JP2003297122A - 反射体及びそれを用いたサイドライト型バックライト装置および液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【解決課題】 高輝度で耐久性、生産性に優れ、さらに
反射体に歪みが発生した場合に、その歪みによる輝度ム
ラを防止可能な反射体、輝線の発生を防止する反射体、
該反射体を組み込んだサイドライト型バックライト装
置、該反射体を用いたランプリフレクターおよび液晶表
示装置を提供する。 【解決手段】 粘着性または接着性を有する層の上に直
接または樹脂層を介して反射層が積層され、反射層が
（ａ）下地層、（ｂ）銀を主体とする金属層、（ｃ）保
護層を少なくとも（ａ）（ｂ）（ｃ）の順に積層してな
るものであることを特徴とする反射体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、反射率、輝度が高く輝
度ムラの少ない反射体、さらにはこれを用いた液晶表示
装置などに適用されるサイドライト型のバックライト装
置、ランプリフレクターおよび液晶表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイはこれまでのＣＲＴ
（Cathode Ray Tube）ディスプレイに比べ、薄型であり
省スペース化できること、また、低電圧で作動するこ
と、消費電力が少なく省エネルギー化できるなどの特徴
から、中小型機器のディスプレイを中心に広く用いられ
ている。

【０００３】現在広く使用されている液晶ディスプレイ
は、光源にバックライトを用いる透過型液晶ディスプレ
イである。この液晶ディスプレイにおける表示の見やす
さは、液晶自身の性能もさることながら、バックライト
の性能によるところも大きくなっている。バックライト
の方式は近年の液晶ディスプレイのさらなる軽量、薄型
化が必須事項となっていることや、輝度の均一性や、光
源からの熱が液晶パネルに伝達しにくいなどの理由よ
り、光源の前方に反射板を置く直下型ではなく、導光板
を用い、その一端に配置された光源からの光を多重反射
させることで面光源化するサイドライト式バックライト
が多く用いられている。

【０００４】導光板の下には、白色ＰＥＴ（ポリエチレ
ンテレフタレート）フィルム等からなる乱反射部材が配
設されている場合が多く、この乱反射部材で光を拡散さ
せることにより、均一な輝度を得ることが出来る。しか
しながら、この乱反射部材では、正反射成分が殆どない
ため、全体としては均一ではあるが十分な輝度は得るこ
とができないという問題がある。また、透明性または透
光性を有するＰＥＴフィルム上にアルミニウムを蒸着し
たシートを用いると、白色ＰＥＴに比べ輝度は向上する
ものの、拡散反射成分が無いため、シートの僅かな歪み
が輝度ムラに大きく影響してしまい、美しい画像を得る
ことができない。この問題を解決するため、表面を粗面
化したフィルムに金属を蒸着したシートが開発された
が、用いる金属にアルミニウムを使うと、耐久性は優れ
るがそれ程高い輝度が得られない。また、可視光域で最
も反射率の高い銀を使うと、十分な輝度が得られるもの
の、銀は耐久性が乏しい為、劣化が早く、輝度が経時的
に低下してしまうという問題があった。また、蒸着法で
反射体を得る際、生産性の良い製造方法としてロールト
ゥロール法があるが、剛性の高い反射体を得るには枚葉
方式での生産となるため生産性が低いことが問題であっ
た。

【０００５】バックライト部のランプリフレクターには
近年ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）／銀薄膜層
／接着層／アルミ板からなるいわゆる銀反射板や、ＰＥ
Ｔ／銀薄膜層／白塗装／接着層／アルミ蒸着層／高分子
フィルム／白塗装からなるいわゆる銀反射シートが使用
される例がある。これらは、透明高分子フィルムである
ＰＥＴを銀の保護層として用いることにより、従来から
問題点であった大気暴露による銀の硫化、酸化を防止
し、高反射率を維持することことができる。例えば、上
記銀反射板の信頼性を例に挙げると、高温試験（８０
℃）で１０００時間行ったが、硫化などによる黒化は観
察されず、また、反射率の低下も観察されない。しかし
ながら、８０℃の高温下で、数百から数千時間で銀が紫
色に変色し、反射率が急激に低下する。また、耐湿熱性
試験（６０℃、相対湿度９０％）では、点状の白点が多
数発生し、反射率が低下するという問題がある。またＰ
ＥＴフィルム層内での反射が起こることにより、輝度を
高めると輝線が発生するという問題があった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、高輝度で耐
久性、生産性に優れ、さらに反射体に歪みが発生した場
合に、その歪みによる輝度ムラを防止可能な反射体、輝
線の発生を防止する反射体、該反射体を組み込んだサイ
ドライト型バックライト装置、該反射体を用いたランプ
リフレクターおよび液晶表示装置を提供することを目的
とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するため鋭意検討した結果、特定の粘着層、ま
たは接着層上に直接または樹脂層を介して多層構造を有
する反射層を備えた反射体が上記の問題を解決できるこ
とを見出し、本発明を完成した。

【０００８】本発明は粘着性または接着性を有する層と
反射層とからなり、反射層が（ａ）下地層、（ｂ）銀を
主体とする金属層、（ｃ）保護層を少なくとも（ａ）
（ｂ）（ｃ）の順に積層してなるものであることを特徴
とする反射体である。本発明に従えば、高輝度で耐久
性、生産性に優れた反射体を得られる。

【０００９】本発明は、少なくとも基板と粘着性または
接着性を有する反射層とを貼り合わされてなり、反射層
が（ａ）下地層、（ｂ）銀を主体とする金属層、（ｃ）
保護層を少なくとも（ａ）（ｂ）（ｃ）の順に積層して
なるものであることを特徴とする反射体である。本発明
に従えば、高輝度で耐久性、生産性に優れた反射体を得
られる。

【００１０】本発明においては、（ａ）下地層が、金、
銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデ
ン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタ
ン、もしくは、パラジウムから選ばれた金属の単体およ
び／またはこれらの２種以上からなる合金で、厚さが５
ｎｍ以上５０ｎｍ以下の金属層および／または透明酸化
物で、厚さが１ｎｍ以上２０ｎｍ以下の透明酸化物層で
あることは好ましい態様である。本態様に従えば、十分
なバリヤー効果が得られ、銀を主体とする金属層形成時
に凝集が発生せず、また粘着剤、接着剤と反射層との密
着性にも優れる。

【００１１】本発明においては（ｂ）銀を主体とする金
属層が、銀単体或いは、不純物として金、銅、ニッケ
ル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタ
ル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウ
ムから選ばれる少なくとも１種類の金属を含有している
もの、或いは、銀を主体とした合金からなり、その厚み
が、７０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることは好ましい
態様である。 本態様に従えば、十分な厚みの金属層に
より所望の反射率を実現できる。

【００１２】本発明においては（ｃ）保護層が、金、
銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデ
ン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタ
ン、もしくは、パラジウムから選ばれた金属の単体およ
び／またはこれらの２種以上からなる合金で、厚さが５
ｎｍ以上５０ｎｍ以下の金属層および／または透明酸化
物で、厚さ１ｎｍ以上、２０ｎｍ以下の透明酸化物層で
あることは好ましい態様である。本態様に従えば、十分
なバリヤー効果が得られ、銀を主体とする金属層形成時
に凝集が発生しない。

【００１３】本発明は、全反射率に対する拡散反射率の
割合（拡散率）が１％〜５０％であることを特徴とす
る。本発明に従えば、人間の受光感度に適した反射率を
実現できる。

【００１４】本発明は、波長５５０ｎｍにおける全反射
率が９０％以上、かつ、拡散反射率が１０％以下であ
る。本発明に従えば、人間の受光感度に適した反射率を
実現できる。

【００１５】本発明は、粘着性または接着性を有する層
が最大幅０．１μｍ〜５０μｍ、高さ０．１μｍ〜４５
μｍの突起物を１ｍｍ²当たり２個以上１００個以下有
することを特徴とする。本発明に従えば、最適な反射率
を実現できる。

【００１６】本発明においては、前記突起物の最大幅が
１０μｍ〜５０μｍ、高さが５μｍ〜４５μｍであるこ
とは好ましい態様である。本態様に従えば、最適な反射
率を実現できる。

【００１７】本発明は、前記の反射体を側面に設置され
た光源から入射される光を上面に出射する導光板の下面
に配設したことを特徴とするサイドライト型バックライ
ト装置である。 本発明に従えば、適度な反射率を有す
ることで、液晶表示装置などのバックライトに備えた場
合、輝度ムラを解消もしくは著しく低減するとともに、
高い輝度を同時に実現することが可能である。

【００１８】本発明は前記の反射体を用いたランプリフ
レクターである。本発明に従えば、高輝度で輝線の発生
を防止することが出来る。

【００１９】本発明においては、基板が、アルミ板、真
鍮板、ステンレス板、鋼板、またはプラスチック製の板
またはシートであるランプリフレクターは好ましい態様
である。本態様に従えば、用途に応じて軽量、放熱性、
強度、耐腐食性、成型性に優れたランプリフレクターを
作り分けることが出来る。

【００２０】本発明においては、打ち抜き加工を行いリ
フレクターを製造することは好ましい態様である。本態
様に従えば、生産性よく、リフレクターを製造すること
が出来る。

【００２１】本発明は、光源を覆うことの出来るように
反射層側を内側に折り曲げた形状で使用することを特徴
とするリフレクターである。本発明に従えば、輝線の発
生を防止できる。

【００２２】本発明においては、反射層側の曲率半径が
５ｍｍ以下であるランプリフレクターは好ましい態様で
ある。本態様に従えば、輝線の発生を防止できる。

【００２３】本発明は、前記のサイドライト型バックラ
イト装置および／または前記のランプリフレクターを備
えることを特徴とする液晶表示装置である。本発明に従
えば、高輝度で輝度ムラや輝線発生が防止された表示装
置を提供できる。

【００２４】本発明の反射体用基板を用いた反射体を組
み込んだサイドライト型バックライト装置は、反射体に
歪みが発生した場合でも、その歪みによる輝度ムラが生
じないため、該サイドライト型バックライト装置に備え
ることで視認性のよい液晶ディスプレイを提供すること
ができる。本発明のランプリフレクターは最外層が金属
反射面である為、輝線の発生を防止できる。また、該反
射体は、従来の反射体に比べ高輝度であり、かつ耐久性
にも優れるため、長期にわたり、均一で、高輝度な光を
得られることから、液晶の表示能力を向上させることが
できるため、本発明の工業的意義は大きい。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下図面を参考にして本発明の好
適な実施例を詳細に説明する。図１は、本発明の実施の
一形態である反射体１の例を示す断面図である。本発明
の反射体は粘着、接着層５０、粒子４０、下地層３０、
銀を主体とする層２０、保護層１０とからなる。図２
は、本発明の実施の一形態である反射体２の例を示す断
面図である。本発明の反射体は基板６０と粘着、接着層
５０、粒子４０、下地層３０、銀を主体とする層２０、
保護層１０とからなる。図３、図４は、本発明の実施の
一形態である反射体３の例を示す断面図およびランプリ
フレクター３の図である。本発明の反射体３は基板６０
と粘着、接着層５０、下地層３０、銀を主体とする層２
０、保護層１０とからなり、保護層側に折り曲げ加工さ
れる。

【００２６】図５は、反射体２を備えたサイドライト型
バックライト装置の斜視図である。サイドライト型バッ
クライト装置は、導光板７０の裏面に、保護層１０が接
するように反射体１が配置され、側面に光源８０とラン
プリフレクター９０とが備えられている。光源８０から
の光は、ランプリフレクター、反射体１によって反射さ
れ、液晶表示パネルの背面に取り付けることで面光源装
置として機能する。

【００２７】本発明の反射体１は、粘着層、接着層に少
なくとも（ａ）下地層、（ｂ）銀を主体とする層、
（ｃ）保護層が形成されてなる。

【００２８】（ａ）下地層の好ましい例としては、銀と
は異なる金属層や金属酸化物層を挙げることが出来る。
具体的には、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タング
ステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、
マンガン、チタン、パラジウム、ジルコニウム、ビスマ
ス、スズ、亜鉛、アンチモン、セリウム、ネオジウム、
ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウムなどの金
属単体、もしくは２種以上からなる合金、インジウム、
チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチ
モン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、ト
リウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、これら酸
化物の混合物や硫化亜鉛等の金属化合物が例示できる。
これらの中でも金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タン
グステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウ
ム、マンガン、チタン、パラジウム単体、またはこれら
の２種類以上からなる合金、酸化亜鉛、酸化インジウ
ム、酸化スズ、酸化珪素が好ましく、特に好ましくは酸
化アルミニウムが５重量％以下でドープされた酸化亜
鉛、ガリウムが１０重量％以下でドープされた酸化亜
鉛、インジウムとスズとの酸化物（ＩＴＯ）または二酸
化珪素などの透明性および透光性を有する酸化物を挙げ
ることが出来る。またこれらの２種類以上を組み合わせ
たり、多層化して用いることも出来る。

【００２９】（ｂ）銀を主体とする金属層には、銀単体
或いは、不純物として金、銅、ニッケル、鉄、コバル
ト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、イ
ンジウム、マンガン、チタン、パラジウムなどを少量含
有しているものや銀を主体とした合金が好ましく用いら
れる。これらの不純物の含有量は、金属の種類によって
異なるが、０．００２〜８重量％であり、好ましくは
０．００４〜５重量％、特に好ましくは０．００５〜４
重量％である。

【００３０】（ｃ）保護層には上記（ａ）下地層と同様
の金属や酸化物の他、これらと銀を主体とした合金から
選ばれる２種類以上を組み合わせたり、多層化して用い
ることが出来る。

【００３１】これらの中でも金属酸化物、好ましくは、
インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、
亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、
ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化
物、これら酸化物の混合物、特に好ましくは酸化アルミ
ニウムが５重量％以下でドープされた酸化亜鉛、ガリウ
ムが１０重量％以下でドープされた酸化亜鉛、インジウ
ムとスズとの酸化物（ＩＴＯ）、二酸化珪素などの透明
酸化物が用いられる。

【００３２】上記の下地層、銀を主体とする金属層およ
び保護層である金属薄膜層の形成法としては、主として
湿式法及び乾式法があるが、本発明においては乾式法を
採用することが好ましい。乾式法とは、真空成膜法の総
称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空
蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーテ
ィング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ
法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜する
ロール・ツー・ロール方式が可能な真空成膜法により粘
着層、接着層上に成膜する方法が好ましく用いられる。

【００３３】真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビー
ム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇
させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏｒｒ）
以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなど
のガスを１３．３ｍＰａ以上で導入し、高周波もしくは
直流のグロー放電を起こしても良い。

【００３４】スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを用い
る。スパッタ法においては、原材料として金属の板状の
ターゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウ
ム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使
用するが、好ましくはアルゴンを用いる。ガスの純度は
９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％以
上である。また、透明酸化膜の形成には、真空成膜法が
好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使用され、ス
パッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプ
トン、キセノンなどを使用し、条件によっては酸素ガス
を用いて行うこともある。

【００３５】上記の（ａ）下地層、（ｂ）銀を主体とす
る層、（ｃ）保護層は（ａ）（ｂ）（ｃ）の順に積層さ
れるが３層に限定されるものではなく（ａ）（ｂ）
（ｃ）（ｂ）（ｃ）（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｂ）（ａ）
（ｂ）（ｃ）の様な最外層が保護層であれば多層構造で
あっても良いが、層数が増えると生産効率が低下する傾
向にあるので、好ましくは３〜２０層より好ましくは３
〜１５層である。粘着層、接着層上に形成する薄膜の厚
さは、反射体１を構成した際に光線透過率が１％未満に
なるように考慮して決められる。本発明の反射層におけ
る各層の厚みは、以下のようにすることが好ましい。 （ａ）下地層の厚みは、金属層を用いた場合、５ｎｍ以
上５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは５ｎｍ以上
３０ｎｍ以下である。該層の厚みが５ｎｍより薄い場合
は、所望のバリヤー効果が得られず、（ｂ）銀を主体と
する金属層に凝集を発生させる場合がある。また、５０
ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無い。また、透明
酸化物を用いた場合、透明酸化物層の厚みは、１ｎｍ以
上２０ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは、５ｎｍ
以上１０ｎｍ以下である。透明酸化物層の厚みが１ｎｍ
より薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、
（ｂ）銀を主体とする金属層に凝集を発生させる。ま
た、１０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無い。

【００３６】（ｂ）銀を主体とする金属層の厚みは、７
０ｎｍ以上４００ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは
１００ｎｍ以上３００ｎｍ以下、さらに好ましくは１３
０ｎｍ以上２５０ｎｍ以下である。銀を主体とする層の
厚みが７０ｎｍより薄い場合は、十分な金属層の形成が
出来ていないため、所望の反射率を得ることが出来ない
場合がある。また、４００ｎｍより厚くしてもその効果
に変化はない。

【００３７】（ｃ）保護層の厚みは、金属層を用いた場
合、５ｎｍ以上５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましく
は５ｎｍ以上３０ｎｍ以下である。該層の厚みが５ｎｍ
より薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、
（ｂ）銀を主体とする金属層に凝集を発生させる場合が
ある。また、５０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が
無い。また、透明酸化物を用いた場合、該層の厚みは、
１ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましく
は、５以上１０ｎｍ以下である。透明酸化物層の厚みが
１ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られ
ず、（ｂ）銀を主体とする金属層に凝集を発生させる。
また、１０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無い。

【００３８】前記各層の膜厚の測定方法としては、触針
粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶
振動子法などの方法があり、特に水晶振動子法では成膜
中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得るのに適
している。また、前もって成膜の条件を定めておき、試
料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を調べた
上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もある。

【００３９】本発明で用いられる粘着剤は上述の下地
層、銀を主体とする層、保護層等を形成する際に安定な
ものであれば特に制限はないが、具体的に例示すると、
ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着
剤、ビニル系粘着剤等である。中でもアクリル系粘着剤
は、安価であるために広く用いられる。

【００４０】本発明で用いられる接着剤は、シート状に
成形できるものが好ましく、具体的には、シリコン系接
着剤、ポリエステル系接着剤、アクリル系接着剤などを
用いることができる。これらの接着剤は、ホットメルト
型であることが好ましい。

【００４１】本発明の反射体は粘着性または接着性を有
するので、セパレータを貼合しておくと粘着性、接着性
を損なうことなく操作性が向上するので好ましい。ま
た、反射層側には傷付き防止等の目的でマスキングフィ
ルムを貼合する事も出来る。上記の、粘着剤、接着剤
は、その厚みは、実質上０．５μｍ〜１００μｍ、好ま
しくは５〜８０μｍである。

【００４２】本発明の上記反射体は、ロールトゥロール
プロセスで生産することが出来るため生産効率が良い。
また、種々の基板に貼り合わせることで、多種多様な反
射体を容易に形成することが出来る。本発明の反射体２
は反射体１を基板６０に貼り合わせることによって得ら
れる。

【００４３】基板６０は、物理的、化学的に安定なガラ
ス板、セラミック板等の板状、シート状の無機材料、高
分子シート、高分子フィルム等の有機材料等が適宜用い
られる。これらの中でも、形状の自由度が高く、例えば
（ａ）下地層、（ｂ）銀を主体とする層、（ｃ）保護層
を作成する際にロールツーロールプロセスが適用できる
高分子フィルムが望ましい。

【００４４】本発明の反射体２の基板６０の好ましい高
分子フィルムは、例えばポリエチレンテレフタレート
（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエス
テル類、ビスフェノールＡ系ポリカーボネートなどのポ
リカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピレン、環
状オレフィン共重合体、エチレン-酢酸ビニル共重合体
等のポリオレフィン類、セルローストリアセテートなど
のセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニ
ルブチラール類などのビニル系樹脂、ポリスチレン類、
ポリイミド類、ナイロン等のポリアミド類、ポリエーテ
ルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹
脂、フッ素系樹脂、ポリエーテルーテルケトン類、ポリ
ウレタン類、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル
類、ポリメタクリル酸、ポリメタクリル酸エステル類、
ポリアクリロニトリル、ポリメタクリロニトリルなどの
ニトリル類、ポリエチレンオキシドなどのポリエーテル
類、エポキシ樹脂、ポリビニルアルコール類、ポバール
等のポリアセタール類等各種プラスチックからなるフィ
ルムが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるもの
ではなく、結晶化温度やガラス転移点が室温より高く、
平滑な表面を持つものであれば使用できる。なかでもポ
リエチレンテレフタレート等のポリエステル類、ポリカ
ーボネート類、ポリアミド類が好ましい。

【００４５】使用される高分子フィルムの厚みは、通常
は１〜２５０μｍであり、好ましくは５〜２００μｍ、
特に好ましくは１０〜２００μｍである。本発明の基板
６０は、特に後述する導光板下反射体に用いられる場
合、その引張弾性率や曲げ弾性率が１００ＭＰａ以上、
好ましくは５００ＭＰａ以上、更に好ましくは８００Ｍ
Ｐａ以上、特に好ましくは１０００ＭＰａ以上である。
また熱収縮率は８０℃で０．５％以下のものが好まし
い。

【００４６】本発明の基板６０は、特にランプリフレク
ター３に用いられる場合、下記のような金属板が用いら
れる。即ち、アルミニウム、アルミニウム合金、ステン
レス鋼、鋼亜鉛合金、鋼等である。これらの金属にはそ
れぞれ長所があり、次のように使い分けることができ
る。アルミニウムは軽量かつ加工性に優れ、また、熱伝
導率が高くそれにかかる熱を効果的に大気中に逃がすこ
とができるため、ランプ発光によって反射体が加熱され
るＬＣＤ用バックライトに好適に利用できる。アルミ合
金は軽量かつ機械的強度が強い。ステンレス鋼は機械的
が適度にあり、また耐蝕性に優れている。鋼亜鉛合金す
なわち黄銅または真鍮は、機械的強度の強いことに加
え、はんだづけが容易なため電気的端子をとり易い。鋼
は安価なため、コストを抑える必要がある時に好ましく
用いられる。また形状記憶合金を用いれば加工性に優れ
る等の利点がある。

【００４７】プラスチックの板やシート を用いること
も出来る。用いられる材質としては、二軸延伸ポリプロ
ピレン、ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ））、ポ
リエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンテレ
フタラート（ＰＢＴ）、アクリル樹脂、メタアクリル樹
脂、ポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）、ポリエーテル
エーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリアリレート、ポリエ
ーテルイミド、ポリイミド、環状オレフィンポリマーな
どのホモポリマーまたはコポリマーがあげられる。特に
好ましくは、ポリエチレンテレフタラートフィルムであ
り、該高分子フィルムが最外層である場合には外観上白
色のものが好まれる。これらの材料は一般的に金属板に
比べて軽量化が図れる特徴がある。支持体としての高分
子フィルム、シートの厚みは、コスト低減及び、曲げや
すさから、薄い方が好ましく、反射体１とのラミネート
する際の取扱い（ハンドリング）性及び、形状保持性か
らは、厚い方が好まれる。好ましいフィルムの厚みは、
５μｍ以上５００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以
上２００μｍ以下であり、さらに好ましくは１５μｍ以
上１００μｍ以下である。また、後述する折り曲げ加工
が困難な場合は、環状オレフィンポリマー等の形状記憶
樹脂を用いて解決することもできる。

【００４８】本発明において、反射体２の反射面側から
測定した反射率の波長５５０ｎｍにおける拡散反射率と
全反射率の比（拡散反射率／全反射率：拡散率）は１〜
５０％であることが好ましく、より好ましくは１〜２０
％、特に好ましくは１〜１７％、更に好ましくは１〜１
５％である。また、全反射率は通常８５％以上、好まし
くは９０％以上、特に好ましくは９０〜９９％であり、
拡散反射率は５０％以下、好ましくは２０％以下、より
好ましくは１７％以下、特に好ましくは１〜１０％であ
る。なお、５５０ｎｍは、人間の眼の受光感度が最も高
くなる波長であり、実際の視認性を評価するに適してい
る。

【００４９】上記の拡散反射率は、例えば粘着層、接着
層上もしくは反射層上に突起を形成することによって制
御することができる。上記の突起物の最大幅は０．１〜
５０μｍであり、好ましくは１〜５０μｍ、より好まし
くは１０〜５０μｍ、更に好ましくは１５〜４５μｍ、
特に好ましくは２０〜４０μｍである。また上記突起物
の高さは、０．１〜４５μｍであり、好ましくは１〜４
５μｍ、より好ましくは５〜４５μｍ、更に好ましくは
１０〜４０μｍ、特に好ましくは１５〜３５μｍであ
る。また、突起物の形状は特に制限はなく、粒子型、ド
ーム型、山型、ピラミッド型、円柱型、角柱型、台形、
プリズム型、不定形等を例示することが出来る。また単
段形状であっても多段形状であっても良くこれらの形状
が混在していたり、多段に組み合わさっていても良い。
突起物は、１ｍｍ²当たり２個以上、１００個以下有す
ることが好ましく、更に好ましくは５個以上９０個以下
である。

【００５０】これらの突起物の作成方法として具体的に
は、（１）粒子等の固形物を塗布させる方法、（２）粘
着剤、接着剤をフィルム、シート状に成形する際に粒子
などの固形物を添加する方法、（３）粒子などの固形物
を加熱、柔化させた粘着層、接着層に散布後冷却して定
着させる方法、（４）粘着層、接着層に凹凸形状を有す
るロールや型押しつけて突起物として転写する方法、
（５）マイクロ金型を利用して形成する方法 等を適用
させることが出来る。

【００５１】上記の突起物を形成する方法の中でも特に
表面状態の調整が比較的容易な、粒子を粘着層または接
着層成型時に粒子を添加する方法や粘着層または接着
層、反射層上に塗布する方法が好ましい。用いられる粒
子としては、例えば、アクリル、ポリスチレン、ビニル
ベンゼン、スチレンメタクリレート、スチレンアクリレ
ート、スチレンブタジエン等の高分子（有機）粒子をは
じめ、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化
鉛（鉛白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭
酸バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸
ソーダなどからなる無機微粒子や、酸化錫、酸化インジ
ウム、酸化カドミウム、酸化アンチモンなどの導電性透
明微粒子なども用いることができるが、必ずしもこれら
に限定されるものではない。特にアクリル樹脂またはシ
リカを用いることが好ましい。

【００５２】本発明において用いられる粒子４０は、平
均粒子径が０．１〜５０μｍ、好ましくは１〜５０μ
ｍ、より好ましくは１０〜５０μｍ、更に好ましくは１
５〜４５μｍ、特に好ましくは２０〜４０μｍの粒子を
使用することが好ましい。上記粒子４０の粒径分布は小
さい方が好ましく、平均粒子径に対する粒子径の標準偏
差の割合は５０％以下であることが好ましい。さらに好
ましくは４０％以下である。 但し、必要に応じて２種
以上の粒子を用いることも出来る。この場合、主成分の
粒子の割合は５０％以上、好ましくは７０％以上、より
好ましくは７５％以上、特に好ましくは８０％以上であ
る。

【００５３】平均粒子径の分布は、少量の粒子を分散さ
せた溶液を動的光散乱法により測定することで求めるこ
とができる。また、粒子を撮影したＳＥＭ（Scanning E
lectron Microscope）写真から無作為に選んだ１００個
の粒子径より求めることもできる。また、粒子径は、Ｓ
ＥＭ写真以外に光学顕微鏡を用いても読みとることがで
きる。また、得られた写真または像を、画像処理するこ
とからも粒径分布を求めることができる。

【００５４】上記の粒子４０は、塗布する場合バインダ
ーとして用いられる樹脂中に分散させた状態で塗布され
る。バインダー樹脂としては、例えばポリメタクリル酸
メチルなどのアクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹
脂、ポリメタアクリルニトリル樹脂、エチルシリケート
より得られる重合体などの珪素樹脂、フッ素系樹脂、ポ
リエステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、アセテート系樹
脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系
樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレ
フィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、尿素樹脂、メラミ
ン樹脂、エポキシ樹脂や、これらの混合物などが挙げら
れるが、必ずしもこれらに限定される物ではない。これ
らは粘着層、接着層５０や保護層１０と粒子４０との密
着性を考慮して選択される。なかでも、ポリエステル系
樹脂、アクリル樹脂が好ましい。

【００５５】通常これらの粒子をバインダー樹脂に分散
させるためには溶媒を用いる。溶媒としては、トルエ
ン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、イソプロピルア
ルコールなどが好ましく用いられる。これらは塗布作業
に一般的に用いられる溶媒であり、これら以外でも粘着
性または接着性を有する層や粒子４０に影響を与えない
溶媒であれば、問題なく使用できる。また、必要に応じ
てイソシアネート類やメラミン類などの架橋剤、ぬれ剤
や増粘剤、分散剤、消泡剤、などの添加剤を加えてもよ
い。

【００５６】上記粒子４０のバインダー樹脂に対する配
合率は、粒子がバインダー樹脂に対して０．１ｗｔ％以
上１０ｗｔ％以下であることが好ましい。配合率が、
０．１ｗｔ％より小さい場合、必要な反射光の拡散特性
が得られないため好ましくない。また、１０ｗｔ％より
大きい場合は、光の拡散性が強くなりすぎるため好まし
くない。

【００５７】粒子４０を含む塗工液は、粘着層、接着層
５０や保護層１０上にｗｅｔ状態で塗工量１０ｇ／ｍ²
以上、４０ｇ／ｍ²で塗布することが好ましい。粒子の
配合率は、反射体１表面の粒子密度に反映され、反射体
１、２の拡散率に影響を及ぼす。また塗布量は、バイン
ダー層の厚みに反映され、粒子４０の頂上と反射層２０
との高さの差つまり、導光板７０と反射体１、２との接
触時の間隔に影響を及ぼす。塗布液量を１０ｇ／ｍ²よ
り小さくすると、塗布液中に含まれる粒子４０の量が不
足し、必要な反射光の拡散特性が得られない場合があり
好ましくない。また、塗布液量を４０ｇ／ｍ²より大き
くすると、粒子４０がバインダー樹脂に埋もれてしま
い、必要な突起高さが得られない場合があり好ましくな
い。つまり、上述範囲で粒子配合量と塗布液の塗布量と
を調整することで、粘着層、接着層５０や保護層１０上
に１ｍｍ²当たり、２個以上１００個以下の突起物を得
ることができる。また、バインダー樹脂表面から粒子頂
部までの突起物高さは、触診粗さ計や表面形状測定装置
などにより容易に測定することができる。

【００５８】上記の粒子４０とバインダー樹脂を含む混
合液を粘着層、接着層５０や保護層１０に塗布する方法
としては、広い粘度範囲にわたって塗布が可能であり、
塗工中にも塗膜厚さを調整でき、また塗膜厚さを大幅に
変えることが出来るなどの特徴をもつ、ロールコータ
法、リバースロールコータ法があり、比較的運転技術を
要さず、幅広でも塗工厚さが均一で、薄膜コーティング
出来るなどの特徴をもつクラビアコータ法、高速塗工、
高生産性や、塗工厚さの均一性、広範囲に塗装が出来る
などの特徴をもつダイコート（押出）法、などが挙げら
れるが、いずれの方法においても上記の突起物密度およ
び突起物高さを実現できる。

【００５９】粘着層または接着層形成の際に粒子を添加
する方法に関しては粒子の添加量は粘着剤、添加剤に対
して０．０５〜５ｗｔ％であることが好ましい。該粘着
層、接着層の形成方法は既存の方法が適用できる。

【００６０】本発明の特定の拡散率を有する反射体２
は、基板６０と反射体１をラミネーターなどで貼り合わ
せることによって得られる。貼り合わせる際に必要に応
じて加温することもできる。上記貼りあわせの際の温度
は０〜２００℃、好ましくは１０〜１５０℃、より好ま
しくは２０〜１２０℃である。

【００６１】本発明の反射体２の、他の製造法は、基板
６０と前記の凹凸層を有する粘着層、接着層の貼り合わ
せた後、凹凸上に反射層を形成する方法や基板上に反射
層を形成させた後前記の凹凸層を有する粘着層を貼り合
わせる方法が挙げられる。

【００６２】上記の特定の拡散率を有する反射体２は、
好ましくは後述するサイドライト型バックライト装置４
の導光板下反射体として使用される。本発明のサイドラ
イト型バックライト装置４では、上記のように作製した
反射体１を導光板７０の下面に配置し、金属薄膜層側を
上面として設置することが好ましい。バックライト装置
としては、サイドライト型として一般的に用いられてい
るものであればよい。

【００６３】使用される導光板７０は、例えば、ポリメ
チルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリカーボ
ネートやポリカーボネート・ポリスチレン組成物などの
ポリカーボネート系樹脂、エポキシ系樹脂などの透明性
または透光性樹脂やガラスなどの約４００ｎｍ〜７００
ｎｍの波長域において透明性を有するものが好ましく用
いられるが、光源の波長領域に応じて透明性を示す材料
であれば必ずしもこれらに限定されなるわけではない。
また、導光板７０の厚さは、使用目的の導光板のサイズ
や、光源の大きさなどにより適宜に決定することができ
る。

【００６４】使用する光源８０としては、例えば、白熱
電球、発光ダイオード（ＬＥＤ）、エレクトロルミネセ
ンス（ＥＬ）、蛍光ランプ、メタルハイドライドランプ
などが挙げられ、中でも蛍光ランプが好ましく用いられ
る。蛍光ランプにはその電極構造、点灯方式により熱陰
極型と、冷陰極型に大別され、電極、インバーターとも
熱陰極型の方が大きくなる傾向にある。熱陰極型は、発
光に寄与しない電極近傍の電飾損失が小さく効率がよ
く、冷陰極型に比べ数倍優れた発光効率を示し、発光も
強いが、寿命は冷陰極型の方が優れており、低消費電力
性、耐久性などの点から冷陰極型がより好ましく用いら
れる。

【００６５】本発明のサイドライト型バックライト装置
４では、驚くべきことに導光板７０と反射層との間に特
定の間隔をおいて反射体２を設置することで輝度ムラを
抑制することが出来る。この間隔は、具体的には導光板
７０から見た反射層の凹部と導光板７０との間隔であ
る。通常、導光板７０と本発明の反射体２とは直接接し
ているので、この間隔はＡ面を導光板７０側に配置した
場合、突起物の高さで制御できる。またスペーサーなど
をこれらの間に挿入してこの間隔を調整することも出来
る。この間隔は、５μｍ以上、好ましくは１０μｍ以
上、より好ましくは１０〜１００μｍ、特に好ましくは
１０〜９０μｍ、更に好ましくは１５〜８５μｍであ
る。

【００６６】拡散率が１％未満の反射体は、好ましくは
後述するランプリフレクターとして使用される。この反
射体の金属反射層側から測定される反射率は５５０ｎｍ
の波長の光に対して好ましくは９０％以上であり、より
好ましくは９２％以上であり、さらに好ましくは９４％
以上である。

【００６７】本発明の反射体２は、粘着層、接着剤と基
板との接着強度が、１８０度ピール強度で測定して１０
０ｇ／ｃｍ以上であることが好ましい。この接着強度に
達しない場合には、加工した際、反射シートの、板状成
形体からの剥がれ等が生じ、変形等を引き起こす可能性
があるため好ましくない場合がある。

【００６８】本発明の反射体は耐久性が高く、例えば温
度１００℃で３００時間、照射強度５００ｍＷ／ｃｍ2
の擬似太陽光を反射層側から照射した後でも、波長５５
０ｎｍにおける全反射率が９０％以上である。ここで擬
似太陽光とは、屋外での晴天時の太陽光と同様なスペク
トルをもつ光である。具体的には、キセノンランプに光
学フィルターを組み合わせて擬似太陽光スペクトルを得
る。温度は、試料を保持したアルミ板に設置した熱電対
と板状ヒーターを温度コントローラーと接続した装置で
制御される。

【００６９】本発明の反射体をランプリフレクター３に
成形する際には、所定の形状に打ち抜き加工を行った
後、図３、４に示す様に反射層側を内側にして折り曲げ
加工を行うことが好ましく、反射層側の曲率半径は好ま
しくは５ｍｍ以下、より好ましくは４ｍｍ以下である。

【００７０】本発明のランプリフレクターを図５に示す
ようなサイドライト型バックライト装置に使用すると、
輝度を高めても輝線の発生が無いので、従来の装置に比
べ格段の輝度向上を実現することができる。

【００７１】本発明の反射体２は基板側の面(Ｂ面)に易
滑処理がなされていても良い。易滑処理を施すことで、
液晶表示装置を組み付ける際の作業性が向上する。

【００７２】易滑処理の方法について特に制限はない
が、具体的には微粒子を含む塗工液を塗布する方法、エ
ンボス加工により凹凸を形成する方法。シリカなどの粒
子を基板６０表面に高圧空気と共に吹き付けるサンドブ
ラスト法、エッチング等の化学的方法などを用いること
できる。この中でも塗工液を塗布する方法が好ましく用
いられる。

【００７３】本発明の液晶表示装置は上記のサイドライ
ト型バックライト装置４を組み込んで得られる。本発明
の液晶表示装置は、輝度が高く、美しい映像を実現でき
る。

【００７４】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。

【００７５】まず、導光板下反射体の例を示す。

【００７６】実施例１ 突起物となる粒子として平均粒子径が３０μｍであるア
クリル粒子を、バインダー樹脂としてポリエステル樹脂
(高松油脂製、Ｔｇ２０℃)を用い、バインダー樹脂に対
し硬化剤である脂肪族イソシアネートを２０％、粒子の
配合量を６．0ｗｔ％とし、固形分比が２４ｗｔ％にな
るようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を
用いて溶液を調合した後、アクリル系粘着剤シート上に
塗布を行い突起物を得た。

【００７７】次に突起物形成側に、ＤＣマグネトロンス
パッタ法で、２％のＡｌ₂Ｏ₃がドープされた酸化亜鉛
（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％
のアルゴンをスパッタガスとして、酸化亜鉛を膜厚５ｎ
ｍになるように下地層を形成した。続いて、このフィル
ムをスパッタ装置から取り出すことなく、同様にＤＣマ
グネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲ
ットととし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガス
として銀を膜厚２００ｎｍになるように成形した。続い
て、このフィルムをスパッタ装置からと取り出すことな
く、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、２％のＡｌ₂Ｏ₃が
ドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲット
とし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとし
て、酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように保護層を形成し
た。この粘着性反射体を１８８μｍのＰＥＴ（ポリエチ
レンテレフタレート）フィルムとラミネーターで貼り合
わせ図１に示すような所望の反射体１を得た。この反射
体１を日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５
０φの積分球を設置し、波長５５０ｎｍにおける各反射
率を金属層側から測定したところ、全反射率、拡散反射
率はそれぞれ９５．０％、５．８％であり、拡散率は
６．１％であった。次に突起物の高さを表面形状測定装
置（ＤＥＫＴＡＫ３：Ｖｅｅｃｏ社製）で１０点測定し
たところ、その平均値は、２５．４μm、光学顕微鏡で
最大幅を１０点測定したところ、その平均値は２９．５
μｍであった。また、１ｍｍ²当たり最大幅２０〜４０
μｍ、高さ１５〜３５μｍの粒子数は２２個存在した。
測定後の反射体１を、恒温恒湿槽に入れ、６０℃、９０
％ＲＨの湿熱条件で５００時間放置した。５００時間経
過後、反射体１を取り出して表面を観察したところ、金
属の凝集は見られなかった。また、再度分光光度計によ
り、全反射率、拡散反射率を測定した結果、反射率が９
４．２％、拡散反射率が６．０％と湿熱前とほとんどか
わらなかった。また、この反射体１を導光板７０の下面
に金属層側が上になるようにセットし、図４の様なサイ
ドライト型バックライト装置２を得た。この状態で、光
源８０を点灯し、面中央での正面方向に得られる輝度を
測定するとともに、セットした反射体１に故意に歪みを
与えた場合の、面光源の輝度ムラについて観察した結果
を表１に示す。

【００７８】

【表１】

【００７９】比較例１ 導光板下に用いる反射体に白色ＰＥＴを使用し、実施例
１と同様の観察を行った結果を表１に示す。

【００８０】表１からわかるように、実施例１は輝度ム
ラの発生が無く、十分な輝度が得られ、バックライトと
して良好な特性を示した。比較例１では、拡散反射率が
高く輝度ムラが発生した。

【００８１】実施例２ アクリル系粘着剤シートに、ＤＣマグネトロンスパッタ
法で、２％のＡｌ₂Ｏ₃がドープされた酸化亜鉛（純度９
９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴ
ンをスパッタガスとして、酸化アルミニウムが２％ドー
プされた酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成した。
続いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことな
く、同様にＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．
９％の銀をターゲットととし、純度９９．５％のアルゴ
ンをスパッタガスとして銀を膜厚２００ｎｍになるよう
に成形した。続いて、このシートをスパッタ装置から取
り出すことなく、２％のＡｌ₂Ｏ₃がドープされた酸化亜
鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５
％のアルゴンをスパッタガスとして、酸化アルミニウム
が２％ドープされた酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように
形成した。できたシートと厚さ２ｍｍの真鍮板とをラミ
ネーターで貼り合わせた。１８０度ピール強度で測定し
たところ１６０ｇ／ｃｍであった。日立自記分光光度計
（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５
５０ｎｍにおける反射層側の全反射率の測定を行ったと
ころ、反射率９５．４％であった。続いて、このシート
の光熱劣化試験を行った。光源には山下電装(株)のソー
ラシミュレータ型式ＹＳＳ−５０５Ｈを用い、照射強度
５００ｍＷ／ｃｍ²の擬似太陽光下で行った。また反射
シートは１００℃に加熱した。この条件下で３００時間
経過した後、反射率を測定したところ、９４．９％であ
った。

【００８２】この反射体(光熱劣化試験前)を、図３に示
すような折り曲げ加工(曲率半径４ｍｍ)を行った後、ラ
ンプリフレクターとして図４に示すようなサイドライト
型バックライト装置にセットし光源を点灯し、観察し
た。結果を表２に示した。

【００８３】

【表２】

【００８４】比較例２ 保護層に当たる酸化亜鉛薄膜層を形成しなかった以外は
実施例２と同様にして反射体、ランプリフレクターを作
製し評価を行った。結果は表２に示した通りである。
表２からわかるように、実施例２では十分な輝度が得ら
れ、且つ輝線の発生が無くランプリフレクターとして良
好な特性を示した。

【発明の効果】高輝度で耐久性、生産性に優れ、さらに
反射体に歪みが発生した場合に、その歪みによる輝度ム
ラを防止可能な反射体、輝線の発生を防止する反射体、
該反射体を組み込んだサイドライト型バックライト装
置、該反射体を用いたランプリフレクターおよび液晶表
示装置を提供する

【図面の簡単な説明】

【図１】は、本発明における反射体１の一例を示す断面
図である。

【図２】は、本発明における反射体２の一例を示す断面
図である。

【図３】は、本発明におけるランプリフレクター９０の
一例である。

【図４】は、本発明のサイドライト型バックライト装置
３の一例である。 （符号の説明） １０ 保護層 ２０ 銀を主体とする層 ３０ 下地層 ４０ 粒子 ５０ 粘着層、接着層 ６０ 基板 ７０ 導光体 ８０ 光源 ９０ ランプリフレクター

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１４年５月２７日（２００２．５．２
７）

【手続補正１】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】全図

【補正方法】変更

【補正内容】

【図１】

【図２】

【図３】

【図４】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０２Ｂ 5/08 Ｇ０２Ｂ 5/08 Ｂ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ Ｇ０２Ｆ 1/1335 ５２０ 1/13357 1/13357 // Ｆ２１Ｙ 103:00 Ｆ２１Ｙ 103:00 (72)発明者 吉田 浩隆 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 (72)発明者 福田 伸 千葉県袖ヶ浦市長浦580番地32 三井化学 株式会社内 Ｆターム(参考） 2H042 AA02 AA26 AA32 BA02 BA12 BA15 BA20 DA04 DA11 DA17 DA21 DD05 2H091 FA14Z FA16Z FA17Z FA32Z FA41Z FB02 FB08 GA16 KA10 LA03 LA16 LA18

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 粘着性または接着性を有する層の上に
   直接または樹脂層を介して反射層が積層され、反射層が
   （ａ）下地層、（ｂ）銀を主体とする金属層、（ｃ）保
   護層を少なくとも（ａ）（ｂ）（ｃ）の順に積層してな
   るものであることを特徴とする反射体。
2. 【請求項２】 基板と粘着性または接着性を有する層
   が貼り合わされてなることを特徴とする請求項１に記載
   の反射体。
3. 【請求項３】 全反射率に対する拡散反射率の割合（拡
   散率）が１％〜５０％であることを特徴とする請求項１
   または２に記載の反射体。
4. 【請求項４】 波長５５０ｎｍにおける全反射率が９０
   ％以上、かつ、拡散反射率の割合（拡散率）が１０％以
   下であることを特徴とする請求項１〜３いずれかに記載
   の反射体。
5. 【請求項５】 前記粘着性または接着性を有する層が最
   大幅０．１μｍ〜５０μｍ、高さ０．１μｍ〜４５μｍ
   の突起物を１ｍｍ²当たり２個以上１００個以下有する
   ことを特徴とする請求項１〜４いずれかに記載の反射
   体。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれかに記載の反射体
   を側面に設置された光源から入射される光を上面に出射
   する導光板の下面に配設したことを特徴とするサイドラ
   イト型バックライト装置。
7. 【請求項７】 請求項２に記載の反射体を用いたランプ
   リフレクター。
8. 【請求項８】 光源を覆うことの出来るように反射層側
   を内側に折り曲げた形状で使用することを特徴とする請
   求項７に記載のランプリフレクター。
9. 【請求項９】 請求項６に記載のサイドライト型バック
   ライト装置および／または請求項７に記載のランプリフ
   レクターを備えることを特徴とする液晶表示装置。