JP4154375B2 - スペックル低減方法およびeuv干渉法のためのシステム - Google Patents
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Description
101 入射ひとみ
102 レチクル
103 ソースモジュール
104 投影光学系
105 ウエハ
106 センサモジュール
Claims (16)
- 波面測定システムにおいて、
電磁放射源と、
電磁放射を対象平面に集束させるイメージングシステムと、
無作為な高さを有し且つ互いに並列な複数の線群を含み対象平面内に配置されている第1のグレーティングと、
前記第1のグレーティングを前記線群に並行にのみ移動させるステージであって、当該ステージは、レチクル及び前記第1のグレーティングが配置されたレチクルステージであり、波面測定の際に当該レチクルではなく前記第1のグレーティングを光路内に位置付けるように前記線群に並行にのみ移動させるステージと、
イメージ平面上に第1のグレーティングのイメージを投影させる投影光学系と、
イメージ平面の第2のグレーティングと、
前記第2のグレーティングにより生じた干渉縞パターンを受取る検出器とが含まれていることを特徴とする波面測定システム。 - 前記電磁放射は、13nm〜15nmである、請求項1記載の波面測定システム。
- 前記電磁放射源は、超紫外線放射源(EUV)である、請求項1記載の波面測定システム。
- さらにウエハステージが含まれており、該ウエハステージ上に第2のグレーティングが設けられている、請求項1記載の波面測定システム。
- 前記ステージは、検出器における空間的干渉性を大幅に消去させるために十分な距離でもってグレーチングを移動させる、請求項1記載の波面測定システム。
- 前記検出器は、前記投影光学系のひとみと光学的に共役している、請求項1記載の波面測定システム。
- 前記第1のグレーティングは反射性グレーティングである、請求項1記載の波面測定システム。
- 波面測定システムにおいて、
電磁放射源と、
電磁放射を対象平面に集束させるイメージングシステムと、
レチクルが配置されたレチクルステージ上に配置された第1のグレーティングと、;前記レチクルステージはイメージ平面に回折パターンを生成し、前記第1のグレーティングは互いに並列な複数の反射線群を有し、前記第1のグレーティングは該反射線群に対して並行にのみ移動可能であり、前記レチクルステージは波面測定の際に前記レチクルではなく前記第1のグレーティングを光路内に位置付けるように前記反射線群に対して並行にのみ移動させるものであり、
イメージ平面上に前記第1のグレーティングのイメージを投影させる投影光学系と、
前記第1のグレーティングの回折イメージを受取るイメージ平面内のウエハステージ上に配設された第2のグレーティングと、
前記第1のグレーティングのイメージを受取るウエハステージ上に配置された検出器とが含まれていることを特徴とする波面測定システム。 - 前記電磁放射は、13nm〜15nmである、請求項8記載の波面測定システム。
- 前記電磁放射源は、超紫外線放射源(EUV)である、請求項8記載の波面測定システム。
- さらにウエハステージが含まれており、該ウエハステージ上に第2のグレーティングが設けられている、請求項8記載の波面測定システム。
- 前記台1のグレーティングは、検出器における空間的干渉性を大幅に消去させるために十分な距離でもって移動可能である、請求項8記載の波面測定システム。
- 前記検出器は、前記投影光学系のひとみと光学的に共役している、請求項8記載の波面測定システム。
- 前記第1のグレーティングは反射性グレーティングである、請求項8記載の波面測定システム。
- 波面測定システムにおいて、
電磁放射源と、
電磁放射を対象平面に集束させるイメージングシステムと、
前記対象平面の線形グレーティングと、
前記対象平面と光学的に共役する平面に配置され無作為な高さを有し且つ互いに並列な複数の線群を含む表面と、
前記無作為な高さを有する表面を前記線群に並行にのみ移動させるステージであって、当該ステージは、前記無作為な高さを有する表面及びレチクルが配置されたレチクルステージであり、波面測定の際に当該レチクルではなく前記無作為な高さを有する表面を光路内に位置付けるように前記線群に並行にのみ移動させるステージと、
イメージ平面上に前記線形グレーティングのイメージを投影させる投影光学系と、
イメージ平面の第2のグレーティングと、
前記第2のグレーティングにより生じた干渉縞パターンを受取る検出器とが含まれていることを特徴とする波面測定システム。 - 波面測定システムにおいて、
電磁放射源と、
電磁放射を対象平面に集束させるイメージングシステムと、
前記対象平面の線形グレーティングと、
前記対象平面と光学的に共役する平面内にて無作為な高さを有し且つ互いに並列な複数の線群を含む表面と、
前記無作為な高さを有する表面を前記線群に並行にのみ移動させるステージであって、当該ステージは、前記無作為な高さを有する表面及びレチクルが配置されたレチクルステージであり、波面測定の際に当該レチクルではなく前記無作為な高さを有する表面を光路内に位置付けるように前記線群に並行にのみ移動させるステージと、
イメージ平面上に前記線形グレーティングのイメージを投影させる投影光学系と、
イメージ平面の第2のグレーティングと、
前記第2のグレーティングにより生じた干渉縞パターンを受取る検出器と、
前記検出器におけるスペックルを低減する手段とが含まれていることを特徴とする波面測定システム。
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