JP2002116312A - ポリマーフィルム基板を用いた反射型液晶表示装置用反射体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 軽量化、薄型化に最適と考えられる反射型
液晶表示装置に組み込んだ際、従来品よりも明るいペー
パーホワイトタイプで、高輝度かつ高耐久性を有する反
射体を提供する。 【解決手段】 高分子フィルムに、その重量がある特定
の重量範囲になるように粒子及びバインダーを塗布する
ことにより形成された凹凸層の上に、下地層、銀層、銀
を主体とする合金層、珪素酸化物層を順に構成した反射
体、およびそれを用いた少なくとも一対の透明なポリマ
ーフィルム基板の対向内面に液晶が封入され、その対向
外面の一方に反射体が配置された反射型液晶表示装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶を封入する基板
にポリマーフィルムを用いた、反射型液晶表示装置に用
いられる反射シートに関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示装置はこれまでのＣＲＴディス
プレイに比べ、薄型であり省スペース化できること、消
費電力が少なく省エネルギー化できるなどの特徴から、
中小型機器のディスプレイを中心に広く用いられてい
る。

【０００３】なかでも我々の生活に身近な液晶ディスプ
レイである携帯電話やＰＤＡに代表されるモバイル機器
では、軽量化、薄型化、低消費電力化の傾向がより一層
強くなっており、この要求を満たす最も有力なものが、
バックライトを使用する代わりに外光を反射して表示を
行う反射型液晶表示装置である。現在、主として用いら
れている白黒表示の反射型液晶表示装置は人側より、偏
光板、液晶表示パネル、偏光板、反射体で構成されてい
る。

【０００４】また、現在増加傾向にある反射型カラー液
晶表示装置では、上記部材に加えカラーフィルターが用
いられる。これらの液晶表示装置では光源である外光
が、偏光板―液晶表示パネル−偏光板を通過し、反射体
に到達した後、反射体により反射され、再度、偏光板―
液晶表示パネル−偏光板を通過し外部へ到達するため、
入射外光に対して、反射光の光量は光損失を考慮すると
３分の１以下に落ちてしまい、暗くなってしまうという
問題点があった。

【０００５】また、カラー反射型液晶表示装置において
は、カラーフィルターのため、さらに反射光が減少し非
常に暗い表示になってしまうという問題がある。よって
これらの表示装置においては、いかに外光を効率よく反
射させるかが重要なファクターであり、光を反射させる
反射体の性能が表示品位の大部分を占めていると考えら
れる。

【０００６】理想的な液晶表示とは、明るく、そしてど
こから見ても同様な表示品質が得られるものであり、私
たちが普段使用している紙などの印刷媒体の様なもので
あるといわれている。よって、反射型液晶表示装置に用
いられる反射体も紙のように四方八方に均一に光を拡散
する反射体（ペーパーホワイトタイプ）が好ましいと考
えられる。しかしながら、従来の液晶表示装置において
は、先述したように入射光に対して、反射光の光量が非
常に少なく、均一に光を拡散する反射シート液晶表示装
置に用いても、実際は暗くなり使用できない。

【０００７】そのため、金属光沢をもつ正反射成分の大
きい反射シートを用い、ある範囲に光を集中することに
よって明るい表示しようとしているが、このような正反
射成分の大きな反射シートでは、光の入射角と見る角度
（受光角）が一致する場合は非常に明るいものの、見る
角度（受光角）がずれると一気に暗くなってしまう、つ
まり視野角が狭いという欠点がある。視野角を広げるに
は拡散成分を増やす必要があるが、拡散成分を増やすこ
とはせっかく集中させた光を広げることになり全体的に
暗くなってしまうという問題があり、視野角と表示輝度
のバランスが求められている。

【０００８】このような反射体の反射特性を制御する方
法としては、反射面（金属薄膜層）を形成する高分子フ
ィルムなどの基材を凹凸化する方法が一般的である。凹
凸化方法としては、 １）高分子フィルム表面にエンボス加工を施し凹凸構造
を形成した後、表面を溶剤で処理して滑らかにする方
法。 ２）高分子フィルム表面にＳｉＯ₂などの粒子を高圧空
気とともに吹き付けるサンドブラスト方法。 ３）エッチング法などの化学的方法。 などが挙げられる。

【０００９】しかしながら、１）、２）の方式では、機
械的物理的方法によりフィルム表面に凹凸形状を形成す
る方式のため、フィルムの材質を選択する幅が狭くま
た、厚みもある程度厚くしなければならないという問題
がある。また、（２）の方法では硬いサンド（Ｓｉ
Ｏ₂）の形状が不均一なことから、得られる凹凸形状も
激しくかつ、不均一に粗れており、アルカリ溶液処理な
どで表面の一部を溶解しても、この粗れを十分に均一化
することができず、えられる凹凸構造が非常に不均一に
なるという欠点がある。さらにまた、３）のような化学
的方法においても、フィルムの材質の選択がシビアであ
りまた、処理後の洗浄乾燥が大変であるという問題があ
る。

【００１０】よって、これらの方法で成形した凹凸層に
反射層を形成した反射体では、視野角と表示輝度のバラ
ンスが適度に調整されているとは言い難く、また、薄型
化の面から厚みがある程度必要になるものは好ましくな
い。

【００１１】一方、得られる反射輝度は反射層に用いら
れる金属によっても大きく左右される。例えば、一般的
に用いられる金属層として、銀及びアルミニウムを例に
とり比較すれば、銀を使用した場合、その反射率は８５
％以上、アルミニウムを用いた場合は７５％以上となっ
ており、銀を用いる方が高反射率を得ることができる。

【００１２】しかしながら、近年、液晶ディスプレイの
用途の多様化から、より過酷な使用条件での要求も高ま
っており、長時間の耐久性が必要とされている。一般的
な実装信頼性に関しては、耐久条件として、６０℃×９
０％ＲＨ×５００ｈｒでの耐久性が求められているが、
反射層に銀のみを用いた場合、上記のうち耐久条件にお
いて、表面に銀の劣化がみられ、見た目が悪くなると共
に、反射率の低下を招くという問題があり、高反射率か
つ高耐久性を備えた反射体が必要とされている。

【００１３】また、液晶ディスプレイ機器の軽量化、薄
型化のため、各部材の軽量、薄型化が行われている。ガ
ラス基板を薄くすることもなされているが、薄くすれば
するほど使用時に割れやすくなるばかりでなく、製造も
困難となるため、薄くても高い耐衝撃性を持つ基盤が必
要となる。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、軽量化、薄
型化に最適と考えられる反射型液晶表示装置に組み込ん
だ際、従来品よりも明るいペーパーホワイトタイプで、
高輝度かつ高耐久性を有する反射体を提供することを目
的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題をすべて解決するために、鋭意検討した結果、驚くべ
きことに、液晶を封入する基板にポリマーフィルムを用
い、かつ、反射体として高分子フィルムに、その重量が
ある特定の重量範囲になるように微細粒子及びバインダ
ーを塗布することにより形成された凹凸層の上に、下地
層、銀層、銀を主体とする合金層、珪素酸化物層の４層
を順に構成したものを組み合わせることにより、上記の
課題を解決できることを見いだして本発明に到達した。

【００１６】すなわち本発明は、少なくとも一対の透明
なポリマーフィルム基板の対向内面に液晶が封入され、
かつ、その対向外面の一方に反射体が配置された反射型
液晶表示装置に用いられる反射体であって、高分子フィ
ルム（Ａ）、凹凸層（Ｂ）、下地層（Ｃ）、銀層
（Ｄ）、銀を主体とする合金の金属層（Ｅ）および透明
酸化物層（Ｆ）により、ＡＢＣＤＥＦの順に構成されて
おり、かつ珪素酸化物層（Ｆ）側から測定した波長５５
０ｎｍにおける全反射率が、８５〜９９％である反射体
を提供する。

【００１７】該反射体の波長５５０ｎｍにおける全反射
率に対する拡散反射率の割合が、８０％以上である前記
反射体は本発明の好ましい態様である。

【００１８】ポリマーフィルム基板の外面に配置された
前記反射体が、透明酸化物層（Ｆ）側を界面として貼り
合わせれている反射体も本発明の好ましい態様である。

【００１９】凹凸層（Ｂ）が、平均粒径１μｍ以上１５
μｍ以下の粒子、およびバインダーにより形成され、か
つ、該粒子が凹凸層の体積に対し、５〜５２体積％の割
合になるように配合され、かつ、該凹凸層の乾燥重量
（ｇ／ｃｍ²）が下記式（１）を満たすように形成され
ている前記反射体も本発明の好ましい態様である。 ０．７５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²） ≦２．５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ） （１） [但し、ｐ＝１００／（１＋（１００／ｖ―１）×ｂ／
ａ）であり、 ｒ：粒子の半径の平均値（ｃｍ） ｐ：凹凸層中の粒子の割合（重量％） ｖ：凹凸層中の粒子の割合（体積％） ａ：粒子の密度（ｇ／ｃｍ³） ｂ：バインダーの密度（ｇ／ｃｍ³）]

【００２０】下地層（Ｃ）が、金、銅、ニッケル、鉄、
コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロ
ム、インジウム、マンガン、チタン、もしくはパラジウ
ムからなる厚さ５〜５０ｎｍの金属層、または酸化アル
ミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛、もしく
はインジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）からなる厚さ１
〜２０ｎｍの透明酸化物層である前記反射体も本発明の
好ましい態様である。

【００２１】銀層（Ｄ）の厚みが、７０〜４００ｎｍで
あるこ前記反射体も本発明の好ましい態様であう。

【００２２】銀を主体とする合金の金属層（Ｅ）が、銀
に対し銅とパラジウムをあわせて０．００１〜２重量％
含有している合金からなる層であり、該金属層の膜厚
が、５〜４０ｎｍである前記反射体も本発明の好ましい
態様である。

【００２３】透明酸化物層（Ｆ）が、酸化アルミニウム
が０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛、インジウムとス
ズの酸化物（ＩＴＯ）、または珪素酸化物からなり、そ
の厚みが１〜２０ｎｍである前記反射体も本発明の好ま
しい態様である。

【００２４】また本発明は、少なくとも一対の透明なポ
リマーフィルム基板の対向内面に液晶が封入され、か
つ、その対向外面の一方に反射体が配置された反射型液
晶表示装置において、その反射体として請求項１〜１０
のいずれかに記載された反射体が用いられた反射型液晶
表示装置を提供する。

【００２５】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の反射体は、少なくとも一対の透明なポリマーフ
ィルム基板の対向内面に液晶が封入され、かつ、その対
向外面の一方に反射体が配置された反射型液晶表示装置
に用いられる反射体であって、高分子フィルム（Ａ）、
凹凸層（Ｂ）、下地層（Ｃ）、銀層（Ｄ）、銀を主体と
する合金の金属層（Ｅ）および透明酸化物層（Ｆ）によ
り、ＡＢＣＤＥＦの順に構成されており、かつ珪素酸化
物層（Ｆ）側から測定した波長５５０ｎｍにおける全反
射率が、８５〜９９％であることを特徴とする反射体で
ある。

【００２６】本発明の反射体は、特定の平均粒径により
構成される粒子を、特定の重量割合でバインダーに配合
し、乾燥重量がある特定の重量になるように塗布して、
高分子フィルム上に凹凸構造を有する層を形成した後、
該凹凸層上に下地層、銀を主体とする金属層、透明酸化
物層を順に形成することによって得ることができる。ま
た、ポリマーフィルムを基板とする反射型液晶パネルに
貼り合わせて使用することができる。

【００２７】本発明における高分子フィルム（Ａ）は、
例えばポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリエ
チレンナフタレートなどのポリエステル類、ビスフェノ
ールＡ系ポリカーボネートなどのポリカーボネート類、
ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン
類、セルローストリアセテートなどのセルロース誘導体
類、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリイミ
ド類、ポリアミド類、ポリエーテルスルホン、ポリスル
ホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素系樹脂など
の各種プラスチックからなるフィルムが挙げられるが、
必ずしもこれらに限定されるものではなく、ある程度常
用耐熱温度が高いものであれば使用できる。

【００２８】使用される高分子フィルムの厚みは、特に
限定されるものではないが、通常は１０〜１５０μｍ程
度、好ましくは１２．５〜１００μｍ、より好ましくは
２５〜７５が望ましい。

【００２９】本発明において高分子フィルム（Ａ）上に
形成される凹凸層は、一般的なエンボス加工や、微粒子
の塗布により形成されるが、拡散成分の調整が比較的簡
単な粒子の塗布による方法が好ましい。

【００３０】塗布される粒子としては、例えば、アクリ
ル、ポリスチレン、ビニルベンゼン、ポリメタクリル酸
メチル、スチレンメタクリレート、スチレンアクリレー
ト、スチレンブタジエン等の高分子（有機）粒子をはじ
め、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化鉛
（鉛白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭酸
バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸ソ
ーダなどからなる無機微粒子や、酸化錫、酸化インジウ
ム、酸化カドミウム、酸化アンチモンなどの導電性透明
微粒子なども用いることができるが、必ずしもこれらに
限定されるものではない。なかでもアクリル樹脂が好ま
しい。

【００３１】高分子粒子の調整方法としては、アクリル
樹脂の場合、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法など
が挙げられる。なかでも乳化重合法が最も一般的である
が、近年、分散重合も盛んに行われている。どの重合法
においても、生成する高分子は分散媒に難溶であり、分
散媒と高分子間の表面張力により粒子化する。高分子粒
子は、粒子表面に結合又は吸着している保護コロイドに
よって安定化され、さらに粒子内架橋によっても安定化
される。これらの方法の中でも特に、分散重合法を用い
た場合、サブミクロンから数十ミクロンまでの広い範囲
の粒子が得られる。

【００３２】高分子フィルム（Ａ）の表面に所望の粗さ
を得るために、用いられる粒子の平均粒子径は、１〜１
５μｍが好ましく、より好ましくは２〜１０μｍであ
り、さらに好ましくは３〜８μｍである。平均粒子径が
小さすぎると粒子の埋没で凹凸構造の表面が形成しにく
くなり、また、平均粒子径が大きすぎると凹凸構造の起
伏が大きくなり、反射光のうち、凹部に入り表に出てこ
れなくなる光の割合が大きくなくなるため、全体として
の反射率が低下する場合がある。

【００３３】また、粒子の粒径分布は小さい方が好まし
い。粒径の標準偏差の平均粒径に対する割合は５０％以
下が好ましく、より好ましくは３０％以下で、さらに好
ましくは２０％以下である。粒径分布が大きすぎると、
制御された凹凸構造を得ることが難しくなる。

【００３４】また、粒子を混合するバインダーとして用
いるものは、例えばポリメタクリル酸メチルなどのアク
リル樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、ポリメタアクリ
ルニトリル樹脂、エチルシリケートより得られる重合体
などの珪素樹脂、フッ素系樹脂、ポリエステル系樹脂、
ポリスチレン樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテルサ
ルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系
樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリ
ウレタン系樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹
脂や、これらの混合物などが挙げられるが、必ずしもこ
れらに限定されるものではない。これらは高分子フィル
ム及び粒子との密着性を考慮して選択され、なかでもア
クリル系樹脂が好ましい。

【００３５】また、粒子をバインダー中に分散させるた
めの溶媒としては、トルエン、メチルエチルケトン、酢
酸エチル、イソプロピルアルコールなどが好ましく用い
られる。これらは塗布作業時に一般的に用いられる溶媒
であり、これら以外でも基材高分子フィルムやフィラー
微細粒子に影響を与えない溶媒であれば、問題なく使用
できる。また、塗布溶液には、必要に応じてぬれ剤や増
粘剤、分散剤、消泡剤などの添加剤も加えることができ
る。

【００３６】粒子の配合割合としては、塗工溶液におけ
る固形分（粒子＋バインダー）中の粒子の体積％で表さ
れ、通常固形分１００体積％に対し、５体積％以上５２
体積％以下が好ましく、より好ましくは１０体積％以上
４５体積％以下、さらに好ましくは、２０体積％以上４
０体積％以下である。フィラーの使用量が少なすぎると
十分な光拡散性を得ることが出来ず、多すぎると複屈折
により十分な反射光が得られなくなるおそれがある。

【００３７】また、粒子をバインダー中に溶剤を用いて
分散させた溶液を塗工する際は、分散溶液を調合後、４
時間、好ましくは１２時間、さらに好ましくは２４時間
おいた後に塗工することが好ましい。高分子からなる微
細粒子は溶剤の影響を受け、数時間の間、経時で膨潤す
るため、分散溶液調合後、すぐに塗工を行うと、微細粒
子の粒径が経時で変化するため、凹凸構造が不均一にな
ると共に、分散溶液の粘度も経時で変化するため、塗工
条件の調整が困難になることがある。

【００３８】高分子上に形成される凹凸層（Ｂ）の乾燥
重量（ｇ／ｃｍ²）は、高分子フィルム上に所望の凹凸
構造を得る観点から、下記式（１）を満たすものである
ことが好ましい。

【００３９】乾燥重量とは、凹凸層表面の粒子及びバイ
ンダーを可溶する溶剤により丁寧にふき取り、剥がれた
凹凸層及び溶剤を乾燥させ、溶剤を蒸発させて、固形分
の重量を測ることに得られる重量をいう。

【００４０】 ０．６×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²） ≦２．５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ） （１）

【００４１】より好ましくは、下記式（２）を満たすも
のである。 ０．６×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²） ≦２．０×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ） （２）

【００４２】さらに好ましくは、下記式（３）を満たす
ものである。 ０．６×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²）≦ １．５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ） （３）

【００４３】式（１）〜（３）中、ｐ＝１００／（１＋
（１００／ｖ―１）×ｂ／ａ）であり、ｒ、ｐ、ｖ、ａ
およびｂはそれぞれ下記の意味を表す。 ｒ：粒子の半径の平均値（ｃｍ） ｐ：凹凸層中の粒子の割合（重量％） ｖ：凹凸層中の粒子の割合（体積％） ａ：粒子の密度（ｇ／ｃｍ³） ｂ：バインダーの密度（ｇ／ｃｍ³）

【００４４】凹凸層（Ｂ）は、高分子フィルム（Ａ）に
前述の溶液を塗布することにより形成される。塗布方法
としては、広い粘度範囲にわたって塗布が可能であり、
走行中にも塗膜厚さを調整でき、また塗膜厚さを大幅に
変えることが出来るなどの特徴をもつ、ロールコータ
法、比較的運転技術を要さず、幅広でも塗工厚さが均一
で、薄膜コーティング出来るなどの特徴をもつクラビア
コータ法、高速塗工、高生産性、塗工厚さの均一性、広
範囲に塗装が出来るなどの特徴をもつダイコート（押
出）法、などが挙げられる。さらに上記のほかにも種々
の塗布方法が考えられるが、本発明の要求を満たす塗布
方法としては、塗布時のゲル化によるブツの発生を考慮
すると、ダイコート法が好ましい。

【００４５】ダイコート（押し出し）法とは、ホッパー
などに溜められた溶液を、ポンプ圧力によりダイから押
し出しフィルム表面に塗布する方法である。この方法で
は通常供給された塗布液のすべてが再循環することなく
フィルム上に塗布される。よって塗布量はポンプ送出量
とラインスピードによって決定される。また、ダイの先
端部分は計量ブレードとして用いられ、幅方向の塗布量
の均一性を高めている。さらに先端部分を唇状に丸めた
ダイコート法は、リップコート法とも呼ばれ、本発明に
おいても先端部を丸めたリップコート法を用いることが
好ましい。

【００４６】本発明の反射体において、反射層は凹凸層
（Ｂ）上に形成される少なくとも４層構造である。凹凸
層側からの第１層は下地層（Ｃ）、第２層は銀層
（Ｄ）、第３層は銀を主体とする合金層（Ｅ）、第４層
は透明酸化物層（Ｆ）である。

【００４７】下地層（Ｃ）には、金、銅、ニッケル、
鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、
クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウムな
どの金属単体、または、酸化アルミニウムが０〜５重量
％ドープされた酸化亜鉛もしくはインジウムとスズの酸
化物（ＩＴＯ）などの透明酸化物が好ましく用いられ
る。

【００４８】銀層（Ｄ）には、基本的には銀単体である
ことが望ましいが、その性能に害を及ぼさない程度の
金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリ
ブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チ
タン、パラジウムなどの金属不純物が含まれていても良
い。

【００４９】銀を主体とする合金の金属層（Ｅ）には、
銀に対し銅及びパラジウムが合わせて２重量％以下の範
囲で含有している合金が好ましく用いられる。

【００５０】透明酸化物層（Ｆ）には、酸化アルミニウ
ムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛や、インジウム
とスズの酸化物（ＩＴＯ）、珪素酸化物等が好ましく用
いられる。

【００５１】金属層を薄膜に形成する方法としては、湿
式法及び乾式法がある。湿式法とはメッキ法の総称であ
り、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。
具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、
乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示す
るとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式
真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームア
シスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、
本発明には連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式
が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。

【００５２】真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビー
ム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇
させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏｒｒ）
以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなど
のガスを１３．３ｍＰａ以上導入させ、高周波もしくは
直流のグロー放電を起こしても良い。

【００５３】スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッ
タ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパ
ッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパ
ッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを使用し
うる。

【００５４】スパッタ法においては、原材料は金属の板
状のターゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリ
ウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを
使用しうるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガス
の純度は９９％以上が好ましいが、より好ましくは９
９．５％以上である。また、透明酸化膜の形成には、真
空成膜法が好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使
用され、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴ
ン、クリプトン、キセノンなどを使用し、場合において
は酸素ガスを用いて行うこともある。

【００５５】ここで下地層（Ｃ）において、金属層を用
いた場合、その厚みは、５〜５０ｎｍが好ましく、より
好ましくは５〜３０ｎｍである。該層の厚みが薄すぎる
と所望のバリヤー効果が不十分となることがあり、第２
層の銀層に凝集を発生させるおそれがある。また、該層
の厚さが５０ｎｍをこえた場合、その効果の向上に変化
が無い。また、透明酸化物を用いた場合、該層の厚み
は、１〜２０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは、５〜
１０ｎｍである。層の厚みが薄すぎるとバリヤー効果が
不十分となり、第２層の銀層に凝集を発生させるおそれ
がある。

【００５６】銀層（Ｄ）の厚みは、十分な金属層の形成
と反射率の観点から、７０〜４００ｎｍが好ましく、よ
り好ましくは１００〜３００ｎｍ、さらに好ましくは１
５０〜２５０ｎｍである。

【００５７】銀を主体とする合金の金属層（Ｅ）の厚み
は、バリヤー効果と銀層の特性発現の観点から、５〜４
０ｎｍが好ましい。

【００５８】透明酸化物層（Ｆ）の厚みは、１〜２０ｎ
ｍが好ましく、より好ましくは１〜１０ｎｍ、さらに好
ましくは１〜５ｎｍである。かかる層の厚み薄すぎると
バリヤー効果が不十分となり、第２層の銀層に凝集を発
生させるおそれがある。また、２０ｎｍより厚くしても
その効果の向上に変化が無い。

【００５９】前記各層の膜厚の測定方法としては、触針
粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶
振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法で
は成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得る
のに適している。また、前もって成膜の条件を定めてお
き、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を
調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もあ
る。

【００６０】また、反射層を凹凸層（Ｂ）上に設ける際
に、該凹凸層表面に、コロナ放電処理、グロー放電処理
等を行うことが反射層と凹凸層の密着性を向上させるこ
とができる。

【００６１】

【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
るが、本発明はこれら実施例によって何ら制限されるも
のではない。。

【００６２】（実施例１） 平均粒子が５μｍであるア
クリル系樹脂（根上工業社製、品名：アートパール）
と、バインダーとしてアクリル系樹脂（三井化学社製、
品名：アルマテックスＥ２６９）（共に密度１．２ｇ／
ｃｍ³）を、トルエンとエチルメチルケトンからなる溶
剤を用いて、固形分比３５％、固形分中の粒子の割合を
３７.０体積％とした溶液を調合した。粘度は３８ｃｐ
ｓであった。これらの物性値を式（１）に代入すること
により、塗布重量範囲を計算したところ４．５（ｇ／ｍ
²）≦塗布量（ｇ／ｍ²）≦１０．８（ｇ／ｍ²）となっ
たため、ドライ塗布量が８．５ｇ／ｍ²となるようにポ
ンプ圧力とラインスピードを調整し、厚さ５０μｍのポ
リエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）フィルム（高分子
フィルム（Ａ））の上に、リップコート法にて塗布を行
った。この際、ブツによる筋は観察されず、良好な塗布
面（主として粒子層からなる凹凸層（Ｂ））が得られ
た。

【００６３】得られたシートに、ＤＣマグネトロンスパ
ッタ法で、２％のＡｌ₂Ｏ₃がドープされた酸化亜鉛（純
度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のア
ルゴンをスパッタガスとして、酸化亜鉛を膜厚５ｎｍに
なるように形成した（下地層（Ｃ））。続いて、このシ
ートをスパッタ装置から取り出すことなく、同様にＤＣ
マグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をター
ゲットととし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガ
スとして銀を膜厚２００ｎｍになるように成形した（銀
層（Ｄ））。

【００６４】続いて、このシートをスパッタ装置から取
り出すことなく、ＤＣマグネトロンスパッタ法にて純度
９９．９％のＡＰＣ２％（Ａｇに対し、ＰｄとＣｕが合
計で２重量％配合された合金）をターゲットとし、純度
９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、ＡＰＣ２
％が膜厚８ｎｍになるように成形した（銀を主体とする
合金の金属層（Ｅ））、。続いて、このシートをスパッ
タ装置からと取り出すことなく、ＲＦマグネトロンスパ
ッタ法にて純度９９．９％のＳｉＯ₂をターゲットと
し、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、
ＳｉＯ₂を膜厚５ｎｍになるように成形した（透明酸化
物層（Ｆ））。

【００６５】できたシートに、保護層をラミネートした
後、日立自記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０
φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける全反射率、拡
散反射率測定を行ったところ、反射率９４．６％、拡散
反射率８５．８％を得た。測定後の反射シートを、恒温
恒湿槽に入れ、６０℃、９０％ＲＨの湿熱条件で５００
時間放置した。５００時間経過後、シートを取り出して
表面を観察したところ、金属の凝集は見られず、色も白
いままだった。

【００６６】また、再度分光光度計により、全反射率、
拡散反射率を測定した結果、反射率が９４．３％、拡散
反射率が８６．０％と湿熱前とほとんどかわらす、光学
特性の劣化も見られなかった。

【００６７】また、この反射シートを、厚さ０．1ｍｍ
のポリエーテルサルフォン（ＰＥＳ）フィルム基板のカ
ラー液晶パネル下面に、アクリル系樹脂の粘着層を介し
て貼り合わせた。表示される画面では、２重像は見られ
ず、鮮明な画像表示が見られた。本発明実施例の結果を
表１に示した。

【００６８】（比較例１）ＡＰＣ２％をスパッタしなか
ったこと以外は、実施例１に準じて反射シートを得た。
得られたシートに、保護層をラミネートした後、日立自
記分光光度計（型式Ｕ―３４００）に１５０φの積分球
を設置し、５５０ｎｍにおける全反射率、拡散反射率測
定を行ったところ、反射率９４．２％、拡散反射率８
５．４％を得た。測定後の反射シートを、恒温恒湿槽に
入れ、６０℃、９０％ＲＨの湿熱条件で５００時間放置
した。５００時間経過後、シートを取り出して表面を観
察したところ、表面に金属の凝集と見られる点が多数発
生し、見た目の品位が低下していた。さらに、再度分光
光度計により、全反射率、拡散反射率を測定した結果、
反射率が９１．５％、拡散反射率が８２．０％と湿熱前
に比べ、光学特性の劣化が見られた。本発明比較例の結
果を表１に示した。

【００６９】（比較例２）実施例１で作成した反射シー
トを、厚さ１．１ｍｍのガラス基板のカラー液晶パネル
の下面にアクリル系樹脂の粘着層を介して貼り合わせ
た。表示される画面では、ガラスの厚みにより、２重像
が現われ不鮮明が表示になった。本発明比較例の結果を
表１に示した。

【表１】

【００７０】

【発明の効果】本発明の反射体は、非常に耐久性に優
れ、湿熱条件下においても反射率の低下は見られず、ま
た表面色も変化しないことから、反射型液晶表示装置に
組み込んだ際、表示能力を格段に向上させることができ
る、また、フィルム基板の液晶表示装置と組み合わせる
ことで、ガラス基板で問題となる２重像の問題が解決で
きることから、本発明の工業的意義は大きい。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H042 BA02 BA12 BA20 DA01 DA11 DA21 DE04 2H091 FA16Z FB02 FB06 FB08 FB12 LA11 LA17

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも一対の透明なポリマーフィル
   ム基板の対向内面に液晶が封入され、かつ、その対向外
   面の一方に反射体が配置された反射型液晶表示装置に用
   いられる反射体であって、高分子フィルム（Ａ）、凹凸
   層（Ｂ）、下地層（Ｃ）、銀層（Ｄ）、銀を主体とする
   合金の金属層（Ｅ）および透明酸化物層（Ｆ）により、
   ＡＢＣＤＥＦの順に構成されており、かつ珪素酸化物層
   （Ｆ）側から測定した波長５５０ｎｍにおける全反射率
   が、８５〜９９％であることを特徴とする反射体。
2. 【請求項２】 該反射体の波長５５０ｎｍにおける全反
   射率に対する拡散反射率の割合が、８０％以上であるこ
   とを特徴とする請求項１に記載の反射体。
3. 【請求項３】 ポリマーフィルム基板の外面に配置され
   た前記反射体が、透明酸化物層（Ｆ）側を界面として貼
   り合わされていることを特徴とする請求項１または２に
   記載の反射体。
4. 【請求項４】 凹凸層（Ｂ）が、平均粒径１μｍ以上１
   ５μｍ以下の粒子、およびバインダーにより形成され、
   該粒子が凹凸層の体積に対し、５〜５２体積％の割合に
   なるように配合され、かつ該凹凸層の乾燥重量（ｇ／ｃ
   ｍ²）が下記式（１）を満たすものであることを特徴と
   する請求項１〜３に記載の反射体。 ０．６×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ）≦重量（ｇ／ｃｍ²）≦ ２．５×２ｒ×１０²／（ｐ／ａ＋（１００−ｐ）／ｂ） （１） [但し、ｐ＝１００／（１＋（１００／ｖ―１）×ｂ／
   ａ）であり、 ｒ：粒子の半径の平均値（ｃｍ） ｐ：凹凸層中の粒子の割合（重量％） ｖ：凹凸層中の粒子の割合（体積％） ａ：粒子の密度（ｇ／ｃｍ³） ｂ：バインダーの密度（ｇ／ｃｍ³）]
5. 【請求項５】 前記粒子が、アクリル系粒子であること
   を特徴とする請求項４に記載の反射体。
6. 【請求項６】 前記バインダーが、アクリル系樹脂であ
   ることを特徴とする請求項４または５に記載の反射体。
7. 【請求項７】 下地層（Ｃ）が、金、銅、ニッケル、
   鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、
   クロム、インジウム、マンガン、チタン、もしくはパラ
   ジウムからなる厚さ５〜５０ｎｍの金属層、または酸化
   アルミニウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛、も
   しくはインジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）からなる厚
   さ１〜２０ｎｍの透明酸化物層であることを特徴とする
   請求項１〜６のいずれかに記載の反射体。
8. 【請求項８】 銀層（Ｄ）の厚みが、７０〜４００ｎｍ
   であることを特徴とする請求項１〜７のいずれかに記載
   の反射体。
9. 【請求項９】 銀を主体とする合金の金属層（Ｅ）が、
   銀に対し銅とパラジウムをあわせて０．００１〜２重量
   ％含有している合金からなる層であり、該金属層の膜厚
   が、５〜４０ｎｍであることを特徴とする請求項１〜８
   のいずれかに記載の反射体。
10. 【請求項１０】 透明酸化物層（Ｆ）が、酸化アルミニ
    ウムが０〜５重量％ドープされた酸化亜鉛、インジウム
    とスズの酸化物（ＩＴＯ）、または珪素酸化物からな
    り、その厚みが１〜２０ｎｍであることを特徴とする請
    求項１〜９のいずれかに記載の反射体。
11. 【請求項１１】 少なくとも一対の透明なポリマーフィ
    ルム基板の対向内面に液晶が封入され、かつ、その対向
    外面の一方に反射体が配置された反射型液晶表示装置に
    おいて、その反射体として請求項１〜１０のいずれかに
    記載された反射体が用いられた反射型液晶表示装置。