TW550377B - Apparatus for wave-front detection - Google Patents
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Description
550377 五、發明說明(l) -^ 本發明為一種波前檢測裝置。這種波前檢測裝置係用
於檢測電磁輻射之波前,尤其是可見光、紫外線、以及X 射線之波前。本發明之範圍包括具有專利範圍第1項之特 徵的波前檢測裝置、專利範圍第44項的波前檢測方法、以 及一種裝有本發明之波前檢測裝置的微光刻用步進器或 瞄器。 在Katsuyuki Omura et al·發表的”phase measuring
Ronchitest"(APPLIED OPTICS/Vol· 27,No.3/ 1 998 年二 月,5 2 3 - 5 2 8頁)中已經提出過一種這一類的波前檢測裝 置。在這種用於檢驗測試透鏡之成像品質的波前檢測裝置 中,一個He-Ne雷射的單頻點狀光源會產生發出波前,此 波前會先通過一支準直光管及一面透鏡,然後到達一種名 為Ronchi光柵的衍射光柵上。準直光管的作用是將點狀光 源發出的波前在到達透鏡之前轉變成平面波,而衍射光柵 則位於測試透鏡成像側的聚焦平面。R〇nchi光柵產生的基 準圖案及/或干涉圖案會被一部具有空間位置辨識能力並 裝有電視攝影機的檢波器攝製下來,並計算出自光學系統 發出的波前。 ” DD 0 1 54 239也提出一種名稱為位移干涉儀的波前檢 測裝置’其作用是對物鏡進行進行干涉檢測。這種波前檢 測裝置的衍射光柵位於受檢測物鏡之聚焦平面外。 DE 1 95 3"47 A1也提出一種名稱;光柵位移干涉儀 的波前檢測裝f。在這種褒置中’受檢測平面波的光線會 照射在兩個串聯在一起的相衍射光柵上,並被一台ccd攝
550377 五、發明說明(2) 影機攝製下來以進行波前分析。 M.P. Rimmer et al·在他的論文"Evaluation of
Large Aberrations Using a Latera 1-Shear Interferometer Having Veriable Shear (APPLIED OPTICS/Vol. 14, No.1/1975 年一月,142-150 頁)中提出 另外一種與專利範圍第1項同類的波前檢測裝置。在這種 裝置中,設置在波前源和衍射光柵之間的光學系統是一種 彎曲的反射鏡。
J.E· Pearson et al.在其發表於APPLIED OPTICS AND OPTICAL ENGINEERING, Vol. VII, Academic Press Inc·, 1979,Kapital 8 的論文’’Adaptive Optical Techniques for Wave-Front Correction,'中指出,具有 位移干涉儀的自適應光學系統可以作為波前傳感器,也可 以用於微光刻技術。
K· Hibino et al·在其發表於APPLIED 36, No· 2 5/ 1 997 年九月,6178一6189 頁的論文” Dynamic range of Ronchi test with a phase-shifted si^uscn dal grating”中也提出一種波前檢測裝置,在這 ,袭置中,一面測試透鏡會將單頻平面波變形並偏轉至一 個作用為正弦透射^^ ^ & ._ ^ ^ 边对九栅的何射光柵上。被衍射光栅衍射的 面Τ二二=2成像透鏡準直,並在位於成像透鏡之聚焦平 CCD产焦屏上形成干涉圖案。此干涉圖案會被一部 nu檢波态收隼作幺认 朱作马檢測測試透鏡之用。 本發明的目的4难4*、山,ι 的疋對足此類波前檢測裝置進行改良。
550377 五、發明說明(3) 本發明:ί :乾::1項于之特徵的/皮前檢測裝置即可達到 空間相干性,以便經弁:源的:次兀結構可以調整光線的 測出來。 ^系統變形的波前能夠被精確的量 按照本發明的方式, 長即可精確的量測出二 + π Η /、光學系統的工作波 紅外線到X射。 的波前檢測裝置適用從 的電視攝Λ Λ 和°使心有一般 可以果要量測特別小的波長範圍,則 了 乂用先電子發射式電子顯微鏡(ρεεμ) 作為具有空間位置辨識能力的檢波器。 署的亡:::月ί ί前檢測裝置和前面提及之現有波前檢測裝 置的-個相異處在力,本發明的波前檢測裝置不需要使受 測試的光學系統受到平面波的照身于,例如安裝-支準直光 管即可產生這樣的效果。 檢測對象為波長很短(可短至X射線的範圍)的波前 時’最好是使用由反射元件(如反射罩)形成的波前源。 在本發明提出的一種實施方式中,波前源具有一片影 孔板,能夠使波前源的二次元結構具有很高的對比度。在 這種影孔板上有3個或4個對稱的開孔。 影孔板可以設置在一支光導管的射出面和光學系統之 間。尤其是將影孔板與光導管連結在一起更可以獲得一個 體積小且亮度高的波前源。 如果影孔板位於一個物面内,且衍射光柵位於一個與
550377 五、發明說明(4) 物面共軛的像面内, 就可以對光學系絲 】要精確的保持光學系統的截距, 樣就可以檢測」氺^有限—有限—成像的波前進行量測。這 質。由於不需要在:f統在其特定的使用範圍的成像品 裝額外的構件(例如·學隹系古統之光路上的物鏡和成像之間加 式可一額外準構直件儀= 的組合ΐ力:實施方式是在光導管-影孔板 及物面内光導管的射屮:,,且’攻個移動模組可以將影孔板 動,故可檢測Π 起推動。由於波前源可以移 可以#用夕二g闊像域之光學系統的成像品質。 的白光,或”夕模光導管,以便在所使用是具有混合波長 時,:可::長度很短(若干個1Mm)的多模式雷射 :也了以檢測出光學系統的成像品, 見光光譜範圍適用乾圍…磁輕射之整個可 波的另一種實施方式中,衍射光拇的構造應視 :皮别源的、,,。構而定,以達到只有特定的衍射級會對衍 柵上的干涉造成影響的目的。 衍射光栅可以是一種相衍射光柵、振幅光柵、或是立 他任何一種適當的衍射光柵類型,例如由高頻振動環^ (Dithering)形成的灰度值光柵、或是特別適用 長的反射光栅。 故 在本發明的另一種實施方式中,衍射光栅在不同的方 向分別具有一個衍射週期結構。這樣才能夠僅靠一個由具 550377
有空間位置辨識能力 個方向以上的相梯度
案測定一 或十方向最好是彼此正交,例如構成棋盤光柵 移干、,牛儀婉由订射光栅。這樣做的目的是,理論上橫向位 生。/y儀,·二由何射光柵造成的位移會同時在X及γ方向上產 户: 以具有其他角度(如45、60、6〇、12〇
,的週』性方向。由具有成雙的1 20度週期性方向的三角 形光柵構成㈣光栅;《是具有45度細度(也就是等腰 二角形或直角三角形)的三角形光栅會產生兩個以上的週 期性方向及/或位移方向。多出來的週期性方向及/或位移 方向可作為平衡計算之用,以提高檢測的精確性。 就減少我們不希望有的衍射級出現,以及製造技術的 角度而言,這種具有多個週期性方向的衍射光柵(如在χ和 V方向的週期性正弦光柵)也可以被製作成相衍射光栅。
為了盡可能精確的對光學系統在其工作截距範圍内進 "ί亍檢測’應盡可能精確的校準位於與物面共扼之像面内的 竹射光柵。為此竹射光栅具有一個在不同的週期性方向上 分別具有一個週期性結構的光柵,以及一個與這個光栅共 平面的透鏡光柵(例如一個設置在衍射光栅面内與衍射光 栅連結在一起的透鏡光柵)。這個透鏡光栅與另外一個位 於物面内的透鏡光栅的組合在適當的定向下可以形成一個 波紋圖莫耳圖形(Moriemuster)。但其先決條件是位於物 面内之透鏡光柵的光柵常數能夠與光學系統的成像比例,
第8頁 550377 五、發明說明(6) 以及位於和衍射光柵連結之透鏡光 因此對衍射光栅而言,最好的調整 反差(Moirekontrast)。 為讨射光柵設置一個將衍射光 動的移動模組’將有助於干涉圖案 衍射光柵作光栅週期的整數倍的移 之反差產生抑制作用。 竹射光柵*也可以是一種交織光 光栅設置一可使其轉動90度的旋轉 個正交干涉系統的完整的波前再現 經由二個設置於衍射光栅及檢 使檢波器可以用適當的方式與干涉 的射出面移動時,如果配屬於光導 成像系統平行於像面移動則最為有 在對成像系統作阿貝正弦條件 栅對所有張角形成的波前橫向值移 檢波器。 經由設置在光源和波前源之間 波前的光線被輸出藕合的第一個分 束器輸出藕合的光線繞過光學系統 器的第二個分束器,可以監控光源 性。可以利用一支參考光導管將第 光線輸送至第二個分束器。但也可 過衍射光栅(例如將衍射光柵取出) 柵的光栅常數相配合。 平面應具有最大的莫耳 柵朝彼此正交之方向移 的分析。這是因為經由 動可以對正交干涉系統 柵,且最好為這種衍射 模組,以便能夠記錄兩 〇 波器之間的成條系統, 圖案相配合。當光導管 管的移動模組也能夠使 利。 的修正時,經由衍射光 皆會固定不變的傳遞至 ’作用為使一部分供應 束器,以及將第一個分 和衍射光柵偏轉至檢波 及/或波前源的穩定 ~個分束器輸出藕合的 Μ使一部分照明光線繞 偏轉至檢波器。
第9頁
550377 五、發明說明(7) 從本發明的另一個觀點來看,具有專利範 =欲的波前檢測裝置亦可以達到本發明的目的。^項之 :?衍射光柵彎曲的檢波器可以用更有利於後::為 圖案为析的方式記錄衍射光柵形成的干涉圖案。、之干涉 因此部分區域為球面狀的檢波器可以不受 ;,將經由衍射光栅形成之波前橫向位移以固定不Ϊ影 失真的方式傳遞至檢波器。這表示從位移干涉=/ 波别形狀再現的工作可以被大幅化。 圖案使 顯而易見的是,位移干涉圖宰 5曲的波前之間的像偏移,且= = : = :前和未 考曲的波前同心的球面上是固定不變的。 /、原本未 如果檢波器是設置在衍射光 間,至少包含部分球 傳“表面之 感光傳感器表面的一般表面,則具有平坦的 器、PEEM等)均可用^太Λ (如TV攝影機、⑽傳感 或勞光層均可構成適波前㈣裝置°如聚焦屏 J傅风過畜的二次輻射器表面。 經由一個具有變頻作 如:螢光層),檢波写方 i田的一 _人幸田射益表面(例 -般的可見光波Λ円 大的波長範圍内均可配合 長之用。^皮長乾圍用感光傳感器表面,作為其檢測波 在本發明的另外—— 柵側有多支光導管,這此:檢波器的衍射光 一個半球面上。此半球二罪何射光柵的一端係位於 將成像光導纖維束或先式可能性’例如 人尤V纖維板的一端磨成凹形球面狀。 550377 五、發明說明(8) 設置於衍射光柵和檢波器之間 步圖像光導纖維束,將 =支光涂吕了作為同 多可能性的傳感器表面:二圖:傳遞f設置位置可以有許 範圍内,以及將一個作^ ^ ^將句'射光柵設置於真空 攝影機)設於真空範圍外‘、、'。…μ、圖像傳感器(例如:電視 為了使位移干涉圖案的檢測工作 導管距衍射光柵較遠的一 ”,、了罪可以使光 如可以使纖維束終端直接;攝影機晶=感器表面。例 將尺;個遠心光學成像系 '統。這樣就可以 傳感器表面上。 』加口的干涉圖案成像在 從本發明的另一個觀點來看,且 特徵的波前檢測襄置亦可以達到;^犯圍第40項之 外且ΛΙ j以運到本發明的目的。 早 一個具有衍射光栅及二次輻射器表佶 前檢測裝置安裝在現有李==將本發明的波 之用。 另阏成像糸統上,作為監控成像品質 面之ήίΓ=:式是’在衍射光柵和感光傳感器表 並將衍射光柵設置在這個半球體 的紝槿i隶釗义而担这々+乍的好處疋可以用更緊密及堅固 由丰純鲈沾讨;也主二广 狀傳感裔表面的優點。最好是 由+ ί體^球面狀表面區域構成二次韓射器表面。 使用故種半球體之衍射光拇 製造工作f右分农 I ,、,, 』私販貝她万式時,為了使 ^ 冬衍射光柵載體、光導纖維束、
五、發明說明(9) 以及二次輻射器 光柵的光導管端 的球面狀表面區 在本發明的 一個波前模組, 個光學系統。透 組校準的衍射光 如果波前模 有許多個場點, 同時在許多個像 統所需的 果母 '個 合光學系 衍射光柵 巾田提南分 元結構的 度的波前 光學系 如 可以配 發生在 可以大 使二次 高精密 在 有一個 表面結合在一起,但 要經由一個β 士 & 一先决條件是靠 域連結。 支料用的膠泥與 另外一種實施方式中, 而在此波前模組及衍嫵光栅之 過這種方式可以使:匕:之間則 柵檢波為早元精確的檢測。 組内有多個浊&、、店 丄 ' 因此丄 由於光學系統 口此先子可以同時被檢測。經 點上檢測波前的古— 、 時間。】的方式’可以大幅縮 波前源都有一 Η旦^力心 .片衫孔板,則波前源 統的成像尺寸和衍射光栅作調整, 上的干涉限制在特定的衍射級内, :::圖案的效率。此外,影孔板 波則源具有报高的對比度。為了能 /刀析,可以在影孔板上設置多個開 聚焦於 的光學 每 玎靠的 的相應區域上 本發明的另外一種實施方式中,每二個 折射或衍μ…^… 波前源。 系統的標 一個波前 將母^個 射聚焦鏡組’這個聚焦鏡組可以將 這樣就可以將通常用來照亮相當大 準照明裝置用於波前模組。 源f好都有多支光導管。這樣就可 波河源的干涉圖案成像在感光傳感 近衍射 半球體 前設有 設有一^ 波前模 的物場 由這種 短檢須ij 的結構 以便將 這樣就 還可以 夠進行 孔。 源都具 入射光 的物場 以非常 器表面
第12頁 550377 五、發明說明(10) 波J Ϊ:個ί Π —個球面形二次輻射器表面讓檢 射光柵造成的横向位移進行無失直的檢測。 率及ΐίΓ上明广波前檢測裂置具有結構緊密:及分析效 鏡。 u此適用於檢測微光刻用投影物 本發明亦包括專利48之 *波前源或衍射光柵在其—個。這種方法是經 柵週期的整數倍的位移,=性方向上移動相應之光 度,並使干涉圖宰的分析便減)、正交干涉系統的度比 、、古义呢茶的刀析工作得以大幅簡化。 /則/,、或衍射光柵的移動抑 間内完成(通常是30毫秒)。在檢波益進行攝影的時 m。 何射光栅的位移通常是6-18 // 士果檢波器的攝影速度非 栅移動的過程中,柃、、纟%τ _吊陕,則在波前源或衍射光 這此千斗同给 檢波杰可以已經拍攝到多個干咪同查 匕干涉圖案均可供波前檢測之 :::涉圖案, ,豐而成的形狀會相當於在衍 =因為各干涉圖案 得的干涉圖案。 、正個移動過程中獲 DE 1 95 38 747 Α1提及之相办,生丨1 以ω的頻率作來回移動,以二制可以經由衍射光栅 器重叠到本發明提出之衍射::於:後的窄頻帶濾波 動,光拇週期的整數倍個週期性方向上移 提出這ί二53之波前檢測方法。之所以I 忒係者眼於以下的問題。 曰 擾“虎會重豐到有效信號上。這些干
第13頁 在干涉圖案中干擾作 @ 550377 五、發明說明(11) m!:有許多可能,例如衍射光柵或波前源的,迭 tU: 失調1波前源的照明未臻完美、因^ 光子糸沆的逆反射及波前檢測裝置之構件(如檢波哭 面、光柵背面等)的重影及/或干涉圖案 …表 干擾信號通常會週期性的重疊到有效信號:專:是,些 他們會週期性的干擾正確的檢測值。干擾作祝, 位、以及振幅均可經由初始相位( 1二;、^率、相 變化求得。 、尤栅對波則源的相位)的 特別是經由波前源的變化,例如使影 的衍:光栅作相對位移,可以明顯的 幅,也就是說,可以造成干擾信號很大的變:擾u的振 由於此類干擾信號均以週期性方式在 動’因此可以藉移動波前源或式:土:變 檢測值的計算方法來消除此類干擾信號的方“及利用 決定就了;信ΐ係造成有效信號之第二和错的 前源2的,時疋;有光柵週期或波 的微』前面所述之-種波前檢測裝置 品質器可以在現場及生產過程中對成像 放入和移出投影物铲但先’、條件疋波珂模組可以被 和移出投影物鏡的;:物面,及/或衍射光栅可以被放入 550377
五、發明說明(12) 一種有利的方式是在步進器/播 旦;_从田-从+ π从- ▼目田的上設置一個能夠 衫響作用7L件或刼作疋件的像差調節電路。 本發明之波前檢測裝置適用於微光刻用步進器或 益的另外一個原因是本發明之波前檢測裝置對於從紅外線 到X射線範圍的相干性和非相干性光線均適用,特別是對 於相干長度很短的輻射源也一樣適用,例如ΗΒ0燈、激發 物雷射(Excimer-Laser)、同步輻射器等。因此成像品質 的監控工作可以用操作光源在微光刻投影物鏡的操作波長 下進行。
以下以本發明的方干貫施方式為例,並配合圖式對本 發明作進一步的說明。 各圖式之内容如下: 第一圖:本發明之波前檢測裝置的一種實施方式。 第二圖:第一圖之波前源的影孔板(上視圖)。 第三圖:另外一種影孔板的上視圖。 第四圖:另外一種適用於第一圖之波前源的影孔板。 第五圖:另外一種適用於第一圖之波前源的影孔板。 第六圖:照明系統及影孔板的一種實施方式。
第七圖:照明系統及影孔板的另外一種實施方式。 第八圖:第一圖之裝置的衍射光柵(上視圖)。 第九圖:可用於第一圖之裝置的第一種衍射光柵。 第十圖:可用於第一圖之裝置的第二種衍射光柵。 第十一圖A :可用於第一圖之裝置的第四種衍射光 栅。
第15頁 >50377 五、發明說明(13) 第十一圖B :第十一圖a 铱丄- 山v 風面放大圖。 第 弟十一圖·由诉射光柵〜檢 ㈡ 種實施方式。 收為早凡構成的本發明的 第 第十三圖:由衍射光柵〜檢 一 種實施方式。 '為早元構成的本發明的 第十四圖:由衍射光柵〜檢 一― 第四種實施方式。 °。早兀構成的本發明的 第十五圖··一種具有多個 式。 +仃h測波道的種實施方 "五圖之汽施方式的波前模組的截面放 種^有夕波逼之波前檢測裝置的微光刻 第十六圖 大圖。 第十七圖 用配置。 第十八圖:第十七圖之配置加上一個像 第一圖所示為一波前檢測裝 纟。即…。 ,u L j攻置(1)的縱向截面圖。方 此裝置中,設置於光學系統(5)$铷&戳甶H 在 A立丄、士义铉门 之物面(3)内的波前源(7) 中以輪廊線表示之從波前源⑺發出 的波刖(9) s通過光學系統(5),並被光學系統(5)轉換成 波前(1 0) ’再到達衍射光栅(1丨)。 光學軸與Z方向平行的光學系統(5)具有兩個以雙箭號 表示的光學元件,如透鏡(13)及透鏡(15)。光學系統(5) 會將波前源(7)成像於衍射光柵(11 );衍射光栅(11)位於 與物面(3)共輛的像面内。從第一圖中還可以看到光學系 統(5)的一個孔徑光闌(17)。
第16頁 550377 五、發明說明(14) 在衍射光柵(11)之後設有一個具有空間位置辨識能力 的檢波器(19)。檢波器(19)具有一個感光傳感器表面(2〇) (例如:CCD晶片),以及一個設置在衍射光柵(11)及感光 傳感器表面(2 0 )之間的成像系統(2 2 )。成像系統(2 2 )會將 衍射光柵(11 )形成的干涉圖案及/或位移圖案成像在感光 傳感器表面(2 0 )上。成像系統(2 2 )具有一個顯微物鏡(2 1 ) 及光學元件(23,25),並與光學元件(15)共同將孔徑光鬧 (17)成像在感光傳感器表面(20)上,如成像路徑如光瞳光 路(2 7 )所示。成像系統(2 2 )係經正弦修正,其修正品質即 為顯微物鏡(2 1)的正弦修正品質,此修正品質對於檢測波 前之位移距離的穩定性具有決定性的影響。 波前源(7)具有一片第二圖中放大的影孔板(8),這片 影孔板的位置是在光導管(29)的出口處。為了能夠檢測光 學系統(5 )的整個像場,光導管(2 9 )可以被一個平行於物 場(3)的位移模組(31)在X及/或γ方向上移動,如第一圖中 的雙箭號(33)及虛線所示。 在波前檢測裝置(1)中,當光學系統(5 )的像場被檢測 時,檢波器(19)也會和光導管(29) —樣,同時被位移模組 (31)在X及/或γ方向上移動。 衍射光柵(1 1 )可以被一個平移模組(37)在光學系統 (5)的像場内移動(也就是在X及/或γ方向上移動),以便能 夠減小衍射光柵(11 )的一個干涉系統的對比度。 在輻射源(4 3 )和波前源(7 )之間設有第一個分束器 (45) ’其作用是使一部分通往波前源(7)的光線被輸出竊
550377 五、發明說明(15) 合。位於光學元件(23)及光學元件(25)之間,且正好在波 前源的焦點上的第二個分束器(4 Ό會使被第一個分束器 (4 5 )輸出藕合的光線偏轉繞過光學系統(5 )及衍射光柵 (11),到達感光傳感器表面(2〇),以便監控輻射源(43)的 穩定性。為此有一支參考光導管(4 9)會將被第一個分束哭 (45)輸出藕合的光線傳遞至第二個分束器(47)。 °° 如第二圖所示,波前源(7)的影孔板(8)具有一個與光 學系統(5)的光學軸(50)同心的正方形開口(53),以及^個 與開口( 5 3 )間隔相同距離並以光學軸(5 〇 )為對稱轴的開口 (51)。 汗口 第三圖所示為另外一種適用於波前源(7)之影孔板的 實施方式。影孔板(8’)具有一個與光學系統(5)的光學軸 (50)同心的正方形開口(53’),以及4個與開口(53,)相 並以光學軸(5 0 )為對稱軸的開口( 5丨,)。 必要時本發明提出之影孔板上的開口數也可以多於第 二圖及第三圖所示之開口數。 ^ 、乐 波前源(7 )的這種二次元姓M 八圖所示的衍射光柵⑴),口’,。有構牲會被調諸到第七圖和第 在衍射光栅上的干涉。-有特定的衍射級會造成出現 第四圖所示為一具有旋鑣 (8,,。在影孔板(8,,)上有一個由冉之透射分佈的影孔板 的環形面(56)、以及互補的=形面(54)、—個透明 第五圖所示為一個二2環形面⑸)。 些開口(57)形成一個等邊三角7)的影孔板(8,,)。這 —月形。影孔板(8,,’)具有三度
第18頁 550377 五、發明說明(16) ' ' 對稱性’並且和第十圖所示的衍射光柵搭配對於消除若干 特定的衍射級有很好的效果。 第六圖和第七圖所示為照明系統-影孔板的另外兩種 配置方式。 在第六圖中,光導纖維(29,)以及聚焦屏(6)上的影孔 板(8)之間設有一面擴張透鏡或聚焦透鏡(3〇)。 經由聚焦屏(6 )可以控制空間相干性,其中要注意的 疋’影孔板(8 )的照明最好是非相干性的,以便能夠經由 影孔板的形狀對空間相干分佈造成特定的改變。 照明孔徑可經由透鏡(3 〇 )與孔徑光闌(1 7 )相配合。這 樣孔徑光闌(1 7)就可以被完全照亮,即使是光導纖維 (2 9 )的數位孔徑與光學系統的數位孔徑彼此並不相當, 也沒有影響。 第七圖所示為一經由聚光透鏡(3 2 )被照亮的影孔板 (8’)。在聚光透鏡(32)和影孔板(8,)之間設有聚焦屏(6,) 及擴張透鏡或聚焦透鏡(3 0,)。 第八圖所示為一衍射光柵(11)。衍射光柵(11)包括一 個ia成干涉(也就疋波前的橫向位移)的棋盤光拇($ $ )。第 八圖所示的X及Y方向相當於第一圖至第三圖所示的X及γ方 向’並顯示波鈿檢測裝置(1 )之棋盤光樹(5 g )的設置方式 相¥於波別源(8 )的開口( 5 1,5 3 )及/或波前源(§,)的開口 (5 Γ ,5 3 ’)的對角線設置方式。 第九圖所示為適用於第一圖之波前檢測裝置(丨)的衍 射光柵(11’)的另外一種實施方式。這是一種由十字光柵
第19頁 550377 五、發明說明(17) (1 1 )構成的振幅光栅。 射先:二圖所、示為適用於第一圖之波前檢測裝置⑴的衍 ^ )的另外一種實施方式。衍射光柵(1 1,,,)盥 1五圖的θ影孔板(8’’’)共同作用特別有利。衍射光拇” y )疋一種由三角形光栅構成的振幅光柵,且具有= 個照明方向。 〃 Θ — 第J -圖〜和斗第十一 _所示為另夕卜一種有利的衍射光 柵(π )貫轭成式。衍射光柵(11,,)包括一個如第十一圖 b日之放^大的棋盤光柵(58)。棋盤光栅(58)會造成干涉(也就 是波丽的橫向位移)。在棋盤光柵(58)内不為波前之位移 所需要的區域設有一個與棋盤光柵(58)連接的莫耳網 光柵(59)。 ' 第十二圖為波前檢測裝置(101 )的另外一種實施方式 的軸向截面圖。在第十二圖中出現的構件如果在第一圖至 第九圖中也有出現,則其標示號為第一圖至第九圖之相同 構件的標示號加1 0 0。在第十二圖中出現的構件如果在第 一圖至第九圖中也有出現,則在此不再重覆說明,請直接 參閱第一圖至第九圖的說明。 從一個波前源發出的波前通過一個光學系統,並被這 個光學系統轉變成波前(11 〇 ),然後到達衍射光柵(丨丨丨)。 為簡化圖面,在第十二圖中僅以一個光學元件(丨丨5)代表 這個光學系統。 < 衍射光柵(111)與具有空間位置辨識能力的檢波器 (11 9)共同構成一個衍射光柵—檢波器單元(111,1丨9)。
550377 五、發明說明(18) 帶有圖像的光導纖維束(16〇)會與檢波器(119)的感光 傳感器表面(1 2 0 )接觸。光導纖維束(丨6 〇 )朝衍射光柵的〆 端結束於與光學軸(150)及衍射光柵(111)的相交點同心的 球面形營光層(161)上。光學軸(丨5〇)平行於z方向。 光導纖維束(160)凹面内的螢光層u 61)下方有一個以 會發出螢光的膠泥封住的半球體(丨63),這個半球體(163) 的作用是保護螢光層(1 6 1 )。衍射光栅(1 11)設置在半球體 (163)的平坦面上。 由於螢光層(1 6 1 )具有向所有方向散射的特性,因此 經由螢光層(1 6 1 )不僅可以產生使波長與感光傳感器表面 (1 2 0 )的光譜敏感性配合的作用,也可以改善衍射光線在 各個光導纖維束内的藕合。如果不需要改變頻率或波長 則可以用將光導纖維束(1 6 〇 )的凹面不透明化的方式取代 螢光層(1 6 1 ),以獲得一個散射的二次輻射器表面。 衍射光柵(111)是由棋盤光柵或十定光柵構成,也就 是說,衍射光柵(111)對於X方向及與其正交的Y方向分別 具有一個衍射的週期性結構。因此只需要一個由具有77空間 位置辨識能力的檢波器(11 9)攝製下來的干涉圖案就可以 確定一個以上方向的相梯度。就干涉圖案的分析而言,為 衍射光柵(111)設置一個傳輸模組(丨3 7 )的目的是使衍射光 栅-檢波器單元(111,119)和衍射光栅(in)能夠在χ方向 及/或Υ方向上移動。這樣就可以經由在感光傳感器表面 (120)進行積分期間使衍射光柵移動光栅週期的整數倍距 離的方式,減小衍射光栅(111)的一個正交干涉系統的對
550377 五、發明說明(19) 比度。 第十三圖所示為衍射光栅-檢波器單元的另外一種實 施方式。在第十三圖中出現的構件如果在第十二圖中也有 出現,則其標示號為第十二圖之相同構件的標示號加 100。在第十三圖中出現的構件如果在第十二圖中也有出 現,則在此不再重覆說明,請直接參閱第十二圖·及/或第 一圖至第九圖的說明。 在第十三圖所示的衍射光柵-檢波器單元(2 ο 1)中,干 涉圖案係經由一個直接與二次輻射器表面(2 6 1)及圖像傳 二欠輻射器表面(2 6 1)成像於圖 感器(2 2 0 )接觸的光導板自 像傳感器(2 2 0 )上。光導板係由光導織布束(2⑼)所構成 在這個實施成式中,衍射光栅(2 1丨)可以單獨被移動,不 需與檢波( 2 1 9 ) —起被移動,例如在衍射光柵(2丨丨)的一 個與光學軸( 25 0 )正交的週期性方向上移動。此外,為了 2準感光傳感器表面(220 )上的出射光瞳尺寸,衍射光柵 也可^在平行於光學軸( 250 )的方向上被移動。 β古ΐ十Γ ^所示為衍射光拇-檢波器單元的另外一種實 均嗖i在一 =f只施成式中,衍射光柵及二次輻射器表面 的構件如果在第光柵載體上。在第十四圖中出現 圖之相同構件的:—圖中也有出J見’則其標示號為第十二 如果在第十二Ξγ示號加200。在第十四圖中出現的構件 接參閱第十二圖及么有?現’則在此不再重覆說明’請直 第十四圖之ίΛ弟厂圖至第九圖的說明。 <何射光栅-檢波器單元(301)具有一個遠心
第22頁 550377 五、發明說明(20) 光學成像系統(3 2 2 )。這個成像系統可以將干涉圖案自位 於衍射光柵載體(3 6 3 )距衍射光柵較遠之一端並朝衍射光 柵(1 1 1 )彎曲的二次輻射器表面(361)成像於感光傳感器表 面(3 2 0 ) 0 如果/又有成像糸統(3 2 2 ),平坦的二次輕射器表面就 可以直接設置在與感光傳感器表面相鄰的位置。這樣衍射 光栅載體就可以同時作為感光傳感器表面(32〇)的蓋玻 片。 第十五圖及第十六圖所示為本發明之波前檢測裝置的 另外一種實施方式。在第十五圖及第十六圖中出現的構件 如果在第一圖至第九圖及/或第十二圖中也有出現,則其 標示號為第一圖至第九圖及/或第十二圖之相同構件的標 示號加400及/或30 0。在第十五圖及第十六圖中出現的構 件如果在第一圖至第九圖及/或第十二圖中也有出現,則 在此不再重覆說明,請直接參閱第一圖至第九圖及/ 十二圖的說明。 波前檢測裝置(401)包括第十六圖所示的波前模缸 (465 )以及多個帶有光導纖維束的球面形二次輻射器表 (461)。 第十六圖中的波前模組(407)包括自光學系統(4〇5) 物面發出的聚焦透鏡(467)及影孔板(408 )的二次元配置 (例如六邊形配置)。每一面聚焦透鏡(467)都會將來自 =柵(4U)方向的入射照明光線聚焦在其所屬的影孔板
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因此經由波前檢測裝置(401)可以同時在 上檢測光學系統(405 )的整個物場 , 個從波前源(4。7)出發的光路。依照本發明提: 用許多個像點同時對光學系酬)的成像 =第十五圖之裝置(4。5)是屬於一種多波道的波前 榀測装置,而第一圖至第十四圖則是 測裝置。但是第十r圖之斩射古-认丄平及I J /反則檢 , 疋弟卞一 H之何射先柵—檢波器單元同樣適用 於波前檢測裝置(4 〇 1)。 第十七圖所示為一種微光刻裝置(5 〇 2)。微光刻裝置 (5 0 2 )包括一個本發明之多波道波前檢測裝置。在第十七 圖$出現的構件如果在第十五圖中也有出現,則其標示號 為第十五圖之相同構件的標示號加丨〇〇。在第十七圖中出 現的構件如果在第十五圖中也有出現,則在此不再重覆說 明,請直接參閱第十五圖的說明。 微光刻裝置(5 0 2 )(尤指一種步進器或掃瞄器)具有一 微光刻投影物鏡(5 0 5 )。在微光刻投影物鏡(5 0 5 )的物面内 可以插入一個波前模組(56 5 )以取代原有的遮蔽罩。波前 模組(565 )的照明光線係來自於照明場鏡( 569 )。在操作 時,晶圓台(571)上放置的並不是晶圓,而是第十三圖之 衍射光栅-檢波器單元(511,519),其中衛射光柵(511)係 設置於微光刻投影物鏡(5 〇 5 )的像面内。前面提及的衍射 光柵(5 11)的移動可以經由在與微光刻投影物鏡(5 0 5 )的光 學軸正交方向上可以移動的晶圓台(5 7 1)來完成。晶圓台
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(571)移動時,整個衍射光柵-檢波器單元(511,519)都合 跟移動。由於需要的移動距離通常只有,因此經/ 此移動造成出射光瞳在感光傳感器、表面上的偏量小到可以 、隹哭/Vr五。圖之^1射光拇—檢波器單元可用於微光刻用步 進裔/。知目田裔。廷種衍射光柵—檢波器單元的一個特徵 檢波裔的部分區域為球面形。 /、 π 11由有=波迢的波刖杈組及衍射光柵—檢波器單元 (511,519),因此微光刻用步進器/掃目苗 出投影物鏡( 5 0 5 )的圖像失直情开彡,)了 乂私測 單元是-個結構緊密的^ 相位關係都是固定且為已知的,戶斤 m返之,的 來確定相對波前倒相及圖像失真。ϋ、左由相對相位量測 第十八圖為一種具有像差調節雷 ( 602 ) ^ ^ δ ^ ^ + ^ Λ ^ ^ ^ ^ 十七圖中也有出現,則其標示二V見的構件如果在第 及/或第一圖至第十六圖中也有出現構;^果在第十七圖 明,請直接參閱第十七圖及/或第一、在此不再重覆說 明。 固至第十六圖的說 第十八圖之微光刻裝置(602 )與
^ ^ ^.J ^ ^ ^ ^ I·] t ^( 602 ) * # φ J 孔板( 6 08 )的光導纖維( 629 )構成的照刀⑴格配一片衫 這個照明裝置相當於第六圖之穿w沾糸統。也就是說’ 戒置的一個二次元陳列。
550377 五、發明說明(23) 在這種光導纖維的矩陣配置中,照明裝置的光學軸會 固定對準主光線的方向,這樣孔徑光闌就可以從每一個場 點被均勻的照亮。 4乍為步進器或掃瞄器之微光刻裝置(6 0 2 )的投影物鏡 (6〇5)具有三個光學元件,即透鏡(673,675,677)。透鏡 (6 7 3 ’ 6 7 5 ’ 6 7 7 )分別具有一個作用元件(6 7 9,6 8 1, 6j3) °透過作用元件( 679,681,6 83 )可以調整透鏡和投 影物鏡( 60 5 )的成像特性。作用元件可以是一種能夠移動 f轉動透鏡的調整裝置,也可以是一種能夠使透鏡變形或 受到機械應力作用的傳動機構。 时波前檢測裝置(601)具有一個分析單元(6〇4)。這個分 斤單元(604)可以從感光傳感器表面(620)攝製下來的干涉 f案確定出當下能夠描述投影物鏡(6〇5)的成像特性的波 义二析單凡(6 〇4)會將一個相當於被檢測出的當下的波 二的,號( 686 )傳送至一個比較裝置(685 )。比較 =Λ將信號(686 )和一個相當於投影物鏡⑽5)之額定 成像特性的額定信號(687)作—比較。比較裝 比較結果以作用作辦(68、、, )έ將 R〇,, = 乂作用L #bC 689 )迗至作用元件( 679,681 , I州 件( 679,W,6δ3)再依據所收到的作用作 唬( 68 9 )調整光學元件(673 』π 用仏 ( 60 5 )的像差。 7),以減小投影物鏡 以上 此處所謂的調節電„〜_ 的調整步驟會不斷的重覆進行 珂闭冤路 直到信號( 686 )與
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攻表示此時投影物鏡(6 0 5 )已具 調整也可以是在沒有反饋回
額定信號(6 8 7 )相等為止 有額定的成像特性。 微光刻裝置( 602 )的像差 路的開放式電路上進行的。 一種十分有利的方式是波前檢測裝置(6 〇丨)能夠在投 影物鏡(6 0 5 )整個像場的許多個像點上同時檢測波前。這 樣就可以計算出像差的場分佈。從像差的場分佈可以確定 作用元件能夠影響的像差成分,並經由適當的方法(例如 以投影物鏡制定的變化表進行光學計算)計算出作用元件 的調整量。
第27頁 550377 圖式簡單說明 I、 1 0 1、1 1 0、2 0 1、3 0 1、4 0 1 :波前檢測裝置 3 :物面 5 :光學系統 6、6 ’ :聚焦屏 7 :波前源 8、 8 ’ 、8,’ 、8 ’ ’ ’ 、4 0 8、6 0 8 :影孔板 9、 10 :波前 II、 1 Γ 、1 Γ ’ ’ 、111、2 11、5 1 1 :衍射光柵 13、15、673、6 75、6 77 :透鏡 1 7 :孔徑光闌 1 9、11 9、2 1 9 :檢波器 20、120、220、320、620 :感光傳感器表面 21 :顯微物鏡 2 2、3 2 2 :成像系統 23、25、115 ··光學元件 2 7 :光瞳光路 29 :光導管 2 9 ’、6 2 9 :光導纖維
30 : 、30’ 、467 :聚焦透鏡 31 :位移模組 3 2 :聚光透鏡 33 :雙箭號 3 7 :平移模組 4 3 :輻射源
第28頁 550377 圖式簡單說明 4 5、4 7 :分束器 49 :參考光導管 5 0 :光學軸 51,、5 3,、5 3、5 7 :開口 5 2 :不透明環形面 5 4 :中央圓形面 5 5、5 8 :棋盤光栅 1 5 0、2 5 0 :光學軸 1 6 0 :光導纖維束 161 :螢光層 1 6 3 :半球體 2 6 0 :光導織布束 2 6 1、3 6 1、4 6 1 :二次輻射器表面 3 6 3 :衍射光柵載體 4 0 5 :檢測光學系統 4 0 7、4 6 5、5 6 5 :波前模組 5 0 2、6 0 2 :微光刻裝置 5 0 5、6 0 5 :微光刻投影物鏡
第29頁 569 :照明物鏡 571 :晶圓台 604 :分析單元 679 ^ 681 > 683 685 :比較裝置 686 :信號 550377 圖式簡單說明 687 :額定裝置 6 8 9 :作用信號 1_1
Claims (1)
- 550377i 號 89127779 六、申請專利範圍 其中為 ’其中為 •其中為 9 ·如申請專利範圍第8項的波前檢測裝置(1 ), 照明系統具有一支光導管(29 ; 29,)。 10·如申請專利範圍第9項的波前檢測裝置(1 ) 光導管(29 ;29,)為一種多模式光導管。 11·如申請專利範圍第9項的波前檢測裝置(1) 影孔板(8;8’ ;8’’)與光導管(29)連結在一起。 12·如申請專利範圍第8至1 0項之任一項的波前檢測裝置 (1) ’其中為:影孔板(8 ; 8,; 8, ’)具有可以將入射光線 聚焦至影孔板(8 ; 8,; 8,,; 4 0 8 ; 5 0 8 ; 6 0 8 )的光學鏡組 (30 ; 39’ ; 430 ; 530 ; 630)。 13·如申請專利範圍第1 2項的波前檢測裝置(1 ),其中 為:衍射光栅(1 1 )具有一個能夠使衍射光柵(1 1 )在不同的 週期性方向上移動的傳輸模組(3 7 )。 14.如申請專利範圍第1至11項之任一項的波前檢測裝置 (1 ),其中為:衍射光柵(11)的構造視波前源(7)的結構而 定,其目的是使只有特定的衍射級會對衍射光柵上的干涉 造成影響。 15·如申請專利範圍第1至11項之任一項的波前檢測裝置 (1 )’其中為:衍射光栅(1 1 )在不同的週期性方向上分別 具有一個衍射週期結構。 16. 如申請專利範圍第1 5項的波前檢測裝置(1 ),其中 為:衍射光柵(1 1 )具有兩個彼此正交的週期性方向。 17. 如申請專利範圍第1 6項的波前檢測裝置(1 ),其中 為:衍射光柵為--h字光栅(11,)。第32頁 2002. 11.07.007 550377其中 案號 89127779 六、申請專利範圍 18. 如申請專利範圍第16項的波前檢測裝置(1 為·衍射光柵(11)為一棋盤光柵(5 5 )。 19. 如申凊專利範圍第1 5項的波前檢測裝置(丨),复 為·何射光柵(1 1 )具有三個彼此兩兩夾1 2 0度角的 性方向。 巧的週期 為 21. (1) 拇 22. (1) 柵 23. 為 24. (1) 25. (1) 2 0 ·如申清專利範圍第工9項的波前檢測裝置⑴,发 衍射光栅為一三角形光柵(11,,,)。 “ 專利,圍第1 6至2〇項之任—項的波前檢剩裝署 八”、、·竹射光柵為一透射率始終不斷變化的光、 % ,如/Λ專利範目第1至11項之任一項的波前檢剛裳晋 ’、’’’、.衍射光柵為一透射率始終不斷變化的光 其中 如申明專利範圍第2 2項的波前檢測裝置(1) 衍射光柵為一正弦光栅。 如/Λ專利範圍第1至11項之任一項的波前檢剛袭置 ” &、、·衍射光柵(11)為一相位衍射光柵。、 如二凊為專利範圍第1至11項之任-項的波前檢測裝置 ” .何射光柵(1丨’,)為一在不同的週期性^ 上分別=有一個衍射週期結構的光柵(58),並向 (58)共平面的網狀光栅(59)。 、有與先柵 2 6 · 士申^專利範圍第2 5項的波前檢測裝置(4 〇 1),豆 為·光學系統(4 〇 5)為一微光刻投影物鏡。 27.如申請專利範圍第!至丨丨項之任一項的波前檢測裝置第33頁 2002.11.07.008 550377 __案號89127779_年月 日 倏^___ 六、申請專利範圍 (1 )’其中為:在波前源(7 )及衍射光柵(1 1 )之間設有一個 可以將波前(9 )變形的光學系統(5 ),且波前源(7 )位於光 學系統(5 )的一個物面(3 )内,而衍射光柵(丨丨)則位於與物 面(3 )共輕之光學糸統(5 )的一個像面内。 2 8·如申請專利範圍第1至11項之任一項的波前檢測裝置 (1),其中為:波前源(7 )具有一個能夠在物面内(3 )推動 波前源(7 )的位移模組(3 1 )。2 9.如申請專利範圍第2 8項的波前檢測裝置(1 ),其中 為:位移模組(3 1)在物面(3 )内推動波前源(7 )時,會同時 將檢波為(1 9 )推至像面。 3 0·如申請專利範圍第1至11項之任一項的波前檢測裝置 (1 ; 301),其中為:檢波器(19 ; 319)具有一個感光傳感 器表面(2 0 ; 3 2 0 )及一個位於衍射光柵(11 )及感光傳感器 表面(2 0 ; 3 2 0 )之間的成像系統(2 2 ; 3 2 2 )。 31·如申請專利範圍第30項的波前檢測裝置(1 ; 3〇1),其 中為:成像系統(2 2 ; 3 2 2 )係按照阿貝正弦條件作修正。 3 2 ·如申請專利範圍第3 0項的波前檢測裝置(丨;3 〇丨),其 中為··成像系統(2 2 ; 3 2 2 )為一遠心成像系統。3 3·如申請專利範圍第1至11項之任一項的波前檢測裝置 (1),其中為:在光源(4 3 )及源前源(7 )之間設有第一個分 束裔(4 5 )’其作用是使照射至波前源(7)的一部分光線被 輸出藕合;以及設置在衍射光柵(1 1)之後的第二個分束器 (47),其作用是將被第一個分束器(45)輸出藕合的光線偏 轉至感光傳感器表面(2 0 )。550377 __案號89127779_年月曰 修正_ 六、申請專利範圍 3 4.如申請專利範圍第3 3項的波前檢測裝置(1 ),其中 為·具有一支參考光導管(49) ’其作用是將被第一個分束 器(4 5 )輸出藕合的光線傳送至第二個分束器(4 7)。 3 5·如申請專利範圍第1至11項之任一項的波前檢測裝置 (101 ;201 ;301 ;401),其中為:檢波器(Π9 ;219 ; 319 ;419)具有一個二次輻射器表面(161 ;261 ;361 ; 461) 〇 3 6·如申請專利範圍第1至11項之任一項的波前檢測裝置 (101 ;201 ;401),其中為:檢波器(jig ;219 ;419)具有 多支光導管(160 ; 2 6 0 ; 46 0 )。 3 7.具有申請專利範圍第1項之主要特徵的波前檢測裝置 (101 ;301 ;401),其中為:承載衍射光栅(ln ;311 ; 4 1 1 )的衍射光栅載體(1 6 3 ; 3 6 3 ; 4 6 3 )具有一個二次輻射 器表面(261 ;361 ;461)。 3 8 ·如申請專利範圍第3 7項的波前檢測裝置(1 〇 1 ; 4 〇 1), 其中為:衍射光柵(11 1 ; 4 1 1 )係設置在一個半球體(1 6 3 ; 4 6 3 )之平坦部分的表面上。 3 9.如申請專利範圍第3 7項的波前檢測裝置(1 〇 1 ; 4 〇 1), 其中為:半球體之球面形表面部分係由二次輻射器表面 (2 6 1 ; 4 6 1 )構成。 4 0 .如申請專利範圍第3 9項的波前檢測裝置(丨〇丨;4 〇丨), 其中為:靠近衍射光栅的光導管端經由具有變頻作用的膠 泥與半球體(1 6 3 ; 4 6 3 )的球面形表面部分連結。 41.如申請專利範圍第37項的波前檢測裝置(401),其中第35頁 2002.11.07.010 550377 _案號89127779_年月 曰__修正 六、申請專利範圍 ’ 為:在衍射光柵(41 1)之前設有多個波前源(4〇7)。 4 2·如申凊專利範圍第4 1項的波前檢測裝置(4 q 1 ),其中 為:檢波器(4 1 9 )為每一個波前源均具有一個球面形二次 幸s射器表面(4 6 1 )。 4 3.如申请專利範圍第3 7項的波前檢測裝置(4 〇 1 ),其中 為:檢波器(4 1 9 )為每一個波前源(4 〇 7 )均具有多支光導管 (460)。 八4 4·如申睛專利範圍第1至11項之任一項的波前檢測裝置 (101 ; 401),其中為:衍射光柵(1 !! ; 41 i)係設置在一個 半球體(163 ; 463)之平坦部分的表面上。 4 5·如申請專利範圍第1至11項之任一項的波前檢測裝置 (4 0 1)’其中為:在衍射光栅(411)之前設有多個波前源 ( 40 7 )。 4 6·如申請專利範圍第4 5項的波前檢測裝置(4 〇 1 ),其中 為:檢波器(4 1 9 )為每一個波前源(4 0 7 )均具有多支光導管 (460)。4 7.如申請專利範圍第4 5項的波前檢測裝置(4 〇 1 ),其中 為:檢波器(41 9 )為每一個波前源均具有一個球面形二次 輻射器表面(4 6 1 )。 48· —種波前檢測裝置(1〇1 ; 301 ; 401),具有一個被波 前(11 0 )通過的衍射光栅(111 ; 3 1 1 ; 4 1 1 ),以及一個設置 在衍射光柵((1 1 1 ; 3 1 1 ; 4 1 1)之後的具有空間位置辨識能 力的檢波器(1 1 9 ; 3 1 9 ; 4 1 9 );這種波前檢測裝置(1 〇 1 ; 2 0 1 ; 3 0 1 )的特徵為:檢波器(1 1 9 ; 3 1 9 ; 4 1 9 ),至少有一2002.ll.07.0li 550377 _ 案號8912777Q_年月日__ 六、申請專利範圍 部分區域朝衍射光栅((1 11 ; 3 11 ; 4 1 1 )彎曲。 49·如申請專利範圍第48項的波前檢測裝置(101 ; 301 ; 4 〇 1 ),其中為:檢波器(11 9 ; 3 1 9 ; 41 9 )至少有一部分區 域為球面形。 5 0 ·如申請專利範圍第4 9項的波前檢測裝置(1 〇 1 ; 4 0 1 ), 其中為:靠近衍射光柵的光導管端經由具有變頻作用的膠 泥與半球體(1 6 3 ; 4 6 3 )的球面形表面部分連結。 51.如申請專利範圍第48項或第49項的波前檢測裝置 (101 ;301 ;401),其中為··檢波器(119 ;319 ;419)具有 一個位於衍射光柵(m ; 311 ; 411)及感光傳感器表面 (120,320,420)且至有一部分區域為幫曲的二次輕射器 表面(161,361 ; 461)。 5 2 ·如申請專利範圍第5 1項的波前檢測裝置(1 〇 1 ; 3 〇 1 ; 401),其中為:二次輻射器表面(161 ; 361 ; 461)可改變 頻率。 5 3·如申請專利範圍第4 8或4 9項的波前檢測裝置(1 q 1 ; 401),其中為:靠近衍射光柵的檢波器(丨ι9 ;419)面具有 多支光導管(160 ; 46 0 );且光導管(160 ; 460 )靠近衍射光 柵的光導管端係位於一個半球體上。 5 4·如申請專利範圍第5 3項的波前檢測裝置(4 〇丨),其中 為·在衍射光柵(4 1 1 )之前設有多個波前源(4 〇 了)。 5 5.如申請專利範圍第54項的波前檢測裝置(4〇1),其中 為:檢波器(41 9)為每一個波前源均具有一個球面形^次 輻射器表面(4 6 1 )。第37頁 2002.11.07. 〇12 550377 _案號89127779__年月日 條正 _ 六、申請專利範圍 5 6·如申請專利範圍第5 3項的波前檢測裝置(4 0 1 ),其中 為··檢波器(419)為每一個波前源(407)均具有多支光導管 (460)。 5 7·具有申請專利範圍第4 8項之主要特徵的波前檢測裝置 (101 ;301,401) ’其中為:承載衍射光栅(hi ; 4 1 1 )的衍射光柵載體(1 6 3 ; 3 6 3 ; 4 6 3 )具有一個二次輻射 器表面(261 ;361 ;461)。 5 8 ·如申請專利範圍第5 7項的波前檢測裝置(1 〇 1 ; 4 〇 1), 其中為·衍射光栅(1 1 1 ; 4 1 1 )係設置在一個半球體(1 6 3 ; 463)之平坦部分的表面上。 5 9 ·如申請專利範圍第5 7項的波前檢測裝置(丨〇丨;$ 〇 1), 其中為:半球體之球面形表面部分係由二次輻射器表面 (261,461)構成。 6 0·如申請專利範圍第5 9項的波前檢測裝置(1 〇丨;4 〇丨), 其中為:靠近衍射光柵的光導管端經由具有變頻作用的膠 泥與半球體(1 6 3 ; 4 6 3 )的球面形表面部分連結。 乂b1, 一種波前檢測方法,這種方法係經由一個波前源(8) 產生一個波前,這個波前和在不同的週期性方向上分別具 =一個衍射週期結構的衍射光栅(丨丨)會產生一個干涉圖/、 案,並以一個感光檢波器將干涉圖案攝製下來;^ 檢測方法的特微盘·、士 a、盾^ 8/ ,, α種波月|J 们将彳政為·波刖源(8 )或衍射光栅(丨丨)在一個週 期性方向上被移動相應之光栅週期的整數倍距離。 62·如申請專利範圍第61項的波前檢測方法,並中 W源(8)或衍射光栅(⑴在檢波器攝製干涉圖案期間被移2002.11.07.013 550377 Ά 89127779 六、申請專利範圍 _月 修正 動相應之光柵週期的整數倍距離。 6 3·如申請專利範圍第6 1或6 2項的波前檢測方法,其中 為:在波前源(8 )或衍射光柵(π )被移動相應之光柵週期 的整數倍距離期間會有多個干涉圖案被攝製下來,並作為 波前檢測之用。 ^6 4· 一種波前檢測方法,這種方法係經由一個波前源(8 ) 產生一個波前,這個波前和在不同的週期性方向上分別具 有一個衍射週期結構的衍射光柵(丨丨)會產生一個干涉圖 案’這種波前檢測方法的特徵為:在一個移動步驟中,波 前源(8)或衍射光柵(u)被移動相應之光栅週期的非整數 倍距離’且所產生的干涉圖案會被檢測到,重複一動步 驟,並將各個移動步驟測得的干涉圖案取平均值,作為波 6^·如申請專利範圍第64項的波前檢測方法,其中為:波 前源(8)或衍射光栅(丨丨)在一個由不同的週期性方向經向 量疊加定義出的方向上被移動。 66.如:請專利範圍第64或65項的波前檢測方法,其中 為:波前源(8)或衍射光柵(11)的總移動距離小於或等於 相應之光柵週期的一半。• °申晴專利範圍第67項的微光刻裝置(6〇2),其中 Hu Α Ϊ ^ ^刻裝置Ο02 ; MU,具有投影物鏡(5 0 5 ; ^範圍第1至1 1項之任一項的波前檢測裝置,其 中^ ·波前源(5 0 7 ;6〇7)可以被放入投影物鏡(5〇5 ;6〇5 物面由也可以自投影物鏡(5〇5 ;6〇5)的物面被移出。550377 ____案號89127779_年月曰 鉻 六、申請專利範圍 為··投影物鏡( 6 0 5 )至少具有光學元件( 6 73 ; 6 75 ; 677 ), 且至少有一個投影物鏡( 6 0 5 )的光學元件( 673 ; 6了5 ; 6了了) 有配置作用元件(6 7 9,6 8 1,6 8 3 )’經由波前檢測裝置 (601)可以調整作用元件( 679 ; 681 ; 6 8 3 ),並進而^文變光 學元件(6 7 3 ; 6 7 5 ; 6 7 7 )的成像特性。 6 9. 一種微光刻裝置(5 0 2,6 0 2 )’具有投影物鏡($ q 5 ; 6 0 5 )及申請專利範圍第48至50項及第57至60項之任一項的 波前檢測裝置,其中為:波前源(5 0 7 ; 6 0 7 )可以被放入投 影物鏡(5 0 5 ; 6 0 5 )的物面,也可以自投影物鏡(5 〇 5 ; 6 〇 5 ) 的物面被移出。 70. 如申請專利範圍第69項的微光刻裝置(6 0 2 ),其中 為·投影物鏡(605)至少具有光學元件(673 ; 675 ; 677), 且至少有一個投影物鏡(605)的光學元件(673 ; 675 ; 677) 有配置作用元件(6 7 9 ; 6 8 1 ; 6 8 3 ),經由波前檢測裝置 (6 0 1)可以調整作用元件(6 7 9 ; 6 8 1 ; 6 8 3 ),並進而改變光 學元件( 673 ; 675 ; 6 77 )的成像特性。 71. 一種微光刻裝置(5 0 2 ; 6 0 2 ),具有投影物鏡(5 〇 5 ; 6 0 5 )及申請專利範圍第1至1 1項之任一項的波前檢測裝 置’其中為:衍射光栅(5 11 ; 6 11 )可以被放入投影物鏡 (5 0 5 ; 6 0 5 )的像面,也可以自投影物鏡(5 〇 5 ; 6 0 5 )的像面 被移出。 7 2.如申請專利範圍第7 1項的微光刻裝置(6 〇 2 ),其中 為:投影物鏡(605)至少具有光學元件(673 ;675 ;677), 且至少有一個投影物鏡(605)的光學元件(673 ; 675 ; 677)第40頁 2002.11.07.015 550377 修正 曰 89127779_年月 六、申請專利範圍 「I η 置作、用元件(6 7 9,6 8 1 ; 683〕,經由波前檢測裝置 專—可以凋整作用疋件(6 7 9 ; 6 8 1 ; 6 8 3 ),並進而改變光 子凡件( 6 73 ; 6 75 ; 677 )的成像特性。 ·.如申睛專利範圍第7 1項的微光刻裝置(6 〇 2 ),其中 ς · 了個比較裝置( 68 5 )會將波前檢測裝置(6〇1)發出的相 二,被檢測波蚰的信號(6 8 6 )舆一個相當於投影物鏡(6 Μ ) 合分ΐ特性的額定信號(6 8 7 )作一比較,且比較裝置(6 8 5 ) 二依據比較結果發出調整作用元件(679 ;681 ;683 )的信 號。 一種微光刻裝置(502 ;602 ),具有投影物鏡(5〇5 ; 及申請專利範圍第48至5〇項及第57至⑼項之任一項的 測裝置,其中為:衍射光栅(511 ;611)可以被放入 物鏡( 505 ;6 0 5 )的像面,也可以自投影物鏡(5〇5 ; 6〇5)的像面被移出。 75..如申請專利範圍第74項的微光刻裝置(6〇2),其中 二技衫物鏡(6 〇 5 )至少具有光學元件(6 了 3 ; 6 7 5 ; Θ 7 7 ), J至少有一個投影物鏡(6 0 5 )的光學元件(673 ;675 ;677 ) f R ^置作用兀件(6 7 9 ; 6 8 1 ; 6 8 3 ),經由波前檢測裝置 可以調整作用元件(679 ;681 ;6 8 3 ),並進而改變光 干凡件( 6 73 ; 675 ; 6 77 )的成像特性。 ?6,如申請專利範圍第74項的微光刻裝置(6〇2),豆中 2 : 一個比較裝置(685 )會將波前檢測裝置(6〇1)發出的相 :於被檢測波前的信號(6 8 6 )與一個相當於投影物鏡(6 〇 5 ) 成像特性的額定信號(6 8 7 )作一比較,且比較裝置(6 8 5 )第41頁 2002.11.07.016 550377 案號89127779 年月日 修正第42頁 2002.11.07.017
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