JPH04106449A

JPH04106449A - レンズの歪曲測定装置

Info

Publication number: JPH04106449A
Application number: JP22494290A
Authority: JP
Inventors: Ichiji Ohashi; 大橋　一司; Toshiaki Okamura; 俊朗岡村
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1990-08-27
Filing date: 1990-08-27
Publication date: 1992-04-08

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〔産業上の利用分野〕本発明は、投影検査器や投影露光装置等に用いられる歪
曲収差の良く補正されていなければならないレンズの歪
曲測定装置に関する。

〔従来の技術〕

パターンの形状２寸法の測定に用いられる投影検査器や
、半導体製造に用いられる投影露光装置では、その結像
レンズの歪曲収差は良く補正されていなければならない
。特に投影露光装置に用いられるレンズでは近年の集積
回路の一層の高密度化に対応するために、設計上は殆ど
極限まで歪曲収差が補正されていなければならない。し
かしながら、製作上の僅かな誤差により幾らかの歪曲か
残ってしまい実使用上の問題となるので、レンズ製作時
にはこの僅かな歪曲を高精度に測定する必要がある。

従来、これを測定する方法の一つとして、例えばｒＤｏ
ｒ　ＭａｃＭｉｌｌｅｒ、　Ｗ、Ｄ、Ｒｙｄｅｒ　Ｐｒ
ｏｃｅｅｄｉｎｇｓ　ｏｆＳＰＩＥ　ｖａｔ、　３３４
　（１９８２）　ＰＰ７８〜８９Ｊに示される様に、バ
ーニアパターンの焼き付けを用いる方法があった。即ち
、これは投影レンズの物体面たるレチクル上に一つの主
尺パターンと複数の副尺パターンを格子状に配置し、先
ずこれ全体を照明して被露光物体であるレジストを塗布
したウェハーを露光した後、レチクルの副尺パターンを
覆い、主尺パターンのみを照明し、精密ＸＹステージで
前記ウェハーを所定間隔ずつ移動させつつ先に露光され
た副尺パターンと重ね焼きし、現像処理後、主、副両尺
のパターンからずれ量を顕微鏡を用いて目視で読みとり
、計算処理を経て歪曲を導き出すというものである。

他の方法として、レチクル上にあるパターンを規則的に
例えば格子状に配置し、これをレジストを塗布したウェ
ハー上に露光し、現像処理後、高精度な座標測定機で座
標測定する方法がある。そこでは、理想座標と測定座標
の差がその点に於けるずれ量となり、計算処理を経て歪
曲が導かれる。

〔発明が解決しようとする課題〕

上述した第一の方法では、重ね合わせた主尺。

副尺のずれ量の測定を目視によっているため作業能率が
悪く、時間がかかり、個人差もあるという問題があった
。また、測定分解能も０．０５μｍが限界で、近年の高
性能レンズの歪曲測定には不足である。更に、−度しシ
ストに露光し現像するというプロセスを経なければなら
ないので、時間と費用がかかるだけでなく、該プロセス
の間のレジストの伸縮等のために測定データがプロセス
に依存し、それが測定誤差の原因になっていた。

又、第２の方法では、読み取りを目視によっていないの
で、第１の方法に比べ高精度であるが、やはり第一の方
法と同様に一度しシストに露光し現像するというプロセ
スを経なければならないので、時間と費用がかかり、測
定誤差も大きいという問題があった。

本発明は、上記問題点に鑑みなされたもので、その目的
とするところは、目視や一度しシストに露光し現像する
というプロセスに依存することなく、高速且つ高精度に
レンズの歪曲を測定し得るレンズの歪曲測定装置を提供
することである。

〔課題を解決するための手段及び作用〕本発明によるレ
ンズの歪曲測定装置は、測定対象である投影レンズと、複数の規則的に配列されたパターンを有し該投影レンズ
の物体面に配置された第一の指標板と、該第１の指標板
に対応する規則的に配列されたパターンを有し前記投影
レンズの像面あるいはその近傍に配置された第２の指標
板と、前記投影レンズにより前記第２の指標板上に形成された
前記第１の指標板の像および前記第２の指標板を所定の
位置に結像させるリレーレンズと、該リレーレンズによ
る結像位置に配置された撮像装置と、該撮像装置からの出力信号を受けて該撮像装置の撮像面
上に形成された前記第１の指標板のパターンと第２の指
標板のパターンとのずれを検出する検出手段と、を備えて成るものである。

従って、上記構成によれば、上記第２の指標板に描画さ
れたパターンか基準となり、それに対して、上記投影レ
ンズの歪曲を原因とする像位置のずれを伴って上記第１
の指標板のパターンか結像されて重なる。この重なり具
合い、換言するとずれが、上記投影レンズの像面内の各
点に対し、リレーレンズを介し撮像装置と検出手段で光
電的に検出されるので、−度しシストに露光し現像する
というプロセスを経ることなく、高速、高精度にレンズ
の歪曲を測定することが可能となる。

又、本発明のよるレンズの歪曲測定装置は、上記構成に
加えて、前記各パターンは、幅の等しい長方形を複数個一列に並
べた形状を有する単位パターンが前記第１の指標板およ
び第２の指標板の一方には１列他方には２列夫々存在し
、それらの一方の列が他方の列を挟んで大略平行となる
ような位置関係に構成されており、前記第２の指標板の隣り合う長方形の幅および間隔が前
記第１の指標板の隣り合う長方形の幅および間隔と相似
である。

従って、この構成によれば、単位パターンが幅の等しい
長方形を複数個一列に並べた形状を有しているので、こ
れらの長方形の対応する走査方向での位置の平均をとる
ことにより単位パターンの対応する走査方向での位置を
高精度で検出することができる。更に、第１及び第２の
指標板のいずれか一方の単位パターンを２列にしている
ので、両者の平均をとることにより長方形の並び方向と
走査方向との角度誤差を原因とする走査方向の位置の誤
差を打ち消すことができ、より高精度の検出が可能であ
る。

〔実施例〕

以下、図示した実施例に基づき本発明の詳細な説明する
。

第１図は本発明によるレンズの歪曲測定装置の全体概略
図である。■は測定対象たる投影レンズであり、その物
体面に後で記述する第２，３図に示すようなパターンと
その配置を有する第１のガラス基板２が（第１の指標板
）が置かれている。

第１のガラス基板２は、例えば水銀ランプ或はし−ザー
の如き光源を含む照明装置３により照明されようになっ
ている。図示はしないが、照明装置３は、光源が水銀ラ
ンプの場合であれば特定のスペクトルを取り出す波長フ
ィルターを、レーザーの場合であればスペックル除去装
置又はインチグレーターの如き照明均等化装置を含むと
共に、投影レンズ１から見た照明の入射側ＮＡ（開口数
）と主光線を決定する開口絞りを含んでいる。又、照明
方式としては所謂ケーラー照明となっている。

照明された第１のガラス基板２のパターンは、例えば０
．２倍、０．１倍といった所定の倍率で投影レンズ１に
より結像されるが、この結像面若しくはその極近傍には
、後で詳述する第４，５図に示す様なパターンとその配
置を有する第２のガラス基板４（第２の指標板）のパタ
ーン面が置かれている。即ち、ここで第１のガラス基板
２のパターン（像）と第２のガラス基板４のパターンが
重なる訳であるが、この状況を下記に詳しく説明する。

第２図は第１のガラズ基板２に於けるパターン配置の一
例を示している。第２図において丸印で示され格子状に
配置された各点は、その詳細が第３図に示された物体側
パターン５であり、各測定点に対応している。同様に、
第４，５図は夫々第２のガラス基板４のパターン配置の
一例とパターンの詳細を示している。ここで、６は像面
側パターンである。そして、物体側パターン５と像面側
パターン６は測定点として対応しており、投影レンズ１
の設定倍率をｍしたとき、物体側パターン５．５の間隔
ａ（第２図）と像面側パターン６゜６の間隔ｂ（第４図
）との関係は、ｂ＝ｍａ　（符号は考えない）となって
いる。即ち、両パターン５．６は第２のガラス基板４の
パターン面において一致するようになっている。

第３図は物体側パターン５の各測定点に於ける詳細図で
あって、複数個の不透明長方形が間隔ｄでＸ方向、Ｙ方
向に各々並び、物体側Ｘ方向パターン２３（単位パター
ン）、物体側Ｙ方向パターン２４（単位パターン）を夫
々形成している。

方、第５図は像面側パターン６の詳細図であって、物体
側と相似の不透明長方形か複数個間隔ｅてＸ方向、Ｙ方
向に各々並び、像面側Ｘ方向パターン２５（単位パター
ン）、像面側Ｙ方向パターン２６（単位パターン）を夫
々２行ずつ形成している。

但し、−行についての不透明長方形の数は物体側と同じ
である。また、投影レンズｌの設定倍率をｍとしたとき
、ｅ＝ｍｄ　（符号は考えない）となる様にｅ、ｄが設
定されている。

尚、ガラス基板２，４は所定の厚さを持ち、それらのパ
ターン面はそれらの表裏面のいずれかにあるが、両パタ
ーン面共投影レンズ１側に向けられている。

再び第１図において、第２のガラス基板４のパターン面
で重なった物体側パターン５と像面側パターン６は、所
定の倍率とＮＡを有するリレーレンズ７により反射ミラ
ー８を経て撮像装置９の撮像面上に結像されるようにな
っている。尚、反射ミラー８は本実施例の機械的構成上
の高さを抑えるために設けられており、原理的には必須
ではない。リレーレンズ７、反射ミラー８．撮像装置９
は支持枠９′に一体的に保持されつつＸステージ１０上
に記載されている。また、撮像装置９は、回転用モータ
ー１１の回転軸に結合されていて、撮像面内回転ができ
る様になっている。又、撮像装置９の出力は、画像入力
装置３０を介してコンピュータ１７（検出手段）に入力
されるようになっている。更に、Ｘステージ１０は、Ｘ
ステージ１２上に載置され、Ｘステージ１２はＹステー
ジ１３上に載置されており、これによってリレー光学系
の水平移動を可能としている。又、これらＸ。

Ｙ、Ｘステージ１２，１３．１０及び撮像装置９はコン
ピュータ１７からの指令に基づき、コントロールボード
１８．各ドライバー１９．２０，２１．２２を介して各
々Ｘ方向用モーター１４．Ｙ方向用モーター１５．Ｚ方
向用モーター１６．回転用モーター１１により駆動され
るようになっている。　本実施例は上述の如（構成され
ているから、照明装置３により第１のガラス基板２が照
明されると、その物体側パターン５が投影レンズ１によ
り第２のガラス基板４のパターン面に結像せしめられ、
ここで両ガラス基板２，４の物体側パターン５と像面側
パターン６が重ね合わせられる。

続いて、重なったパターン５，６かリレーレンズ７によ
り反射ミラー８を介して撮像装置９の撮像面上に結像せ
しめられる。そして、撮像装置９から出力信号が画像入
力装置３０を介してコンピュータ１７に入力せしめられ
、コンピュータ１７は撮像装置９の撮像面上に形成され
た両パターン５゜６のずれを検出する。従って、本実施
例によれば、両パターン５，６のずれが撮像装置とコン
ピュータ１７で光電的に検出されるので、目視や一度し
シストに露光し現像するというプロセスを経ることなく
、高速、高精度にレンズの歪曲を測定することが可能と
なる。

又、本実施例では、リレーレンズ７と反射ミラー８と撮
像装置９が一体にＸステージ１２．Ｙステージ１３上に
載置されているので、各々の重なった物体側パターン５
と像面側パターン６の位置即ち各測定点位置にリレーレ
ンズ７を持っていくことができる。しかも、パターン配
置は既知であるから、第４図に場合でいうと、距離す毎
にＸステージ１２若しくはＹステージ１３をコンピュー
タプログラムにより自動的に移動させることかでき、−
々測定点を探す必要がない。

ところで、第２のガラス基板４とＸステージ１２、Ｙス
テージ１３による移動平面を完全に平行にすることは困
難であるため、Ｘ、Ｙステージ１２．１３を移動したと
き全測定点でリレー光学系の合焦が得られるとは限らな
い。しかし、実施例では、Ｚステージ１０によりリレー
光学系を上下させることにより、各点で合焦をとること
ができる。これも、既知の自動合焦技術を用いることに
より自動的に行なうことが可能である。

次に、撮像装置９の撮像面に結像された重なりパターン
からずれ量を読み込む方法について第６図、第７図、第
８図を基に説明する。

第６図は、Ｘ方向若しくはＹ方向について物体側パター
ン２３または２４が像面側パターン２５または２６と、
あるずれ量で重なり撮像面上に結像された様子を例えば
Ｘ方向についてだけ示している。ここでは、上側の像面
側パターン２５と下側の像面側パターン２５の２行の間
に、物体側パターン２３か挾まれた形になっている。

第６図の重なりパターンは、撮像装置９により光電変換
され、映像信号として第１図に示す画像入力装置３０に
入り、ｉｘｊ　　（ｉ、ｊ　　自然数）の画素として記
憶される。コンピュータ１７は、組まれたプログラムに
従い、画像入力装置３０から必要な情報を取り組み、処
理する。

通常、撮像装置９による光電変換では、時系列の電気信
号に変換されるので、走査が必要である。

第６図に示す止定査線３１中、走査線３２．下走査線３
３は、各々上側の像面側パターン２５．物体側パターン
２３．下側の像面側パターン２５に対応する。画像入力
装置３０には、これらの走査線３１，３２．３３以外に
も所定の画面全体にわたる走査線について画像情報が記
憶されるが、必要なのは走査線３１，３２．３３に対応
する画像情報なので、コンピュータ１７もその部分だけ
をアクセスする。走査線３１．３２’、３３の各々の全
体画面に於ける位置は決められているので、これらが各
々対応するパターン２５．２３．２５に重なる様に所定
の精度でＸステージ１２．Ｙステージ１３を制御する必
要がある。但し、これらのパターンの構成要素は、走査
方向と略直角方向に長辺方向となる長方形であるから、
ある程度の許容範囲があり、厳しい精度は必要としない
。パターン認識の手法により、自動的にパターン２５゜
２３．２５に重なる走査線を設定することも十分可能で
あるが、コンピュータ１７のハードウェア。

ソフトウェアに大がかりなものを要する。本実施例では
、その特徴の一つとして、パターン２５゜２３．２５の
各々に対応する上記走査に於いて、複数本の走査として
いる。即ち、走査線３１，３２．３３は、各々複数本よ
り成っている。これは、第１のガラス基板２や第２のガ
ラス基板４にわずかであっても塵埃が付いていた場合に
測定誤差の原因となる可能性があるので、走査を複数本
とすることにより得られるデータの数を増やし、それら
の平均を取ることによって塵埃による影響を低減させて
いるのである。実際には、走査線３１゜３２．３３に於
いて少くとも１０本の走査線とすることが望ましい。

ずれ量を測定するには何らかの測長手段が必要となるが
、本発明に於いては、走査方向３４の画素数が測長の基
になっている。１画素か幾らの長さに相当するかは、第
５図に於けるｅの値、リレーレンズ７の倍率、撮像装置
９の撮像面の大きさ。

画像入力装置３０に於ける画素数（ｉＸＤにより算出で
きるが、実際にはパターンを撮像装置９を経て画像入力
装置３０に取り込み、既知であるｅの値を基に、実験的
に走査方向の１画素分相当の第２のガラス基板４上に於
ける距離を求めることもできる。従って、ずれ量は走査
方向３４の画素数の差として求められる。

ここで一つ問題となるのが、第１のガラス基板２、第２
のガラス基板４に於けるパターンの配置精度である。通
常この種のパターンは、高精度な測長手段により位置制
御されたステージに基板を載置し、電子ビームで描画す
ることにより形成されるか、配置精度としては０，０２
〜０．０５μｍ程度である。これはそのまま測定誤差と
して効いてくる。ところが、測定対象たる投影レンズ１
の歪曲量は０．１μｍ程度がそれ以下であるので、この
誤差は大き過ぎ、何らかの対策が必要である。従って、
本実施例では上述の様に不透明長方形をパターン２５，
２３．２５各々について複数個配列し、これらに対応す
る走査方向での画素位置の平均を取り、それを以ってパ
ターン２５．２３．２５各々についての走査方向位置と
している。第７図は、得られた画像検出信号の様子を示
している。

第１のガラス基板２や第２のガラス基板４に於いてパタ
ーンは明と暗の２値を有しているが、投影レンズｌやリ
レーレンズ７や電気処理系を含む撮像装置９を経てデー
タ処理されるまでの間に、パターンのエツジ部即ち高周
波数部分が光学的、電気的に濾過され、検出信号は正弦
波に近い波形となる。ここで、検出信号３５，３６．３
７は各々走査線３１，３２．３３に対する平均された信
号である。各不透明長方形の位置は、検出信号３５゜３
６．３７の極小値ＳＡ、、ＳＡ、、、、、、ＳＡ、、　
　ＳＢ、、　　ＳＢ、、、、、　　ＳＢ、、　　５Ｃ３
Ｃ２、、、、ＳＣ，（ｎ　＋自然数）の位置として決定
され、これより検出信号３５＋　　３６．３７に関する
平均位置が算出される。ｎの数は多い程良いがｌＯ〜１
００が実際的である。

本実施例の更なる特徴の一つは、各測定点に於ける像面
側パターン２５と２６に関し、夫々２行を所定の間隔、
例えば第６図に於いては２ｇを置いて並列に並べたこと
である。これは、第６図に示される様に、各パターン２
５．２３．２５の並び方向と走査方向３４にθだけの角
度誤差があった場合、例えば像面側パターンとして上下
の像面側パターン２５．２５のどちらかしかなくこれと
物体側パターン２３とだけでずれ量を測定しようとする
と大きな測定誤差を生じるからである。即ち、走査線３
１の中央と走査線３２．３３の中央の間の距離を第６図
に示した如（各々ｇとした時、ε＝ｇθ（θ＜１．　　
θニラジアン）だけの誤差が生じてしまうのである。こ
れは所謂アツベ誤差に相当する。例えば現実的な値とし
て、ｇ＝５０μｍ、θ＝０．１’　＝０．０１８ラジア
ンとしたとき、ε＝＝、　０．０９μｍとなり、投影レ
ンズ１の歪曲測定にとって極めて大きな誤差となる。従
って、本実施例では像面側パターン２５を２行を設け、
両者の平均を取って像面側パターンの位置とし、物体側
パターン２３とのずれを求めるこにより誤差εを打ち消
している。当然の事として、逆に像面側パターン２５を
１行とし、物体側パターン２３を２行としてもよい。

本実施例の更なる特徴は、撮像装置９が、上述の様に回
転用モーター１１により回転可能となっていることであ
る。一般に、２次元撮像装置ではラスター走査により画
像情報が時系列信号に変換されるが、この際走査方向に
対して平行方向と垂直方向即ち横方向と縦方向で分解能
が異なることが多い。従って、本実施例では、Ｘ方向、
Ｘ方向共に同じ分解能で測定できるようにすることを一
つの理由として、撮像装置９を撮像面の法線のまわりに
９０°回転できるようにしている。また、別の理由とし
ては、画像入力装置３０からデータをコンピュータ１７
が読み出す際、同じプログラムでよいので、ソフトウェ
アへの負担が軽減されることがある。更に、撮像装置９
の撮像面にはＸ方向若しくはＸ方向のどちらかの重なり
パターンだけが結像されれば良いので、リレーレンズ７
の倍率を上げることにより測定精度を上げられるのも本
実施例の大きな利点の一つである。

第８図は上述したずれ量読込み方法を示すフローチャー
トである。

かくして、各測定点に於けるＸ方向及びＸ方向のずれ量
が測定され、コンピュータ１７に記憶され条。測定され
たずれ量は、第一のガラス基板２゜投影レンズｌ、第２
のガラス基板４の設置誤差を含んでいるので、それ以後
は統計的手法により投影レンズ１の歪曲を算出するので
あるが、これもコンピュータ１７で行なうことは容易で
ある。その計算方法については、文献例えばｒＤｏｒＭ
ａｃＭｉｌｌｅｒ、　Ｗ、Ｄ、Ｒｙｄｅｒ　Ｐｒｏｃｅ
ｅｄｉｎｇｓ　ｏｆ　５ＰＩＥ　ｖｏｌ。

３３４（１９８２）　ｐｐ　７８〜８９」等に記述があ
るので、ここでは省略する。尚、本発明装置により測定
できる歪曲誤差はｌ／１０００％のレベルである。

〔発明の効果〕

上述の如く、本発明によるレンズの歪曲測定装置は目視
や一度しシストに露光し現象するというプロセスを経る
ことなく、高速、高精度にレンズの歪曲を測定すること
が可能であるという実用上重要な利点を有している。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明によるレンズの歪曲測定装置の一実施例
の全体概略図、第２図及び第３図は夫々上記実施例の第
１のガラス基板とその単位パターチ　　　　　　　タンを示す図、第１図及び第１図は夫々上記実施例の第２
のガラス基板とその単位パターンを示す図、第６図は上
記実施例の撮像装置の撮像面における一方向についての
物体側パターンと像面側パターンとの重なりの様子を示
す図、第７図は第６図に示された単位パターンの撮像装
置による検出信号を示す図、第８図は上記実施例による
ずれ量読込み方法を示すフローチャートである。ｌ・・・投影レンズ、２・・・第一のカラス基板、３照
明装置、４・・・第２のガラス基板、５・・・物体側ノ
くターン、６・・・像面側パターン、７・・・リレーレ
ンズ、８・・・反射ミラー　９・・撮像装置、９′・・
・支持枠、ＩＯ・・・Ｚステージ、１１・・・回転用モ
ータ、１２・・・Ｘステージ、１３・・・Ｙステージ、
１４・・・Ｘ方向用モータ、１５・Ｘ方向用モータ、１
６・・・Ｚ方向用モータ、１７・・・コンピュータ、１
８・・・コントロールボード、１９，２０，２１．２２
・・・ドライノく−２３・・・物体側Ｘ方向パターン、
２４・・・物体側Ｙ方向パターン、２５・・・像面側Ｘ
方向、＜ターン、２６・・・像面側Ｙ方向パターン、３
０・・・画像入力装置、３１．３２．３３・・・走査線
、３５，３６．３７・・・検出信号。図ＪＰ５図

Claims

【特許請求の範囲】

（１）測定対象である投影レンズと、複数の規則的に配列されたパターンを有し該投影レンズ
の物体面に配置された第１の指標板と、該第１の指標板
に対応する規則的に配列されたパターンを有し前記投影
レンズの像面あるいはその近傍に配置された第２の指標
板と、前記投影レンズにより前記第２の指標板上に形成された
前記第１の指標板の像および前記第２の指標板を所定の
位置に結像させるリレーレンズと、該リレーレンズによ
る結像位置に配置された撮像装置と、該撮像装置からの出力信号を受けて該撮像装置の撮像面
上に形成された前記第１の指標板のパターンと第２の指
標板のパターンとのずれを検出する検出手段と、を備えたレンズの歪曲測定装置。
（２）前記各パターンは、幅の等しい長方形を複数個一
列に並べた形状を有する単位パターンが前記第１の指標
板および第２の指標板の一方には１列他方には２列夫々
存在し、それらの一方の列が他方の列を挾んで大略平行
となるような位置関係に構成されており、前記第２の指標板の隣り合う長方形の幅および間隔が前
記第１の指標板の隣り合う長方形の幅および間隔と相似
であること、を特徴とする請求項（１）に記載のレンズの歪曲測定装
置。
（３）前記検出手段は前記撮像装置により得られた画像
信号を１×ｎ（１、ｎは自然数）の画素行列として記憶
する画像入力装置を備え、前記撮像装置の撮影面の行方向もしくは列方向の１画素
長に対応する前記第２の指標板上での長さを測長単位と
して前記パターンのずれの検出が行なわれること、を特徴とする請求項（１）に記載のレンズの歪曲測定装
置。
（４）前記検出手段は前記画像入力装置と接続されたコ
ンピュータを備え、前記各長方形が前記撮像装置の撮像面の複数の走査線に
亘る長さを有しており、該各走査線に応じて前記像入力装置に記憶されている１
つの単位パターンを表わす複数の画像信号を平均化する
ことにより各単位パターンの明暗変化を表わす検出信号
を求め、前記コンピュータにおいて該検出信号について前記各単
位パターンの長方形に対応する各極小若しくは各極大の
前記画素行方向若しくは画素列方向に於ける位置をとり
該位置の平均操作を行って、各単位パターンに対する該
方向の位置とし、前記コンピュータにおいて３つのある
前記単位パターンのうち両端２つの単位パターンに対す
る該方向の位置の平均をとり、その平均に対し中央の単
位パターンに対する該方向の位置の差をとって該当する
測定点のＸ方向若しくはＹ方向の前記撮像装置の撮像上
面に於けるずれ量とすること、を特徴とする請求項（３
）に記載のレンズの歪曲測定装置。