TW543200B - Nonvolatile semiconductor memory device - Google Patents
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Description
A7 B7 五、發明説明) 發明背景 1 .發明領域 本發明係有關半導體記憶體,如可電性重寫之非揮發性 半導體記憶體。 2 .相關技藝描述 有關可電性重寫之非揮發性半導體記憶體,曾揭示有使 用EEPROM之NAND型快閃記憶體。該NAND型快閃記憶體串 聯有鄰接配置的數個記憶體單元的源極、汲極,將該串聯 之數個記憶體單元作為一個單位連接於位元線。在該NAND 型快閃記憶體中,對排列在列方向上之數個單元的全部或 半數的單元執行批次寫入或讀出操作。此外,最近開發出 在NAND型快閃記憶體的一個單元内記憶數筆資料的多值記 憶體。 然而,此種非揮發性半導體記憶體具有稱之為ROM區塊 (ROMBLOCK)的記憶元件區域,其係儲存安全用的識別碼 等。該ROM區塊以特別的命令來選擇。該ROM區塊被分配 至補救記憶體單元陣列之不良單元之冗餘單元的一部分。 因此,會造成該冗餘單元的一部分發生不良時,ROM區塊 無法使用的問題。 再者,ROM區塊係使用冗餘單元的一部分。因而,必要 時將ROM區塊設定成禁止寫入及禁止刪除有困難。 此外,NAND型快閃記憶體有數個區塊,資料以區塊單位 被刪除。有不良單元的不良區塊被替換成冗餘區塊。但是 不良區塊數量大於冗餘數量時,則仍以保留不良區塊的部 _^±2_ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 裝 訂
A7
分良品(一部分良 在不良區塊的前H 此時’為求辨識不良區塊,係 時,輸出資料”G &寫人資料”m區塊被存取 資料”〇,,,有時也2是’T、良區塊的單元中未必均寫入 正常,仍須將寫。此時Μ盡管大部分的記憶體單元 因而兩,、夺μ I品予以報廢。因而導致良率降低。 八有τ而要—種可確實記憶安全用資訊,且記憶體的—部 刀有不艮區塊時, 杳 體。 Γ確貝辨減琢不艮區塊的半導體記憶 發明概述 本發明提供一姑a请^,. 列,並且二 +導姐記憶體,其包含:記憶體單元陣 被位—、第二記憶區域,上述第一記憶區域具有 、皮栌制:Γ選擇的數個記憶元件,上述第二記憶區域具有 ?一: 1號選擇的數個記憶元件;及控制電路,其具有第 -熔:’上述控制電路切斷上述第—熔絲元件時,禁止對 上述第二記憶區域寫入及/或刪除。 圖式之簡要說明 圖1為顯示本發明第一種實施例之半導體記憶體的構造 圖。 圖2為顯不圖1所示之,險辦登^ ;表 4 G 早兀陣列1及資料記憶部2的 電路圖。 圖3A,B為顯示記憶體單元及選擇電晶體的剖面圖。 圖4為顯示記憶體單元陣列之一個似恥單元的剖面圖。 圖5為顯π圖2所示之資料記憶電路的電路構造。 圖6A,6B,6C,6D為顯示各模式中所讀取之位址與1/〇 5- 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐)
端子的關係圖。 圖7A,7B為顯示圖丨所示之預解碼器及rRD解碼器 操作圖。 圖8A,B,C為顯不圖丨所示之CG驅動電路的電路圖, 圖8 D為顯示圖8 C的操作圖。 圖9A顯不圖丨所不<陣列區塊電路的操作,圖9b顧示 存電路。 ^ 、 圖1〇為顯示圖1所示之區塊RD解碼電路的操作圖。 圖1 1為顯示圖1所示之區塊解碼器的操作圖。 圖12為顯示區塊選擇電路的電路圖。 圖1 3為顯示圖1 2之操作的波形圖。 圖1 4為記憶體單元陣列的實體對映。 圖15A為顯示圖!所示之禁止寫入電路15&的電路圖,圖 15B為顯示禁止刪除電路isb的電路圖。 ° 圖1 6顯示4值資料的寫入方法。 圖1 7 Α為顯示記憶體單元之資料與被寫入及讀出之資料 的關係圖’圖17B,17C為寫入電路的說明圖。 圖1 8為顯示步升寫入方法的寫入特性圖。 圖1 9為顯示編程操作的順序波形圖。 圖2 0為顯示倍速編程操作的順序波形圖。 圖2 1為顯示第一頁之編程操作的流程圖。 圖2 2為顯示第一頁之編程操作的流程圖。 圖2 3為顯示第一頁編程時之順序的波形圖。 圖2 4為顯示第一頁之編程驗證讀出的操作圖。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 43200 五、發明説明(4 圖25為顯示編程驗證讀出之順序的 圖26A,.26B,26c為顯示 二圖。 圖。 、、王驗證讀出的操作 圖27為顯示:部資料載入時的順序波形圖。 圖28為顯4二頁之第_驗證讀出時的 圖29為顯示讀出操作的順序波形圖。 波形圖。 圖30為顯示倍速讀出操作的順序波形圖。 圖31為概略顯示讀出操作的流程圖。 圖32為顯示第二頁的讀出操作圖。 圖33A,33B為顯示第_頁的讀出操作圖。 圖34為顯示第二頁之讀出操作的順序波形圖。 圖35為顯示第-頁之讀出操作的順序波形圖。 圖36為顯示刪除操作的順序波形圖。 圖3 7為顯不倍速刪除操作的順序波形圖。 圖3 8為概略顯示自動删除的流程圖。 圖3 9為頋示刪除操作的順序波形圖。 圖4 0為顯示刪除驗證操作的順序波形圖。 圖4 1為顯示設置於圖i所示之控制電壓產生電路内之兩 壓設定電路的構造圖。 包 圖4 2為本發明第二種實施例,顯示一種資料記憶電路的 電路圖。 圖43為顯示第一頁、第二頁同時編程的操作順序波形 圖。 圖44為顯示第一頁、第二頁同時編程的操作圖。 本纸張尺度適用巾關家標準(CNS) Μ規格(21GX297公爱) J^2〇〇
B7 B7 丄
發明説明(6 夢由器3選擇資料記憶部2中的資料記憶電路。 精由被仃解碼器3所選 單元的資料經由輸出缓衝哭“路所讀出之記憶體 外部輸入至1/0端子5的/次0端子5輸出至外部。自 被行解、寫入資料經由輸入緩衝器7供應至 被仃解碼咨3所選擇的資料記憶電路。 控制部⑽應自外部供應之信號細、咖、心職、 =:,控制上述輸出緩衝器4、輸入緩衝器7、Ε(χ碼產 制電路13、命令暫存器16、行位址暫存器 列位騎㈣18。料,㈣部叫有後述之禁止 ...’、ROM區塊2〇《禁止寫入電路15 &及禁止刪除⑽μ區塊 20(禁止刪除電路15b。再者,控制部"如後述,具有切 換半導體記憶裝置之設定模式的熔絲。 ECC碼產生電路8因應控制部15的指示產生Ecc(錯誤訂正 碼)’供應至輸入緩衝器7。 上述命令暫存器16將上述輸入緩衝器所供應的命令供應 土牷制%路1 3。泫控制電路丨3因應命令控制各部。該控制 電路13連接有控制電壓產生電路14。該控制電壓產生電路 14可藉由充電泵電路等構成,產生資料寫入、讀出、刪除 上所需的電壓。 上述行位址暫存器丨7將上述輸入緩衝器7所供應之位址 供應至行RD(冗餘)解碼器及行預解碼器1〇。該rrd解碼 器及行預解碼器10將行之冗餘位址予以解碼,同時預解碼 行位址。★亥行R D解碼裔及行預解碼器1 〇的輸出信號供應 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) -9 -
至上述各行解碼器3。
裝
543200 A7 _______B7 五、發明説明(8 ) 料圯fe電路31〇, 31ρθ1η/2連接於上述輸入緩衝器4、輸出緩衝 态7。這些31〇, 31广31〆2藉由上述行解碼器3所供應之行選擇 k 號 CSL〇, CSLi〜CSLn/2來控制。 各資料記憶電路31G, 31l〜31n/2上連接有一對位元線。亦 即,資料記憶電路310上連接有位元線乩仏肌丨,資料記憶 電路311上連接有位元線BL2,BL3,資料記憶電路31n々上連接 有位元線BLn,BLn+1。 記憶體單元陣列1上配置有數個nand單元。一個nane^ 元包含·如έ己彳思體單元M0〜M15,其係由串聯的丨6個 EEPROM構成;第一選擇閘S1,其係連接於該記憶體單元 M15 ,及第二選擇閘S 2,其係連接於記憶體單元M 〇。第一 選擇閘S 1連接於位元線bl〇,第二選擇閘s 2連接於源極線 CELSRC。配置於各列之記憶體單元M〇〜Mi5的控制閘共同連 接於字線WL0〜WL15。又,第一選擇閘S1共同連接於選擇線 SGD1 ’第一選擇閘S 2共同連接於選擇線sgd2。 謂出操作 '編程驗證操作及編程操作時,自外部由所指 定的位址從連接於資料記憶電路之兩條位元線(BLi,Bu+i) 中選出1條位元線。再者,藉由外部位址選擇有丨條字線, 2值時選擇有1頁,4值時選擇有圖2之點線所示之2頁部分 的單元。 刪除操作以圖2之點線所示的區塊單位來執行。亦即, 資料以该區塊單位被刪除。1區塊由數個NAND單元構成。 此外,連接於資料記憶電路的兩條位元線(BLi,BU+1)係同 時執行。 ________—_________-11-_ 本纸張尺度適财@ ®家標準(CNS) Α4規格(210X297公釐) ' ~ -- 五、發明説明(9 刪除驗證操作’藉由—次操作,連 =:(:_)中"位元線(BLi)執上^ :後’另一條位元線(制)執行驗證讀出操作。、 圖3A,3B顯示記憶體單元及選擇電晶體的剖 3 A顯示記憶體單元。在其 q 圖 '、⑽ 4 在基板41上形成有作為記憶體單元 (源極、沒極的„型擴散層42。在基板“上 : 膜43形成有漂_,該漂浮問“上經由絕緣膜45:: 有控制閘4 6。 /成 •圖3B顯示選擇電晶體。在基板41上形成有作為源核、 ,及極的η型擴散層47。基板41上經由閘極絕緣膜 控制閘49。 f 圖4顯π記憶體單元陣列之一個nand單元的剖面。本例 中一個NAND單元由率聯! 6個記憶體單元_〜mi5構成。各 記憶體單元採圖3A所示的構造。NAND單元的沒極端與源 極端上設有第一選擇閘s丨及第二選擇閘S2。第一選擇閘 S1及第二選擇閘S2採圖3B所示的構造。 甲 圖5顯π圖2所示之資料記憶電路31〇的電路構造。由於 資料記憶電路全部為相同構造,因此僅說明資料記憶電路 310。 位元線BLi上連接有Ν通道電晶體6 1 a之電流通路的一 端。該電晶體6 1 a的閘極上供應有信號BLTR。該電晶體 6 1 a之電流通路的另一端連接於電晶體6丨b之電流通路的 一端及電晶體6 1 c之電流通路的一端。上述電晶體6丨b之 電流通路的另一端連接於端子62a。該端子62a上供應有 -12- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公爱) 543200 A7 B7 五、發明説明(Η)) 電壓VBLA。此外,上述電晶體6 1 b的閘極上供應有信號 PREA。 上述電晶體6 1 c的閘極上供應有信號BLSA。 此外,位元線BLi+Ι上連接有N通道電晶體6 1 d之電流通 路的一端。該電晶體6 1 d的閘極上供應有信號BLTR。該電 晶體6 1 d之電流通路的另一端連接於電晶體6 1 e之電流通 路的一端及電晶體6 1 f之電流通路的一端。上述電晶體6 1 e 之電流通路的另一端連接於端子6 2 b。該端子6 2 b上供應 有電壓VBLB。此外,上述電晶體6 1 e的閘極上供應有信號 PREB。 上述電晶體6 1 f的閘極上供應有信號BLSB。電晶體 6 1 b,6 1 e因應信號PREA、PREB將非選擇的位元線預充電成 電位VBLA、VBLB。上述電晶體6 1 c,6 1 f因應信號BLSA、 BLSB選擇位元線。 上述電晶體6 1 c,6 1 f之電流通路的另一端經由電晶體 6 1 g連接於端子6 2 c,同時連接於節點N E。上述電晶體 61g之閘極上供應有信號BIAS。端子62c上供應有電壓 VCC。該電晶體61 g於資料讀出時,因應信號BIAS將位元線 予以預充電。 上述節點NE上連接有電晶體6 1 h之電流通路的一端。該 電晶體6 1 h的閘極上供應有信號BLC1。該電晶體61h之電 流通路的另一端上經由P通道MOS電晶體6 1 m連接有端子 62d。該端子62d上供應有電壓VCC。上述電晶體6 1 m的閘 極上供應有信號PRSTB卜 上述電晶體6 1 h之電流通路的另一端連接於第一鎖存電 路LAT(A)。該第一鎖存電路LAT(A)由兩條時脈反向器電路 _-13-_ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(U ) 6 1 i,6 1 j構成。時脈反向器電路6 1 i被信號SEN1,SEN1B (B 表示反轉信號)控制。時脈反向器電路6 1 j被信號LAT1, LAT1B控制。該第一鎖存電路LAT (A)鎖存寫入資料。 上述時脈反向器電路6 lj之輸出節點NB及時脈反向器電 路6 1 i之輸入端的連接節點NC上連接有N通道MOS電晶體 6 1 〇之電流通路的一端。該電晶體6 1 〇之電流通路的另一 端I 0連接於上述輸入緩衝器7及輸出緩衝器4。 上述時脈反向器電路6 1 i之輸出節點N A及時脈反向器電 路6 1 j之輸入端的連接節點上連接有N通道MOS電晶體6 1 η 之電流通路的一端。該電晶體6 1 η之電流通路的另一端ΙΟΒ 連接於上述輸入緩衝器7及輸出緩衝器4。這些電晶體6 1 〇, 6 1 η之閘極上自行解碼器3供應有行選擇信號CSL。 此外,上述節點Ν Ε上串聯有電晶體6 1 k,6 1 1。電晶體 6 1 k之閘極連接於上述第一鎖存電路LAT (A)的節點N C,電 晶體6 1 1之閘極上供應有信號VRFY1。再者,電晶體6 1 1的 電流通路上供應有信號VREG。這些電晶體61k,611因應鎖 存在第一鎖存電路LAT (A)内的資料設定位元線的電位。 另外,上述節點NE上連接有電晶體6 1 q之電流通路的一 端。該電晶體6 1 q的閘極上供應有信號BLC2。該電晶體 6 1 q之電流通路的另一端上經由P通道MOS電晶體6 1 p連接 有端子62e。該端子62e上供應有電壓VCC。上述電晶體 6 1 p的閘極上供應有信號PRSTB2。 上述電晶體6 1 q之電流通路的另一端上連接有第二鎖存 電路LAT (B)。該第二鎖存電路LAT (B)由兩條時脈反向器電 _-14-_ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(12 ) 路6 1 r,6 1 s構成。時脈反向器電路6丨r被信號SEN2, SEN2B 控制。時脈反向器電路6 1 s被信號LAT2, LAT2B控制。該第 二鎖存電路LAT (B)鎖存自記憶體單元讀出的資料。 此外,上述節點NE上串聯有電晶體6丨t,6丨u。電晶體 6 11的閘極連接於上述第二鎖存電路匕八丁(B)的節點ND ,電 晶體6 1 u的閘極上供應有信號VRFY2。再者,電晶體6丨u的 電流通路上供應有信號VREG。這些電晶體6丨t,6丨u因應鎖 存在第二鎖存電路LAT (B)内的資料設定位元線的電位。 以下說明上述構造的操作。 命令輸入 命令係於供應至圖1所示之控制部15的信號CLE變成高電 平,仏號W E上开及下降時,將供應至丨/ 〇端子5的資料作 為命令供應至命令暫存器16。 位址輸入 位址係於圖1所示之控制部15的信號ALE變成高電平,信 號WE上昇及下降時,將供應至1/〇端子5的資料作為位址 被取入。 圖6A,6B,6C,6D顯示各模式中所讀取之位址與1/〇端 子的關係。本實施例之半導體記憶體可將記憶體單元陣列 設定成如在四個模式中切換。這四個模式的切換如藉由切 斷設置在控制部1 5上之圖上未顯示的熔絲來設定。 圖6 A顯示1 G(十億)位元,在一個單元内記憶2位元的4 值資料記憶,區塊尺寸為32KB的模式。圖6β顯示512M(百 萬)位兀,在一個單元内記憶丨位元的2值資料記憶,區塊 _ -15- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(13 ) 尺寸為16KB的模式。圖6C顯示1G位元,記憶4值的資料, 區塊尺寸為128KB的模式。圖6D顯示512M位元,記憶2值的 資料,區槐尺寸為64KB的模式。 各操作模式中,讀出、編程時以四個週期取入行位址及 區塊位址等。但是,删除時,由於不需要取入行位址,因 此第一週期名略,以第二週期至四週期的三個週期輸入位 址。 為圖6A,6C所示的4值時,需要切換丨頁與2頁。該切換 係使用第二週期的狐八仙來執行。為2值時,一個單元内僅 記憶1位元。因此不需要切換頁。 圖6 A所示的行位址A8, A8E藉由命令切換輸入。 資料輪入 輸入寫入貝料時,圖丨所示之控制部丨5的信號及信號 CLE均變成低電平,信號WE上昇及下降時,取入供應至 I/O端子5的資料作為資料。該資料供應至被行解碼器3所 選擇的資料記憶電路。藉由連續雙態觸變信號戮,行位 址被遞增,依序取入下一個位址的資料。 資料輪出 自記憶體單元所讀出的資料輸出至外部時,使圖!所示 之控制部15的信號ale及信號CLE均變成低電平。此種狀態 下’ k號RE上昇及下降時’被行解碼器3選擇之資料記情 電路的資料自1/〇端子5輸出。藉由反覆雙態觸變信號 RE,位址被遞增,依序輸出下一個位址的資料。
fiiiiiJL i張尺度適用中g时標準 543200 A7 B7 五、發明説明(14 ) 圖7A、7B顯示預解碼器及rRD解碼器丨〇的操作。 圖i所示的行位址暫存器17鎖存被外部指定的位址 A0〜A8,A8E,同時與信號WE及信號RE同步使位址遞 增。使用ECC時,因記憶ECC碼,所以對行位址的528行需要 再增加21行。亦即,如訂正2位元時,每一頁(528位元)在 可正符號用上需要2 1位元的單元。但是,2丨行中的4行與 行冗餘共用。因而增加1 7行部分的行位址。 如圖7A所示,行預解碼器及行RD解碼器1〇將行位址 A 0 A 8,A 8 E予以解碼,輸出行預解碼信號CA〇〜7, CB〇〜7, CC0〜8。如此選擇528+17行。 此外,如圖7B所示,選擇行冗餘時,停止行預解碼信 號,輸出選擇行冗餘的信號css〇〜7。本實施例中,ecc未使 用時,行冗餘對一個位址有8條。此外,使用虹時,行冗 餘對個位址有4條,1 7行由信號CA〇〜7, CB〇〜8選擇,4行 由信號CSS0〜3選擇。 自行預解碼器及行RD解碼器10所輸出的信號CA〇〜7, CB0〜7, CC0〜8 ’由行解碼器3選擇汹行中的一行。信號 CSS0〜7則直接選擇未經解碼的一行。 再者,圖1所示的列位址暫存器18鎖存被外部指定的位 址A 9〜A 2 6 〇 圖8A、8B、8C顯示圖1所示的驅動電路9。 讀出及編程時,首先以圖8Α、8β所示的電路分別產生 選擇C G電壓Vcgsel與非選擇c G電壓ν,!。選擇c g電壓 Vcgsd於讀出時設定成電壓Vcgry,於編程時設定成電壓 本紙張尺度適财目國X 297公釐 543200 A7 B7 五、發明説明(15 )
Vpgmh。非選擇C G電壓Vcgusel於讀出時設定成電壓Vread, 於編程時設定成電壓Vpass。 圖8 A為產生被選擇之控制閘線之電位的電路,並由升壓 電路8 1 a,8 1 b、電晶體8 1 c , 8 1 d所構成。電晶體8 1 c之電 流通路的一端上供應有由控制電壓產生電路1 4所供應的編 程電壓Vpgmh。該電晶體8 1 c的閘極上連接有升壓電路8 1 a 的輸出端。升壓電路81a上供應有編程電壓Vpgmh及信號 VPGMEN,升壓電路8 1 a因應信號VPGMEN產生電壓Vpgmh + Vth。因此,電晶體8 1 c可輸出電壓Vpgmh。 電晶體8 1 d之電流通路的一端上供應有由控制電壓產生 電路1 4所供應的電壓Vcgrv。該電晶體8 1 d的閘極上連接有 升壓電路81b的輸出端。升壓電路81b上供應有電壓Vcgrv 及信號VCGREN,升壓電路8 1 b因應信號VCGREN產生電壓 Vcgrv + Vth。因此’電晶體81d可輸出電壓Vcgrv。該電晶體 8 1 c,8 1 d之電流通路的另一端共同連接,自該連接節點輸 出有包含電壓Vpgmh或電壓Vcgrv的選擇C G電壓Vcgsel。 圖8 B為產生非選擇之控制閘線之電位的電路,並由升壓 電路8 2 a, 8 2 b、電晶體8 2 c,8 2 d所構成。電晶體8 2 c之電 流通路的一端上供應有由控制電壓產生電路1 4所供應的電 壓Vpass。该電晶體8 2 c的閘極上連接有升壓·電路8 2 a的輸 出端。該升壓電路82a上供應有電壓Vpass及信號 VPASSENB,升壓電路82a因應信號VPASSENB產生電壓Vpass + Vth。因此,電晶體82c可輸出電壓Vpass。 電晶體8 2 d之電流通路的一端上供應有由控制電壓產生 _-18-__ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(16 ) 電路1 4所供應的電壓Vreadh。該電晶體8 2 d的閘極上連接有 升壓電路82 b的輸出端。升壓電路82b上供應有電壓Vreadh 及信號VREADEN,升壓電路8 2 b因應信號VREADEN產生電 壓Vreadh + Vth。因此,電晶體8 2 d可輸出電壓Vreadh。該電 晶體8 2 c,8 2 d之電流通路的另一端共同連接,自該連接節 點輸出有包含電壓Vpass或電壓Vreadh的非選擇C G電壓 Vcgusel 〇 圖8C顯示將選擇CG電壓Vcgsel及非選擇C G電壓Vcgsel供 應至控制閘的C G供應電路。該C G供應電路因應控制閘設 有1 6個。依據位址All〜A14,其中1個處於選擇狀態,其他 15個處於非選擇狀態。 亦即,CG供應電路由解碼電路83a、反向器電路83b、 升壓電路83c,83d、電晶體83 e,83f,83 g構成。解碼電 路83a的輸入端上供應有位址A11〜A14。因應該位址C G供 應電路被選擇時,電晶體8 3 e被升壓電路8 3 c開啟,輸出 有上述選擇CG電壓Vcgsel,作為控制閘電壓VCGi。此外, C G供應電路為非選擇時,電晶體8 3 f被升壓電路8 3 d開 啟,輸出有上述非選擇CG電壓Vcgsel,作為控制閘電壓 VCGi。 此外,刪除時,信號ERASEEN變成高電平,電晶體8 3 g 被開啟。因此,整個控制閘的電壓VCG0〜VCG15變成接地電 位。 圖8 D顯示位址All〜A14與控制閘電壓VCGi的關係。該圖 8 D顯示依據位址Al 1〜A14輸出有1個控制閘電壓VCGi。 _· 19-_ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
裝 訂 9k 543200 A7 ____B7 五、發明説明(17 ) 如此,在圖8 A,8 B所示電路與圖8 C所示電路的兩階段 切換控制閘電壓VCGi。因此,可自各CG供應電路輸出讀 出、編程及刪除上所需的全部電位。且藉由採上述兩階段 的電路構造,可縮小電路規模。 圖9 A,9 B顯示圖1所示的陣列區塊電路1 9。陣列區塊電 路1 9在各記憶體單元陣列内鎖存區塊位址(a丨7〜2 6 )。 如圖9 A所示,4個記憶體單元陣列被位址a 1 5,A 1 6選 擇。被選擇之記憶體單元陣列的鎖存信號PBLATPB〇〜3為高 電平。 圖9 B顯示設置於陣列區塊鎖存電路丨9上的鎖存電路。 該鎖存電路係對應於A17〜A26之各區塊位址配置。該鎖存電 路由反向器電路91a、NAND電路9 1 b、構成正反器電路的 NAND電路9 1 c,9 1 d構成。該鎖存電路於鎖存信號 PBLATPB0〜3成為高電平時,鎖存區塊位址A17〜26。 圖1 0顯示圖1所示之區塊RD解碼器1 1的操作。該區塊 RD解碼器1 1於由陣列區塊鎖存電路丨9供應之區塊位址 A17〜26與由熔絲所設定之區塊冗餘的位址一致 時’輸出選擇位址ATPB17〜ATPB26與冗餘區域的信號 ATPBD。该位址ATPB17〜ATPB26與信號ATPBD用於自存在的 數個區塊冗餘中選擇1個。 亦即’圖1 0係顯示區塊位址A17〜26與區塊冗餘之位址 APB17〜APB26—致時。此時,區塊RD解碼器1 1使選擇區塊 位址ATPB18與冗餘區域之信號ATPBRD變成高電平,來選擇 位於ATPB18的區塊冗餘。 _____-20- _ 本紙張尺度適财S國家標準(CNS) A4祕(210 X 297公董) ' : 543200 A7 _B7 五、發明説明(18 ) 圖1 1顯示圖1所示之區塊解碼器丨2的操作。區塊解碼器 1 2將由區塊RD解碼器1 1所供應之區塊位址atpb17〜26及 ATPBRD予以解碼,輸出如圖1 i所示的列解碼信號 AROWA〜AROWE 與 RDECPBLR 〇 列解碼信號 AROWA〜AROWE 為 用於選擇記憶體單元陣列1内之區塊的信號。rqECPBLr為 自配置在記憶體單元陣列1之兩側(左右)上之區塊選擇部6 中選擇其中1個的信號。 再者,區塊解碼器12被ROM區塊指定電路20選擇時,與 上述同樣的將ROM區塊指定電路2 〇所供應的區塊位址予以 解碼’產生用於選擇ROM區塊的列解碼信號AROWA〜 AROWE ° 圖12顯示設置於圖1所示之區塊選擇部6内之區塊選擇電 路6 a的電路構造。該區塊選擇電路6 a分別對各區塊設置1 條。此外,圖1 2所示之熔絲狀態檢測電路6 b對各記憶體單 元陣列1各配置1條。 區塊選擇電路6a中,在端子1〇〇上供應有電源電壓VDD。 在該端子100與供應有信號ROWCOM之節點之間串聯有P通 道MOS電晶體1〇1、N通道MOS電晶體102〜108。上述電晶體 101的閘極上供應有上述信號RDECPBLR。該信號RDECPBLR 為用於選擇記憶體單元陣列1之左側或右側之區塊選擇部6 的信號。此外,電晶體102〜106的閘極上供應有上述列解碼 信號AROWA〜AROWE。電晶體107的閘極上供應有信號 RDECPBLRD。信號RDECPBL如圖1 3所示,變成稍延遲於信 號 RDECPBLRD 〇 ____-21 -_ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(19 ) 再者,電晶體108的閘極上供應有用於存取ROM區塊的命 令信號CD_ROMBA。該電晶體108上並聯有熔絲109。該熔絲 109在對應於該區塊選擇電路6 a的區塊為不良區塊時被切 斷。 再者,上述電晶體101上並聯有P通道MOS電晶體117, 118 的串聯電路。上述電晶體117的閘極接地(圖中向下的箭頭 表示接地)。此外,上述電晶體101,102, 118的連接節點上連 接有反向器電路119的輸入端。該反向器電路119的輸出端 連接於上述電晶體118的閘極,同時連接於位準移位器120 的一個輸入端。 該位準移位器120的另一個輸入端上供應有信號VRDEC。 該信號VRDEC為因應資料的編程、讀出、刪除控制位準移 位器120的信號。該位準移位器120在區塊選擇電路6a處於 選擇狀態時,依據信號VRDEC產生驅動轉移閘T G的信號。 上述轉移閘TG包含連接於記憶體單元之字線的轉移閘 TG0〜TG15與連接於第一、第二選擇閘S 1,S 2之閘極的轉移 閘TSG1,TGS2。轉移閘TG0〜TG15之電流通路的一端上分別連 接有控制閘線CG0〜CG15,電流通路的另一端上分別連接有 字線WL0〜WL15。控制閘線CG0〜CG15上自上述CG驅動電路9 分別供應有控制閘壓VCG。 此外,轉移閘TGS1,TGS2之電流通路的一端上分別連接有 選擇閘線SGD,SGS,電流通路的另一端上分別連接有選擇 線SGD1,SGD2。選擇線SGD1,SGD2上可自上述控制電壓產生 電路1 4分別供應有指定電壓。 _-22-_ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(2〇 ) 上述選擇線SGD1上串聯有N通遒MOS電晶體121,122。電 晶體1 2 1之電流通路的一端上供應有信號SGDSpBLR,閘極 上供應有信號RDECADin + ln。再者,電晶體122的閘極上經 由反向态電路123供應有上述反向器電路119的輸出信號 RDECADn 〇 再者,上述選擇線SGD2上連接有N通道M〇s電晶體124之 電流通路的一端。該電晶體124之電流通路的另一端上供應 有上述信號SGDSPBLR,閘極上供應有上述信號。 此外’溶絲狀悲檢測電路6 b中,供應有上述信號 ROWCOM的節點經由N通道MOS電晶體110接地,同時連接 於N通道MOS電晶體111的閘極。上述電晶體11〇之閘極上供 應有k號ROWCOMVSS。上述電晶體之電流通路的一端連接 於反向為電路112之輸入端及反向器電路丨13之輸出端,另 一端接地。上述反向器電路112的輸出端及反向器電路113 的輸入‘連接於反向器電路114的輸入端。自該反向器電路 114的輸出端輸出有顯示上述熔絲是否被切斷的信號 FUSECUT。違#號FUSECUT供應至控制部1 5。該反向器電 路114的輸入端經由N通道MOS電晶體115接地。該電晶體115 的閘極上經由反向器電路116供應有信號BUSY。 以下說明上述構造中之區塊選擇電路6 a的操作。 信號 RDECPBLR、信號 RDECPBLRD、CMD—ROMBA、 ROWCOM通常為接地電位VSS。因此,反向器電路U9的輸 出信號RDECAD為低電平。 另外,讀出操作、編程操作、刪除操作開始時,對應於
543200 A7 ______B7 五、發明説明(21 ) 被選擇之記憶體單元陣列之右側或左側的信號RQECPBLR為 高電平。此種狀態下,位址一致時,列解碼信號AR0WA〜 AROWE全部成為高電平。因此,反向器電路U9的輸出信號 RDECAD成為高電平,位準移位器120被啟動。該位準移位 器120於編程時輸出電壓Vpgm +Vth(Vth為轉移閘的臨限值電 壓),於讀出時輸出讀出電壓Vread +Vth,於刪除時輸出電 源電壓VDD。轉移閘藉由產生此種電壓,可直接轉移c G驅 動電路9的電壓。 另夕卜,位址不一致時,列解碼信號AROWA〜AROWE中的 任何一個成為低電平,區塊選擇電路6 a為非選擇狀態。因 此,位準移位器120的輸出電壓為接地電壓VSS。因此,於 讀出及編程時,字線WL0〜15形成漂浮狀態。選擇線SGD1, SGD2的SGDSPBLR形成接地電位VSS,再者,因電晶體121, 122, 123開啟,而形成接地電位VSS。 刪除時,字線WL0〜15變成漂浮狀態,電壓SGDSPBLR被設 定在電源電壓VDD。因此,選擇線SGD1,SGD2的電位為VDD-Vth。但因基板設定在刪除電壓VERA,因此,字線WL0〜15及 選擇線SGD1,SGD2均因耦合而形成接近於刪除電壓VERA的 電位。 如前所逑,圖1 2所示的熔絲1 0 9於不良區塊時被切斷。 於全部選擇寫入等的測試時,列解碼信號AROWA〜E全部變 成高電平。但因溶絲109被切斷,因此反向器電路119的輸 出信號RDECAD形成低電平,不良區塊未被選擇。 此外,存取部分良品之不良區塊時,熔絲109也被切斷 _-24-____ ^紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) "~ 一 543200 A7 B7 五、發明説明(22 ) 時’该不良區塊為非選擇。因此’在此種狀態下,於執行 讀出操作時單元關閉。因此,於2值狀態時,讀出資料自 動成為” 0 ’’資料。此外,於4值的第二頁時成為,,〇,,資料, 而第一頁時成為資料” 1 ’’。因此,使信號RDECPBLR處於高 電平之前,暫時使信號ROWCOMVSS處於低電平,使 ROWCOM處於漂浮狀態。 圖1 3顯示用於檢測圖1 2所示之熔絲109之狀態的操作順 序。 首先,在信號BUSY及信號RDECPBLRD成為高電平的狀態 下,將信號ROWCOMVSS變成低電平。此種狀態下,為列解 碼信號AROWA〜AROWE全部為高電平,且熔絲1〇9未被切斷 的區塊時’供應有信號ROWCOM之節點的電壓為電源電壓 VDD。因此,電晶體m開啟,由反向器電路112, U3構成之 鎖存電路的輸出端保持高電平。因此,反向器電路114的輸 出信號FUSECUT形成低電平。 另外’為溶絲109被切斷的區塊時,供應有信號RQWCOM 的節點仍處漂浮狀態(電位為VSS)。因此,電晶體ui關 閉,由反向器電路112, 113構成之鎖存電路的輸出端保持低 電平。因此,反向器電路114的輸出信號FUSECUT形成高電 平。 之後,信號ROWCOMVSS、信號RDECPBLRD處於高電平, 由反向器電路112, 113構成的鎖存電路保持在鎖存狀態。因 此,溶絲109被切斷時,任何區塊均未被選擇。 如此’為圖1 2所示的電路時,可瞭解熔絲1〇9是否被切 ________125-:___ 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(23 ) 斷。因此,當熔絲109被切斷時,於第一次讀出操作後,未 執行第二次讀出操作時,輸出成為資料” 0 ”。 此外,在數個單元内執行寫入刪除相同資料操作時,當 確實刪除時,在刪除驗證中,資料記憶電路的值為資 料” 1 ’’,不確實時,為資料” 0 ’’。但是,熔絲109被切斷 時,任何區塊均未被選擇而成為資料” 0 ”。因此,反覆執 行刪除驗證操作至最大回路次數。本發明為防止此種情 況,係於信號FUSECUT為高電平時,不執行該陣列的刪 除。 圖1 4顯示記憶體單元陣列的實體對映,顯示被位址選擇 的實體位置。 各記憶體單元陣列1具有區塊blkO〜blk23及作為冗餘區塊的 區塊冗餘blkRDO〜9。可使區塊冗餘blkRDO〜blkRD9中的任意區 塊冗餘成為ROM區塊。例如,使區塊冗餘blkRDl成為ROM區 塊時,輸入有用於存取ROM區塊的命令信號CD_R〇MBA時, 圖1所示的區塊RD解碼器1 1無信號輸出。此時,係自ROM 區塊指定電路20輸出有選擇區塊冗餘的信號A17〜A26及信 號ARD,並輸出有列解碼信號AROWA〜AROWE,第一個區 塊冗餘被選擇。 ROM區塊的熔絲109通常切斷。此因,於晶片分選測試 (Die Sort Test)時ROM區塊内寫入有資料。因而在之後的批次 編程及批次刪除中,ROM區塊未被選擇。 但是,於存取ROM區塊時,圖1 2中之命令信號 CMD_ROMBA變成高電平時,由於電晶體108開啟,因此, -26- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 A7 __B7 五、發明説明(24 ) 縱使熔絲109被切斷仍然是選擇狀態。 圖15A顯示設置在圖丨所示之控制部15内的r〇m區塊禁 止寫入電路15a,圖15B顯示R〇M區塊2〇的禁止刪除電路 1 5b 0 圖15A中,禁止寫入電路15a係由p通道M〇s電晶體ι5^, 151b、N通道MOS電晶體151c、熔絲15ld、反向器電路i5ie, 151f,151h、NOR電路151g所構成。上述電晶體151a,15比之電流 通路的一端上供應有電源電壓VDD,電流通路的另一端共 用連接。這些電晶體之連接節點與接地間連接有上述電晶 體151c與上述熔絲151d。電晶體i51a及電晶體151c的閘極上供 應有信號LOWVDDn。再者,上述連接節點經由上述反向器 電路151e連接於NOR電路151g的一個輸入端。該N〇R電路i5ig 的另一個輸入端經由反向器電路15;^供應有命令信號 CMD—ROMBA。該NOR電路I51g的輸出端連接於反向器電路 151h的輸入端,自該反向器電路151h的輸出端輸出有信號 PROENABL。 圖15B上顯示之禁止刪除電路151)的構造與禁止寫入電 路1 5 a相同。亦即,電晶體152a,152b之電流通路的一端上供 應有電源電壓VDD,電流通路的另一端共用連接。這些電 晶體之連接節點與接地間連接有上述電晶體152(:與上述溶 絲152d。電晶體152a及電晶體152c的閘極上供應有信號 LOWVDDn。再者’上述連接節點經由上述反向器電路152e 連接於NOR電路I52g的一個輸入端。該NOR電路I52g的另一 個輸入端經由反向器電路152f供應有命令信號 -27- 本紙張尺度適用中國ί家备準(CNS) A4規格(210X 297公釐) ~ -- 543200 五 A7 B7 發明説明(25 ) CMDJROMBA。該NOR電路152g的輸出端連接於反向器電路 152h的輸入端,自該反向器電路152h的輸出端輸出有信號 ERAENABL。 上述信號LOWVDDn於電源開啟時雖暫時為低電平,不 過,之後即變成高電平。於熔絲151d,152d切斷前,輸出信 號PROENABL及輸出信號ERAENABL始終為高電平。因此, 亦可編程及刪除。但是,切斷熔絲151d,152d後,存取ROM 區塊的命令信號CMD_ROMBA為高電平時,輸出信號 PROENABL及ERAENABL均成為低電平。因此,ROM區塊無 法寫入、刪除。熔絲151d或152d的切斷可任意設定。 4值時的操作 以下說明本發明之半導體記憶裝置,於4值時的操作。 如圖1 6、圖1 7所示,定義記憶體單元之資料與記憶體單 元的臨限值。此處,將記憶體單元的臨限值由低至高定義 成記憶體單元之資料的狀態” 0 ”〜” 3 ”。執行刪除時,記憶 體單元的資料成為狀態” 0 ”。因應寫入操作,記憶體單元 的臨限值電壓向高處移動。 圖1 6顯示本發明的寫入方法。在記憶體單元内寫入資料 時,首先第一頁的資料被寫入記憶體單元内,其次,第二 頁的資料被寫入記憶體單元内。此時,構成第一頁或第二 頁之資料的寫入資料為” 1 ”時,,記憶體單元之臨限值電 壓不因寫入操作而改變,記憶體單元的資料也不改變。亦 即,資料未被寫入記憶體單元内。此外,構成第一頁或第 二頁之資料的寫入資料為” 0 ”時,記憶體單元之臨限值電 -28- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐)
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壓因寫入操作而改變,記情m ^ ^ ^ ^組早元的資料也隨之改變。亦 即,資料被寫入記憶體單元内。 兀 刪除狀態之記憶體單元的次 平兀的貪料處於狀態,,〇,,。在該 下,首先第一頁的資料被耷A、 〇 在/狀怨 反焉入兒憶體單元内。寫入資料 為” 1 ”時,尚未執行寫入之一 、 態,,〇”。寫入資料為,,〇,,時,執“$:早…料仍保持狀 為狀態”丨”。 “寫人之記憶體單元的資料 其次,第二頁的資料被寫 ^ ’八A fe體早兀内。此時,藉由 弟一頁的寫入操作,對於咨社义 ,^ 丁万、貝科為狀態”1,,的記憶體單元供 應有寫入資料,,〇,,時,記恃,留一 c km早兀的資料成為狀態”2,,。此 外,藉由第一頁的寫入操作,姐、λ七t 來1乍斜於資料為狀態,,〇,,之記愴 體單元供應有寫入資料,,〇,,眭 、 " 卞υ時’記憶體單元的資料成為狀 態 ”3,,。 再者,藉由第-頁的寫入操作,對於資料為狀態”,,的 !己憶體單元自外部供應有寫人資料1,,時,記憶體單元的 資料仍處於狀態”「,。此外,藉由第—頁的寫人操作,對 於資料為狀態,,0,,之記憶體單元自外部供應有寫入資料,,卜 時,記憶體單元的資料仍處於狀態,,0,,。 如圖16、圖17A所示,本發明於記憶體單元的資料為狀 態”2”時,設定成第一頁及第二頁的資料為”〇”,“〇,,。記 fe體單兀的資料為狀態’’ 3 ’’時,設定成第一頁及第二頁的 資料為”1”,‘‘0,,。讀出記憶體單元的資料時,首先第二貢 的資料被讀出,其次第一頁的資料被讀出。 碩出第二頁的資料時,當記憶體單元的資料為狀態,,〇,,
______二 29- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 五、發明説明(27 或狀悲” 1 ”時,被讀φ ^ 料μ〜 Λ出的資料成為”1”。當記憶體單元的資 科為狀Γ2或狀態”3”時,被讀出的資料成為”〇”^ 此’僅精由记憶體單元的資料為狀態” 上的一次操作即可判斷第二頁之資料的讀出〜 另外’ m出第—頁的資料時’當記 =或狀態”3”時,被讀出的資料成為”卜此外= fe體單元的資料為狀能”彳, 田 :或狀態,,2,,時,被讀出的資料成 二二精由判斷記憶體單元的資料為狀態,,〇或狀 k,, τ,’/=斷記憶體單元的資料為狀態”2”以下或狀 裝 二二—頁的資料。亦即,第-頁的資料可藉 由合計兩次的操作讀出。 執行刪除操㈣,域體單元的資料為《,,0,,,縱使 在位址内指足第-或第二頁’被讀出的資料成為,””。 卜兩頁(第頁、第二頁)的切換係由位址A 9執行。 :位址A9變成低電平時,第一頁被指定,位址Μ變成高 電平時,第二頁被指定。 氣 多值!己憶體時’需要因應寫入資料正確控制記憶體單元 的臨限值電壓。因m憶體單元内寫人資料時,係逐 漸增加外加在記憶體單元之控制閘上的電壓,資料被寫 入。此種寫入方法稱之為步升寫入方法。 圖18顯示對記憶體單元採步升寫入方法的寫入特性。縱 抽顯示單元的臨限值電壓,橫轴顯示窝入電壓(編程電 壓)。 刪除後之單元的臨限值電壓(記憶體單元的資料為狀 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) -30- 543200 A7 ----- - B7 五、發明説明(Μ ) Γ〇”)如為— 3.5V。如上所述,本實施例中,使記憶體 早兀的資料自狀態,,〇,,變成狀態”3”時,單元的控制閘 加㈣編程電塾16V。之後,以每G.2V逐步升高寫入電壓
執仃寫入時,臨限值電壓沿著圖中的” 〇,,—,,3 ”上昇。I 外,使記憶體單元的資料自狀態,,〇,,變成狀態,,丨,,時,係以 14V的初始寫入電壓開始寫入。此因,資料為狀態 U艮值私壓為〇·2ν。因而,以1 6 v的初始寫入電壓開始寫 入時,在第二步驟與第四步驟之間,資料成為狀熊,,1,,的 臨限值電壓’可能變成重複編程。為了避免上料況,而 將初始寫入電壓變成1 4 V。 第一頁的寫入中,記憶體單元的資料自狀態,,0,,向狀 態”1”移動。因此,以13次的寫入次數,使記憶體單元資 料達到狀態”丨”的臨限值。第二頁的寫人中,使記憶體單 兀的資料成為狀態”3”與,,丨”—”2,,。此時,由於成 為狀態,,0,,—”3,,係寫入至高於,^,—,,丨,,的位置,因此可 使初始寫入電壓升高至16¥。 因此,如圖1 7Β所示,使記憶體單元的資料自狀能,,〇,, 變成狀態”3”時,寫入次數為丨丨次,使記憶體單元的^資料 自狀態”1”變成狀態”2”時,寫入次數為6次。因此,第二 頁的寫入可以11次的寫入編程。因此,第一頁與第二頁: 寫入次數合計為2 4次。 另外,如後所述,同時寫入第一頁與第二頁時,使記憶 體單元的資料變成狀態,,〇,,—,,1,,、,,〇,,4,, 2 ”、,,α,, —3 ”。因此將初始寫入電壓設定成14 ν。 -31 -
543200 A7 五、發明説明(29 因此’如圖17C所示,使記憶體單元的資料自狀態,,〇,, 變成狀態”1,,時,窩入泠勃 ”入數為1 3 ;入,使記憶體單元的資料 自狀態” 0 ”變成妝能,,?,,咕 、 夂风狀怎2時,冩入次數為17次,使記憶體 單元的資料自狀態,,〇,,變成 、 、U夂成狀悲3”時,寫入次數為2〇 ’人。因而’同時寫入第-頁與第二頁時,以20次完成寫 入。因此,同時窝入第一頁與第二頁時,可快速寫入。 此外,由於該第—頁與第二頁為同—區塊内的頁次,因 此可快速寫入連續的兩頁。 自動編程 如圖1 9所不’編程操作首先係輸入資料輸入命令 裝 的,,80h,,(h表示16進位數),在全部之資料記憶電路 310 31n/2的第-鎖存電路LAT (A)上設定有資料” 1,,(不執行 寫入)。·之後,因應信號ALE及信號WE的雙態觸變,輸入 位址及資料。因此,被行位址指定的資料記憶電路上連續 的供應有資料。 自外邵輸人的資料為顯示不執行寫人的資料,,「,時,圖5 線 所示之資料記憶電路的節點NC4高電平。此外,自外部 輸入的資料為顯示執行窝人的資料”Q,,時,節點nc為低電 平。以後,第-鎖存電路LAT⑻的資料變成節點nc的電 位。 之後,如圖1 9所示,輸入自動編程之執行命令 的l〇h”,自動編程開始。使用Ecc碼時,於,,i〇h,,命令輸 入後,藉由ECC碼產生電路8自動製作ECC碼,將該碼供應 至資料記憶電路。之後,自動編程操作開始。 -32- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(30 ) 如圖20所示’倍速編程操作於輸入資料輸入命 令8 0 h 、位址及'貝料後,輸出虛擬BUSy信號,因此輸入 命令” 1 1 h”。該虛擬編程在1·5 β s的短時間内輸出刖吓信 號。使用ECC碼時,於該命令,,llh”後,產生ECC碼,將該 碼供應至資料記憶電路。因此Busy信號的時間比ι ·5 “ s長。 將上述命令”8 Oh,,、位址、資料及命令,,Uh,,的輸入改 變陣列位址(A 15, A 16)執行4次。但是,僅在最後輸入命 令” 1 0 h ”取代命令” 1 1 h ”,來執行自動編程。此外,在第 二次以後的命令,,80h,,中,不重設第一鎖存電路lat(a)。 區塊位址(A 1 7〜A2 6)雖每次任意的位址被輸入。但 是’圖1所示的列位址暫存器丨8於下一個位址被輸入時, 前一個位址消失。因此,圖i所示之陣列區塊鎖存電路!9 於每次位址輸入時鎖存區塊位址至各陣列内。 自動編程命令” 1 〇 h ”輸入後,編程操作被執行。但是, 因本記憶體為多值記憶體,因此在一個記憶體單元内記情 2位元的資料。該2位元如前述的分配至位址a 9。亦即, 位址A9為低電平時,第一頁被指定,位址A9為高電平 時,第二頁被指定。第一、第二頁的寫入順序如圖2丨、圖 22所示。此外,本記憶體首先寫入第一頁的資料,之後寫 入第二頁的資料。首先,參照圖2 1、圖2 2概略說明第—、 第二頁的編程。 在圖2 1所示之第一頁的編程中,設置在各資料記憶電路 310〜3111/2的;貝料被編程在記憶體單元内(3丁1),之後,驗_ 讀出是否正確寫入(ST2)。亦即,記憶體單元的資料被讀 ____ -33- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) '~~~ ;--- 543200 A7
543200 A7 B7 五、發明説明(32 ) 省略。 第一頁自動編程 圖2 3顯示第一頁編程時的各部操作順序。如圖5、圖2 3 所示,將供應至資料記憶電路之電晶體6 1 h之閘極上的信 號 BLC1作為 VCC +Vth,信號 BLSA作為 Vpass,BLTR作為 VCC。 此時,第一鎖存電路LAT(A)内記憶有資料”1”(不執行寫入) 時,位元線B L的電位為VCC。此外,記憶有資料,,〇,,(執行 寫入)時,位元線的電位為接地電位VSS。此外,連接於所 選擇的字線,非選擇頁的(位元線為非選擇)單元不可執行 寫入。因此,連接於這些單元之位元線的電位與供應有資 料”1”之位元線同樣為電位VCC。 此處,藉由圖1所示之C G驅動電路9,選擇線SG1變成 VCC,選擇線SG2變成VSS,選擇C G線上外加VPGM (20V), 非選擇字線上外加Vpass (10V)。如此,被區塊選擇電路6所 選擇之區塊(倍速時,逐一存在於各陣列)的選擇線SG1為 VCC ’選擇字線為VPGM (20V),非選擇字線為VPASS (10V)。 位元線為VSS時,單元的通道為VSS,字線為VPGM。因此, 該單元被編程。另外,字線為VCC時,單元的通道並非 VSS ’而是藉由VPGM上昇,而耦合成VPGM/2。因此該單元 未被編程。 如此,如圖1 6、圖1 7所示,寫入有資料,,0,,的記憶體單 元為狀態” 1,,。此外,寫入有資料,,丨,,的記憶體單元仍然維 持狀態”0”。 第一_夏竭1 驗證 _ -35- 本紙張尺度適用中國國家榡準(CNS) A4規格(21〇 X 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(33 ) 其次,編程驗證被執行(圖2 1,S T 2 )。 圖2 4顯示編程驗證的操作,圖2 5顯示編程驗證時的各部 順序。 如圖、16所示,第一頁編程驗證讀出在所選擇的字線上供 應高於讀出時之電位b的電位b ’。以後,”,”表示驗證電 位,為高於讀出時字線電位若干的值。 其次,如圖2 5所示,在所選擇之區塊内的非選擇字線及 選擇線SG1上供應有電壓Vread。並使供應至圖5所示之資料 記憶電路之電晶體6 1 g閘極上的信號BIAS處於高電平 (1.6V),位元線被預充電。 之後,使記憶體單元之源極端的選擇線SG2處於高電平 (Vread)。由於記憶體單元的臨限值電壓高於電位b ’時,記 憶體單元關閉,因此位元線保持高電平。此外,由於記憶 體單元的臨限值電壓未達電位b ’時,記憶體單元開啟,因 此位元線的電位成為低電平(VSS)。 此時,於執行寫入時,圖5所示之第一鎖存電路LAT (A) 的節點NA上鎖存有低電平(資料”0”)。此外,不執行寫入 時,節點N A上鎖存有高電平(資料’’ 1 ”)。因此,供應至電 晶體611之電流通路的信號VREG變成VCC,供應至閘極上的 信號VRFY1處於高電平時,僅不執行寫入時的位元線自漂 浮狀態固定在高電平。該操作後,位元線的電位被讀入第 一鎖存電路LAT (A)内。第一鎖存電路LAT (A)上鎖存有高電 平,係在記憶體單元之電位達到臨限值電壓時,與不執行 寫入時。此外,第一鎖存電路LAT (A)上鎖存有低電平時, -36- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(34 僅為記憶體單元的電位未達臨限值電壓時。 饮因此,第一鎖#電路LAT⑷為低電平時,再度執行窝入 操作’於全邵資料記憶電路的資料達到高電平前,重複上 述編程操作與驗證讀出操作(圖21 ’ ST1〜ST5卜 " 第二頁編裎 第二頁編程也與第-頁編程同樣的自外部輸入有第二頁 的資料。這些資料記憶在各資料記憶電路勝歸的第二 鎖存電路LAT (A)内。 第二頁編程操作與第―頁編程操作主要差異在於内部資 枓載入(則)。第二頁編程操作視第一頁編程的操作結果 而定。 亦即,如圖16、圖17A所楚 π , 口 7 A所777罘一頁之記憶體單元的資 料為狀態,,0,,(未執扞官r、t 、 A,,o,,m )時’第二頁的資科 u” 將记匕姐早兀的資料設定成狀 』3。弟二頁之資料為” Γ,(不執料人)時,記㈣ 的資料仍保持狀態,,〇,,。記悻體 〜 兀 # u恤早兀的資料為狀態,,1,,(在 '-頁上執行寫入操作)時,第二頁的資料為”"執行寫 ::,,::=1元的資料設定成狀態”21 =,,:(不執行寫入)時’記憶體單元的資料保持狀 二而將ΓΓ程操作視第一頁編程的操作結果而定。 二單二:頁的資料寫入單元之前,須先檢查、記憶記 L、η豆早兀的為料為狀態,,〇 ”戋 單元的資料η 因此,讀出記憶體 卩’並執行載人圖5所示之資料記憶電路之第二 -37 本紙張尺度適财S S家^^^71^(210X297公釐)_ 543200 五、發明説明(35 =,lat(b)内之内部資料的載人(stii)。該内部資料 2入在竽線上供應圖16所示的電位a :該讀出結果記憶在資科記憶電路的第二鎖存電路二) 圖26錢示内部資料載人時的操作,圖27顯示 =一下,參照圖… ,::料載入時’首先’將圖5所示之資料記憶電路之 弟一鎖存電路LAT(A)的資料記憶在非選擇端的位元線上。 其久,在字線上外加電位a,執行讀出操作。將該社果記 憶在第-鎖存電路LAT(A)内。記憶體單元的資料為心,, 時’第-鎖存電路LAT⑷内鎖存有資料,,〇,,,記 =為Y時,第-鎖存電路叫A)内記憶有資 其次,在第二鎖存電路LAT⑻的資料成為,,丨,,後, 號酸上外加中間電位1V,使信號卿成為電壓卿,^ 信號TO成為高電平。此時’第—鎖存電路匕 資料”1” ’亦即記憶體單元的資料為”丄,,時,第二鎖存兩踗 LAT⑻的資料為,,〇,,。第—鎖存電路lat㈧的^ 為亦即記憶體單元的資料為狀態”i,,時,第二鎖疒心 路LAT⑻的資料仍然為,τ。之後,將記憶在非選擇:: 位元線上的資料送回第一鎖存電路LAT (A)。 其次,與第一頁編程同樣的,在各部上外加指定電壓。 在此狀態下,因應記憶在第一鎖存電路lat(a)内的。 ____-38- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(36 ) 資料,對所選擇的全部單元執行寫入(圖2 2,ST12)。 弟二頁驗證 第二頁驗證包含第一驗證讀出(ST13)及第二驗證讀出 (ST14)兩個步驟。第一驗證讀出(ST13)在驗證記憶體單元的 資料是否為狀態’’ 2 ’’。第二驗證讀出(ST14)在驗證記憶體單 元的資料是否為狀態” 3 ”。 第二頁第一驗證讀出 圖2 6 B顯示第二頁第一驗證讀出的操作,圖2 8顯示第二 頁第一驗證讀出時各部的順序。 如圖1 6所示,該驗證係在字線上外加電位b ’來執行讀出 操作。位元線於記憶體單元的臨限值電壓達到b’時變成高 電平,於未達臨限值電壓b ’時為低電平。但是此時,記憶 體單元之資料為狀態” 3 ”的單元也關閉,因此驗證為Ο K。 因而,第一頁的寫入操作時並未寫入,將連接於資料為狀 態” 0 ’’之記憶體單元之位元線的電位變成低電平。 亦即,第一頁的寫入操作時並未寫入,於記憶體單元的 資料為狀態” 0 ”時,第二鎖存電路LAT (B)的節點N D藉由上 述内部資料載入而處於高電平。此種狀態下,如圖2 8所 示,將供應至圖5所示之電晶體6 1 u之電流通路的信號 VREG變成接地電壓VSS,將供應至閘極上的信號VRFY2變成 高電平。如此,於第二鎖存電路LAT (B)的節點N D為高電 平時,電晶體6 11開啟,位元線被強制處於低電平。 其次,與第一頁驗證操作同樣的,將信號VREG變成電源 電壓VCC,使供應至電晶體6 1 1之閘極上的信號VRFY1處於 -39- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐)
裝 气丁 •4 ::平。如此’在第-鎖存電路LAT(A)的節點Nc上銷存 有南電不執行寫入時)時,電晶體川開敌。因而位元 ^達到冋私平。⑭作之後,位元線的電位被讀 存電路LAT(A)内。 … 如圖26:所示’藉由上述操作,在第一鎖存電紅鄉) 上鎖存有面電平係、在因使記憶體單元之資料處;^狀態,,2,, 而執饤寫人的早疋達到臨限值電壓時,與不執行寫入時。 此外,第-鎖存電路LAT(A)上鎖存有低電平係在 體單元的資料處於狀態,,2”而執行寫入的單元未達臨限: 電f時’㈣行寫人之記憶體單元的資料在狀態”3”時。 頁弟二驗證讀出 圖26C顯示上述第-百梦―μ,. 時各部的順序。 ^出“作,圖25顯示此 該驗證與第一頁驗證操作完全相同。此因,高於圖…斤 不《電位,的單元’除使資料處於狀態,,3”的單元之外不 存在。第-頁驗證因驗證記憶體單元的資料 二而在字線上外加電位a,。但是此時,因係驗= W早兀的資料是否為狀態,,3” ’因此在字線上外力口電位 · = 圖了所示’第-鎖存電路LAT㈧内鎖存有高 :千係在早几達到臨限值電壓時及不執行寫入(開始即在 第鎖存電路LAT (A)内鎖存有高電平)時。此外,在第一 鎖存電路LAT(A)内鎖存有低電平係在單元未達臨限值1 時’亦即由於記憶ft單元的資料處於狀態,,3”而窝入' 543200 A7 B7 五、發明説明(38 ) 是尚未達狀態”3 ’’的NG時,與將記憶體單元的資料寫入狀 態’’ 2 ”時。· 因此,第二頁驗證係執行第一頁驗證讀出與第二頁驗證 讀出兩次。第一頁驗證為記憶體單元的資料為狀態”2,,被 寫入時的驗證讀出,第二頁驗證為在狀態” 3 ”被寫入時的 驗證讀出。再者,第一鎖存電路LAT (A)在低電平時再度執 行寫入操作。如此,於全部資料記憶電路的資料達到高電 平之前,重複該編程操作與驗證操作(圖22,ST12〜ST17)。 但是,記憶體單元之資料為狀態” 3 ”時,臨限值電壓 高。因而,該記憶體單元始終無法寫入。因此,在重複執 行編程驗證操作中,前幾次可省略驗證記憶體單元的資料 是否處於狀態” 3 ”的操作。此外,重複數次編程驗證操作 時,寫入有臨限值電壓低於狀態” 3 ”之狀態” 2 ”資料的記憶 體單元應該寫入已結束。因而,寫入有狀態”2 ”之資料的 記憶體單元於重複數次編程驗證操作後,可省略驗證。 讀出操作 圖2 9顯示讀出操作的順序。 如圖29所示,首先,輸入讀出命令”00h”後,藉由輸入 位址開始操作。讀出操作中,被位址指定之頁的全部單元 資料分別讀出至資料記憶電路310〜31n/2。之後,信號BUSY 被解除而成準備狀態時,因應信號RE的雙態觸變,依據 行位址所指定的順序自資料記憶電路輸出有資料。 圖3 0顯示倍速讀出操作的順序。該倍速讀出在一次讀出 操作中,將四個記憶體單元陣列内之頁的單元全部讀出至 -41 - 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200
各資料記憶電路内。之後,信號BUSY被解除而成準備狀態 時,因應k號RE的雙態觸·變,依據行位;止所指定的順序 自資料記憶電路輸出有資料。為—個記憶體單元陣列的最 後行位址時,輸出有短的信號BUSY(Uus)。之後,信號 BUSY被解除而成準備狀態時,因應信號的雙態觸變輸出有 下一個記憶體單元陣列的資料。重複此種操作,於一次讀 出時,4頁部分的資料被依序輸出。但是,這4頁並非連鲭 的4頁。因此,如圖6C,6D所示,需要分配位址。 ” 此外,本貫施例的記憶體為多值記憶體,於丨個單元内 記憶有2位元的資料。該2位元資料被位㈣指定。亦即 如上所述,位址A9為高電平時,第二頁被指定,位址 為低電平時,第一頁被指定。 圖31為概略顯示讀出操作的流程圖。 碩出操作於輸入讀出命令,,〇〇h,,後,藉由輸入位址開始 (ST21)。位址A9為高電平時,第二頁的資料被讀出 (ST25)。該第二頁讀出如圖16、圖l7A所示,被判定記憶 體單元的資料是否為”2,,以下。 八/人,位址A 9為南電平時,第一頁的資料被讀出。第一 ^的讀出操作包含兩個讀出操作。第—讀出操作(第一頁 謂出1) (ST22)如圖丨6、圖丨7 A所示,判定記憶體單元的資 料是否為”2,,以下或為,,3,,。第二讀出操作(第一頁讀出2) (ST24)如圖丨6、圖丨7 a所示,判定記憶體單元的資料是否 為”1”或”2”以上。 ' 另外,對應於部分良品之不良區塊區塊選擇電路的熔絲 --- - -42- 本祇張尺度適A4^(21q^^—
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543200 A7 B7 五、發明説明(40 H)9被切斷。因此,在2值及4值的第二頁讀出操作中,存 取不艮區塊時,該不良區塊不被選擇,電流未流入。因 此,資料,,〇,,自動被輸出。但是,在4值的記憶體中,於第 -頁的讀出操作時,藉由第一、第二讀出操作(第一頁讀 出U 2)輸出有資料,T。但是,藉由自圖U所示之反向器 電路114所輸出的信號FUSECU丁,可知炼絲是否被切斷。因 而,於熔絲109被切斷時,使輸出資料,,〇,,,僅執行第一讀 出操作(第-頁讀出D,而不執行第二讀出; 出 2) (ST23)。 、 其次,參照圖32至圖35詳細說明讀出操作。 第二頁讀出 如圖16所示,第二頁讀出係在所選擇的字線上外加有讀 出時的電位c。 其次,如圖34所示,在所選擇之區塊内的非選擇字線及 選擇線SG1上外加Vread (4·5ν)。再於圖5所示之資料記憶電 路之電晶體6 1 g的閘極上外加高電平的mAS,將位元線予 以預充電。之後,將單元之源極端的選擇線SG2變成高= 平。由於單兀的臨限值電壓高於電位c時單元關閉,因此 位元線保持高電平。此外,由於單元之臨限值電壓未達電 位c時單元開啟,因此位元線成為接地電位vss。如圖1 7 A 所不,疋義記憶體單元的資料與記憶體單元的臨限值電 壓。因此,記憶體單元的資料為狀態,,〇,,或狀態”丨,,時,位 元線的電位為低電平,為狀態” 2,,或狀態”3,,時,位元線的 電位為高電平。 、
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M3200 41 五、發明説明( 人,'些位兀線的電位被讀入第-鎖存電路LAT㈧ 。圖5所不< 第—鎖存電路LAT㈧的節點Na,如 所示,於記憶體單元的資料為狀態”〇,,或狀態”^ 平’絲態”2”或狀態,,3”時為高電平$卜,節,點nb: f與即點ΝΑ相反的電平。行選擇線说處於高電平時,電 哭4。 ^NB、NA^私位輸出至輸出緩衝 第一頁讀出 資 料:二了一頁的資料被讀出。被第一頁讀出所輸出的] +為1 #,如圖17A所示,記憶體單元的 或狀態”3”。 心 μ因此,首先判斷記憶體單元的資料為狀態”2”以下或狀 態,,3,,。纟次必須判斷記憶體單元的資料為狀態,,『或狀 態’’ 1 ”以上。 羞一讀出操作 第一讀出操作中判斷記憶體單元的資料為狀能,,”以下 或狀態,τ。圖33Α顯示第-頁第一讀出操作,圖23的左 半部顯示此時的順序。圖35的順序與圖34相同。 二首先,為求檢查記憶體單元的資料為狀態” 2,,以下或為 狀怨3 ’在字線上外加電位c,讀出記憶體單元的資料。 結果,第—鎖存電路LAT㈧内鎖存有高電平,如圖33 Α所 不,僅在記憶體單元的資料為狀態,,3,,時。此外,第一鎖 存電路LAT (A)内鎖存有低電平時,係在記憶體單元的資料 為狀態或狀態,,厂,或狀態,,2,,時。 -44- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X297公釐) A7 A7 B7 五、發明説明(42 % 態,,〇,,或為狀態,,i,出^作中’判斷記憶體單元的資料為狀 作,圖35的右半部八3 3B_不第-頁第二讀出操 、、 牛邵刀頌示此時的順序。 為求檢查記恃科留- ,十、 早兀的資料為狀態”〇,、ά狀能,,丨”以 上,在芊線上外加雷俨u 及為狀悲1以 果,第—鎖存電mAT、a, 憶體單元的資料。結 元的资料為狀〜,(A)内鎖存有低電平,僅在記憶體單 “高電平?,”時,^ 能H狀4 2在β憶體單元的資料為狀態”1”或狀 心Ζ 或狀怨” 3,,時。 裝 此時’將圖5所示的作號ν 作 至電曰騎川、。咫0芰成接地電位VSS,將供應 雨日日月丘《甲1極上的信號VRPY1變成高電平。第一鎖存 龟路LAT (A)内鎖存有高南平每,、 一 作中,-己产一-A ^ E P ’第—頁第-讀出操 二:…的資科為狀態,,3”時,位元線被強制處 陆平。結果,記憶體單元的資料為狀態,,0,,或狀態”3” 線 狀能!\兀線1電位為低電平。此外,記憶體單元的資料為 怨1或狀恐”2”時,位元線的電位為高電平。 其久’將这些位元.線的電位讀人第—鎖存電路Μ㈧内 :’如圖33B所示’記憶體單元的資料為狀態”〇”、狀 態”3”時,第一鎖存電路LAT(A)的節點Na為低電平。此 外’為狀態” i ”、狀態”2”時,節點NA4高電平。此外, 節點NB形成與節點NA相反的電平。行選擇線现處於高 電平時,電晶體61〇, 61n開啟,節點Νβ、NA的電位輸出 至輸出緩衝器4。 --—— -45 - 本紙張尺度適用巾S S家料(CNS) A4規格(21GX 297公釐)—一 5432〇〇 A7 B7 五、發明説明(43 自動刪除 圖3 6顯示刪除操作。删 冊i除操作係以區塊為單 除。因此,首先輸入選s F楠、广^ 勺平仫執仃刪 别八碱擇£塊<區塊選擇命令, 後,輸入區塊位址。之德於λ & t t 《 <後輸入自動刪除之執行命 時,自動刪除開始執行。 h 圖37顯示倍速刪除操作。倍速刪除操作改變陣列位址 ⑷5,綱’輸入三次區塊選擇命令”6〇h” '區塊位址。之 後,藉由輸入區塊選擇命令,,6f)h,, _ 卩7 60h 、位址、自動刪PMii行 咋令’’DOh”,倍速刪除操作開始執行。 區塊位址(A17〜A26)雖每次任意的位址被輸人,但是圖^ 所示的列位址暫存器18輸人有下―個位㈣,前—個位址 即消失。因此’每次位址輸入時,係以,所示之陣列區 塊電路1 9將區塊位址鎖存在記憶體單元陣列内。 圖38顯示自動刪除時的流程圖。首先,執行所選擇之區 塊的刪除操作(ST31)。之後,連接於資料記憶電路上之兩 條位7L線(BLi,BL+1)中的一條位元線(BU)執行刪除驗證讀 出操作,尚未完全被刪除時,再度執行刪除(ST32〜s^5, ST31)。1己憶體單元完全被刪除時,另一條位元線(Bu)執行 刪除驗證讀出操作(ST36)。結果,尚未完全被刪除時,再 度執行刪除(ST36〜ST39, ST31)。記憶體單元完全被刪除時結 束操作。 。 在將不良區塊替換成區塊冗餘前的測試步驟中,於各刪 除驗證操作ST33, ST36之後,統計被鎖存在第一鎖存電路 LAT (A)内之低電平資料數量,亦即統計驗證失敗的數量。 -46- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 x 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(44 ) 該統計值超過規定值(本例中,行冗餘為4個時,規定值為 4,行冗餘為8個時,規定值為8)時,再度重複刪除測試 (ST34,ST38)。 另外,部分良品的不良區塊於測試後,熔絲109被切斷。 因此’存取該不良區塊時’該不良區塊不被選擇。因此’ 第一鎖存電路LAT (A)的資料成為低電平,刪除驗證未達 Ο K。但是,藉由自圖1 2所示之反向器電路114所輸出的信 號FUSECUT,暸解熔絲109是否被切斷。因此,熔絲109因應 信號FUSECUT被切斷時,驗證變成OK。 刪除 圖3 9顯示刪除操作的順序。執行刪除操作時,記憶體單 元的資料成為狀態”0”,不論第一頁或第二頁執行讀出, 均輸出有資料” 1 ”。 刪除驗證 圖4 0顯示刪除驗證操作的順序。一次的刪除驗證操作, 係在連接於資料記憶電路之兩條位元線(BLi,BL+1)中的一 條位元線(BLi)執行刪除驗證讀出操作。因此,使區塊内全 部的字線WL處於選擇狀態的VSS。在單元的源極線SRC成 為VDD,選擇線SG1成為Vread後,使單元之源極端的選擇線 SG2成為Vread。在單元的汲極端,亦即位元線上輸出有1 6 個單元中最淺單元的一 Vth電位。 此時,使第一鎖存電路LAT (A)處於高電平,使信號BLC1 成為1.6V時,於Vth為一0.6V以下(删除確實)時,第一鎖存電 路LAT (A)保持高電平。但是,Vth為一0.6V以上(刪除不確實) -47- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(45 ) 時,第一鎖存電路LAT (A)的資料變成低電平。因此,第一 鎖存電路LAT (A)全部的資料為高電平時,刪除驗證變成 OK。 步升移位測試 圖4 1顯示設置在圖1所示之控制電壓產生電路1 4内的電 壓設定電路。如前所述,控制電壓產生電路1 4具有升壓電 路。該升壓電路產生編程電壓Vpgm、刪除電壓Vera及電壓 Vpass等。如前所述,編程電壓Vpgm被分成數階段升壓。 然而,記憶體單元的特性為隨編程的變動等而改變,升 壓電路產生之上述各電壓亦隨編程的變動等而改變。因 而,需要因應晶片的特性設定編程電壓Vpgm、刪除電壓 Vera及電壓Vpass。因此,在替換成冗餘區域前的測試時, 執行自動編程及自動刪除,並依據該結果實施開始編程電 壓的設定及開始刪除電壓的設定。 圖4 1所示之電壓設定電路可因應晶片的特性設定最適切 的編程電壓Vpgm、電塵Vpass及刪除電塵Vera。 亦即,該電壓設定電路由初始資料記憶用熔絲16卜計數 器162所構成。上述初始資料記憶用熔絲161使用熔絲設定 用於控制電壓Vpgm、電壓Vpass及電壓Vera的初始資料。這 些熔絲依據自動編程及自動刪除的結果被編程。這些自動 編程及自動刪除係於替換成冗餘區域前的測試時進行。熔 絲内所設定的上述初始資料於產生電壓Vpgm、電壓Vpass及 電壓Vera時,被預置在計數器162内。計數器162可由預置計 數器構成。該計數器162内供應有信號CT1,CT2。該計數器 -48- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
裝 訂
五、發明説明(46 ) 162的輸出信號如連接於升壓電路163的限制器,使該限制 器的限制值改變。 上述信號CT1如一次編程或刪除操作結束,驗證為N G時 被供應。計數器162藉由該信號CT1被遞增。因而,因應計 數器162的輸出信號來控制限制器,自升壓電路163輸出高1 步的電壓。 此外,上述信號CT2為顯示本實施例的特徵者。亦即, 於測試模式時,使資料被初始資料記憶用熔絲161讀出的開 始編程電壓及開始刪除電壓遞增數步部分。 先別之械调後的加速測試均附加稍南的開始編程電壓及 開始刪除電壓。但是,藉由使用信號CT2,可具備加速測 試用土數步改變的功能。因此,可附加適應於各個晶片的 電壓。 此外,在形成低於以初始資料記憶用熔絲161設定電壓 Vpass,Vpgm之資料電壓之編程非選擇的加速測試等時,必 須使計數器162向負方向遞增。但是,此種可向負方向遞增 的計數器複雜。因而使用信號CT2,藉由使計數器遞增(1 周)一(數步)部分,設定成低於以初始資料記憶用熔絲161 所設定之資料的電壓。藉由此種構造,不使用複雜的計數 器即可設定所需值。 依據上述第一實施例,記憶體單元陣列1具有數個區塊 bklO〜bkl23及數個區塊冗餘blkRDO〜blkRD9。各區塊bklO〜bkl23及 各區塊冗餘blkRDO〜blkRD9上設有區塊選擇電路6 a。各區塊 選擇電路6 a具有熔絲109,藉由切斷該熔絲109,可將任何 -49- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 A7 B7
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五、發明説明U8 ) 其次說明本發明的第二種實施例。第一種實施例係於1 頁的寫入‘作時寫入i位元的資料。&第二種實施例則是 於1頁的寫入操作時寫入i位元,於2頁同時寫入操作時可 連績寫入2位元,於同時寫入連續頁次時可快速寫入。 第一種實施例於分別編程第一頁及第二頁時,第一頁的 編程寫入1個臨限值,第二頁的編程寫入2個臨限值。而於 第一頁及第二頁同時編程時寫入3個臨限值。 圖4 2顯示適用於第二種實施例之資料記憶電路的構造。 此處,為便於說明,資料記憶電路具有3條鎖存電路(亦可 以2條鎖存電路一次寫入3個臨限值)。 圖4 2中與圖5相同的部分註記相同符號,以下僅說明不 同部分。圖42所示的資料記憶電路還具有第三鎖存電路 LAT (C)第一鎖存電路LAT (C)中,上述節點n £上連接有 電晶體6 2 f之電流通路的一端。該電晶體6 2 f的閘極上供應 有k唬BLC3。該電晶體6 2 f之電流通路的另一端上,經由p 通道MOS電晶體62j連接有端子62i。該端子62i上供應有 見壓VCC。上述電晶體6 2 j的閘極上供應有信號pRSTB3。 上述電晶體6 2 f之電流通路的另一端上連接有第三鎖存 包路1^丁(c)。孩第三鎖存電路LAT (c)由兩條時脈反向器電 路62k,621構成。時脈反向器電路62k被信號SEN3, $咖犯控 制,時脈反向器電路621被信號LAT3, LAT3B控制。該第三鎖 存電路LAT (C)鎖存自記憶體單元所讀出的資料。 此外,上述節點NE上串聯有電晶體6 2 q,6 2 h。電晶體 62q的閘極連接於上述第三鎖存電路LAT(C)的節點nf,電 -51 - 543200 A7 B7 五、發明説明(49
。且電晶體6 2 h的電流 體6 2 q,6 2 h因應被鎖 :定位元線的電位。 屋―一頁_ 矛二寺編程 圖43 第一頁、第二頁同時編程的操作順序,圖、 圖4 5顯示各部的操作。圖4 6顯示流程圖。 第頁第一頁同時編程時,亦與圖1 9同樣的,首先, 繼資料輸入命令’’ 8 〇 h,,>接,於X /二4· l 次l丨 , υ 11 <傻,輸入位址 '資料。自外部輸 入的資料為顯示不執行寫入的資料”丨,,時,圖42之第一鎖 存電路LAT (A)的節點N C為高電平。此外,自外部輸入之 資料為顯示執行寫入的資料,,〇,,時,節點Nc為高電平。 其次,如圖4 4所示,移動被鎖存在第一鎖存電路lAT (A) 内之賀料至第二鎖存電路LAT (B)。因此,與上述倍速編程 同樣的輸入命令”12h,,。該命令亦短,為uvs。此時,將 第一鎖存電路LAT (A)的内容轉移至第二鎖存電路lAT (β) 内。之後,再度輸入命令”80h,,、位址、資料。此時之位 址為與先前輸入之位址相鄰的頁位址(僅A 9不同)。該資料 被索存在第一鎖存電路LAT (A)内。之後,輸入自動編程執 行命令’’ 1 0 h ”時,自動編程開始執行。 由於驗證記憶體單元的資料是否為狀態,,丨,,時,寫入狀 態”2”與”3 ’’的記憶體單元亦為〇κ。因而,強制使其 N G。因而將對應於寫入狀態’’ 2 ”,“ 3,,之記憶體單元的第 二鎖存電路LAT (B)變成資料’’ 1 ”。由於驗證記憶體單元之 資料是否為狀態”2”時,寫入狀態”3,,的記憶體單元亦為 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210X 297公釐) 543200 A7 B7 五、發明説明(50 ) OK。因而將對應於寫入狀態“3 ’’之記憶體單元的第三鎖存 電路LAT(C)變成資料”1”,強制使其NG。 亦即,首先,顯示被鎖存在第一鎖存電路LAT (A)及第二 鎖存電路LAT (B)内之其中之一或兩個資料寫入為資料’’ 0 ” 時,將第一鎖存電路LAT (A)變成寫入狀態。 如圖4 5 A所示,為執行這些操作而對調第二鎖存電路 LAT (B)與第三鎖存電路LAT (C)的資料。結果對狀態,,3,,之 寫入的第二鎖存電路LAT (B)成為高電平,對狀態” 2 ”3 ’’ 之寫入的第三鎖存電路LAT (C)成為高電平(ST41)。 之後,執行編程操作。該編程操作依據圖2 3所示的順 序,與第一頁、第二頁分別執行之編程時完全相同 (ST42)。 圖4 5B,45C,45D顯示驗證操作。 在判定、驗證圖4 5 B所示之記憶體單元的資料是否為狀 態” 1 ”中,寫入狀態”2”與狀態”3 ”的記憶體單元亦為 OK。但是,依據上述操作寫入狀態”2”與狀態”3”時,第 三鎖存電路LAT (C)成為高電平。因此,強制將位元線變成 低電平而成為NG (ST43)。 此外,在判定、驗證圖4 5 C所示之記憶體單元的資料是 否為狀態” 2 ’’中,寫入狀態’’ 3 ’’的記憶體單元亦為〇K。但 是,依據上述操作寫入狀態” 3 ”時,第二鎖存電路LAT (B) 成為高電平。因此,強制將位元線變成低電平而成為NG (ST44)。 再者,在判定、驗證圖4 5 D所示之記憶體單元的資料是 -53- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐) 543200 A7
否為狀態”3,,中,為0K者僅為寫入狀態,,3,,時。 因此,第一鎖存電路LAT (A)為低電平時,不執疒)、、 入操作,而是重複該編程操作與驗證操作,直至仃=度寫 資料記憶電路之第一鎖存電路以丁㈧的資料 (ST48)。 、主」π电平 另外:在將不良區塊替換成區塊冗餘之前的測試步驴 中’統計被鎖存在第一鎖存電路LAT(A)内之低電平資料數 量,f即統計驗證失敗數量。該統計值超過規定⑴本例 中’仃冗餘為4個時,規定值為4,行冗餘為8個時,規定 值為8)時,再度重複編程驗證,於降低到規定值以下時疋 結束編程操作(ST46, ST47)。 差二頁、第二頁倍诗 圖47為第一頁、第二頁同時編程,且顯示倍速編程的操 作。此時亦與上述同樣的,首先輸入命令”8〇h,,、位址、 貝料。琢資料被索存在第一鎖存電路LAT (A)内。其次,輸 入命令,’12h,,,輸出信號即吖。之後,將第一鎖存電路 lat(a)《資料轉移至第二鎖#電路[八丁⑼内。卩度輸入命 令’ 8 0 h ’’、位址(與先前輸入之位址相鄰的頁位址)、資 料 llh 輸出仏號BUSY。執行4次該操作來改變 陣列位址(A15, A16)。但是,最後係輸入自動編程執行的命 令’ 1 0 h ” ’而非命令”丨丨h ”,開始實際的編程。 上述第二種實施例係同時編程第一、第二頁。因此可縮 短編程時間。 再者,藉由執行倍速編程,還可進一步縮短編程時間。 4:------- -54- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α^^-χ撕公爱)一 543200 A7 B7 五 發明説明(52 ) 另外,第一、第二種實施例中,區塊選擇電路6 a具有熔 絲109,禁止寫入電路1 5 a及禁止刪除電路1 5 b具有熔絲151c, 152c,不過並不限定於熔絲,例如,亦可使用EEPOM單元等 的非揮發性記憶體。有關其他的溶絲亦同。 -55- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)
Claims (1)
- A8 B8 C8 D8 、申請專利範圍 1 ·種半導體記憶體,其包含: 記憶體單元陣列,其係具有第一、第 述第一記憶區域具有由位址信號 ^〔戈上 .L Α/. 現所選擇的數個記憶元 :广二記憶區域具有由控制信號所選擇的 •fe 7L件;及 丄空制電路’其係具有溶絲元件’上述控制電路切斷上 件時,禁止對上述第二記憶區域寫入及/或刪 2. 如申^請專利範圍第i項之半導體記憶體,其中還包含 、第三記憶區域’其係替換上述第一記 記憶元件。 R 3. 如申請專利範圍第2項之_導體記憶體,其中 上述控制電路控制將上述第=却 記憶區域。 U — A㈣變成上述第二 4. 如申請專利範圍.第3項之半導體記憶體’其中 上述第一1己憶區域係記憶安全資訊。 5·如申請專利範圍第!項之半導體記憶體’其中還包各 選擇電路,其係選擇上述第二記_ G。 叱L區域,上述選擇電 路於批次編程及批次刪除時,將、 非選擇。 …弟-記憶區域變成 6· —種半導體記憶體,其包含: 、:憶體單元陣列’其係具有第―、第二記憶區域,上 t弟5己丨思區域具有由位址信號所ίΡ ^ ^ y 他L , I π選擇的數個記憶元 ,以弟二記憶區域具有由控制信號所選擇的數個記 -56- 543200 A B c D 六、申請專利範圍 憶元件; J擇電路’其係分別對應於上述第一、第二記憶區域 汉、,述各選擇電路具有溶絲元件,因應位址信號選 擇上逑第一或第二記憶區域,·及 、開關兀件’其係並聯於上述熔絲元件,上述開關元件 於上逑熔絲元件被切斷的狀態下,因應控制信號被導 通,將上述選擇電路設定成可選擇。 7·如=請專利範圍第6項之半導體記憶體,其中還包含 第三記憶區域,其係替換上述第一記憶區域内的不良 記憶元件。 8. 如申請專利範圍第7項之半導體記憶體,其中 ,上述控制電路控制將上述第三記憶區域變成上述第二 記憶區域。 9. 如申請專利範圍第8項之半導體記憶體,其中 上述第一兄憶、區域記憶安全資訊。 10. 如申請專利範圍第6項之半導體記憶體,其中還包本 選擇電路,其係選擇上述第二記憶區域,上述^選^擇電 路於批次編程及批次刪除時,將上 非選擇。 11. 如申請專利範圍第6項之半導體記憶體,其中還包各 檢測電路,其係檢測上述熔絲元件(丨〇 9 )的狀能。 12· —種半導體記憶體,其包含: & 數個區塊,其係具有數個記憶元件; 記憶電路,其係對應於上述各區塊來設置,上述記情 -57- 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) A4規格(210 X 297公釐)申請專利範私路口己fe第-邏輯位準或第二邏輯位準的資料; —,其係檢測上述記憶電路的記憶狀態:及 S %路’其係自上述各區塊的記憶元 =出電路藉由上述檢測電路檢測上述記憶電路二 =述第一邏輯位準時,輸出上述區塊内之記憶元件 2料,於檢測上述記憶電路所記憶之上述第: =不依據上述區塊内之記憶元件的資料,而輸出- 疋的值。 13·如申請專利範圍第12項之半導體記憶體,其中 一=記憶電路於對應之上述區塊不良時,記憶上述第 一遴輯位準的資料。 14·如申請專利範圍第12項之半導體記憶體,其中 —上述記憶電路為溶絲幻牛及EEPR〇M單元中的其中 15·種半導體記憶·體,其包含: 」一記,_(512行)’其係具有數個記憶元件,上 述第一記憶區域記憶自外部輸入的資料; 錯誤訂正碼產生電路,其係產生錯誤訂正碼;及 第…己憶區域(ECC碼區域),其係記憶對應於自上述 外部輸人之資料,由上述錯誤訂正碼產生電路所產生的 錯誤可正碼’上述第二記憶區域於上述錯誤訂正碼產生 電路未開啟時,使用於替換上述第—記憶區域内的不良 記憶元件。 16.如申凊專利範圍第i 5項之半導體記憶體,其中還包含, 本紙張尺度適G關家標準(CNS) A4規格(210 X 297公董) -58- 543200 A8 B8 C8&制部,其係設定上述錯誤訂正碼產生電路開啟或不 開啟。 17.如:請專利範圍第16項之半導體記憶體,其中還包含, 。斗己L部,其係接收寫入資料及上述錯誤訂正碼產 生,路所供應的錯誤訂正碼,上述資料記憶部連接於上 述第一、第二記憶區域的行線。 18·如申請專利範圍第17項之半導體記憶體,其中還包含: 行位址暫存器,其係接收行位址信號;及 仃解碼咨,其係連接於上述行位址暫存器及上述資料 ^將上述行位址暫存器所供應之上述行位址信號 予以解碼,上述行解碼器於上述錯誤訂正碼產生電路被 開啟f選擇夕於上述錯誤訂正碼產生電路未開啟時的 行線。 19.如申請專利範圍第! 8項之半導體記憶體,其中 上述行解碼器.包含行預解碼器,上述行預解碼器於上 述錯誤訂正碼產生電路開啟時,預先將位址信號予以編 碼,於上述錯誤訂正碼產生電路未開啟時,停止預解 碼,輸出選擇行冗餘的信號。 20· —種半導體記憶體,其包含: 記憶單元; 電壓產生電路,其係產生用於控制上述記憶體單元之 操作的電壓; 兒憶電路,其係記憶由上述電壓產生電路所產生之電 壓的初始值; -59-M3200计數备,其係連接於上述記憶電路及上述電壓產生電 、匕制因應自上述記憶電路供應之初始值,由上述電 壓產生電路所產生的電壓成階段狀;及 兒 第一信號,其係於測試模式時供應至上述計數器,上 述第一信號使上述計數器的值逐步改變。 21. 如申請專利範圍第2 〇項之半導體記憶體,其中 、上述記憶電路至少記憶資料的編程電壓及刪除 初始值。 22. 如申請專利範圍第2丨項之半導體記憶體,其中 上述第-信號將供應至上述計數器之編程電壓 電壓的初始值予以逐步遞增。 μ 23. 如申請專利範圍第2〇項之半導體記憶體,其中還包本, 第二信號,其係於上述一次編程或刪除操作钟束,户 證為N G時,供應至上述計數器。 〜 -60-本紙張尺度適用中國國家標準(CNS) Α4規格(210 X 297公釐)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2000297443A JP4184586B2 (ja) | 2000-09-28 | 2000-09-28 | 半導体記憶装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
TW543200B true TW543200B (en) | 2003-07-21 |
Family
ID=18779560
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
TW090122891A TW543200B (en) | 2000-09-28 | 2001-09-14 | Nonvolatile semiconductor memory device |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (8) | US6600676B2 (zh) |
JP (1) | JP4184586B2 (zh) |
KR (1) | KR100458411B1 (zh) |
CN (5) | CN101154461B (zh) |
TW (1) | TW543200B (zh) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7913061B2 (en) | 2003-12-30 | 2011-03-22 | Sandisk Corporation | Non-volatile memory and method with memory planes alignment |
US9817593B1 (en) | 2016-07-11 | 2017-11-14 | Sandisk Technologies Llc | Block management in non-volatile memory system with non-blocking control sync system |
TWI813733B (zh) * | 2018-08-07 | 2023-09-01 | 南韓商三星電子股份有限公司 | 檢測設備以及操作檢測設備的方法 |
Families Citing this family (45)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5362545A (en) * | 1993-03-24 | 1994-11-08 | Tingley Daniel A | Aligned fiber reinforcement panel for structural wood members |
USRE40110E1 (en) * | 1999-09-20 | 2008-02-26 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Nonvolatile semiconductor memory device for storing multivalued data |
FR2810438B1 (fr) * | 2000-06-19 | 2002-09-06 | St Microelectronics Sa | Circuit de detection d'usure |
JP4184586B2 (ja) * | 2000-09-28 | 2008-11-19 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
DE10162308A1 (de) * | 2001-12-19 | 2003-07-03 | Philips Intellectual Property | Verfahren und Anordnung zur Zugriffssteuerung auf EEPROMs sowie ein entsprechendes Computerprogrammprodukt und eine entsprechendes computerlesbares Speichermedium |
JP2005108273A (ja) | 2003-09-26 | 2005-04-21 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP4170952B2 (ja) | 2004-01-30 | 2008-10-22 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
US7009889B2 (en) * | 2004-05-28 | 2006-03-07 | Sandisk Corporation | Comprehensive erase verification for non-volatile memory |
US7336531B2 (en) | 2004-06-25 | 2008-02-26 | Micron Technology, Inc. | Multiple level cell memory device with single bit per cell, re-mappable memory block |
KR100632946B1 (ko) * | 2004-07-13 | 2006-10-12 | 삼성전자주식회사 | 불 휘발성 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법 |
US7272050B2 (en) * | 2004-08-10 | 2007-09-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Non-volatile memory device and erase method of the same |
US7145816B2 (en) * | 2004-08-16 | 2006-12-05 | Micron Technology, Inc. | Using redundant memory for extra features |
US7298648B2 (en) * | 2004-11-19 | 2007-11-20 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Page buffer and multi-state nonvolatile memory device including the same |
KR100648281B1 (ko) * | 2005-01-14 | 2006-11-23 | 삼성전자주식회사 | 보안 리던던시 블록을 구비한 낸드 플래시 메모리 장치 |
EP1750278B1 (en) * | 2005-07-28 | 2009-11-11 | STMicroelectronics S.r.l. | Method of programming a four-level flash memory device and a related page buffer |
KR100630537B1 (ko) * | 2005-08-09 | 2006-10-02 | 주식회사 하이닉스반도체 | 듀얼 페이지 프로그램 기능을 가지는 플래시 메모리 장치의페이지 버퍼 회로 및 그 프로그램 동작 방법 |
JP4991131B2 (ja) * | 2005-08-12 | 2012-08-01 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
JP4647446B2 (ja) * | 2005-09-20 | 2011-03-09 | 富士通株式会社 | 半導体記憶装置 |
JP4846314B2 (ja) * | 2005-09-22 | 2011-12-28 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
KR100660544B1 (ko) * | 2005-10-25 | 2006-12-22 | 삼성전자주식회사 | 신뢰성을 향상시킬 수 있는 플래시 메모리 장치 |
JP4455492B2 (ja) | 2005-12-27 | 2010-04-21 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
KR100757411B1 (ko) * | 2006-02-03 | 2007-09-11 | 삼성전자주식회사 | 옵션 퓨즈 회로를 이용한 반도체 메모리 장치의 전압재설정 회로 및 그 방법 |
US7453723B2 (en) | 2006-03-01 | 2008-11-18 | Micron Technology, Inc. | Memory with weighted multi-page read |
JP4976764B2 (ja) * | 2006-07-05 | 2012-07-18 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
US7369434B2 (en) * | 2006-08-14 | 2008-05-06 | Micron Technology, Inc. | Flash memory with multi-bit read |
US7701770B2 (en) * | 2006-09-29 | 2010-04-20 | Hynix Semiconductor Inc. | Flash memory device and program method thereof |
JP2008097696A (ja) * | 2006-10-11 | 2008-04-24 | Elpida Memory Inc | 半導体装置 |
JP4871701B2 (ja) * | 2006-11-02 | 2012-02-08 | 株式会社日立製作所 | ストレージシステム |
KR100801035B1 (ko) * | 2006-12-14 | 2008-02-04 | 삼성전자주식회사 | 멀티 레벨 셀의 프로그램 방법, 페이지 버퍼 블록 및 이를포함하는 불휘발성 메모리 장치 |
JP2008192212A (ja) * | 2007-02-01 | 2008-08-21 | Spansion Llc | 半導体装置およびその制御方法 |
JP5032155B2 (ja) * | 2007-03-02 | 2012-09-26 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置、及び不揮発性半導体記憶システム |
US7916544B2 (en) | 2008-01-25 | 2011-03-29 | Micron Technology, Inc. | Random telegraph signal noise reduction scheme for semiconductor memories |
US20100180183A1 (en) * | 2009-01-12 | 2010-07-15 | Macronix International Co., Ltd. | Circuit for reducing the read disturbance in memory |
CN102081972B (zh) * | 2009-11-27 | 2015-05-20 | 上海华虹集成电路有限责任公司 | 一种eeprom器件测试电路及其测试方法 |
JP2011138569A (ja) * | 2009-12-25 | 2011-07-14 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2011150749A (ja) * | 2010-01-20 | 2011-08-04 | Toshiba Corp | 不揮発性半導体記憶装置 |
CN105788638A (zh) * | 2011-03-04 | 2016-07-20 | 瑞萨电子株式会社 | 半导体器件 |
JP2013229080A (ja) * | 2012-04-26 | 2013-11-07 | Toshiba Corp | 半導体記憶装置および半導体記憶装置のテスト方法 |
US9111624B2 (en) * | 2013-03-22 | 2015-08-18 | Katsuyuki Fujita | Semiconductor memory device |
US20150078178A1 (en) * | 2013-09-16 | 2015-03-19 | Tachyon Networks Incorporated | Software platform for implementation and control of satellite communication systems |
KR102210520B1 (ko) * | 2013-12-19 | 2021-02-02 | 삼성전자주식회사 | 비휘발성 메모리 장치 및 그것의 소거 방법 |
US9281027B1 (en) * | 2014-10-10 | 2016-03-08 | Arm Limited | Test techniques in memory devices |
CN106708592B (zh) * | 2017-01-25 | 2021-12-03 | 北京鸿智电通科技有限公司 | 一种微控制器以及用于微控制器的代码烧录方法 |
US11093164B2 (en) * | 2019-08-27 | 2021-08-17 | Micron Technology, Inc. | Handling bad blocks generated during a block erase operation |
CN115062352B (zh) * | 2022-08-16 | 2022-12-02 | 湖南进芯电子科技有限公司 | 加密区域动态调节的数据处理方法、系统及电路结构 |
Family Cites Families (28)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR960003526B1 (ko) * | 1992-10-02 | 1996-03-14 | 삼성전자주식회사 | 반도체 메모리장치 |
US4571707A (en) * | 1984-02-23 | 1986-02-18 | Nec Corporation | Memory circuit with improved redundant structure |
JPS6141192A (ja) * | 1984-07-31 | 1986-02-27 | 株式会社河合楽器製作所 | 楽音装置 |
US4933898A (en) * | 1989-01-12 | 1990-06-12 | General Instrument Corporation | Secure integrated circuit chip with conductive shield |
US5127041A (en) * | 1990-06-01 | 1992-06-30 | Spectrum Information Technologies, Inc. | System and method for interfacing computers to diverse telephone networks |
US5394368A (en) * | 1991-08-28 | 1995-02-28 | Oki Electric Industry Co., Ltd. | Semiconductor memory device |
US5406516A (en) * | 1992-01-17 | 1995-04-11 | Sharp Kabushiki Kaisha | Semiconductor memory device |
US5379415A (en) * | 1992-09-29 | 1995-01-03 | Zitel Corporation | Fault tolerant memory system |
JP2885597B2 (ja) * | 1993-03-10 | 1999-04-26 | 株式会社東芝 | 半導体メモリ |
US5363334A (en) | 1993-04-10 | 1994-11-08 | Microchip Technology Incorporated | Write protection security for memory device |
JPH07235198A (ja) | 1994-02-18 | 1995-09-05 | Fujitsu Ltd | 半導体記憶装置 |
US6026052A (en) * | 1994-05-03 | 2000-02-15 | Fujitsu Limited | Programmable semiconductor memory device |
US5661694A (en) * | 1993-05-14 | 1997-08-26 | Fujitsu Limited | Programmable semiconductor memory device |
JP3476952B2 (ja) * | 1994-03-15 | 2003-12-10 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP2914171B2 (ja) * | 1994-04-25 | 1999-06-28 | 松下電器産業株式会社 | 半導体メモリ装置およびその駆動方法 |
JPH07335509A (ja) | 1994-06-03 | 1995-12-22 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置 |
JP3263259B2 (ja) | 1994-10-04 | 2002-03-04 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
JPH10143434A (ja) | 1996-11-11 | 1998-05-29 | Toshiba Corp | 半導体集積回路 |
KR19990061992A (ko) * | 1997-12-31 | 1999-07-26 | 김영환 | 디램의 컬럼 리던던시 선택장치 |
JPH11232884A (ja) | 1998-02-09 | 1999-08-27 | Hitachi Ltd | 不揮発性メモリ装置 |
US6223290B1 (en) | 1998-05-07 | 2001-04-24 | Intel Corporation | Method and apparatus for preventing the fraudulent use of a cellular telephone |
JPH11328990A (ja) | 1998-05-15 | 1999-11-30 | Hitachi Ltd | 半導体集積回路装置およびそれを用いたメモリカード |
US6018483A (en) * | 1998-12-10 | 2000-01-25 | Siemens Aktiengesellschaft | Distributed block redundancy for memory devices |
US20010014036A1 (en) * | 1998-12-21 | 2001-08-16 | Karl Rapp | Lock bit for an electrically erasable memory word |
JP4463378B2 (ja) | 2000-05-02 | 2010-05-19 | 富士通マイクロエレクトロニクス株式会社 | 不揮発性半導体記憶装置 |
JP4184586B2 (ja) * | 2000-09-28 | 2008-11-19 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
ITRM20030039A1 (it) * | 2003-01-30 | 2004-07-31 | Micron Technology Inc | Sblocco di registro di protezione per chip. |
JP5196965B2 (ja) * | 2007-11-12 | 2013-05-15 | 株式会社東芝 | 不揮発性半導体記憶装置 |
-
2000
- 2000-09-28 JP JP2000297443A patent/JP4184586B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
2001
- 2001-09-14 TW TW090122891A patent/TW543200B/zh not_active IP Right Cessation
- 2001-09-20 CN CN2007101802315A patent/CN101154461B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-20 KR KR10-2001-0058271A patent/KR100458411B1/ko active IP Right Grant
- 2001-09-20 CN CNB2004100421793A patent/CN100431045C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-20 CN CN2007101802300A patent/CN101154459B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-20 CN CN200710180232XA patent/CN101154465B/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-20 CN CNB011372443A patent/CN1178228C/zh not_active Expired - Lifetime
- 2001-09-21 US US09/957,019 patent/US6600676B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2003
- 2003-05-22 US US10/442,995 patent/US6937512B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2005
- 2005-08-02 US US11/194,716 patent/US7106627B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2006
- 2006-09-08 US US11/530,340 patent/US7295469B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2007
- 2007-07-02 US US11/772,271 patent/US7613046B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2009
- 2009-10-09 US US12/576,638 patent/US7894259B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-01-24 US US13/012,030 patent/US8189389B2/en not_active Expired - Lifetime
-
2012
- 2012-05-14 US US13/471,143 patent/US8885408B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7913061B2 (en) | 2003-12-30 | 2011-03-22 | Sandisk Corporation | Non-volatile memory and method with memory planes alignment |
US7945759B2 (en) | 2003-12-30 | 2011-05-17 | Sandisk Corporation | Non-volatile memory and method with phased program failure handling |
US8051257B2 (en) | 2003-12-30 | 2011-11-01 | Sandisk Technologies Inc. | Non-volatile memory and method with control data management |
US8103841B2 (en) | 2003-12-30 | 2012-01-24 | Sandisk Technologies Inc. | Non-volatile memory and method with non-sequential update block management |
US8239643B2 (en) | 2003-12-30 | 2012-08-07 | Sandisk Technologies Inc. | Non-volatile memory and method with control data management |
US8621177B2 (en) | 2003-12-30 | 2013-12-31 | Sandisk Corporation | Non-volatile memory and method with phased program failure handling |
US9817593B1 (en) | 2016-07-11 | 2017-11-14 | Sandisk Technologies Llc | Block management in non-volatile memory system with non-blocking control sync system |
TWI813733B (zh) * | 2018-08-07 | 2023-09-01 | 南韓商三星電子股份有限公司 | 檢測設備以及操作檢測設備的方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7295469B2 (en) | 2007-11-13 |
CN1346130A (zh) | 2002-04-24 |
US20050265092A1 (en) | 2005-12-01 |
CN101154459B (zh) | 2012-03-21 |
JP4184586B2 (ja) | 2008-11-19 |
CN101154465A (zh) | 2008-04-02 |
KR100458411B1 (ko) | 2004-11-26 |
US20070025149A1 (en) | 2007-02-01 |
CN100431045C (zh) | 2008-11-05 |
US8189389B2 (en) | 2012-05-29 |
CN101154459A (zh) | 2008-04-02 |
CN1540668A (zh) | 2004-10-27 |
US7613046B2 (en) | 2009-11-03 |
US20110116315A1 (en) | 2011-05-19 |
US8885408B2 (en) | 2014-11-11 |
US7894259B2 (en) | 2011-02-22 |
CN101154465B (zh) | 2011-10-05 |
KR20020025711A (ko) | 2002-04-04 |
US6600676B2 (en) | 2003-07-29 |
CN101154461B (zh) | 2011-10-19 |
CN101154461A (zh) | 2008-04-02 |
US20120224422A1 (en) | 2012-09-06 |
US20070280017A1 (en) | 2007-12-06 |
US20030206438A1 (en) | 2003-11-06 |
US20100027333A1 (en) | 2010-02-04 |
JP2002109893A (ja) | 2002-04-12 |
CN1178228C (zh) | 2004-12-01 |
US6937512B2 (en) | 2005-08-30 |
US20020036930A1 (en) | 2002-03-28 |
US7106627B2 (en) | 2006-09-12 |
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Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GD4A | Issue of patent certificate for granted invention patent | ||
MM4A | Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees |