JP2002079605A

JP2002079605A - 反射シート及びそれをそれを用いたリフレクター

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Publication number: JP2002079605A
Application number: JP2000272471A
Authority: JP
Inventors: Hirotaka Yoshida; 吉田　　浩隆; Shin Fukuda; 福田　　伸
Original assignee: Mitsui Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Chemicals Inc
Priority date: 2000-09-08
Filing date: 2000-09-08
Publication date: 2002-03-19
Anticipated expiration: 2020-09-08
Also published as: JP4323072B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【課題】高輝度で耐久性の優れた反射体を提供
し、かつ、同反射体を用いたリフレクターを提供し、デ
ィスプレイとしたときに高輝度が得られるバックライト
ユニットである、導光板下に鏡面の銀反射体を用いるタ
イプに組み込んだ場合に、揮線の発生を防止する。【解決手段】凹凸層をもつ高分子フィルム上に、
下地層、銀層、銀を主体とする合金層、透明酸化物層の
４層を順に構成したもの或いは、アルミニウム単層を形
成したものを、高分子層側を接着面として、成形体と粘
着剤により貼り合わせることにより得られる反射体を用
い、リフレクターに加工する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、高耐久性を持つ反
射体に関する、さらに詳しくは導光板下の反射体に金属
反射板を用いるタイプのサイドライト式バックライトユ
ニットに好適に使用し得るリフレクターに関する。

【０００２】

【従来の技術】蛍光灯や白熱灯用の反射体としては、従
来しばしば鏡面研磨されたアルミニウム板が用いられて
きた。さらに近年、反射体は液晶用バックライトユニッ
トやカメラのストロボ用の反射傘として重要な産業上の
用途を占めるに至っている。反射体に用いる金属として
は、反射率が高い金属であるアルミニウム、銀、金等が
用いられる。なかでも、銀及びアルミニウムは、可視光
域での反射率が優れているため、好適に用いられてい
る。さらに、銀はアルミニウムよりも３８０ｎｍ以上の
波長の光に対しは、より高い反射率を有し、反射体とし
ては優れた性能を持つことが知られている。通常、これ
らの金属は金属板としては用いられず、プラスチックフ
ィルム上に薄膜を形成し、そのフィルムを板状の成形体
に接着することにより得られたものを、折り曲げ加工等
を行い、リフレクターを形成する。

【０００３】一方、液晶用に用いられるサイドライト式
バックライトでは、光源からの光を導光板を用いて、全
面が均等な輝度が得られるようになっているが、この導
光板から漏れてきた光を再度利用するために、最下面に
反射板が設置されている。この反射板は、通常白ＰＥＴ
が用いられているが、より反射率を上げるため、金属の
反射板を用いることが増えてきている。この、金属の反
射板を用い、上記のような加工を行ったリフレクターを
組合せ、バックライトユニットを形成した場合、全体と
してより高い輝度を得られるはずであるが、両者の相性
が悪いためか、画面上に揮線と言われる線が発生してし
まい、部分的に明るさの鋭い部分が生じるため、ディス
プレイとしての表示品位が低下するという問題があっ
た。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、高輝
度で耐久性の優れた反射体を提供し、かつ、同反射体を
用いたリフレクターを提供し、ディスプレイとしたとき
に高輝度が得られるバックライトユニットである、導光
板下に鏡面の銀反射体を用いるタイプに組み込んだ場合
に、揮線の発生を防止することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題を解決するために、鋭意検討した結果、驚くべきこと
に、凹凸層をもつ高分子フィルム上に、下地層、銀層、
銀を主体とする合金層、透明酸化物層の４層を順に構成
したものを、或いは、アルミニウム単層を形成したもの
を、高分子側を接着面として、成形体と粘着剤により貼
り合わせることにより、上記の課題を解決出来ることを
見いだし、本発明を完成するに至った。

【０００６】すなわち、本発明は、以下に記載の事項よ
り特定される反射体およびそれを用いたリフレクターに
関する。

【０００７】（１）少なくとも高分子フィルム（Ａ）、
凹凸層（Ｂ）、銀或いはアルミニウムを主体とする金属
反射層（Ｃ）からなる構成ＡＢＣの反射体において、銀
或いはアルミニウムを主体とする金属反射層（Ｃ）側か
ら、測定した全反射率が、波長５５０ｎｍにおいて８０
％以上であり、かつ、反射ヘイズ値（拡散反射率／全反
射率×１００）が３０％以上であることを特徴とする反
射シート。

【０００８】（２）金属反射層（Ｃ）が、高分子側か
ら、下地層、銀層、銀を主体とする合金層、透明酸化物
層の４層で構成される上記（１）記載の反射シート。

【０００９】（３）アルミニウム層単層により構成され
ることを特徴とする上記（１）記載の反射シート。

【００１０】（４）金属反射層（Ｃ）における下地層
が、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、
モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガ
ン、チタン、もしくは、パラジウムからなる厚さ５〜５
０ｎｍの金属層、または、酸化アルミニウムが０〜５重
量％ドープされた酸化亜鉛、または、インジウムとスズ
の酸化物（ＩＴＯ）からなる厚さ１〜２０ｎｍの透明酸
化物層であることを特徴とする上記（１）〜（３）のい
ずれかに記載の反射シート。

【００１１】（５）金属反射層（Ｃ）における銀層の厚
みが、７０〜４００ｎｍであることを特徴とする上記
（１）〜（４）のいずれかに記載の反射シート。

【００１２】（６）金属反射層（Ｃ）における銀を主体
とする合金層が、銀に対し銅とパラジウムをあわせて
０．００１〜２重量％含有している合金からなる層であ
り、該合金層の膜厚が、５〜４０ｎｍであることを特徴
とする上記（１）〜（５）のいずれかに記載の反射シー
ト、（７）金属反射層（Ｃ）における透明酸化物層が、酸化
アルミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛、ま
たは、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）からなる厚
さ１〜２０ｎｍの透明酸化物、あるいは厚みが、１〜５
０ｎｍであるような珪素酸化物層であることを特徴とす
る上記（１）〜（５）記載の反射シート。

【００１３】（８）金属反射層（Ｃ）におけるアルミニ
ウム層の厚みが、７０〜４００ｎｍであることを特徴と
する上記（２）記載の反射シート。

【００１４】（９）凹凸層（Ｂ）が、平均粒径１μｍ以
上１５μｍ以下であるような微細粒子、および、バイン
ダーにより形成され、かつ、該微細粒子が凹凸層の体積
に対し、５〜５２体積％の割合になるように配合され、
かつ、該凹凸層の乾燥重量（ｇ／ｃｍ²）が下記式
（１）の条件を満足するものであることを特徴とする上
記（１）〜（８）のいずれかに記載の反射シート、式（１）：０．６×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²）≦２．５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）〔但し、ｐ＝１００／（１＋（１００／ｖ―１）×ｂ／
ａ）〕であり、ｒ：使用した微細粒子の半径の平均値（ｃｍ）ｐ：凹凸層中の微細粒子の割合（重量％）ｖ：凹凸層中の微細粒子の割合（体積％）ａ：用いた微細粒子の密度（ｇ／ｃｍ³）ｂ：用いたバインダーの密度（ｇ／ｃｍ³）（１０）微細粒子が、アクリル系粒子であることを特徴
とする上記（９）に記載の反射シート。

【００１５】（１１）バインダーが、アクリル系樹脂で
あることを特徴とする上記（９）または（１０）記載の
反射シート。

【００１６】（１２）上記（1）〜（９）のいずれかに
記載の反射シートの高分子フィルム層（Ａ）側を接着面
をとして、支持体に接着剤層を介して積層してなるリフ
レクター。

【００１７】（１３）支持体が、アルミ板、真鍮板、ス
テンレス板、鋼板、或いはプラスチック製の板及びシー
トのいずれかであることを特徴とする上記（１２）に記
載のリフレクター。

【００１８】（１４）高分子フィルム（Ａ）と支持体と
の接着強度が１００ｇ／ｃｍ以上であり、かつ、接着層
の厚みが０．５μm以上５０μm以下であることを特徴と
する上記（１）〜（１３）記載の反射シート及びそれを
用いたリフレクター。

【００１９】（１５）上記（１２）〜（１４）に記載の
リフレクターを、反射層側を内側に折り曲げ、光源を覆
うように設置して使用することを特徴とするリフレクタ
ー。

【００２０】（１６）上記（１５）における、高分子フ
ィルム（Ａ）と支持体との接着強度が１００ｇ／ｃｍ以
上であり、かつ、接着層の厚みが０．５μm以上５０μm
以下であり、かつ、金属反射層側の曲率半径が５ｍｍ以
下であることを特徴とする上記（１）〜（１５）に記載
の反射シート及びそれを用いたリフレクター。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。

【００２２】本発明の反射体は、高分子フィルム上に凹
凸構造を有する層を形成した後、該凹凸層上に下地層、
銀層、銀を主体とする合金層、透明酸化物層の４層を、
或いは、アルミニウム層単層を形成した反射体であり、
また、本発明のリフレクターとは、該反射体を反射層側
を接着面として、支持体に接着させ、反射層側を内側に
曲率半径が５ｍｍ以下になるように折り曲げたものであ
る。

【００２３】本発明における高分子フィルムは、例えば
ポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリエチレン
ナフタレートなどのポリエステル類、ビスフェノールＡ
系ポリカーボネートなどのポリカーボネート類、ポリエ
チレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セル
ローストリアセテートなどのセルロース誘導体類、ポリ
塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリイミド類、ポ
リアミド類、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン系樹
脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素系樹脂などの各種プ
ラスチックからなるフィルムが挙げられるが、必ずしも
これらに限定されるものではなく、ある程度常用耐熱温
度が高いものであれば使用できる。耐熱性の高いフィル
ムを用いれば、高温で使用できる反射板が得られること
は言うまでもない。

【００２４】使用される高分子フィルムの厚みは、特に
限定されるものではないが、通常は１０〜１５０μｍ程
度が好ましく用いられる。

【００２５】本発明において高分子フィルム上に形成さ
れる凹凸層は、一般的なエンボス加工や、透明微粒子の
塗布により形成されるが、拡散成分の調整が比較的簡単
な、粒子の塗布による方法が好ましい。

【００２６】塗布される粒子としては、例えば、アクリ
ル、ポリスチレン、ビニルベンゼン、ポリメタクリル酸
メチル、スチレンメタクリレート、スチレンアクリレー
ト、スチレンブタジエン等の高分子（有機）粒子をはじ
め、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化鉛
（鉛白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭酸
バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸ソ
ーダなどからなる無機微粒子や、酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化カドミウム、酸化アンチモンなどの導電性透明
微粒子なども用いることができるが、必ずしもこれらに
限定されるものではない。なかでもアクリル樹脂が好ま
しい。

【００２７】アクリル樹脂のような高分子粒子の調整方
法としては、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法など
が挙げられる。なかでも乳化重合法が最も一般的である
が、近年、分散重合も盛んに行われている。どの重合法
においても、生成する高分子は分散媒に難溶であり、分
散媒と高分子間の表面張力により粒子化する。高分子粒
子は、粒子表面に結合又は吸着している保護コロイドに
よって安定化され、さらに粒子内架橋によっても安定化
される。これらの方法の中でも特に、分散重合法を用い
た場合、サブミクロンから数十ミクロンまでの広い範囲
の粒子が得られる特徴がある。

【００２８】高分子フィルムの表面に所望の粗さを得る
ために、用いられる粒子の平均粒子径は、１〜１５μｍ
が好ましく、より好ましくは２〜１０μｍであり、さら
に好ましくは３〜８μｍである。平均粒子径が１μｍ未
満では、粒子の埋没で凹凸構造の表面が形成しにくくな
り、また、１５μｍを越えると凹凸構造の起伏が大きく
なり、反射光のうち、凹部に入り表に出てこれなくなる
光の割合が大きくなくなるため、全体としての反射率が
低下するため好ましくない。

【００２９】また、粒子の粒径分布は小さい方が好まし
い。粒径の標準偏差の平均粒径に対する割合は５０％以
下が好ましく、より好ましくは３０％以下で、さらに好
ましくは２０％以下である。粒径分布が上記の割合を大
きく超えると、制御された凹凸構造を得ることが難しく
なる。

【００３０】また、粒子を混合するバインダーとして用
いるものは、例えばポリメタクリル酸メチルなどのアク
リル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリメタアクリ
ルニトリル樹脂、エチルシリケートより得られる重合体
などの珪素樹脂、フッ素系樹脂、ポリエステル系樹脂、
ポリスチレン樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルサ
ルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系
樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹
脂や、これらの混合物などが挙げられるが、必ずしもこ
れらに限定される物ではない。これらは高分子フィルム
及び粒子との密着性を考慮して選択され、なかでもアク
リル系樹脂が好ましい。

【００３１】また、粒子をバインダー中に分散させるた
めの溶媒としては、トルエン、メチルエチルケトン、酢
酸エチル、イソプロピルアルコールなどが好ましく用い
られる。これらは塗布作業時に一般的に用いられる溶媒
であり、これら以外でも基材高分子フィルムやフィラー
微細粒子に影響を与えない溶媒であれば、問題なく使用
できる。また、塗布溶液には、必要に応じてぬれ剤や増
粘剤、分散剤、消泡剤などの添加剤も加えられることも
ある。

【００３２】粒子の配合割合としては、塗工溶液におけ
る固形分（粒子＋バインダー）中の粒子の体積％で表さ
れ、通常固形分１００体積％に対し、５体積％以上、５
２体積％以下が好ましく、より好ましくは１０体積％以
上４５体積％以下、さらに好ましくは、２０体積％以
上、４０体積％以下である。フィラーの使用量が５体積
％以下の場合、十分な光拡散性を得ることが出来ず、５
２体積％を越えると複屈折により十分な反射光が得られ
なくなる。

【００３３】また、粒子をバインダー中に溶剤を用いて
分散させた溶液を塗工する際は、分散溶液を調合後、４
時間、好ましくは１２時間、さらに好ましくは２４時間
おいた後に塗工することが好ましい。高分子からなる微
細粒子は溶剤の影響を受け、数時間の間、経時で膨潤す
るため、分散溶液調合後、すぐに塗工を行うと、微細粒
子の粒径が経時で変化するため、凹凸構造が不均一にな
ると共に、分散溶液の粘度も経時で変化するため、塗工
条件の調整が困難になることがある。

【００３４】高分子上に形成される凹凸層の重量は、式
（１）で表すように、式（１）：０．６×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²）≦２．５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）であることが好ましい。より好ましくは、式（３）：０．６×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²）≦２．０×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）さらに好ましくは、式（４）：０．６×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²）≦１．５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）である。凹凸層の重量が、式（１）の左辺の値より少な
くなると、凹凸層を形成するための粒子の数が少なす
ぎ、高分子フィルム上に所望の凹凸構造を得ることが出
来ない。また、凹凸層の重量が（１）式の右辺の値より
少なくなると、粒子の数が多くなりすぎて、制御された
凹凸構造を作ることが難しくなる。

【００３５】ここでいう重量とは、乾燥後（ドライ）重
量を表す。乾燥前（ウェット）での重量（塗布量）は、
コーティングに用いるグラビヤ版やメイヤーバーの番手
を選ぶの上で有用であるが、実測が困難であることが多
い。そこで、実際には乾燥後の膜厚や、乾燥後の塗布重
量を測定し評価することが多い。しかしながら、粒子層
は凹凸層になっているため、必ずしも塗布量と膜厚が一
致しない。よって、乾燥後（ドライ）の重量で評価を行
うことが好ましいと考えられる。

【００３６】ドライ重量の測定方法としては例えば、凹
凸層表面の微細粒子及びバインダーを可溶する溶剤によ
り丁寧にふき取り、剥がれた凹凸層及び溶剤を乾燥さ
せ、溶剤を蒸発させることにより容易に計量する事がで
きる。

【００３７】凹凸層は、高分子フィルムに前述の溶液を
塗布することにより形成される。塗布方法としては、広
い粘度範囲にわたって塗布が可能であり、走行中にも塗
膜厚さを調整でき、また塗膜厚さを大幅に変えることが
出来るなどの特徴をもつ、ロールコータ法、比較的運転
技術を要さず、幅広でも塗工厚さが均一で、薄膜コーテ
ィング出来るなどの特徴をもつクラビアコータ法、高速
塗工、高生産性、塗工厚さの均一性、広範囲に塗装が出
来るなどの特徴をもつダイコート（押出）法、などが挙
げられる。さらに上記のほかにも種々の塗布方法が考え
られるが、本発明の要求を満たす塗布方法としては、塗
布時のゲル化によるブツの発生を考慮すると、ダイコー
ト法が好ましい。ダイコート（押し出し）法とは、ホッ
パーなどに溜められた溶液を、ポンプ圧力によりダイか
ら押し出しフィルム表面に塗布する方法である。この法
では通常供給された塗布液のすべてが再循環することな
くフィルム上に塗布される。よって塗布量はポンプ送出
量とラインスピードによって決定される。また、非常に
低い粘度の塗布液を用いる場合は、幅方向で十分なダイ
内部圧が得られず、塗工量が不均一になる場合がある
が、その際にはフィード部分のオリフィスギャップを狭
くすることによりダイ内部圧を均一とすることで対応す
る。また、ダイの先端部分は計量ブレードとして用いら
れ、幅方向の塗布量の均一性を高めている。さらに先端
部分を唇状に丸めたダイコート法は、リップコート法と
も呼ばれ、塗布量の均一性のみならず良好な塗布面を得
るにはこのようにダイの先端部分に工夫を凝らしたもの
が好ましく用いられ、本発明においても先端部を丸めた
リップコート法を用いることが好ましい。

【００３８】本発明の反射体において、反射層は凹凸層
上に形成される４層或いは１層からなるものである。４
層構造の場合は、凹凸層側からの第１層は下地金属層、
第２層は、銀層、第３層は銀を主体とする合金層、第４
層は透明酸化物層である。また、アルミニウムを使う場
合は単層でも使用できる。この違いは、銀を使えばアル
ミニウムよりさらに高い反射率を選られるが、耐久性を
出すためには、多層構造にする必要がある。両者の使い
分けは反射率、耐久性、用途を勘案して適宜選択するこ
とができる。

【００３９】４層構成の場合、第１層の下地層には、
金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリ
ブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チ
タン、パラジウムなどの金属単体、または、酸化アルミ
ニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛もしくはイ
ンジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）などの透明酸化物が
好ましく用いられる。

【００４０】第２層の銀層には、基本的には銀単体であ
ることが望ましいが、その性能に害を及ぼさない程度の
金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリ
ブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チ
タン、パラジウムなどの金属不純物が含まれても良い。

【００４１】第３層の銀を主体とする合金の金属層に
は、銀に対し銅及びパラジウムが合わせて２重量％以下
の範囲で含有している合金が好ましく用いられる。

【００４２】第４層の透明酸化物層には、酸化アルミニ
ウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛や、インジウ
ムとスズの酸化物（ＩＴＯ）、珪素酸化物等が好ましく
用いられる。

【００４３】また、アルミニウム層単層の場合では、基
本的にはアルミニウム単体であることが望ましいが、そ
の性能に害を及ぼさない程度の金、銅、ニッケル、鉄、
コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロ
ム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウムなどの
金属不純物が含まれても良い。

【００４４】金属薄膜層の形成法は、湿式法及び乾式法
がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液から金
属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげる
とすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真
空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵
抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イ
オンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着
法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続
的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な真空成
膜法が好ましく用いられる。

【００４５】真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビー
ム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇
させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏｒｒ）
以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなど
のガスを１３．３ｍＰａ以上導入させ、高周波もしくは
直流のグロー放電を起こしても良い。

【００４６】スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを使用し
うる。

【００４７】スパッタ法においては、原材料は金属の板
状のターゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリ
ウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを
使用しうるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガス
の純度は９９％以上が好ましいが、より好ましくは９
９．５％以上である。また、透明酸化膜の形成には、真
空成膜法が好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使
用され、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴ
ン、クリプトン、キセノンなどを使用し、場合において
は酸素ガスを用いて行うこともある。

【００４８】ここで、４層構造の場合、第１層である下
地層において、金属層を用いた場合、その厚みは、５〜
５０ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜３０ｎｍであ
る。該層の厚みが５ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤ
ー効果が得られず、第２層の銀層に凝集を発生させる。
また、５０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無いば
かりか、資源を有効に利用するという観点からも好まし
くない。また、透明酸化物を用いた場合、該層の厚み
は、１〜２０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは、５〜
１０ｎｍである。かかる層の厚みが１ｎｍより薄い場合
は、所望のバリヤー効果が得られず、第２層の銀層に凝
集を発生させる。

【００４９】第２層である銀層の厚みは、７０〜４００
ｎｍが好ましく、より好ましくは１００〜３００ｎｍ、
さらに好ましくは１５０〜２５０ｎｍである。かかる層
の厚みが７０ｎｍより薄い場合は、十分な金属層の形成
が出来ていないため、所望の反射率を得ることが出来な
い。また、４００ｎｍよりも厚くしてもその効果に変化
が無いばかりか、資源を有効に利用するという観点から
も好ましくない。

【００５０】第３層である銀を主体とする合金の金属層
の厚みは、５〜４０ｎｍが好ましい。かかる層の厚みが
５ｎｍよりも薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られ
ず、また、４０ｎｍより厚い場合は第３層である銀層の
特性がでなくなってしまい好ましくない。

【００５１】第４層である透明酸化物層の厚みは、１〜
２０ｎｍが好ましく、より好ましくは１〜７ｎｍ、さら
に好ましくは１〜５ｎｍである。かかる層の厚みが１ｎ
ｍより厚いと所望のバリヤー効果が良好に得られ、第２
層の銀層の凝集も発生しない。しかし、２０ｎｍより厚
くしてもその効果の変化にほとんど影響は見られない。

【００５２】また、アルミニウム層単層の場合、その厚
みは、７０〜４００ｎｍが好ましく、より好ましくは１
００〜３００ｎｍ、さらに好ましくは１５０〜２５０ｎ
ｍである。かかる層の厚みが７０ｎｍより厚いと、十分
な金属層が形成されるので、所望の反射率を得ることが
出来る。しかし、４００ｎｍよりも厚くしてもその効果
に変化にほとんど影響は見られない。

【００５３】前記各層の膜厚の測定方法としては、触針
粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶
振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法で
は成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得る
のに適している。また、前もって成膜の条件を定めてお
き、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を
調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もあ
る。

【００５４】また、反射層を透明高分子フィルム（層）
上に設ける際に、該高分子フィルム表面に、コロナ放電
処理、グロー放電処理等を行うことが反射層と高分子フ
ィルムの密着性を向上させる効果があることは当業者の
技術的常識の範囲であろう。

【００５５】本発明で用いられる接着剤は、熱または触
媒の助けにより接着される接着剤であり、具体的には、
シリコン系接着剤、ポリエステル系接着剤、エポキシ系
接着剤、シアノアクリレート系接着剤、アクリル系接着
剤など一般的な接着剤を用いることができる。エポキシ
系接着剤は強度、耐熱性に優れているため、これもまた
好適に利用できる。シアノアクリレート系接着剤は、即
効性と強度に優れているため、効率的な反射体作製に利
用できる。これらの接着剤は、接着方法によって熱硬化
型、ホットメルト型、２液混合型に大別されるが、好ま
しくは連続生産が可能な熱硬化型あるいはホットメルト
型が使用される。どの接着剤を使用した場合でもその厚
みは、０．５μｍ〜５０μｍが好ましい。

【００５６】高分子フィルムと板状成形体との接着は、
反射層への接着剤のコーティング、乾燥、ローラーによ
る板状成形体とのラミネート、の手順により行われる。
接着剤のコーティング方法は、基材や接着剤の種類によ
って多くの方法があるが、広く使用されているのは、グ
ラビアコーター方式及び、リバースコーター方式であ
る。グラビアコーター方式では、接着剤に一部浸されて
いるグラビアロールを回転させ、バックアップロールに
よって送られるフィルムを接着剤の付着したグラビアロ
ールに接触させることによりコーティングする。コーテ
ィング量はロールの回転数、接着剤の粘度を制御するこ
とで調整できる。リバースコーター方式も、グラビアコ
ーター方式に類似した方法だが、コーティングロールに
付着する接着剤の量を、それに接して設置されているメ
タリングロールによって調整する。コーティングされた
接着剤の乾燥温度、及びラミネート温度は接着剤の種類
によってまちまちであるが、上記にかかげた一般的な接
着剤を用いる場合は１００℃前後である。

【００５７】この接着剤による反射層を形成した高分子
フィルムと、板状成形体との接着強度は、１８０度ピー
ル強度で測定して１００ｇ／ｃｍ以上である事が好まし
い。この接着強度にあまりに達しない場合には、板金加
工した際、反射層を形成した高分子フィルムの、板状成
形体からの剥がれ等が生じ、変形等を引き起こす可能性
があるためである。

【００５８】板状成形体には、アルミニウム、アルミニ
ウム合金、ステンレス鋼、鋼亜鉛合金、鋼等が使用され
るが、これらの金属にはそれぞれ長所があり、次のよう
に使い分けることができる。アルミニウムは軽量かつ加
工性に優れ、また、熱伝導率が高くそれにかかる熱を効
果的に大気中に逃がすことができるため、ランプ発行に
よって反射体が加熱されるＬＣＤ用バックライトに好適
に利用できる。アルミ合金は軽量かつ機械的強度が強
い。ステンレス鋼は機械的強度が適度にあり、また耐蝕
性に優れている。鋼亜鉛合金すなわち黄銅または真鍮
は、機械的強度の強いことに加え、はんだづけが容易な
ため電気的端子をとり易い。鋼は安価なため、コストを
抑える必要がある時に好ましく用いられる。

【００５９】プラスチックの板やシートを用いること
ができるのは勿論のことである。さらに、プラスチック
フィルムを用いる場合、特に、外観を美しく保つため
に、金属蒸着フィルムや塗装を施したフィルムをラミネ
ートすることが好ましい。

【００６０】このようにして作製された反射板の、金属
層側から測定される反射率は典型的には、５５０ｎｍの
波長の光に対して８０％以上であり、より詳しくは４８
０〜７８０ｎｍの範囲で、８０％以上である。

【００６１】本発明品である反射体の構成、及び電気特
性の代表的な評価方法を以下に説明する。銀薄膜層、接
着層、板状成形体の各部の厚さは、その断面を透過型電
子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することで直接測定できる。
高分子フィルムの材料分析は、赤外分光（ＩＲ）により
できる。また、接着剤の材料分析は銀薄膜層と板状成形
体を引き剥がして接着剤を露出させ、適当な溶媒にそれ
を溶かした試料を作成し、その赤外分光（ＩＲ）をとる
ことでできる。銀薄膜層及び、板状成形体の材料分析
は、蛍光Ｘ線分光（ＸＲＦ）によりできる。さらに、Ｘ
線マイクロアナライザー（ＥＰＭＡ）では蛍光Ｘ線分光
より微細な部分の元素分析が行える。また、銀薄膜層の
形成された高分子フィルムを、接着剤から引き剥がし銀
薄膜層を露出させれば、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）
により組成分析、及び深さプロファイルをとることで厚
さも知ることができる。

【００６２】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。実施例１平均粒子が５μｍであるアクリル系樹脂（根上工業
（株）製、品名：アートパール）と、バインダーとして
アクリル系樹脂（三井化学（株）製、品名：アルマテッ
クスＥ２６９）（共に密度１．２ｇ／ｃｍ³）を、トル
エンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて、固形
分比３５％、固形分中の粒子の割合を３７.０体積％と
した溶液を調合した。これらの物性値を式（１）に代入
することにより、塗布重量範囲を計算したところ４．５
（ｇ／ｍ²）≦塗布量（ｇ／ｍ²）≦１０．８（ｇ／
ｍ²）となったため、ドライ塗布量が９．０ｇ／ｍ²とな
るようにポンプ圧力とラインスピードを調整し、厚さ５
０μｍのポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィル
ムの上に、リップコート法にて塗布を行った。この際、
ブツによる筋は観察されず、良好な塗布面が得られた。
できたシートを、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、２％
のＡｌ₂Ｏ₃がドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）
をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッ
タガスとして、酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成
した。続いて、このシートをスパッタ装置から取り出す
ことなく、同様にＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度
９９．９％の銀をターゲットととし、純度９９．５％の
アルゴンをスパッタガスとして銀を膜厚２００ｎｍにな
るように成形した。続いて、このシートをスパッタ装置
から取り出すことなく、同様にＤＣマグネトロンスパッ
タ法にて純度９９．９％のＡＰＣ１％（Ａｇに対し、Ｐ
ｄとＣｕが合計で１重量％配合された合金）をターゲッ
トとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとし
て、ＡＰＣ１％が膜厚８ｎｍになるように成形した。続
いて、このシートをスパッタ装置から取り出すことな
く、ＲＦマグネトロンスパッタ法にて純度９９．９％の
ＳｉＯ₂をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴン
をスパッタガスとして、ＳｉＯ₂を膜厚５ｎｍになるよ
うに成形した。できたシートを日立自記分光光度計（型
式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、５５０
ｎｍにおける全反射率、拡散反射率測定を行ったとこ
ろ、反射率９２．６％、拡散反射率８４．８％を得た。
続いて、シートのＰＥＴフィルム側と真鍮板（厚さ０．
２ｍｍ）とをポリエステル系ホットメルト型接着剤（東
洋紡、バイロンＡＳ５００）で接着し、反射板を形成し
た。それを打ち抜き加工によりリフレクターを得た。得
られたリフレクターを下面の反射体に、鏡面の銀反射体
を用いた導光板及び冷陰極管のランプと組合せ、サイド
ライト式バックライトユニットを得た。このバックライ
トを液晶表示装置に組み込み、ランプを点灯させるたと
ころ、揮線の発生は見られなかった。比較例１リフレクターに用いる反射体として、鏡面の銀反射体を
用いたこと以外は、実施例１に準じてバックライトユニ
ットを形成した。用いた銀反射体を、日立自記分光光度
計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球を設置し、
５５０ｎｍにおける全反射率、拡散反射率測定を行った
ところ、反射率９５．６％、拡散反射率０．5％を得
た。このバックライトを液晶表示装置に組み込み、ラン
プを点灯させたところ、揮線が発生してしまい、全体と
して輝度ムラが大きくなり、ディスプレイ表示品位が悪
くなった。

【００６３】また、上記実施例及び比較例で作製したラ
ンプリフレクターを、図３に示すように実装し、雰囲気
温度８０℃、相対湿度６０％で蛍光管を点灯させ、点灯
後２０００時間及び５０００時間での波長５５０ｎｍで
の反射率を測定した。その結果を表１に示す。

【００６４】

【表１】

【００６５】

【発明の効果】本発明の反射体を用いることで、長時間
の過酷な使用時においても高輝度アルミ板よりも反射率
が高く、かつ、反射率の低下のないリフレクターを得る
ことができる。さらに、本発明のリフレクターを、導光
板の下に白ＰＥＴではなく鏡面の銀反射体を用いるサイ
ドライト式バックライトユニットにおける、ランプリフ
レクターとした場合、得られる輝度の低下が殆どなく揮
線の発生を防止できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に関する反射体の一例を示す断面図で
ある。

【図２】本発明に関する反射板を成形加工したランプ
リフレクターの一例

【図３】本発明に関するランプリフレクターの断面構
成

【図４】本発明に関する液晶表示素子バックライトユ
ニットに取付けたランプリフレクターの例

【符号の説明】

１０反射層２０凹凸層３０高分子層４０粘着層５０成形体６０ランプリフレクター７０蛍光管８０導光板

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｆ２１Ｖ 7/22 Ｆ２１Ｖ 7/22 Ｃ 8/00 ６０１ 8/00 ６０１ＣＧ０２Ｂ 5/02 Ｇ０２Ｂ 5/02 Ｃ 5/08 5/08 Ａ // Ｆ２１Ｙ 103:00 Ｆ２１Ｙ 103:00 Ｆターム(参考） 2H042 BA03 BA12 BA15 BA18 BA20 4F100 AA17E AA19C AA19E AA20E AA25E AA33C AA33E AB04E AB10C AB10E AB16C AB17 AB17C AB17E AB18 AB24C AB24D AB24E AB25C AB31 AB31E AK01A AK01E AK25B AK41G AK42 AR00C AT00E BA03 BA06 BA07 CB03 DD01B DE01B GB41 JA20 JK06 JL00 JM10E JN01C JN01E JN06 JN21 YY00

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも高分子フィルム（Ａ）、凹凸
層（Ｂ）、銀或いはアルミニウムを主体とする金属反射
層（Ｃ）からなる構成ＡＢＣの反射体において、銀或い
はアルミニウムを主体とする金属反射層（Ｃ）側から、
測定した全反射率が、波長５５０ｎｍにおいて８０％以
上であり、かつ、反射ヘイズ値（拡散反射率／全反射率
×１００）が３０％以上であることを特徴とする反射シ
ート。
【請求項２】金属反射層（Ｃ）が、高分子側から、下
地層、銀層、銀を主体とする合金層、透明酸化物層の４
層で構成される請求項１記載の反射シート。
【請求項３】金属反射層（Ｃ）が、アルミニウム層単
層により構成されることを特徴とする請求項１記載の反
射シート。
【請求項４】金属反射層（Ｃ）における下地層が、
金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリ
ブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チ
タン、もしくは、パラジウムからなる厚さ５〜５０ｎｍ
の金属層、または、酸化アルミニウムが０〜５重量％ド
ープされた酸化亜鉛、または、インジウムとスズの酸化
物（ＩＴＯ）からなる厚さ１〜２０ｎｍの透明酸化物層
であることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載
の反射シート。
【請求項５】金属反射層（Ｃ）における銀層の厚み
が、７０〜４００ｎｍであることを特徴とする請求項１
〜４のいずれかに記載の反射シート。
【請求項６】金属反射層（Ｃ）における銀を主体とす
る合金層が、銀に対し銅とパラジウムをあわせて０．０
０１〜２重量％含有している合金からなる層であり、該
合金層の膜厚が、５〜４０ｎｍであることを特徴とする
請求項１〜５のいずれかに記載の反射シート。
【請求項７】金属反射層（Ｃ）における透明酸化物層
が、酸化アルミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化
亜鉛、または、インジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）か
らなる厚さ１〜２０ｎｍの透明酸化物、あるいは厚み
が、１〜５０ｎｍであるような珪素酸化物層であること
を特徴とする請求項１〜６記載の反射シート。
【請求項８】金属反射層（Ｃ）におけるアルミニウム
層の厚みが、７０〜４００ｎｍであることを特徴とする
請求項２に記載の反射シート。
【請求項９】凹凸層（Ｂ）が、平均粒径１μｍ以上１
５μｍ以下であるような微細粒子、および、バインダー
により形成され、かつ、該微細粒子が凹凸層の体積に対
し、５〜５２体積％の割合になるように配合され、か
つ、該凹凸層の乾燥重量（ｇ／ｃｍ²）が下記式（１）
の条件を満足するものであることを特徴とする請求項１
〜８のいずれかに記載の反射シート。式（１）：０．６×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²）≦２．５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）〔但し、ｐ＝１００／（１＋（１００／ｖ―１）×ｂ／
ａ）〕であり、ｒ：使用した微細粒子の半径の平均値（ｃｍ）ｐ：凹凸層中の微細粒子の割合（重量％）ｖ：凹凸層中の微細粒子の割合（体積％）ａ：用いた微細粒子の密度（ｇ／ｃｍ³）ｂ：用いたバインダーの密度（ｇ／ｃｍ³）
【請求項１０】微細粒子が、アクリル系粒子であるこ
とを特徴とする請求項９に記載の反射シート。
【請求項１１】バインダーが、アクリル系樹脂である
ことを特徴とする請求項９または１０記載の反射シー
ト。
【請求項１２】請求項1〜９のいずれかに記載の反射
シートの高分子フィルム層（Ａ）側を接着面をとして、
支持体に接着剤層を介して積層してなるリフレクター。
【請求項１３】支持体が、アルミ板、真鍮板、ステン
レス板、鋼板、或いはプラスチック製の板及びシートの
いずれかであることを特徴とする請求項1２に記載のリ
フレクター。
【請求項１４】高分子フィルム（Ａ）と支持体との接
着強度が１００ｇ／ｃｍ以上であり、かつ、接着層の厚
みが０．５μm以上５０μm以下であることを特徴とする
請求項１〜１３記載の反射シート及びそれを用いたリフ
レクター。
【請求項１５】請求項１２〜１４に記載のリフレクタ
ーを、反射層側を内側に折り曲げ、光源を覆うように設
置して使用することを特徴とするリフレクター。
【請求項１６】請求項１５における、高分子フィルム
（Ａ）と支持体との接着強度が１００ｇ／ｃｍ以上であ
り、かつ、接着層の厚みが０．５μm以上５０μm以下で
あり、かつ、金属反射層側の曲率半径が５ｍｍ以下であ
ることを特徴とする請求項１〜１５に記載の反射シート
及びそれを用いたリフレクター。