JP2002318305A

JP2002318305A - 反射シート及びそれを用いたサイドライト型面光源装置

Info

Publication number: JP2002318305A
Application number: JP2001125264A
Authority: JP
Inventors: Hirotaka Yoshida; 吉田　　浩隆; Shin Fukuda; 福田　　伸; Hiroshi Ishikawa; 石川　　浩
Original assignee: Mitsui Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Chemicals Inc
Priority date: 2001-04-24
Filing date: 2001-04-24
Publication date: 2002-10-31

Abstract

(57)【要約】【課題】従来よりも輝度の高いバックライトを提供す
る。そのために必要な、高反射率で、高耐久性を持つ反
射体を提供する。サイドライト型面光源装置において、
反射シートに歪みが発生した場合に、その歪みにより輝
度ムラが生じないようなサイドライト型面光源装置及
び、従来よりも高輝度であり、耐久性に優れた反射シー
トを提供する。【解決手段】面光源装置の導光板の下面に用いる反射
シートの反射面と導光板の間に、スペースを作ること
で、歪みに対する緩衝能とする。また、反射層として、
光拡散層上に下地層、銀層、銀を主体とする合金の金属
層、透明酸化物層を順に積層する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高輝度及び耐久性
に優れる反射シート、及びそれを利用した液晶表示装置
などに適用されるサイドライト型の面光源装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】液晶ディスプレイはこれまでのＣＲＴデ
ィスプレイに比べ、薄型であり省スペース化できるこ
と、また、低電圧で作動すること、消費電力が少なく省
エネルギー化できるなどの特徴から、中小型機器のディ
スプレイを中心に広く用いられている。

【０００３】現在広く使用されている液晶ディスプレイ
は光源にバックライトを用いる透過型液晶ディスプレイ
である。この液晶ディスプレイにおける表示の見やすさ
は、液晶自身の性能もさることながら、バックライトの
性能によるところも大きくなっている。バックライトの
方式は近年の液晶ディスプレイのさらなる軽量、薄型化
が必須事項となっていることや、輝度の均一性や、光源
からの熱が液晶パネルに伝達しにくいなどの理由より、
光源の前方に反射板を置く直下型ではなく、導光板を用
い、その一端に配置された光源からの光を多重反射させ
ることで面光源化するサイドライト式バックライトが多
く用いられている。

【０００４】導光板の下には、白色ＰＥＴフィルム等か
らなる乱反射部材が配設されている場合が多く、この反
射体により光を拡散させることにより、均一な輝度を得
ることが出来る。しかしながら、これらの乱反射部材で
は、正反射成分が殆どないため、全体としては均一では
あるが十分な輝度を得ることができないという問題があ
る。また、透明ＰＥＴフィルム上にアルミニウムを蒸着
したシートを用いると、白色ＰＥＴに比べ輝度は向上す
るものの、拡散反射成分が無いため、シートの僅かな歪
みが輝度むらに大きく影響してしまい、美しい画像を得
ることができない。この問題を解決するため、表面を粗
面化したフィルムに金属を蒸着したシートが開発された
が、用いる金属にアルミニウムを使うと、耐久性は優れ
るがそれ程高い輝度が得られない。また、可視光域で最
も反射率の高い銀を使うと、十分な輝度がえられるもの
の、銀は耐久性が乏しくすぐに劣化して、輝度が低下し
てしまうという問題があった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明はバックライト
ユニットにおいて、反射シートに歪みが発生した場合
に、その歪みにより輝度ムラが生じないような、高輝度
の耐久性に優れた反射シート及び、該反射シートを組み
込んだサイドライト型面光源装置を提供することを目的
とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するため鋭意検討した結果、驚くべきことに、
面光源装置において、導光板の下面に用いる反射シート
の反射面と導光板の間に、歪みに対する緩衝としてのス
ペースを作ることで、上記の課題を解決出来ることを見
いだした。

【０００７】すなわち本発明は、１）少なくとも高分子
フィルム、光拡散層、金属薄膜層を順に積層した構成で
あって、光拡散層のバインダー樹脂中に平均粒子径の異
なる第１のフィラーと第２のフィラーからなる主に二つ
の分散ピークを有するフィラー混合物が分散しているこ
とを特徴とする反射シート、２）前記のフィラーがアクリル樹脂粒子又はシリカ粒子
であることを特徴とする前記１）記載の反射シート、３）第１のフィラーの平均粒子径が、０．1μm以上１５
μm以下であり、かつ、第２のフィラーの平均粒子径
が、第１のフィラーの平均粒子径の２倍以上１０倍以下
であることを特徴とする前記１）及び２）に記載の反射
シート、４）第1 のフィラーの配合率が、バインダー樹脂に対し
て０．００１重量％以上５重量％以下で、かつ第２のフ
ィラーの配合率がバインダー樹脂に対して０．０００１
重量％以上５重量％以下であることを特徴とする前記
１）〜３）のいずれかに記載の反射シート、５）金属薄膜層側から測定した、波長５５０ｎｍにおけ
る全反射率に対する拡散反射率の割合（反射ヘイズ値）
が１％以上５０％以下であることを特徴とする前記１）
〜４）のいずれかに記載の反射シート、６）金属薄膜層が、光拡散層側から順に、下地層
（Ａ）、銀層（Ｂ）、銀を主体とする合金の金属層
（Ｃ）、透明酸化物層（Ｄ）を順次積層したことを特徴
とする前記１）〜５）のいずれかに記載の反射シート、７）下地層（Ａ）が、金、銅、ニッケル、鉄、コバル
ト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、イ
ンジウム、マンガン、チタン、もしくは、パラジウムか
ら選ばれた金属の単体、或いは２種以上からなる合金か
らなる厚さが５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の金属層、また
は、酸化アルミニウムが５重量％以下ドープされた酸化
亜鉛、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、または二
酸化珪素からなる厚さが１ｎｍ以上２０ｎｍ以下の透明
酸化物層であることを特徴とする前記１）〜６）のいず
れかに記載の反射シート、８）銀層（Ｂ）の厚みが、７０ｎｍ以上４００ｎｍ以下
であることを特徴とする前記１）〜７）のいずれかに記
載の反射シート、９）銀を主体とする合金の金属層（Ｃ）が、銀に対し銅
とパラジウムをあわせて０．００１重量％以上１０重量
％以下含有してなる合金層であり、該金属層の膜厚が、
５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることを特徴とする前記
１）〜８）のいずれかに記載の反射シート、１０）透明酸化物層（Ｄ）が、酸化アルミニウムが５重
量％以下ドープされた酸化亜鉛、インジウムとスズの酸
化物（ＩＴＯ）、または二酸化珪素からなる厚さが１ｎ
ｍ以上２０ｎｍ以下の透明酸化物層であることを特徴と
する前記１）〜９）のいずれかに記載の反射シート、１１）前記１）〜１０）いずれかに記載の反射シート
を、側面に設置された光源より入射される光を上面に出
射する導光板の下面に、金属薄膜層が上になるように配
設したサイドライト型面光源装置、に関する。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の反射シートにおいて、使用される高分子フィル
ムは、例えばポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、
ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ビス
フェノールＡ系ポリカーボネートなどのポリカーボネー
ト類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフ
ィン類、セルローストリアセテートなどのセルロース誘
導体類、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリ
イミド類、ポリアミド類、ポリエーテルスルホン、ポリ
スルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素系樹脂
などの各種プラスチックからなるフィルムが挙げられる
が、必ずしもこれらに限定されるものではなく、ある程
度ガラス転移点が高く、平滑な表面をもつものであれば
使用できる。なかでもポリエチレンテレフタラートが好
ましい。

【０００９】使用される高分子フィルムの厚みは、ある
程度シートにコシが必要であり、通常は１００〜２００
μｍ程度であることが望ましい。高分子フィルム上に形
成する光拡散層は、フィラーである粒子を散布させるこ
とにより形成する。フィラーとなる微粒子としては、例
えば、ポリアクリル樹脂、ポリスチレン、ポリビニルベ
ンゼン、ポリスチレンメタクリレート、ポリスチレンア
クリレート、ポリスチレンブタジエン等の高分子（有
機）粒子をはじめ、シリカ、アルミナ、チタニア、ジル
コニア、酸化鉛（鉛白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カ
ルシウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリ
ウム、ケイ酸ソーダなどからなる無機微粒子や、酸化
錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモン
などの導電性透明微粒子なども用いることができるが、
必ずしもこれらに限定されるものではない。なかでもア
クリル樹脂或いはシリカが好ましい。

【００１０】本発明においては、平均粒子径の異なる主
に一つの分散ピークを有する第１のフィラーと第２のフ
ィラーを使用する。第１のフィラーの役割は、シート表
面の荒さを決定するものであり、金属層形成後の反射ヘ
イズ値を決めるものである。第１のフィラーに使用する
粒子の大きさは、通常、０．１μm以上１５μm以下が望
ましい。次に、第２のフィラーは、導光板下面と反射シ
ート表面のスペーサーとして機能する。つまり、反射シ
ート表面と導光板との間に空間を持たせることにより、
シートの歪みに対しこの空間が緩衝材の役割を果たすこ
とで、輝度むらを解消する。第２のフィラーに使用する
粒子の平均粒子径は、第１のフィラーの平均粒子径の２
倍以上１０倍以下であることが好ましい。また両フィラ
ーの平均粒子径分布は粒径の標準偏差の平均粒径に対す
る割合は５０％以下が好ましい。

【００１１】平均粒子径の分布は、少量の粒子を分散さ
せた溶液の動的光散乱法により測定することができる。
また、ＳＥＭ写真より、無作為に選んだ１００個の粒子
の直径より求めることもできる。また、粒子の直径は、
ＳＥＭ写真以外に光学顕微鏡写真からも読み取ることが
できる。また、得られた写真または像を、画像処理する
ことからも粒径分布を求めることが出来る。

【００１２】前記フィラーは、通常、バインダーとなる
樹脂中に分散させた状態で塗布される。バインダー樹脂
として用いるものとしては、例えばポリメタクリル酸メ
チルなどのアクリル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、
ポリメタアクリルニトリル樹脂、エチルシリケートより
得られる重合体などの珪素樹脂、フッ素系樹脂、ポリエ
ステル系樹脂、ポリスチレン樹脂、アセテート系樹脂、
ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹
脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフ
ィン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、尿素樹脂、メラミン
樹脂、エポキシ樹脂や、これらの混合物などが挙げられ
るが、必ずしもこれらに限定される物ではない。これら
は高分子フィルム及び粒子との密着性を考慮して選択さ
れる。なかでも、アクリル樹脂が好ましい。

【００１３】通常これらフィラーをバインダー樹脂に分
散させるためには溶媒を用いる。溶媒としては、トルエ
ン、メチルエチルケトン、酢酸エチル、イソプロピルア
ルコールなどが好ましく用いられる。これらは塗布作業
時に一般的に用いられる溶媒であり、これら以外でも基
材高分子フィルムやフィラー微細粒子に影響を与えない
溶媒であれば、問題なく使用できる。また、必要に応じ
てぬれ剤や増粘剤、分散剤、消泡剤などの添加剤も加え
られることもある。

【００１４】フィラーの配合率は、第1 のフィラーはバ
インダー樹脂に対して０．００１重量％以上５重量％以
下で、かつ第２のフィラーの配合率がバインダー樹脂に
対して０．０００１重量％以上５重量％以下であるのが
好ましい。第１のフィラーの配合率が、０．００１重量
％より小さい場合、必要な拡散特性が得られないため好
ましくない場合がある。また、５重量％に対し、あまり
にも大きい場合は、光の拡散性が強くなりすぎるため好
ましくない場合がある。また、第２のフィラーの配合率
が、０．０００１重量％より小さい場合、第２のフィラ
ーがスペーサーの役割を果たすには不充分となり好まし
くない場合がある。また、５重量％に対しあまりにも大
きい場合、第１のフィラーが形成する表面特性を損なわ
せてしまうため好ましくない場合がある。

【００１５】上記のフィラーとバインダー樹脂を含む混
合液を高分子フィルムに塗布する方法としては、広い粘
度範囲にわたって塗布が可能であり、走行中にも塗膜厚
さを調整でき、また塗膜厚さを大幅に変えることが出来
るなどの特徴をもつ、ロールコータ法、比較的運転技術
を要さず、幅広でも塗工厚さが均一で、薄膜コーティン
グ出来るなどの特徴をもつクラビアコータ法、高速塗
工、高生産性、塗工厚さの均一性、広範囲に塗装が出来
るなどの特徴をもつダイコート（押出）法、などが挙げ
られるが、どの方法においても特に問題無く塗布でき
る。

【００１６】塗工面は、粒子がほぼ１層の状態で塗布さ
れることが好ましい。つまり、第１のフィラーが均一に
分散された状態で、その上にバインダー樹脂が、第１の
フィラーの平均粒子径の最大で４０％程度の厚みでカバ
ーされた状態が好ましい。余り、バインダー層の厚みが
大きいと、粒子層で形成される凹凸形状を潰してしまう
ため好ましくない。

【００１７】本発明の反射シートは、例えば上記の様な
方法により作製した光拡散層上に反射層を形成すること
により得られる。反射層は光拡散層側から順に、下地
層、銀層、銀を主体とする合金の金属層、透明酸化物層
であることが好ましい。下地層（Ａ）には、金、銅、ニ
ッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タ
ンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラ
ジウムなどの金属単体、もしくは２種以上からなる合
金、または、酸化アルミニウムが５重量％以下ドープさ
れた酸化亜鉛、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）ま
たは二酸化珪素などの透明酸化物が好ましく用いられ
る。

【００１８】銀層（Ｂ）には、基本的には銀単体である
ことが望ましいが、その性能に害を及ぼさない程度の
金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリ
ブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チ
タン、パラジウムなどの金属不純物が含まれても良い。
銀を主体とする合金の金属層（Ｃ）には、銀に対し、銅
が８重量％以下の範囲で、パラジウムが８重量％以下の
範囲でかつ、銀に対し銅とパラジウムが合わせて０.０
０１重量％以上１０重量％以下の範囲で含有している合
金が好ましく用いられる。

【００１９】透明酸化物層には、酸化アルミニウムが５
重量％以下ドープされた酸化亜鉛、インジウムとスズの
酸化物（ＩＴＯ）、二酸化珪素などの透明酸化物が好ま
しく用いられる。金属薄膜層の形成法は、湿式法及び乾
式法がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液か
ら金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあ
げるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法と
は、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれ
ば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着
法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真
空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明に
は連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な
真空成膜法が好ましく用いられる。

【００２０】真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビー
ム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇
させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏｒｒ）
以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなど
のガスを１３．３ｍＰａ以上導入させ、高周波もしくは
直流のグロー放電を起こしても良い。

【００２１】スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを使用し
うる。スパッタ法においては、原材料は金属の板状のタ
ーゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、
ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用し
うるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度
は９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％
以上である。また、透明酸化膜の形成には、真空成膜法
が好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使用され、
スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリ
プトン、キセノンなどを使用し、場合においては酸素ガ
スを用いて行うこともある。

【００２２】光拡散層上に成形する薄膜の厚さは、反射
シートとした際に光線透過率が１％未満になるように考
慮して決められる。本発明の反射層における各層の厚み
は、以下のようにすることが好ましい。下地層（Ａ）の
厚みは、金属層を用いた場合、その厚みは、５〜５０ｎ
ｍが好ましく、より好ましくは５〜３０ｎｍである。該
層の厚みが５ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果
が得られず、（Ｂ）層の銀層に凝集を発生させる場合が
ある。また、５０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が
無い。また、透明酸化物を用いた場合、該層の厚みは、
１〜２０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは、５〜１０
ｎｍである。かかる層の厚みが１ｎｍより薄い場合は、
所望のバリヤー効果が得られず、（Ｂ）層の銀層に凝集
を発生させる。また、１０ｎｍより厚くしてもその効果
に変化が無い。

【００２３】銀層（Ｂ）の厚みは、７０〜４００ｎｍが
好ましく、より好ましくは１００〜３００ｎｍ、さらに
好ましくは１５０〜２５０ｎｍである。かかる層の厚み
が７０ｎｍより薄い場合は、十分な金属層の形成が出来
ていないため、所望の反射率を得ることが出来ない場合
がある。また、４００ｎｍより厚くしてもその効果に変
化はない。銀を主体とする合金の金属層（Ｃ）の厚み
は、５〜４０ｎｍが好ましい。かかる層の厚みが５ｎｍ
よりも薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、ま
た、４０ｎｍより厚い場合は（Ｂ）層である銀層の特性
がでなくなってしまい好ましくない場合がある。

【００２４】透明酸化物層の厚みは、１〜２０ｎｍが好
ましく、さらに好ましくは、５〜１０ｎｍである。かか
る層の厚みが１ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効
果が得られず、（Ｂ）層の銀層に凝集を発生させる場合
がある。また、４００ｎｍより厚くしてもその効果に変
化はない。前記各層の膜厚の測定方法としては、触針粗
さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶振
動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法では
成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得るの
に適している。また、前もって成膜の条件を定めてお
き、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を
調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もあ
る。

【００２５】上記のように形成した反射シートを、金属
薄膜層側から反射率を測定すると、波長５５０ｎｍにお
いて、通常８５〜９９％である。より好ましくは９０〜
９９％である。反射率が８５％より低いと、バックライ
トユニットに組み込んだ際に、得られる輝度が低くなり
好ましくない。一方ここでは、反射率の上限を９９％と
したが、反射率は高いほど好ましく、さらに高屈折率と
低屈折率の薄膜を交互に積層して増反射膜を形成するな
どして９９％を超える反射率を実現することはコストと
の兼ね合いもあるが性能的には非常に好ましいといえ
る。本発明の面光源装置では、上記のように作製した反
射シートを導光板の下面に金属薄膜層側を上面として設
置することを特徴とする。面光源装置としては、サイド
ライト型として一般的に用いられているものであればな
んら問題無い。

【００２６】使用される導光板は、例えば、ポリメチル
メタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリカーボネイ
トやポリカーボネイト・ポリスチレン組成物などのポリ
カーボネイト系樹脂、エポキシ系樹脂などの透明樹脂や
ガラスなどの約４００〜７００ｎｍの波長域において透
明性を示すものが好ましく用いられるが、光源の波長領
域に応じてそれに透明性を示す材料であれば必ずしもこ
れらに限定されるわけではない。また、導光板の厚さ
は、使用目的の導光板のサイズや、光源の大きさなどに
より適宜に決定することができる。

【００２７】使用する光源としては、例えば、白熱電
球、発光ダイオード（ＬＥＤ）、エレクトロルミネセン
ス（ＥＬ）、蛍光ランプ、メタルハイドライドランプな
どが挙げられ、中でも蛍光ランプが好ましく用いられ
る。蛍光ランプにはその電極構造、点灯方式により熱陰
極型と、冷陰極型に大別され、電極、インバーターとも
熱陰極型の方が大きくなる傾向にある。熱陰極型は、発
光に寄与しない電極近傍の電飾損失が小さく効率がよ
く、冷陰極型に比べ数倍優れた発光効率を示し、発光も
強いが、寿命は冷陰極型の方が優れており、低消費電力
性、耐久性などの点から冷陰極型がより好ましく用いら
れる。

【００２８】本発明の面光源装置では、上述したように
作成された反射シートを使用することで、シートに歪み
が生じた場合でも、輝度むらとなって現われることはな
く、また、従来の面光源装置に比べ格段の輝度向上を実
現することができる。

【００２９】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。

【００３０】実施例１第１のフィラーとして、平均粒子径が５μｍであるアク
リル粒子、第２のフィラーとして、平均粒子径が２０μ
mのアクリル粒子（粒子はともに根上工業(株)製アート
パール）を、バインダーとしてアクリル系樹脂（三井化
学(株)製アルマテックス）を用い、バインダーに対し
第１のフィラーの配合量を０．０５重量％、第２のフィ
ラーの配合量を０．５重量％とし、固形分比が３５％に
なるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤
を用いて溶液を調合した後、１８８μmのＰＥＴフィル
ム上に塗布を行い光拡散層を得た。次に、この光拡散層
上にＤＣマグネトロンスパッタ法で、２％のＡｌ₂Ｏ₃が
ドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲット
とし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとし
て、酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成した。続い
て、このフィルムをスパッタ装置から取り出すことな
く、同様にＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．
９％の銀をターゲットととし、純度９９．５％のアルゴ
ンをスパッタガスとして銀を膜厚２００ｎｍになるよう
に成形した。続いて、このフィルムをスパッタ装置から
取り出すことなく、ＤＣマグネトロンスパッタ法にて純
度９９．９％のＡＰＣ２％（Ａｇに対し、ＰｄとＣｕが
合計で２重量％配合された合金）をターゲットとし、純
度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＡＰＣ
２％が膜厚８ｎｍになるように成形した。続いて、この
フィルムをスパッタ装置からと取り出すことなく、ＤＣ
マグネトロンスパッタ法で、２％のＡｌ₂Ｏ₃がドープさ
れた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純
度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、酸化亜
鉛を膜厚５ｎｍになるように形成し、図１に示すような
所望の反射シートを得た。この反射シートを日立自記分
光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設
置し、５５０ｎｍにおける金属層側から測定した全反射
率、拡散反射率は、反射率９４．３％、拡散反射率４．
４％であり、拡散率は４．７％であった。測定後の反射
シートを、恒温恒湿槽に入れ、６０℃、９０％ＲＨの湿
熱条件で５００時間放置した。５００時間経過後、シー
トを取り出して表面を観察したところ、金属の凝集は見
られなかった。また、再度分光光度計により、全反射
率、拡散反射率を測定した結果、反射率が９４．２％、
拡散反射率が４．６％と湿熱前とほとんどかわらなかっ
た。また、この反射シートを導光板の下面に金属層側が
上になるようにセットし、図２の様な面光源装置を得
た。この状態で、光源を点灯し、面中央での正面方向に
得られる輝度を測定するとともに、セットした反射シー
トに故意に歪みを与えた場合の、面光源の輝度ムラにつ
いても観察した結果を表１に示す。

【００３１】実施例２第１のフィラーとして平均粒子径３μmのシリカ粒子
を、第２のフィラーとして平均粒子径１５μmのシリカ
粒子、バインダーをアクリル樹脂とし、配合率をそれぞ
れ０．１ｗｔ％および０．３ｗｔ％とし、固形分比が３
５％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからな
る溶剤を用いて溶液を調合した後、１８８μmのＰＥＴ
フィルム上に塗布を行い光拡散層を得た。次に、この光
拡散層上に形成する下地層に、チタンを５μmとしたこ
と以外は実施例１に準じて反射層を形成し、出来た反射
シートの反射率の測定を行ったところ、全反射率は９
３．４％、拡散反射率は６．６％であり、拡散率は７．
０％であった。次に、実施例１と同様の条件で高温恒湿
槽で５００時間放置後、再度反射率を測定した結果、全
反射率は、９３．３％、拡散反射率は６．５％と湿熱前
とほとんどかわらず、また表面に銀の劣化による凝集点
も見られなかった。また、この反射シートを導光板の下
面に金属層側が上になるようにセットし、実施例１と同
様の観察を行った。結果を表１に示す。

【００３２】比較例１第１のフィラーとして平均粒子径１０μmのアクリル粒
子を、第２のフィラーとして平均粒子径１５μmのアク
リル粒子を用いたこと以外は、実施例１に準じて反射シ
ートを得た。出来た反射シートの反射率の測定を行った
ところ、全反射率は９４．１％、拡散反射率は４４．６
％であり、拡散率は４７．４％であった。次に、実施例
１と同様の条件で高温恒湿槽で５００時間放置後、再度
反射率を測定した結果、全反射率は、９４．２％、拡散
反射率は４４．９％であった。また、この反射シートを
導光板の下面に金属層側が上になるようにセットし、実
施例１と同様の観察を行った。結果を表１に示す。

【００３３】比較例２光拡散層上に形成する反射層が銀単層であること以外
は、実施例１に準じて反射シートを得た。反射率を測定
したところ、全反射率として、９４．１％、拡散反射率
として４．３％、拡散率として４．６％を得た。実施例
１と同様の湿熱試験を行った後に、再度反射率を測定し
た結果、全反射率は８２．３％、拡散反射率は１０．４
％と大幅に反射率の低下が見られたと共に表面に銀の凝
集点が多数発生しており、見た目にも劣化が確認され
た。また、実施例１と同様のセッティングを行いバック
ライトを得た。その後、実施例１と同様の観測を行っ
た。結果を表１に示す。

【００３４】比較例３導光板下に用いる反射体に白色ＰＥＴを使用し、バック
ライトを得た。その後、実施例１と同様の観察を行っ
た。結果を表１に示す。また、表２に実施例及び比較例
で使用したフィラーの配合、表３に反射層の構成を表わ
す。

【００３５】

【表１】

【００３６】

【表２】

【００３７】

【表３】

【００３８】

【発明の効果】本発明の反射シート及び、該シートを組
み込んだサイドライト型面光源装置は、該面光源装置に
おいて、反射シートに歪みが発生した場合でも、その歪
みによる輝度ムラが生じないため、視認性のよい液晶デ
ィスプレイを提供することができる。また、該反射シー
トは、従来の反射シートに比べ高輝度であり、かつ耐久
性にも優れるため、長期にわたり、均一で、高輝度な光
を得られることから、液晶の表示能力を向上させること
ができるため、本発明の工業的意義は大きい。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に於ける反射シートの一例を示す断面
図

【図２】本発明の面光源装置の一例

【符号の説明】

１０反射層２０光拡散層３０高分子フィルム４０冷陰極管５０ランプリレフクター６０導光板７０反射シート

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｇ０２Ｂ 1/10 Ｇ０２Ｂ 5/02 Ｂ 5/02 Ｇ０２Ｆ 1/1335 Ｇ０２Ｆ 1/1335 1/13357 1/13357 Ｆ２１Ｙ 103:00 // Ｆ２１Ｙ 103:00 Ｇ０２Ｂ 1/10 ＺＦターム(参考） 2H042 DA01 DA02 DA03 DA04 DA05 DA07 DA08 DA11 DA18 DA21 DC02 DC03 DC08 DE04 2H091 FA14Z FA41Z FB11 FC02 LA18 2K009 BB15 BB24 BB28 CC02 CC03 CC14 DD04 DD08 EE00 4F100 AA17E AA18C AA20B AA20C AA20H AA25C AA33C AB01C AB02C AB12C AB13C AB15C AB16C AB17C AB24D AB25C AB31E AK01A AK25 AK25B AK25H AK42 AL05B AS00B AT00C BA03 BA05E BA07 BA10A BA10C BA10E CA23 DE01B EH46 EH462 EH66 EH662 GB41 JN01E JN06 JN30B YY00B

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも高分子フィルム、光拡散層、
金属薄膜層を順に積層した構成であって、光拡散層のバ
インダー樹脂中に平均粒子径の異なる第１のフィラーと
第２のフィラーからなる主に二つの分散ピークを有する
フィラー混合物が分散していることを特徴とする反射シ
ート。
【請求項２】前記のフィラーがアクリル樹脂粒子又は
シリカ粒子であることを特徴とする請求項１記載の反射
シート。
【請求項３】第１のフィラーの平均粒子径が、０．1
μm以上１５μm以下であり、かつ、第２のフィラーの平
均粒子径が、第１のフィラーの平均粒子径の２倍以上１
０倍以下であることを特徴とする請求項１または２に記
載の反射シート。
【請求項4】第1 のフィラーの配合率が、バインダー
樹脂に対して０．００１重量％以上５重量％以下で、か
つ第２のフィラーの配合率がバインダー樹脂に対して
０．０００１重量％以上５重量％以下であることを特徴
とする請求項１乃至３いずれかに記載の反射シート。
【請求項５】金属薄膜層側から測定した、波長５５０
ｎｍにおける全反射率に対する拡散反射率の割合（反射
ヘイズ値）が１％以上５０％以下であることを特徴とす
る請求項１乃至４いずれかに記載の反射シート。
【請求項６】金属薄膜層が、光拡散層側から順に、下
地層（Ａ）、銀層（Ｂ）、銀を主体とする合金の金属層
（Ｃ）、透明酸化物層（Ｄ）を順次積層したことを特徴
とする請求項１乃至５いずれかに記載の反射シート。
【請求項７】下地層（Ａ）が、金、銅、ニッケル、
鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、
クロム、インジウム、マンガン、チタン、もしくは、パ
ラジウムから選ばれた金属の単体、或いは２種以上から
なる合金からなる厚さが５ｎｍ以上５０ｎｍ以下の金属
層、または、酸化アルミニウムが５重量％以下ドープさ
れた酸化亜鉛、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、
または二酸化珪素からなる厚さが１ｎｍ以上２０ｎｍ以
下の透明酸化物層であることを特徴とする請求項６に記
載の反射シート。
【請求項８】銀層（Ｂ）の厚みが、７０ｎｍ以上４０
０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項６または７に
記載の反射シート。
【請求項９】銀を主体とする合金の金属層（Ｃ）が、
銀に対し銅とパラジウムをあわせて０．００１重量％以
上１０重量％以下含有してなる合金層であり、該金属層
の膜厚が、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であることを特徴と
する請求項6乃至８いずれかに記載の反射シート。
【請求項１０】透明酸化物層（Ｄ）が、酸化アルミニ
ウムが５重量％以下ドープされた酸化亜鉛、インジウム
とスズの酸化物（ＩＴＯ）、または二酸化珪素からなる
厚さが１ｎｍ以上２０ｎｍ以下の透明酸化物層であるこ
とを特徴とする請求項6乃至９いずれかに記載の反射シ
ート。
【請求項１１】請求項１乃至１０いずれかに記載の反
射シートを、側面に設置された光源より入射される光を
上面に出射する導光板の下面に、金属薄膜層が上になる
ように配設したサイドライト型面光源装置。