CN109141825B - 亚波长光学成像器件焦距测量装置及其测量方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种亚波长光学成像器件焦距测量装置及其测量方法，装置包括激光器、扩束准直系统、亚波长光学成像器件及纳米台阶高度标准样块；纳米台阶高度标准样块与一个带动其在垂直方向上下移动的动力装置连接，动力装置与计算机控制系统连接；纳米台阶高度标准样块表面涂设有光刻胶，且纳米台阶高度标准样块由若干在同一竖直面上等间距排布的台阶组成；其中一个台阶为中间台阶，其与亚波长光学成像器件之间的间距为亚波长光学成像器件的焦距设计值；所有台阶中，自中间台阶向上，台阶高度逐渐增加，对应的焦距值减小，自中间台阶向下，台阶高度逐渐降低，对应的焦距值增加；激光器的波长等于亚波长光学成像器件设计时的入射光源波长。

Description

亚波长光学成像器件焦距测量装置及其测量方法
技术领域
本发明涉及光学技术领域，具体涉及一种亚波长光学成像器件焦距测量装置及其测量方法。
背景技术
2001年，德国L.Kipp教授在Nature期刊上发表文章，首次提出“photon sieves”的概念，后被译成“光子筛”，它是用随机分布在透光环带上的小孔代替菲涅尔结构透光环带而形成的一种新型衍射光学成像器件。经过结构优化后，随机分布的小孔能有效抑制次级和高级衍射，从而提高成像对比度和分辨力，甚至可以打破传统衍射成像理论极限，实现超分辨力成像。
随着纳米成像技术的不断发展，人们对光学成像器件的分辨力提出了更高的要求，甚至已达到亚波长量级。但是，根据光学成像器件的设计理论和结构特点可知，分辨力的提高是以牺牲焦距和焦深作为代价的，即亚波长光学成像器件的焦距很小，焦深很短，测量难度高。如不能对焦距进行精确测量，则不能对亚波长光学成像器件的光学性能进行精确量化，从而无法检验设计理论是否正确，制作工艺是否合理。
然而，现有的焦距测量方法要么实验系统复杂、检测成本高，要么检测精度达不到要求，已不再适用于因进一步追求高分辨力造成的亚波长光学成像器件焦距越来越小的实际情况。因此，对亚波长光学成像器件的焦距进行精确测量日益成为业界急需解决的关键技术难题。
发明内容
针对现有技术中的上述不足，本发明提供的亚波长光学成像器件焦距测量装置及其测量方法通过精确设计的纳米台阶高度标准样块解决了焦距短、测量难的技术难题。
为了达到上述发明目的，本发明采用的技术方案为：
第一方面，提供一种亚波长光学成像器件焦距测量装置，其特征在于，包括激光器、用于将激光器发出的光变换成均匀、准直的平行光的扩束准直系统，用于将平行光聚焦在焦平面形成光斑的亚波长光学成像器件及放置在焦平面上的纳米台阶高度标准样块；所述纳米台阶高度标准样块与一个带动其在垂直方向上下移动的动力装置连接，所述动力装置与计算机控制系统连接；
所述纳米台阶高度标准样块表面涂设有光刻胶，且纳米台阶高度标准样块由若干在同一竖直面上等间距排布的台阶组成；其中一个台阶为中间台阶，其与亚波长光学成像器件之间的间距为亚波长光学成像器件的焦距设计值；所有台阶中，自中间台阶向上，台阶高度逐渐增加，对应的焦距值减小，自中间台阶向下，台阶高度逐渐降低，对应的焦距值增加；所述激光器的波长等于亚波长光学成像器件设计时的入射光源波长。
进一步地，所述亚波长光学成像器件为亚波长光子筛或微/纳光学透镜。
进一步地，相邻台阶之间的高度差不相等，其为越邻近中间台阶，相邻台阶之间的高度差越小；离中间台阶越远，相邻台阶之间的高度差越大。
进一步地，相邻台阶之间的高度差均相等。
进一步地，所述动力装置为步进电机。
进一步地，所述相邻两个台阶之间的间距范围为50μm-100μm。
第二方面，提供一种亚波长光学成像器件焦距测量装置测量焦距的方法，当亚波长光学成像器件的焦距实际值与焦距设计值f0之间存在误差±ΔxN时，方法包括：
1)调整亚波长光学成像器件，直至其聚焦对准纳米台阶高度标准样块的中间台阶，此时对应的焦距数值为f0；
2)采用计算机控制系统控制动力装置带动纳米台阶高度标准样块向上移动一个设定距离，使亚波长光学成像器件聚焦对准正向上一个台阶，完成正向一次光斑的曝光过程；
其中，设定距离等于相邻两个台阶之间的间距；
3)返回执行步骤2)，直至正向移动到第N个台阶，完成正向第N次光斑的曝光过程，每次移动设定距离后对应的焦距为f0-Δxn，1≤n≤N；
4)采用计算机控制系统反向移动动力装置，直至光学成像器件聚焦对准纳米台阶高度标准样块的中间台阶；
5)采用计算机控制系统控制动力装置带动纳米台阶高度标准样块向下移动一个设定距离，使亚波长光学成像器件聚焦对准反向下一个台阶，完成反向一次光斑的曝光过程；
6)返回执行步骤5)，直至反向移动到第N个台阶，完成反向第N次光斑的曝光过程，每次移动设定距离后对应的焦距为f0+Δxn；
7)用显影液对曝光后的纳米台阶高度标准样块进行显影，得到亚波长光学成像器件聚焦后的一系列大小不等的光斑；
8)采用原子力显微镜观察并测量每个光斑的尺寸，当某一台阶上光斑取得最小值时，则该台阶对应的焦距数值为亚波长光学成像器件的实测焦距。
进一步地，当相邻台阶之间的高度差均相等时，ΔxN-ΔxN-1＝ΔxN-1-ΔxN-2＝…＝Δx2-Δx1，且记Δxi-Δxi-1＝C，1<i≤N；其中，C为一个恒定的数值；
当相邻台阶之间的高度差均不相等时，ΔxN-ΔxN-1≠ΔxN-1-ΔxN-2≠…≠Δx2-Δx1，且记Δxi-Δxi-1＝Bi，1<i≤N，其中，Bi为一个变量，当i越小时，表明邻近中间台阶，Bi数值越小，当i越大时，表明远离中间台阶，Bi数值越大。
本发明的有益效果为：本方案引入了纳米台阶高度标准样块，通过精确设计和制作不同高度的台阶，以对应不同的焦距值，从而实现焦距的精确测量。该方案只需移动Y方向，而Y方向是控制不同曝光光斑之间的间隙，精度要求不高。因此，该方案既能提高测量精度，又能降低测量装置复杂度。
本方案引入纳米台阶高度标准样块后，可以根据实际需求改变各个台阶的高度和相邻台阶之间的高度差，自由灵活；相比于现有测量装置，本方案无需精密的压电陶瓷(精度高、易损坏、价格贵)控制X方向(焦距方向)的移动，因而大幅度降低了系统的测量成本。
本方案的测量装置未使用CCD，故测量精度不受CCD像素间距的影响；同时也未采用光学放大环节，故不会引入放大环节的误差。
附图说明
图1为光学成像器件焦距测量装置的原理框图。
图2为纳米台阶高度标准样块的各个台阶上标注有对应焦距的示意图。
其中，1-1、激光器；1-2、扩束准直系统；1-3、亚波长光学成像器件；1-4、纳米台阶高度标准样块；1-5、动力装置；1-6、计算机控制系统。
具体实施方式
下面对本发明的具体实施方式进行描述，以便于本技术领域的技术人员理解本发明，但应该清楚，本发明不限于具体实施方式的范围，对本技术领域的普通技术人员来讲，只要各种变化在所附的权利要求限定和确定的本发明的精神和范围内，这些变化是显而易见的，一切利用本发明构思的发明创造均在保护之列。
如图1所示，光学成像器件焦距测量装置包括激光器1-1、扩束准直系统1-2、亚波长光学成像器件1-3、纳米台阶高度标准样块1-4、动力装置1-5、计算机控制系统1-6等。其中的亚波长光学成像器件1-3采用亚波长光子筛或微/纳光学透镜，动力装置1-5采用步进电机，纳米台阶高度标准样块1-4表面涂设有光刻胶。
激光器1-1发出的光经扩束准直系统1-2处理后成为均匀、准直的平行光，平行光经亚波长光学成像器件1-3聚焦后在焦面上形成细小的光斑，已涂好光刻胶的纳米台阶高度标准样块1-4放置在焦面处，纳米台阶高度标准样块1-4通过动力装置1-5实现上下移动，而动力装置1-5由计算机控制系统1-6控制。
如图2所示，纳米台阶高度标准样块1-4由若干在同一竖直面上等间距排布的台阶组成，不同台阶高度对应不同的焦距数值；其中一个台阶为中间台阶，中间台阶与亚波长光学成像器件1-3的距离为亚波长光学成像器件1-3的焦距设计值；所有台阶中，自中间台阶向上，台阶高度逐渐增加，对应的焦距值减小；自中间台阶向下，台阶高度逐渐降低，对应的焦距值增加；激光器1-1的波长等于亚波长光学成像器件1-3设计时的入射光源波长。
不同台阶高度对应不同的焦距数值，曝光后的纳米台阶高度标准样块1-4经过显影后即可得到一系列大小不等的光斑，每个光斑的具体尺寸可通过原子力显微镜进行观察，并用其自带软件进行测量，当某一个台阶光斑取得最小值时，该台阶对应的焦距数值即为亚波长光学成像器件的实测焦距。
由于亚波长光学成像器件1-3的制作工艺存在误差，焦距的实际值与设计值会存在一定误差；若焦距设计值为f0，误差为±ΔxN，则可以将纳米台阶高度标准样块设计成2N+1个台阶，每个台阶对应的焦距数值如图2所示。
关于ΔxN的取值，可根据实际需要进行取值，一般取设计焦距的±10％范围即可，例如设计焦距为150μm，取ΔxN为15μm，则起始点可选为135μm，终止点可选为165μm。
图2中，“0”对应亚波长光子筛的焦距设计值；从“0”往上，台阶高度增加，焦距数值变小；从“0”往下，台阶高度减少，焦距数值变大；每两个台阶垂直方向之间的间隔Δy为固定值，在制作纳米台阶高度标准样块1-4时可以自行设置。
关于相邻台阶间的间距Δy，其主要是用于将相邻的曝光光斑进行间隔，以便于利用原子力显微镜测量光斑的实际尺寸，Δy取值越大越好，但考虑到动力装置1-5的量程，本方案优选Δy的取值范围为50μm-100μm。
实施时，两个台阶之间的高度差横向方向为可以设置为固定值，即相邻台阶之间的高度差均相等，ΔxN-ΔxN-1＝ΔxN-1-ΔxN-2＝…＝Δx2-Δx1，且记Δxi-Δxi-1＝C，1<i≤N，其中，C为一个恒定的数值。这种方式的纳米台阶高度标准样块1-4在制作时，制作工序相对简单，且仍能保证焦距测量精度。
由于光子筛的焦深较短，如靠近焦面时把两个台阶之间的高度差的数值取大，就很可能错过最佳焦面。考虑到这种情况，也可以将两个台阶之间的高度值设置为不同的数值，ΔxN-ΔxN-1≠ΔxN-1-ΔxN-2≠…≠Δx2-Δx1，且记Δxi-Δxi-1＝Bi，1<i≤N，其中，Bi为一个变量，当i越小时，表明邻近中间台阶，Bi数值越小，当i越大时，表明远离中间台阶，Bi数值越大。
当亚波长光学成像器件1-3的焦距实际值与焦距设计值f0之间存在误差±ΔxN时，方法包括：
1)调整亚波长光学成像器件，直至其聚焦对准纳米台阶高度标准样块的中间台阶，此时对应的焦距数值为f0；
2)采用计算机控制系统控制动力装置带动纳米台阶高度标准样块向上移动一个设定距离，使亚波长光学成像器件聚焦对准正向上一个台阶，完成正向一次光斑的曝光过程；
其中，设定距离等于相邻两个台阶之间的间距；
3)返回执行步骤2)，直至正向移动到第N个台阶，完成正向第N次光斑的曝光过程，每次移动设定距离后对应的焦距为f0-Δxn，1≤n≤N；
4)采用计算机控制系统反向移动动力装置，直至光学成像器件聚焦对准纳米台阶高度标准样块的中间台阶；
5)采用计算机控制系统控制动力装置带动纳米台阶高度标准样块向下移动一个设定距离，使亚波长光学成像器件聚焦对准反向下一个台阶，完成反向一次光斑的曝光过程；
6)返回执行步骤5)，直至反向移动到第N个台阶，完成反向第N次光斑的曝光过程，每次移动设定距离后对应的焦距为f0+Δxn；
7)用显影液对曝光后的纳米台阶高度标准样块进行显影，得到亚波长光学成像器件聚焦后的一系列大小不等的光斑；
8)采用原子力显微镜观察并测量每个光斑的尺寸，当某一台阶上光斑取得最小值时，则该台阶对应的焦距数值为亚波长光学成像器件的实测焦距。
综上所述，本方案通过引入纳米台阶高度标准样块1-4对亚波长光子筛或微/纳光学透镜进行焦距检测，既可克服焦距短、不易检测的技术难题，又可真实模拟纳米光刻过程，为亚波长光子筛在纳米光刻系统中的实际应用奠定了良好的工艺基础，而纳米光刻系统可用于超大规模集成电路的制造。

Claims (2)

1.一种亚波长光学成像器件焦距测量装置测量焦距的方法，其特征在于，亚波长光学成像器件焦距测量装置测量包括激光器、用于将激光器发出的光变换成均匀、准直的平行光的扩束准直系统，用于将平行光聚焦在焦平面形成光斑的亚波长光学成像器件及放置在焦平面上的纳米台阶高度标准样块；所述纳米台阶高度标准样块与一个带动其在垂直方向上下移动的动力装置连接，所述动力装置与计算机控制系统连接；
所述纳米台阶高度标准样块表面涂设有光刻胶，且纳米台阶高度标准样块由若干在同一竖直面上等间距排布的台阶组成；其中一个台阶为中间台阶，其与亚波长光学成像器件之间的间距为亚波长光学成像器件的焦距设计值；所有台阶中，自中间台阶向上，台阶高度逐渐增加，对应的焦距值减小，自中间台阶向下，台阶高度逐渐降低，对应的焦距值增加；所述激光器的波长等于亚波长光学成像器件设计时的入射光源波长；
当亚波长光学成像器件的焦距实际值与焦距设计值f0之间存在误差±ΔxN时，方法包括：
1）调整亚波长光学成像器件，直至其聚焦对准纳米台阶高度标准样块的中间台阶，此时对应的焦距数值为f0；
2）采用计算机控制系统控制动力装置带动纳米台阶高度标准样块向上移动一个设定距离，使亚波长光学成像器件聚焦对准正向上一个台阶，完成正向一次光斑的曝光过程；
其中，设定距离等于相邻两个台阶之间的间距；
3）返回执行步骤2），直至正向移动到第N个台阶，完成正向第N次光斑的曝光过程，每次移动设定距离后对应的焦距为f0-Δxn，1≤n≤N；
4）采用计算机控制系统反向移动动力装置，直至光学成像器件聚焦对准纳米台阶高度标准样块的中间台阶；
5）采用计算机控制系统控制动力装置带动纳米台阶高度标准样块向下移动一个设定距离，使亚波长光学成像器件聚焦对准反向下一个台阶，完成反向一次光斑的曝光过程；
6）返回执行步骤5），直至反向移动到第N个台阶，完成反向第N次光斑的曝光过程，每次移动设定距离后对应的焦距为f0+Δxn；
7）用显影液对曝光后的纳米台阶高度标准样块进行显影，得到亚波长光学成像器件聚焦后的一系列大小不等的光斑；
8）采用原子力显微镜观察并测量每个光斑的尺寸，当某一台阶上光斑取得最小值时，则该台阶对应的焦距数值为亚波长光学成像器件的实测焦距。
2.根据权利要求1所述的测量焦距的方法，其特征在于，当相邻台阶之间的高度差均相等时，ΔxN-ΔxN-1=ΔxN-1-ΔxN-2=…=Δx2-Δx1，且记Δxi-Δxi-1=C，1<i≤N；其中，C为一个恒定的数值；
当相邻台阶之间的高度差均不相等时，ΔxN-ΔxN-1≠ΔxN-1-ΔxN-2≠…≠Δx2-Δx1，且记Δxi-Δxi-1=Bi，其中，Bi为一个变量，当i越小时，表明邻近中间台阶，Bi数值越小，当i越大时，表明远离中间台阶，Bi数值越大。
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US16/468,283 US11079304B2 (en) 2018-09-13 2018-10-18 Focal-length measuring apparatus for sub wavelength optical imaging device and measuring method thereof

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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109141825B (zh) 2018-09-13 2019-07-02 西华大学 亚波长光学成像器件焦距测量装置及其测量方法
CN114184355B (zh) * 2021-11-22 2023-12-22 河南中光学集团有限公司 一种昼夜用微光产品性能调校及检测装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CA1310205C (en) 1988-03-31 1992-11-17 Roger L. Barr Quantitative lense analysis technique
TW482705B (en) * 1999-05-28 2002-04-11 Electro Scient Ind Inc Beam shaping and projection imaging with solid state UV Gaussian beam to form blind vias
US6791060B2 (en) * 1999-05-28 2004-09-14 Electro Scientific Industries, Inc. Beam shaping and projection imaging with solid state UV gaussian beam to form vias
TW550377B (en) * 2000-02-23 2003-09-01 Zeiss Stiftung Apparatus for wave-front detection
US6493075B1 (en) 2000-11-13 2002-12-10 Umax Data Systems, Inc. Method to adjust the ranging of the modulation transfer function, MTF, of a sensing system
US6804269B2 (en) * 2001-06-19 2004-10-12 Hitachi Via Mechanics, Ltd. Laser beam delivery system with trepanning module
US7368744B2 (en) * 2006-02-17 2008-05-06 Asml Netherlands B.V. Photon sieve for optical systems in micro-lithography
CN100501316C (zh) * 2007-06-18 2009-06-17 厦门大学 非球面表面检测自动对焦方法及其装置
CN101140196B (zh) * 2007-09-11 2011-01-26 中国科学院上海光学精密机械研究所 透镜焦距的测量装置及其测量方法和光学质量评估方法
DE112011100983T5 (de) * 2010-03-24 2013-04-11 Securency International Pty Ltd. Sicherheitsdokument mit integrierter Sicherheitsvorrichtung und Herstellungsverfahren
EP2681601A4 (en) * 2011-03-03 2014-07-23 California Inst Of Techn PIXEL GUIDED BY LIGHT
CN102243137B (zh) * 2011-06-21 2013-04-10 中国科学院上海光学精密机械研究所 光束整形元件光学性能的检测装置和检测方法
DE102013016368A1 (de) * 2013-09-30 2015-04-02 Carl Zeiss Microscopy Gmbh Lichtmikroskop und Mikroskopieverfahren zum Untersuchen einer mikroskopischen Probe
CN104034517B (zh) * 2014-07-04 2016-07-06 西华大学 一种亚波长光子筛聚焦性能检测方法
CN205091114U (zh) * 2015-08-28 2016-03-16 深圳超多维光电子有限公司 透镜器件的焦距测量装置
WO2019000048A1 (en) * 2017-06-30 2019-01-03 Ccl Secure Pty Ltd METHOD FOR PRODUCING MICRO-IMAGE ELEMENTS ON A SUBSTRATE
CN207280728U (zh) * 2017-10-13 2018-04-27 中国科学院上海技术物理研究所 一种标定平行光管焦面位置的装置
CN109141825B (zh) 2018-09-13 2019-07-02 西华大学 亚波长光学成像器件焦距测量装置及其测量方法

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Publication number Publication date
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US11079304B2 (en) 2021-08-03
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US20210055182A1 (en) 2021-02-25

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