JP2004252383A

JP2004252383A - 反射体用基板及びそれを用いた反射体、サイドライト型バックライト装置、液晶表示装置

Info

Publication number: JP2004252383A
Application number: JP2003045172A
Authority: JP
Inventors: Hironobu Okimura; 沖村　　裕伸; Kenichi Nagata; 賢一永田; Masaru Tanabe; 田邉　　勝
Original assignee: Mitsui Chemicals Inc
Current assignee: Mitsui Chemicals Inc
Priority date: 2003-02-21
Filing date: 2003-02-21
Publication date: 2004-09-09

Abstract

【課題】従来に比べ高輝度で、かつ輝度ムラが発生し難いサイドライト型バックライト装置を提供する。その為に必要な表面形状を有する反射体用基板および、該基板を用いた熱による反りを抑制した高耐久な反射体を提供する。
【解決手段】面光源装置の導光板の下面に用いる反射体として、一方の面に突起物面を、もう一方の面に平滑面を好ましくは共押し出し法にて一体形成した基板を用い、上記基板の平滑面上に反射層として、好ましくは下地層、銀を主体とする金属層、保護層を順に積層して得られた反射体を、基板側を上面として用いる。
【選択図】図１

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射体用基板及びそれを用いた反射体に関するものであり、及びそれを利用した液晶表示装置などに適用されるサイドライト型の面光源装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
現在広く使用されている液晶ディスプレイは、光源にバックライトを用いる透過型液晶ディスプレイである。この液晶ディスプレイにおける表示の見やすさは、液晶自身の性能もさることながら、バックライトの性能によるところも大きくなっている。バックライトの方式は近年の液晶ディスプレイのさらなる軽量、薄型化が必須事項となっていることや、輝度の均一性や、光源からの熱が液晶パネルに伝達しにくいなどの理由より、光源の前方に反射板を置く直下型ではなく、導光板を用い、その一端に配置された光源からの光を多重反射させることで面光源化するサイドライト式バックライトが多く用いられており、特開平１１−６４６１３号公報（特許文献１）、特開２０００−５２４７３号公報（特許文献２）、特開２０００−１３１５１１号公報（特許文献３）等の報告がある。
【０００３】
最近になり、導光板の下には、バックライトの輝度向上、輝度ムラを防止させるため、表面を粗面化したフィルムに金属を蒸着したシートが開発された。しかしながら、表面の粗面化に際し、多くの場合ポリエステルやアクリル系の樹脂に有機粒子や無機フィラーなどを塗工により分散させることにより行っていた為、バックライト装置などに用いるとシート自体の反りや、拡散反射率の経時変化などが発生する問題があった。さらに、金属としてアルミニウムを用いると、耐久性には優れるがそれほど高い輝度は得られず、可視光領域で最も反射率の高い銀を使うと、十分な輝度が得られるものの銀は耐久性に乏しくすぐに劣化してしまい、輝度が低下する問題があった。
【０００４】
【特許文献１】特開平１１−６４６１３号公報
【特許文献２】特開２０００−５２４７３号公報
【特許文献３】特開２０００−１３１５１１号公報
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はバックライト装置において、輝度ムラを抑制し、かつ高反射率で耐久性に優れた反射体及び、該反射体を組み込んだサイドライト型バックライト装置、液晶表示装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決するため鋭意検討した結果、驚くべきことに、下記のような構成の反射シートを使うことで上記の課題を解決出来ることを見いだした。
【０００７】
すなわち本発明は、
（１）直径０．０５μｍ以上１０μｍ未満、高さ０．０１μｍ以上１０μｍ以下の突起物を１ｍｍ^２当たり２個以上５０００個以下有する突起物層（Ａ）と、平均粗さＲａが０．５μｍ以下の平滑な面を有する平滑層（Ｂ）とを有し、
突起物層（Ａ）と平滑層（Ｂ）とが一体成形されたことを特徴とする反射体用基板であり
（２）突起物層（Ａ）が
平滑層（Ｂ）と同成分のバインダー樹脂（Ａ１）と
微粒子（Ａ２）とからなり、
微粒子（Ａ２）がバインダー樹脂（Ａ１）に対して０．０１質量％以上１０質量％以下の割合で含有されていることを特徴とする反射体用基板であり
（３）微粒子（Ａ２）がアクリル系、スチレン系、ポリエステル系の何れかの樹脂、或いはシリカ、アルミナ、アルミノシリケイト等の無機物からなることを特徴とする請求項１及び２に記載の反射体用基板であり、
（４）請求項１乃至３のいずれかに記載の反射体用基板の平滑層（Ｂ）上に金属層（Ｃ）を形成し、突起物層（Ａ）面側から測定した波長５５０ｎｍにおける全反射率が９０％以上、かつ、拡散反射率が２５％未満であることを特徴とする反射体であり、
（５）金属層（Ｃ）が、少なくとも下地層（ａ）、銀を主体とする金属層（ｂ）、保護層（ｃ）を有するものであることを特徴とする請求項４に記載の反射体であり、
（６）金属層（Ｃ）上に樹脂層および／または金属シート層が形成されていることを特徴とする請求項４に記載の反射体であり、
（７）上記のいずれかに記載の反射体を、側面に設置された光源から入射される光を上面に出射する導光板の下面に配置したことを特徴とするサイドライト型バックライト装置であり、
（８）上記の反射体を装備した液晶表示装置
である。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
【０００９】
本発明の反射体用基板は突起物層（Ａ）と平滑層（Ｂ）とからなり、突起物層（Ａ）は、平滑層（Ｂ）と同成分のバインダー樹脂（Ａ１）と微粒子（Ａ２）とからなることが好ましい。また、本発明の反射体は、平滑層（Ｂ）側に金属層（Ｃ）を形成したものである。
【００１０】
本発明の反射体の一例を図１に示した。すなわち、高分子フィルム２０の一方の面（Ａ面）に突起物層１０が形成され、もう一方の面（Ｂ面）に平滑層３０が形成された反射体用基板の平滑層３０の上に金属層４０が形成された構造を有している。
【００１１】
本発明の反射体用基板において使用される平滑層（Ｂ）としては、例えばポリエチレンテレフタラート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル類、ビスフェノールＡ系ポリカーボネートなどのポリカーボネート類、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン類、セルローストリアセテートなどのセルロース誘導体類、ポリ塩化ビニリデンなどのビニル系樹脂、ポリイミド類、ポリアミド類、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、フッ素系樹脂など各種プラスチックからなるフィルムが挙げられるが、必ずしもこれらに限定されるものではなく、ガラス転移点および／または融点が室温以上、好ましくは使用する温度付近以上、具体的には８０℃以上、更には１００℃以上のものが好ましく用いられる。また厚みを調整する等の目的で、２層以上を後述する一体成形することもできる。
【００１２】
高分子フィルム上の平滑面（Ｂ面）の平滑性については、平均粗さＲａが０．５μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下、さらに好ましくは０．０７μｍ以下である。ここでＲａ値は、ＪＩＳＢ０６０１規格によって測定される。
【００１３】
突起物層（Ａ）上の突起物を形成するには、後述するバインダー樹脂（Ａ１）と平均粒子径０．０５μｍ以上１０μｍ以下の微粒子（Ａ２）とを使用して形成することが好ましい。さらに好ましい平均粒子径は０．１μｍ以上、５μｍ以下である。また径分布は粒径の標準偏差の平均粒径に対する割合は５０％以下が好ましい。前記微粒子は、例えば、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリビニルベンゼン、ポリスチレンメタクリレート、ポリスチレンアクリレート、ポリスチレンブタジエン等の高分子（有機）粒子をはじめ、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化鉛（鉛白）、酸化亜鉛（亜鉛華）、炭酸カルシウム、炭酸バリウム、硫酸バリウム、チタン酸カリウム、ケイ酸ソーダなどからなる無機微粒子や、酸化錫、酸化インジウム、酸化カドミウム、酸化アンチモンなどの導電性透明微粒子なども用いることができるが、必ずしもこれらに限定されるものではない。ポリエステル系樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、シリカ、アルミナ、好ましくは、アクリル系樹脂、ポリスチレン、シリカ、さらに好ましくはアクリル系樹脂或いはシリカである。
【００１４】
バインダー樹脂（Ａ１）は、平滑層（Ｂ）との熱収縮率の違いなどに基づく熱変形の影響を避けるために、平滑層（Ｂ）と同成分の樹脂を用いることが好ましい。本発明において同成分とは、樹脂の構成単位が実質的に同一であることを指す。分子量や一次構造が同一である必要はないが、一次構造が、直鎖構造もしくは分岐構造であることが好ましい。架橋構造だと、樹脂の溶融粘度が高過ぎて、後述する一体成形が困難になることがある。
【００１５】
上記の平滑層（Ｂ）やバインダー樹脂（Ａ１）には、公知の酸化防止剤や耐熱安定剤、ハロゲン化物吸収剤、紫外線吸収剤などの光安定剤等が含有されていても良い。また、後述する一体成形を行う際に、これらを併せて用いることもできる。その含有量は０．０１質量％〜５質量％の範囲である。
【００１６】
突起物層（Ａ）の形成方法は、公知の方法を採用することができるが、前記高分子フィルムと同組成の樹脂と微粒子とを、少なくとも「混合する」、「樹脂が溶融状態となる」プロセスを経て、形成することが好ましい。また突起物層（Ａ）と平滑層（Ｂ）とは、それぞれの層を形成しながら公知の粘着剤や接着剤で双方を貼合することにより一体化する方法でもよいが、溶着などの方法で、直接接合していることが好ましい。特には、突起物層（Ａ）と平滑層（Ｂ）とを直接一体形成する方法、具体的には共押し出し法で形成することが好ましい。
【００１７】
通常突起物層（Ａ）を形成させる為の微粒子（Ａ２）とバインダー樹脂（Ａ１）とを「混合」および「樹脂の溶融化」をするためには二軸混錬機を用いることが好ましい。微粒子と樹脂との混錬時の温度は、使用する樹脂によって異なるが、樹脂のガラス転移温度および／または融点付近もしくはそれ以上の温度でよく、樹脂の分解や微粒子の変形、分解が起こらない温度であれば問題無い。また、必要に応じてぬれ剤や増粘剤、分散剤、消泡剤などの添加剤も加えられることもある。
【００１８】
上記粒子混錬樹脂中の粒子含有量は、粒子混錬時、或いはフィルム成形時に粒子の凝集が発生しないことと、後述する突起数密度を考慮して、通常０．０１質量％以上１０質量％以下、好ましくは０．０１質量％以上５質量％以下、更に好ましくは０．０１質量％以上２質量％以下である。。
【００１９】
平滑層（Ｂ）を形成させる為には、種々の高分子フィルム成形時に通常使用される無機フィラー等や上記粒子の含有量を調節した上記の樹脂を使用する。好ましくは無機フィラーや粒子を全く含有していない樹脂を用いて成形するが、前記平均粗さＲａが０．５μｍ以下となり、可視光線透過率の著しい低下が無ければフィラーや粒子などが含有されていても何ら問題はない。
【００２０】
上記の混錬樹脂を用い、本発明の反射体用基板を成形する方法としては、複数のダイスを持つ共押し出し製膜機を用い、少なくとも突起物層（Ａ）と、平滑層（Ｂ）とが形成できる装置であればよい。３層以上の構造であっても、突起を有する面（Ａ面）層と平滑面（Ｂ面）層が互いに表裏の関係になるように形成でき、かつ、フィルムが高透明であればれば何ら問題無い。
【００２１】
本発明の反射体基板は可視光線透過率や強度の向上等を目的として、延伸を行っても良い。具体的には公知の一軸延伸、二軸延伸などが挙げられるが、特に制限は無い。なかでも、フィルム加熱時の収縮率に差が出にくい、共押し出し成形機と二軸延伸装置を組み合わせた、共押し出し二軸延伸機による成形が好ましい。
【００２２】
突起物層（Ａ）の厚みは、微粒子の頂上との高さの差と、微粒子の量に影響を及ぼす。層の厚みを０．１μｍよりも薄くすると、共押し出し時に含まれる微粒子の量が不足し、必要な拡散性能が得られない場合があり好ましくない。また、層の厚みを２０μｍより厚くすると、微粒子が樹脂に埋もれてしまい、必要な突起高さが得られない場合があり好ましくない。つまり、上記範囲での微粒子を含む層の厚みを調整することで、高分子フィルム上に１ｍｍ^２当たり、２個以上５０００個以下の突起物を得ることができる。より好ましい突起物の数は、１ｍｍ^２当たり、好ましくは２個以上、２５００個以下、より好ましくは、１０００個以下、特に好ましくは８００個以下である。また、樹脂表面から微粒子頂部までの突起高さは、触診粗さ計や表面形状測定装置などにより容易に測定することができる。
【００２３】
他に反射体基板を形成する方法としては、微粒子（Ａ２）を使用しない方法もある。具体例としては、上記の一体成形において、微粒子（Ａ２）を用いずにバインダー樹脂（Ａ１）層に凹凸付きローラーなどでエンボス加工を施す方法を挙げることもできる。
【００２４】
本発明の反射体基板は、その可視光線透過率が７５％以上であることが好ましく、更には８５％以上であることが好ましい。可視光線透過率は分光測定装置で測定される。
【００２５】
本発明の反射体は、例えば上記の様な方法により作製した反射体用基板の平滑面（Ｂ面）に金属層（Ｃ）を形成することにより得られる。金属層（Ｃ）は銀を主体とする金属層が好ましい。更には光拡散層（Ｂ）との密着性や、銀が凝集したり、酸素、塩素、硫黄などで変性して反射率が低下することを考慮し、銀を主体とする金属層（ｂ）の両側に、下地層（ａ）と透明酸化物層（ｃ）が存在する構成であることが好ましい。この際、下地層（ａ）は平滑層（Ｂ）上に形成される。上記の下地層（ａ）の好ましい例としては、銀とは異なる金属層や金属酸化物層を挙げることができる。具体的には、金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウム、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウムなどの金属単体、もしくは２種以上からなる合金、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、これら酸化物の混合物や硫化亜鉛等の金属化合物が例示できる。これらの中でも金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウム単体、または、これら２種以上からなる合金、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ、酸化ケイ素が好ましく、特に好ましくは酸化アルミニウムが５重量％以下でドープされた酸化亜鉛、ガリウムが１０重量％以下でドープされた酸化亜鉛、インジウムとスズとの酸化物（ＩＴＯ）、または二酸化ケイ素などの透明性および透光性を有する酸化物を挙げることができる。またこれらの２種類以上を組み合わせたり、多層化して用いることもできる。
【００２６】
上記の銀を主体とする金属層（ｂ）には、銀単体であることが望ましいが、その性能に害を及ぼさない程度の金、銅、ニッケル、鉄、コバルト、タングステン、モリブデン、タンタル、クロム、インジウム、マンガン、チタン、パラジウム、ネオジウムなどの金属不純物が含まれても良い。これらの物質は２種以上用いても良いし、２層以上形成しても良い。
【００２７】
上記の保護層（ｃ）には、前記下地層（ａ）と同様の金属や酸化物の他、これらと銀を主体とした合金から選ばれる２種類以上を組み合わせたり、多層化して用いることができる。
【００２８】
これらの中でも金属酸化物、好ましくは、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、これらの酸化物の混合物、特に好ましくは酸化アルミニウムが５重量％以下でドープされた酸化亜鉛、ガリウムが１０重量％以下でドープされた酸化亜鉛、インジウムとスズとの酸化物（ＩＴＯ）、二酸化ケイ素などの透明酸化物が用いられる。
【００２９】
上記金属薄膜層の形成法は、湿式法及び乾式法がある。湿式法とはメッキ法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に成膜するロール・ツー・ロール方式が可能な真空成膜法が好ましく用いられる。
【００３０】
真空蒸着法では、金属の原材料を電子ビーム、抵抗加熱、誘導加熱などで溶融させ、蒸気圧を上昇させ、好ましくは１３．３ｍＰａ（０．１ｍＴｏｒｒ）以下で基材表面に蒸発させる。この際に、アルゴンなどのガスを１３．３ｍＰａ以上導入させ、高周波もしくは直流のグロー放電を起こしても良い。
【００３１】
スパッタ法には、ＤＣマグネトロンスパッタ法、ＲＦマグネトロンスパッタ法、イオンビームスパッタ法、ＥＣＲスパッタ法、コンベンショナルＲＦスパッタ法、コンベンショナルＤＣスパッタ法などを使用しうる。
【００３２】
スパッタ法においては、原材料は金属の板状のターゲットを用いればよく、スパッタガスにはヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用しうるが、好ましくはアルゴンが用いられる。ガスの純度は９９％以上が好ましいが、より好ましくは９９．５％以上である。また、透明酸化膜の形成には、真空成膜法が好ましく用いられる。主に、スパッタ法が使用され、スパッタガスには、ヘリウム、ネオン、アルゴン、クリプトン、キセノンなどを使用し、場合においては酸素ガスを用いて行うこともある。
【００３３】
平滑面（Ｂ面）上に成形する薄膜の厚さは、反射体とした際に光線透過率が１％未満になるように考慮して決められる。
【００３４】
下地層（ａ）において、金属層を用いた場合、その厚みは、５〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜３０ｎｍである。該層の厚みが５ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、銀を主体とする金属層に凝集を発生させることがあったり、反射層が反射体基板から剥がれ易くなることがある。また、５０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無い。また、透明酸化物を用いた場合、該層の厚みは、１〜２０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは、５〜１０ｎｍである。かかる層の厚みが１ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、銀を主体とする金属層（ｂ）に凝集を発生させる。また、１０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無い。
【００３５】
銀を主体とする金属層（ｂ）の厚みは、７０〜４００ｎｍが好ましく、より好ましくは１００〜３００ｎｍ、さらに好ましくは１００〜２５０ｎｍである。かかる層の厚みが７０ｎｍより薄い場合は、十分な金属層の形成が出来ていないため、所望の反射率を得ることが出来ないことがある。また、４００ｎｍより厚くしてもその効果に変化はない。
【００３６】
第３層である保護層（ｃ）において、金属層を用いた場合、その厚みは、５〜５０ｎｍが好ましく、より好ましくは５〜３０ｎｍである。該層の厚みが５ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、銀を主体とする金属層に凝集を発生させることがあったり、酸素、塩素、硫黄などによる銀を主体とする金属の（ｂ）の腐食が起こることがある。また、５０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無い。また、透明酸化物を用いた場合、該層の厚みは、１〜２０ｎｍが好ましく、さらに好ましくは、５〜１０ｎｍである。かかる層の厚みが１ｎｍより薄い場合は、所望のバリヤー効果が得られず、銀を主体とする金属層（ｂ）に凝集を発生が起きたり、酸素、塩素、硫黄などによる銀を主体とする金属の（ｂ）の腐食が起こることがある。また、１０ｎｍより厚くしてもその効果に変化が無い。
【００３７】
本発明の反射シートにおける反射層は、本来の目的を損なわない範囲で他の層が形成されていても良い。例えば、ハードコート層、防錆層や銀を主体とする金属層（ｂ）密着性を高める等の目的で用いられる他の金属薄膜層が挙げられる。その層数は製造コストとの関連から５層以下が好ましいが、特に限定はされない。
【００３８】
前記各層の膜厚の測定方法としては、触針粗さ計、繰り返し反射干渉計、マイクロバランス、水晶振動子法などを用いる方法があり、特に水晶振動子法では成膜中に膜厚が測定可能であるため所望の膜厚を得るのに適している。また、前もって成膜の条件を定めておき、試料基材上に成膜を行い、成膜時間と膜厚の関係を調べた上で、成膜時間により膜厚を制御する方法もある。
【００３９】
上記のように形成した反射体を、高分子フィルム側から反射率を測定すると、波長５５０ｎｍにおいて、通常８５〜９９％である。より好ましくは９０〜９９％である。ここでは、反射率の上限を９９％としたが、反射率は高いほど好ましく、下地層（ａ）と基板の間に高屈折率と低屈折率の薄膜を交互に積層して増反射膜を形成するなどして９９％を超える反射率を実現することはコストとの兼ね合いもあるが性能的には非常に好ましいといえる。
【００４０】
本発明の反射体は、その拡散反射率が波長５５０ｎｍにおいて２５％未満であることが好ましい。より好ましくは２０％以下、特に好ましくは１〜１５％である。本発明の反射シートは上記の様に反射ヘイズ値が比較的低いことが好ましく、例えば液晶表示装置に使用した場合、高い輝度で視野角の広い画像を提供することが出来る。
【００４１】
本発明の反射体の反射率は、反射層の反射だけでなく反射体基板の反射も含めた値である。従って、反射体基板の可視光線透過率が８５％未満であっても８５％以上の反射率を得ることが出来る。
【００４２】
本発明の反射体は、熱の影響による変形が少なく、加熱冷却後にシートの反りがシート一辺の長さの１％以下であることが好ましい。その測定は以下のようにして行われる。
上記の反射体を１０ｃｍ角の大きさに切り出し、８０℃雰囲気で、２時間保持し、室温にて好ましくは１時間以上放冷し、四隅の反りを測定する。その反りの値は、一辺の長さの１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．５％以下である。
【００４３】
また、本発明にてなる反射体は、単独で使用しても問題はないが、更に金属層を保護する為に、金属層（Ｃ）上へ樹脂層および／または金属シート層等を形成しても良い。その形成法は公知の方法を用いることが出来、上記の樹脂層や金属シート層は粘着材や接着剤で貼合する方法が好ましい例として挙げられる。接着剤および／または粘着剤の塗布や貼り付けは、反射体の金属層側でも被着体側のどちらでも良い。また、樹脂層の場合は、樹脂溶液を塗布した後乾燥させる、所謂塗工法で形成しても良い。
【００４４】
図２に示す本発明のサイドライト型バックライト装置では、上記のように作製した反射体８０を導光板７０の下面に基板面を上面として設置する。バックライト装置としては、サイドライト型として一般的に用いられているものであればよい。
【００４５】
使用される導光板７０は、例えば、ポリメチルメタクリレートなどのアクリル系樹脂、ポリカーボネイトやポリカーボネイト・ポリスチレン組成物などのポリカーボネイト系樹脂、エポキシ系樹脂などの透明樹脂やガラスなどの約４００〜７００ｎｍの波長域において透明性を示すものが好ましく用いられるが、光源の波長領域に応じてそれに透明性を示す材料であれば、必ずしもこれらに限定されなるわけではない。また、導光板の厚さは、使用目的の導光板のサイズや、光源の大きさなどにより適宜に決定することができる。
【００４６】
特に上記の導光板として、その表面にプリズム形状やドット形状の凹凸を有するものが好ましい。上記の形状の密度は一様である必要はなく光源付近が密であったり、周辺部が密であることが好ましい場合がある。また上記の凹凸はランダムに配置されていても規則的に整列していても良い。上記の様な導光板と本発明の反射シートを組み合わせて用いたサイドライト型バックライト装置は、その視野角が広くなる効果を発現することがあるので好ましく用いられる。
【００４７】
使用する光源５０としては、例えば、白熱電球、発光ダイオード（ＬＥＤ）、エレクトロルミネセンス（ＥＬ）、蛍光ランプ、メタルハイドライドランプなどが挙げられ、中でも蛍光ランプが好ましく用いられる。蛍光ランプにはその電極構造、点灯方式により熱陰極型と、冷陰極型に大別され、電極、インバーターとも熱陰極型の方が大きくなる傾向にある。熱陰極型は、発光に寄与しない電極近傍の電飾損失が小さく効率がよく、冷陰極型に比べ数倍優れた発光効率を示し、発光も強いが、寿命は冷陰極型の方が優れており、低消費電力性、耐久性などの点から冷陰極型がより好ましく用いられる。
【００４８】
本発明のバックライト装置では、上述したような方法で作成された反射体８０を使用することで、輝度ムラが発生し難く、また、従来の装置に比べ各段の輝度向上を実現することができる。
【００４９】
【実施例】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。
実施例１
平均粒子径１．８μｍのアクリル粒子とＰＥＴ樹脂とを、粒子の割合が５％になるように混合した混錬樹脂とＰＥＴ樹脂のみとを、３つのダイスを持つ二軸延伸機で共押し出し法によって、一方の面（Ａ面）に上記混練樹脂によって形成される突起物層と、ＰＥＴ樹脂によって形成される中間層と、もう一方面（Ｂ面）にＰＥＴ樹脂によって形成される平滑層を有する基板を作成した。次に、上にＤＣマグネトロンスパッタ法で、２％のＡｌ_２Ｏ_３がドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成した。続いて、このフィルムをスパッタ装置から取り出すことなく、同様にＤＣマグネトロンスパッタ法で、純度９９．９％の銀をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして銀を膜厚２００ｎｍになるように成形した。続いて、このフィルムをスパッタ装置からと取り出すことなく、ＤＣマグネトロンスパッタ法で、２％のＡｌ_２Ｏ_３がドープされた酸化亜鉛（純度９９．９％）をターゲットとし、純度９９．５％のアルゴンをスパッタガスとして、酸化亜鉛を膜厚５ｎｍになるように形成し、図１に示すような所望の反射シートを得た。この反射シートを日立自記分光光度計（型式Ｕ―３０１０）に１５０φの積分球を設置し、５５０ｎｍにおける基板側から測定した全反射率、拡散反射率は、全反射率９５．２％、拡散反射率７．２６％であった。次にＡ面側の突起物の高さを非接触表面粗測定装置で０．２３ｍｍ×０．１８ｍｍの面積内全ての突起物について測定したところ、その平均値は０．７３μｍであった。また、１ｍｍ^２あたりの突起物は２４８５個存在した。また、Ｂ面の平滑性についても測定したところ、平均粗さＲａは０．０１９μｍであった。測定後の反射シートを、１０ｃｍ角に切りだし、８０℃のオーブンに入れ２時間放置した。２時間経過後、シートを取り出して室温（２３℃）にて３時間静置し、シートの四隅の浮き量を測定した所、シートの反りによる浮きは観測されず、平坦なシートのままであった。また、この反射体を導光板７０の下面に基板側が上になるようにセットし、図２の様なサイドライト型バックライト装置を得た。この状態で、光源５０を点灯し、面中央での正方向に得られる輝度を測定すると共に、面光源の輝度ムラについて観察した結果を表１に示す。
実施例２
混合樹脂中の、粒子の割合が２％であること以外は実施例１に準じて反射体を得た。次に、実施例１と同様の方法で各測定を行い、全反射率は９５．５％、拡散反射率は６．１８％であった。Ａ面側の突起物の高さの平均値は０．９８μｍ、１ｍｍ^２あたりの突起物の個数３９４５個、Ｂ面側の平均粗さＲａは０．０６８μｍという結果を得た。８０℃のオーブンに２時間放置後、シートを取り出して室温（２３℃）にて３時間静置し、シートの四隅の浮き量を測定した所、シートの反りによる浮きは観測されず、平坦なシートのままであった。また、この反射体を導光板７０の下面に基板側が上になるようにセットし、実施例１と同様の観察を行った結果を表１に示す。
比較例１
平均粒子径が５μｍであるアクリル粒子を、バインダーとしてアクリル系樹脂を用い、バインダーに対しフィラーの配合量を０．０５ｗｔ％とし、固形分比が３５％になるようにトルエンとエチルメチルケトンからなる溶剤を用いて溶液を調合した後、５０μｍのＰＥＴフィルム上に塗布を行い光拡散層を得た。光拡散層上に実施例１に準じて反射層を作成し反射シートを得た。反射率を測定したところ、全反射率として、９４．３％、拡散反射率として４．４％、拡散率として４．７％を得た。実施例１と同様の条件でオーブンに２時間放置後、シートを取り出して室温（２３℃）にて３時間静置し、シートの四隅の浮き量を測定した所、平均で４．６ｍｍのシートの反りによる浮きが発生した。また、この反射体を導光板７０の仮面に基板側が上になるようにセットし、実施例１と同様の観察を行った結果を表１に示す。
比較例２
導光板下に用いる反射体に白色ＰＥＴを使用し、実施例１と同様の観察を行った結果を表１に示す。
【００５０】
【表１】

【００５１】
【発明の効果】
本発明の反射用基板を用いた反射体を組み込んだサイドライト型バックライト装置は、該バックライト装置において、輝度ムラが生じないため、視認性のよい液晶ディスプレイを提供することができる。また、該反射体は、従来の反射体に比べ高輝度であり、かつ耐久性にも優れるため、長期にわたり、均一で、高輝度な光を得られることから、液晶の表示能力を向上させることができるため、本発明の工業的意義は大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に於ける反射シートの一例を示す断面図
【図２】本発明の面光源装置の一例
【符号の説明】
１０突起物含有層
２０高分子フィルム
３０平滑層
４０金属層
５０冷陰極管
６０ランプリレフクター
７０導光板
８０反射シート

Claims

直径０．０５μｍ以上１０μｍ未満、高さ０．０１μｍ以上１０μｍ以下の突起物を１ｍｍ^２当たり２個以上５０００個以下有する突起物層（Ａ）と、
平均粗さＲａが０．５μｍ以下の平滑な面を有する平滑層（Ｂ）とを有し、
突起物層（Ａ）と平滑層（Ｂ）とが一体成形されたことを特徴とする反射体用基板。
突起物層（Ａ）が、
平滑層（Ｂ）と同成分のバインダー樹脂（Ａ１）と
微粒子（Ａ２）とからなり、
微粒子（Ａ２）がバインダー樹脂（Ａ１）に対して０．０１質量％以上１０質量％以下の割合で含有されていることを特徴とする請求項１に記載の反射体用基板。
微粒子（Ａ２）がアクリル系、スチレン系、ポリエステル系の何れかの樹脂、或いはシリカ、アルミナ、アルミノシリケイト等の無機物からなることを特徴とする請求項１乃至２のいずれかに記載の反射体用基板。
請求項１乃至３のいずれかに記載の反射体用基板の平滑層（Ｂ）上に金属層（Ｃ）を形成し、突起物層（Ａ）面側から測定した波長５５０ｎｍにおける全反射率が９０％以上、かつ、拡散反射率が２５％未満であることを特徴とする反射体。
金属層（Ｃ）が、少なくとも下地層（ａ）、銀を主体とする金属層（ｂ）、保護層（ｃ）を有するものであることを特徴とする請求項４に記載の反射体。
金属層（Ｃ）上に樹脂層および／または金属シート層が形成されていることを特徴とする請求項４に記載の反射体。
請求項４乃至６のいずれかに記載の反射体を、側面に設置された光源から入射される光を上面に出射する導光板の下面に配置したことを特徴とするサイドライト型バックライト装置。
請求項４乃至６のいずれかに記載の反射体を装備した液晶表示装置。