり、さらに好ましくは９４％以
上である。

【００４４】本発明の反射体は耐久性が高く、例えば温
度１００℃で３００時間、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ2
の擬似太陽光を反射層側から照射した後でも、波長５５
０ｎｍにおける全反射率が９０％以上である。ここで擬
似太陽光とは、屋外での晴天時の太陽光と同様なスペク
トルをもつ光である。具体的には、キセノンランプに光
学フィルターを組み合わせて擬似太陽光スペクトルを得
る。温度は、試料を保持したアルミ板に設置した熱電対
と板状ヒーターを温度コントローラーと接続した装置で
制御される。

【００４５】本発明の反射体をランプリフレクターに成
形する際には、反射層側を内側にして光源を覆うように
成形加工される。また、所定の形状に打ち抜き加工を行
った後、図２、３に示す様に反射層側を内側にして折り
曲げ加工を行うことが好ましく、反射層側の曲率半径
は、好ましくは５ｍｍ以下、より好ましくは４ｍｍ以下
である。

【００４６】本発明で使用される導光板下反射体は、反
射面側から測定した反射率の波長５５０ｎｍにおける拡
散反射率と全反射率の比（拡散反射率／全反射率：拡散
率）は１〜５０％であり、より好ましくは１〜２０％、
特に好ましくは１〜１７％、更に好ましくは１〜１５％
である。また、全反射率は通常８５％以上、好ましくは
９０％以上、特に好ましくは９０〜９９％であり、拡散
反射率は５０％以下、好ましくは２０％以下、より好ま
しくは１７％以下、特に好ましくは１〜１０％である。
なお、５５０ｎｍは、人間の眼の受光感度が最も高くな
る波長であり、実際の視認性を評価するに適している。

【００４７】上記の拡散反射率は、例えば基板上もしく
は反射層上に突起を形成することによって制御すること
ができる。上記の突起物の最大幅は０．１〜５０μｍで
あり、好ましくは１〜５０μｍ、より好ましくは１０〜
５０μｍ、更に好ましくは１５〜４５μｍ、特に好まし
くは２０〜４０μｍである。また上記突起物の高さは、
０．１〜４５μｍであり、好ましくは１〜４５μｍ、よ
り好ましくは５〜４５μｍ、更に好ましくは１０〜４０
μｍ、特に好ましくは１５〜３５μｍである。また、突
起物の形状は特に制限はなく、粒子型、ドーム型、山
型、ピラミッド型、円柱型、角柱型、台形、プリズム
型、不定形等を例示することが出来る。また単段形状で
あっても多段形状であっても良くこれらの形状が混在し
ていたり、多段に組み合わさっていても良い。突起物
は、１ｍｍ²当たり２個以上、１００個以下有すること
が好ましく、更に好ましくは５個以上９０個以下であ
る。

【００４８】これらの突起物の作成方法にとして具体的
には、（１）粒子等の固形物を塗布させる方法、（２）
粒子などの固形物を樹脂と混練してフィルム、シート状
に成形する方法、（３）粒子などの固形物を半溶融状態
のフィルム、シートに散布後冷却して定着させる方法、
（４）スクリーン印刷の様な印刷技術を利用して突起物
を形成する方法、（５）熱可塑性樹脂をシート、フィル
ムに成型する際に凹凸形状を有する冷却ロールを使用
し、ロールの凹凸形状を突起物として転写する方法、
（６）マイクロ金型を利用して形成する方法（７）サン
ドブラスト法などの研磨、摩擦行程を有する方法（８）
フォトリソグラフィーを利用して形成する方法（９）エ
ッチング法を利用して形成する方法等を適用させること
が出来る。また上記等の方法で得られる突起物を熱処理
等で変形させることも可能である。

【００４９】上記の突起物を形成する方法の中でも特に
表面状態の調整が比較的容易な、粒子を粘着層、接着層
成型時に粒子を添加する方法や粘着層、接着層、反射層
状に塗布する方法が好ましい。用いられる粒子として
は、例えば、アクリル、ポリスチレン、ビニルベンゼ
ン、スチレンメタクリレート、スチレンアクリレート、
スチレンブタジエン等の高分子（有機）粒子をはじめ、
シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化鉛（鉛
白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭酸バリ
ウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸ソーダ
などからなる無機微粒子や、酸化錫、酸化インジウム、
酸化カドミウム、酸化アンチモンなどの導電性透明微粒
子なども用いることができるが、必ずしもこれらに限定
されるものではない。特にアクリル樹脂またはシリカを
用いることが好ましい。

【００５０】本発明において用いられる粒子４０は、平
均粒子径が０．１〜５０μｍ、好ましくは１〜５０μ
ｍ、より好ましくは１０〜５０μｍ、更に好ましくは１
５〜４５μｍ、特に好ましくは２０〜４０μｍの粒子を
使用することが好ましい。

【００５１】上記粒子４０の粒径分布は小さい方が好ま
しく、平均粒子径に対する粒子径の標準偏差の割合は５
０％以下であることが好ましい。さらに好ましくは４０
％以下である。 但し、必要に応じて２種以上の粒子を
用いることも出来る。この場合、主成分の粒子の割合は
５０％以上、好ましくは７０％以上、より好ましくは７
５％以上、特に好ましくは８０％以上である。

【００５２】平均粒子径の分布は、少量の粒子を分散さ
せた溶液を動的光散乱法により測定することで求めるこ
とができる。また、粒子を撮影したＳＥＭ（Scanning E
lectron Microscope）写真から無作為に選んだ１００個
の粒子径より求めることもできる。また、粒子径は、Ｓ
ＥＭ写真以外に光学顕微鏡を用いても読みとることがで
きる。また、得られた写真または像を、画像処理するこ
とからも粒径分布を求めることができる。

【００５３】上記の粒子４０は、塗布する場合バインダ
ーとして用いられる樹脂中に分散させた状態で塗布され
る。バインダー樹脂としては、例えばポリメタクリル酸
メチルなどのアクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹
脂、ポリメタアクリルニトリル樹脂、エチルシリケート
より得られる重合体などの珪素樹脂、フッ素系樹脂、ポ
リエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、アセテート系樹
脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系
樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレ
フィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、尿素樹脂、メラミ
ン樹脂、エポキシ樹脂や、これらの混合物などが挙げら
れるが、必ずしもこれらに限定される物ではない。これ
らは粘着層、接着層５０や保護層１０と粒子４０との密
着性を考慮して選択される。なかでも、ポリエステル系
樹脂、アクリル樹脂が好ましい。

【００５４】通常これらの粒子をバインダー樹脂に分散
させるためには溶媒を用いる。溶媒としては、トルエ
ン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、イソプロピルア
ルコールなどが好ましく用いられる。これらは塗布作業
に一般的に用いられる溶媒であり、これら以外でも基板
５０や粒子４０に影響を与えない溶媒であれば、問題な
く使用できる。また、必要に応じてイソシアネート類や
メラミン類などの架橋剤、ぬれ剤や増粘剤、分散剤、消
泡剤、などの添加剤を加えてもよい。

【００５５】上記粒子４０のバインダー樹脂に対する配
合率は、粒子がバインダー樹脂に対して０．１ｗｔ％以
上１０ｗｔ％以下であることが好ましい。配合率が、
０．１ｗｔ％より小さい場合、必要な反射光の拡散特性
が得られないため好ましくない。また、１０ｗｔ％より
大きい場合は、光の拡散性が強くなりすぎるため好まし
くない。

【００５６】粒子４０を含む塗工液は、粘着層、接着層
５０や保護層１０上にｗｅｔ状態で塗工量１０ｇ／ｍ²
以上、４０ｇ／ｍ²で塗布することが好ましい。粒子の
配合率は、反射体１表面の粒子密度に反映され、反射体
１、２の拡散率に影響を及ぼす。また塗布量は、バイン
ダー層の厚みに反映され、粒子４０の頂上と反射層２０
との高さの差つまり、導光板６０と反射体１、２との接
触時の間隔に影響を及ぼす。塗布液量を１０ｇ／ｍ²よ
り小さくすると、塗布液中に含まれる粒子４０の量が不
足し、必要な反射光の拡散特性が得られない場合があり
好ましくない。また、塗布液量を４０ｇ／ｍ²より大き
くすると、粒子４０がバインダー樹脂に埋もれてしま
い、必要な突起高さが得られない場合があり好ましくな
い。つまり、上述範囲で粒子配合量と塗布液の塗布量と
を調整することで、基板５０や保護層１０上に１ｍｍ²
当たり、２個以上１００個以下の突起物を得ることがで
きる。また、バインダー樹脂表面から粒子頂部までの突
起物高さは、触診粗さ計や表面形状測定装置などにより
容易に測定することができる。

【００５７】上記の粒子４０とバインダー樹脂を含む混
合液を粘着層、接着層５０や保護層１０に塗布する方法
としては、広い粘度範囲にわたって塗布が可能であり、
塗工中にも塗膜厚さを調整でき、また塗膜厚さを大幅に
変えることが出来るなどの特徴をもつ、ロールコータ
法、リバースロールコータ法があり、比較的運転技術を
要さず、幅広でも塗工厚さが均一で、薄膜コーティング
出来るなどの特徴をもつクラビアコータ法、高速塗工、
高生産性や、塗工厚さの均一性、広範囲に塗装が出来る
などの特徴をもつダイコート（押出）法、などが挙げら
れるが、いずれの方法においても上記の突起物密度およ
び突起物高さを実現できる。

【００５８】本発明のサイドライト型バックライト装置
では、上記のように作製した導光板下反射体を導光板６
０の下面に配置し、金属薄膜層側を上面として設置する
ことが好ましい。バックライト装置としては、サイドラ
イト型として一般的に用いられているものであればよ
い。

【００５９】使用される導光板６０は、例えば、ポリメ
チルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリカーボ
ネートやポリカーボネート・ポリスチレン組成物などの
ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂などの透明性
または透光性樹脂やガラスなどの約４００ｎｍ〜７００
ｎｍの波長域において透明性を有するものが好ましく用
いられるが、光源の波長領域に応じて透明性を示す材料
であれば、これらに限定される訳ではない。また、導光
板６０の厚さは、使用目的の導光板のサイズや、光源の
大きさなどにより適宜に決定することができる。

【００６０】使用する光源７０としては、例えば、白熱
電球、発光ダイオード（ＬＥＤ）、エレクトロルミネセ
ンス（ＥＬ）、蛍光ランプ、メタルハイドライドランプ
などが挙げられ、中でも蛍光ランプが好ましく用いられ
る。蛍光ランプにはその電極構造、点灯方式により熱陰
極型と、冷陰極型に大別され、電極、インバーターとも
熱陰極型の方が大きくなる傾向にある。熱陰極型は、発
光に寄与しない電極近傍の電飾損失が小さく効率がよ
く、冷陰極型に比べ数倍優れた発光効率を示し、発光も
強いが、寿命は冷陰極型の方が優れており、低消費電力
性、耐久性などの点から冷陰極型がより好ましく用いら
れる。

【００６１】本発明のサイドライト型バックライト装置
では、驚くべきことに導光板６０と反射層との間に特定
の間隔をおいて導光板下反射体を設置することで輝度ム
ラを抑制することが出来る。この間隔は、具体的には導
光板６０から見た反射層の凹部と導光板６０との間隔で
ある。通常、導光板６０と本発明の導光板下反射体とは
直接接しているので、この間隔はＡ面を導光板６０側に
配置した場合、突起物の高さで制御できる。またスペー
サーなどをこれらの間に挿入してこの間隔を調整するこ
とも出来る。この間隔は、５μｍ以上、好ましくは１０
μｍ以上、より好ましくは１０〜１００μｍ、特に好ま
しくは１０〜９０μｍ、更に好ましくは１５〜８５μｍ
である。

【００６２】導光板下反射体の反射層はランプリフレク
ターの場合と同様、少なくとも（ａ）下地層、（ｂ）銀
を主体とする層、（ｃ）保護層を有し（ａ）（ｂ）
（ｃ）の順に積層されていることが好ましく、任意に
（ａ）（ｂ）（ｃ）の順となっていれば３層以上であっ
ても良い。

【００６３】本発明の導光板下反射体は基板側の面(Ｂ
面)に易滑処理がなされていても良い。易滑処理を施す
ことで、液晶表示装置を組み付ける際の作業性が向上す
る。易滑処理の方法について特に制限はないが、具体的
には微粒子を含む塗工液を塗布する方法、エンボス加工
により凹凸を形成する方法。シリカなどの粒子を基板６
０表面に高圧空気と共に吹き付けるサンドブラスト法、
エッチング等の化学的方法などを用いることできる。こ
の中でも塗工液を塗布する方法が好ましく用いられる。

【００６４】本発明の液晶表示装置は上記のサイドライ
ト型バックライト装置４を組み込んで得られる。本発明
の液晶表示装置は、輝度が高く、美しい映像を実現でき
る。

【００６５】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。

【００６６】実施例１ (導光板下反射体の作製)突起物となる粒子として平均粒
子径が３０μｍであるアクリル粒子を、バインダー樹脂
としてポリエステル樹脂(高松油脂製、Ｔｇ２０℃)を用
い、バインダー樹脂に対し硬化剤である脂肪族イソシア
ネートを２０％、粒子の配合量を６．0ｗｔ％とし、固
形分比が２４ｗｔ％になるようにトルエンとエチルメチ
ルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、厚さ
１８８μmのＰＥＴフィルム(引っ張り弾性率：４３００
ＭＰａ)上に塗布を行いＡ面側の突起物を得た。次に、
平均粒子径が１．５μｍのアクリル粒子、バインダー樹
脂としてアクリル／メラミン樹脂を用い、バインダー樹
脂に対し、粒子の配合量を、２．０ｗｔ％とし、固形分
比が１５ｗｔ％になるようにトルエンとエチルメチルケ
トンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、ＰＥＴフ
ィルムのＢ面側に塗布を行い、易滑面を得た。

【００６７】次にＡ面側に、ＤＣマグネトロンスパッタ
法で、２％のＡｌ₂Ｏ₃がドープされた酸化亜鉛（純度９
９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴ
ンをスパッタガスとして、酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになる
ように下地層を形成した。続いて、このフィルムをスパ
ッタ装置から取り出すことなく、同様にＤＣマグネトロ
ンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲットとと
し、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして銀
を膜厚２００ｎｍになるように成形した。続いて、この
フィルムをスパッタ装置からと取り出すことなく、ＤＣ
マグネトロンスパッタ法で、２％のＡｌ₂Ｏ₃がドープさ
れた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純
度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、酸化亜
鉛を膜厚５ｎｍになるように保護層を形成した。この粘
着性反射体１８８μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタ
レート）フィルムとラミネーターで貼り合わせ図１に示
すような所望の反射体１を得た。この反射体１を日立自
記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球
を設置し、波長５５０ｎｍにおける各反射率を金属層側
から測定したところ、全反射率、拡散反射率はそれぞれ
９６．０％、５．３％であり、拡散率は５．５％であっ
た。次にＡ面側の突起物の高さを表面形状測定装置（Ｄ
ＥＫＴＡＫ３：Ｖｅｅｃｏ社製）で１０点測定したとこ
ろ、その平均値は、２５．５μm、光学顕微鏡で最大幅
を１０点測定したところ、その平均値は３０．５μｍで
あった。また、１ｍｍ²当たり最大幅２０〜４０μｍ、
高さ１５〜３５μｍの粒子数は１９個存在した。測定後
の反射体１を、恒温恒湿槽に入れ、６０℃、９０％ＲＨ
の湿熱条件で５００時間放置した。５００時間経過後、
反射体１を取り出して表面を観察したところ、金属の凝
集は見られなかった。また、再度分光光度計により、全
反射率、拡散反射率を測定した結果、反射率が９５．３
％、拡散反射率が５．６％と湿熱前とほとんどかわらな
かった。 （ランプリフレクターの作製）厚さ３８μｍのＰＥＴ上
に、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、２％のＡｌ₂ Ｏ₃が
ドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲット
とし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとし
て、酸化アルミニウムが２％ドープされた酸化亜鉛を膜
厚５ｎｍになるように形成した。続いて、このシートを
スパッタ装置から取り出すことなく、同様にＤＣマグネ
トロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲット
ととし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとし
て銀を膜厚２００ｎｍになるように成形した。続いて、
このシートをスパッタ装置から取り出すことなく、２％
のＡｌ2Ｏ3がドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）
をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッ
タガスとして、酸化アルミニウムが２％ドープされた酸
化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成した。得られたシ
ートのＰＥＴ面とと厚さ２ｍｍの真鍮板とをアクリル系
接着剤を介して貼り合わせた。１８０度ピール強度で測
定したところ２００ｇ／ｃｍであった。日立自記分光光
度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置
し、５５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行
ったところ、反射率９６．８％であった。続いて、この
シートの光熱劣化試験を行った。光源には山下電装(株)
のソーラシミュレータ型式ＹＳＳ−５０５Ｈを用い、照
射強度５００ｍＷ／ｃｍ2の擬似太陽光下で行った。ま
た反射シートは１００℃に加熱した。この条件下で３０
０時間経過した後、反射率を測定したところ、９６．０
％であった。

【００６８】この反射シートを、所定の形状に打ち抜き
加工を行った後、反射相を内側に折り曲げ加工して（曲
率半径４ｍｍ）図３に示すようなランプリフレクターを
得た。 （バックライト評価）上記の導光板下反射体を導光板６
０の下面に反射層側が上になるようにセットし、上記の
ランプリフレクターを図４の様に取り付けサイドライト
型バックライト装置を得た。この状態で、光源７０を点
灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を測定すると
ともに、導光板下反射体に故意に歪みを与えた場合の、
面光源の輝度ムラについて観察した結果を表１に示す。

【００６９】実施例２ アクリル粒子の系が３５μｍとした以外は実施例１と同
様にして導光板下反射体を作製し、バックライト装置評
価を行った。結果を表１に示した。

【００７０】

【表１】

【００７１】以下は、比較例である。

【００７２】比較例１は、拡散反射率が本発明より高い
場合の例であり、輝度ムラが見られる問題が生じた。

【００７３】比較例１ 突起物となる粒子として平均粒子径５μmのアクリル粒
子を、バインダー樹脂としてアクリル樹脂を用い、配合
率をそれぞれ２．０ｗｔ％とし、固形分比が２４％にな
るようにトルエンとエチルメチルケトンとからなる溶剤
を用いて溶液を調合した後、片側をサンドブラスト処理
された厚さ１８８μmのＰＥＴフィルムの未処理面側に
塗布を行いＡ面側の突起物を得た。以下は実施例１と同
様にして、導光板下反射体を作製し、バックライト評価
を行った。結果を表１に示した。

【００７４】比較例２は、反射シートの基材がランプ側
に配置された例であり、輝線が発生する問題が生じた。

【００７５】比較例２ 反射シートの反射層側と真鍮板とを貼り合わせたこと以
外は実施例１と同様にしてランプリフレクターを作製
し、バックライト評価を行った。結果を表１に示した。

【００７６】比較例３は、導光板下反射体として拡散反
射率が非常に高い白色ＰＥＴを使用した例である。輝度
不足と輝線発生の問題が生じた。

【００７７】比較例３ 導光板下に用いる反射体に白色ＰＥＴを使用し、実施例
１と同様の観察を行った結果を表１に示す。

【００７８】表１からわかるように、実施例１，２とも
に輝度ムラの発生が無く、十分な輝度が得られ、バック
ライトとして良好な特性を示した。比較例１では、拡散
反射率が高く輝度ムラが発生し、比較例２では十分な輝
度が得られなかった。

【図面の簡単な説明】

【図１】は、本発明における導光板下反射体の一例を示
す断面図である。

【図２】は、本発明におけるランプリフレクターの一例
を示す断面図である。

【図３】は、本発明におけるランプリフレクターの一例
である。

【図４】は、本発明のサイドライト型バックライト装置
の一例である。 （符号の説明） １０ 保護層 ２０ 銀を主体とする層 ３０ 下地層 ４０ 粒子 ５０ 基板 ６０ 導光体 ７０ 光源 ８０ ランプリフレクター ９０ 支持体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｆ２１Ｙ 103:00 Ｆ２１Ｙ 103:00 (72)発明者 吉田 浩隆 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 (72)発明者 福田 伸 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 DA04 DA10 DA16 2H091 FA14Z FA23Z FA42Z FB02 FC02 GA01 LA16 LA18

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】少なくとも基材と反射層とからなり、前記
   反射層が少なくとも（ａ）下地層、（ｂ）銀を主体とす
   る金属層、（ｃ）保護層を（ａ）（ｂ）（ｃ）の順に積
   層してなるランプリフレクターが導光板の側面に設置さ
   れた光源を反射層を内側にして覆うように配置され、か
   つ、少なくとも基板と反射層とからなり、全反射率に対
   する拡散反射率の割合（拡散率）が１％〜５０％である
   反射体が光源から入射される光を上面に出射する導光板
   の下面に配置されていることを特徴とするサイドライト
   型バックライト装置。
2. 【請求項２】 ランプリフレクターの反射層側の曲率半
   径が５ｍｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載
   のサイドライト型バックライト装置。
3. 【請求項３】 導光板下反射体が最大幅０．１μｍ〜５
   ０μｍ、高さ０．１μｍ〜４５μｍの突起物を１ｍｍ²
   当たり２個以上１００個以下有することを特徴とする請
   求項１に記載のサイドライト型バックライト装置。
4. 【請求項４】 請求項１〜３記載のいずれかのサイドラ
   イト型バックライト装置を備えることを特徴とする液晶
   表示装置。