TW536477B - Color filter, display device and electronic equipment, manufacturing method thereof, and apparatus for manufacturing display device - Google Patents

Color filter, display device and electronic equipment, manufacturing method thereof, and apparatus for manufacturing display device Download PDF

Info

Publication number
TW536477B
TW536477B TW091111901A TW91111901A TW536477B TW 536477 B TW536477 B TW 536477B TW 091111901 A TW091111901 A TW 091111901A TW 91111901 A TW91111901 A TW 91111901A TW 536477 B TW536477 B TW 536477B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
layer
manufacturing
color
reflective layer
color filter
Prior art date
Application number
TW091111901A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazuaki Sakurada
Original Assignee
Seiko Epson Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Seiko Epson Corp filed Critical Seiko Epson Corp
Application granted granted Critical
Publication of TW536477B publication Critical patent/TW536477B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00Optical elements other than lenses
    • G02B5/20Filters
    • G02B5/201Filters in the form of arrays
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514Colour filters
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133553Reflecting elements
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/12Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
    • H05K3/1241Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by ink-jet printing or drawing by dispensing
    • H05K3/125Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by ink-jet printing or drawing by dispensing by ink-jet printing
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133504Diffusing, scattering, diffracting elements
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/01Tools for processing; Objects used during processing
    • H05K2203/0104Tools for processing; Objects used during processing for patterning or coating
    • H05K2203/013Inkjet printing, e.g. for printing insulating material or resist
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/10OLED displays
    • H10K59/12Active-matrix OLED [AMOLED] displays

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Optical Filters (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Description

536477 A7 B7 五、發明説明(1 ) 【發明所屬之技術領域】: (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明是關於用於反射型彩色液晶顯示裝置等之彩色 濾光片之製造方法及製造裝置。並且關於具有上述彩色濾 光片之顯示裝置及電子機器之製造方法,及彩色濾光片。 【先行技術】: 最近幾年,即使沒有背光亦能夠有效利用周圍的光線 來顯示畫像之反射型顯示裝置技術被開發出,其並具有輕 薄短小且優異的低消耗電力之特性。此類反射型顯示器具 有於基板上依序形成反射層與色層之彩色濾光片。 此外,將反射層做爲具有光穿透性之光穿透層來加以 形成之半芽透型顯不裝置技術亦被開發出。根據此種半穿 透型顯示裝置,可以於明亮之處利用周圍的光線以做爲反 射型裝置來使用,於昏暗之處利用背光以做爲穿透型顯示 裝置來使用。 做爲形成上述反射層的方法,是以以往的濺射法或是 真空蒸著法等來將鋁合金或是銀合金來加以成膜。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此外,於日本特開平7 - 1 9 1 2 1 1號公報中,揭 示了將高反射性的導電膜以及透明的導電膜於基板上加以 積層,並使用導電膜及光導電膜,以電子攝影方式來形成 著色的圖案,並將導電膜做爲反射層來加以使用的情況。 此外,於日本特開平1 0 - 9 6 8 1 1號公報中,揭 示了以至少三色的著色層將反射層加以夾住的方式來形成 於基板上,以雷射加以照射使上層部分蒸發,並使下層的 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 』 Λ 536477 A7 B7 五、發明説明(2 ) 者色層曝光,藉由此,以形成反射型彩色濾光片的情況。' (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 於藉由以往的濺射法或是真空蒸著法來形成反射層的 方法中,因爲到基板的表面處理或是著色層的形成爲止至 少需要4次的光平版印刷工程,因此會耗費大量的工時與 時間,且亦爲良率降低之原因。 此外,於上述日本特開平7 - 1 9 1 2 1 1號公報中 所記載的方法中,雖然與光平版印刷工程相比其著色層形 成的工時較少,但是於各個著色層及遮蔽矩陣之形成之際 必須使用光罩,並且另外需要真空蒸著裝置以及電暈帶電 器等之裝置。此外,因爲做爲調色劑僅能採用電器絕緣性 物質,因此充滿了限制條件。 此外,於上述日本特開平1 0 - 9 6 8 1 1號公報中 所記載的方法中,雖然不需要光罩,但是上部的著色層有 可能受到下部的著色層的影響。再者,因爲是以雷射光來 加以蒸發,因此難以進行精密的圖案加工。此外,因爲於 基板的處理面上會產生3 //m的差距,因此容易產生因液 晶層的厚度差所造成的亮度不均勻。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明的目的爲提供,不需要採用如光平版印刷工程 等複雜的工程,即可以達到省時、低耗能、低成本之反射 型彩色濾光片及顯示裝置的製造的方法。 【發明之開示】: 爲了解決上述課題,本發明係爲一種彩色濾光片製造 方法,爲於基板上具有由反射層及色層所構成之多數的畫 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 536477 A7 B7 五、發明説明(3 ) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 素,其具有,將上述各個畫素所配置的各個畫素區域加以 隔開之區隔加以形成的工程,以及藉由液滴吐出法將第1 液狀材料注入於上述各個畫素區域內以形成上述反射層的 工程,以及將上述色層形成於上述各個畫素區域內的工程 〇 於上述製造方法中,形成上述色層的工程最好是具有 ,藉由液滴吐出法將第2液狀材料加以注入之工程。 於上述製造方法中,上述反射層可以做爲具有光穿透 性之半穿透反射層。於上述製造方法中,上述第1液狀材 料最好爲包含光的散射材料。於上述製造方法中,最好爲 更具有於上述反射層及上述色層之間形成散射層的工程。 於上述製造方法中,可以於主動型矩陣基板上將上述 區隔及反射層及色層加以一體成型來形成。 本發明的顯示裝置的製造方法之特徵爲,採用由上述 方法所製造的彩色濾光片。此外,本發明的顯示裝置的製 造方法之特徵爲,具有以液滴吐出法將反射層加以形成的 工程,以及將E L元件形成於上述反射層上的工程。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本發明的電子機器的製造方法之特徵爲,採用由上述 方法所製造的顯示裝置。 此外,本發明爲於基板上具有反射層之顯示裝置的製 造裝置,其特徵爲具有,將用以形成上述反射層之液狀材 料,藉由液滴吐出法注入於上述基板上的吐出部。 本發明的彩色濾光片於基板上具有由反射層及色層所 構成之多數的晝素,並具有將上述各個畫素所配置的各個 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -6- 536477 A7 ______ _B7 五、發明説明(4 ) 畫素加以隔開之區隔,而上述反射層及上述色層是藉由上 述區隔,使其與其他晝素之反射層及色層加以分離。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本發明的顯不裝置具有上述彩色爐光片,而本發明的 電子機器具有此顯示裝置。 【發明之實施型態】: 以下,關於本發明的實施形態參照圖面來加以說明。 (1、製造裝置的構成) 第1圖爲顯示本發明之實施型態的製造裝置的槪略斜 視圖。如圖所示,製造裝置100具有噴墨頭群1 ,以及 X方向驅動軸4,以及Y方向引導軸5 ,以及控制裝置6 ,以及裝載台7,以及洗淨機構部8,以及基座9。 噴墨頭群1具有,將所定顏色的油墨從噴嘴(吐出口 )加以吐出並注入於彩色濾光片用基板1 0 1之噴墨頭( 之後詳述)。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 裝載台7爲,將藉此製造裝置使油墨被加以注入的彩 色濾光片用基板1 0 1加以裝載的台座,並具有將此基板 1 0 1固定於基準位置的機構。 於X方向驅動軸4中,接續著X方向驅動馬達2。X 方向驅動馬達2爲步進馬達等,一旦從控制裝置6供給X 方向驅動訊號的話,則將X方向驅動軸4加以旋轉。一旦 X方向驅動軸4被加以旋轉的話’則將噴墨頭群1沿著X 軸方向加以移動。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 536477 A7 B7 五、發明説明(5 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Y方向引導軸5則以與基座9保持不動的方式來加以 固定。裝載台7具有Y方向驅動馬達3。Y方向驅動馬達 3爲步進馬達等,一旦從控制裝置6供給γ方向驅動訊號 的話’則將裝載台7沿著Y軸方向加以移動。 控制裝置6將油墨液滴的吐出控制用電壓供給至噴墨 頭群1。此外,並將控制噴墨頭群1的X軸方向的移動的 驅動脈衝訊號供給至X方向驅動馬達2,以及將控制裝載 台7的Y軸方向的移動的驅動脈衝訊號供給至y方向驅動 馬達3。 洗淨機構部8具有將噴墨頭群1加以洗淨的機構。於 洗淨機構部8中,具有圖中所未顯示的Y方向的驅動馬達 。藉由此Y方向的驅動馬達的驅動,洗淨機構部8沿著Y 方向引導軸5加以移動。洗淨機構部8的移動亦是藉由控 制裝置6來加以控制。 < (2、彩色濾光片的構成) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第2圖爲顯示由本發明實施型態的製造裝置及製造方 法所製造的彩色濾光片的局部剖面圖。第2圖(a )爲第 1實施型態,第2圖(b )爲第2實施型態。 彩色濾光片2 0 0具有於基板1 2上以矩陣形狀排列 的畫素。於畫素與畫素交界處是藉由具有遮光性的區隔 1 4來加以隔開。於1個1個畫素中,引進了紅(R )、 綠(G )、藍(B )的其中一種油墨。而紅、綠、藍的配 置可以爲馬賽克配置、長條配置、三角型配置等或是其他 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 536477 A7 B7 五、發明説明(6 ) 配置均可。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 於第2圖(a )所示的第1實施型態中,於未形成基 板1 2之區隔1 4的部分上,積層了反射層2 2,散射層 21 ’以及色層20。反射層22是由銀,鋁,銀合金或 是鋁合金等所構成。反射層2 2可以爲不具有光穿透性者 ’亦可以爲具有光穿透性的半穿透反射層。散射層2 1爲 將T i 0 2等的金屬氧化物加以塗膜之雲母所構成,並具有 可以將光加以散射並提高散射特性之功能。反射層及散射 層中的反射特性及散射特性亦可以因應r、G、B的顏色 來加以改變以調整色彩的均衡。於區隔1 4及色層2 0的 上面,形成了圖中所謂顯示的保護膜。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於第2圖(b )所示的第2實施型態中,於未形成基 板1 2之區隔1 4的部分上,積層了反射層2 2以及色層 2 0。尤其是於此實施型態中,反射層2 2具有以略爲球 形的氧化鋁或是二氧化鈦所構成之小圓球2 3。此小圓球 使反射層2 2的表面形狀變得凹凸,使光線產生散射,並 提升反射層2 2的散射特性。小圓球的粒徑最好爲次微米 至數微米之間。 (3、彩色濾光片的製造方法) 第3圖爲顯示說明第1實施型態之彩色濾光片製造方 法的製造工程剖面圖。 (3 — 1、區隔形成工程) 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 536477 A7 一 _B7 五、發明説明U ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 於由板厚度爲〇 . 7 m m,縱爲4 7 c m,橫爲3 7 c m之非鹼性玻璃所構成的透明基板1 2的表面上,以於 熱濃硫酸中添加1重量百分比的過氧化氫水的洗淨液來加 以洗淨,以純水加以沖洗之後,於空氣中加以乾燥而得到 乾淨的表面。並藉由濺射法,將由鉻膜所形成之金屬層以 平均0 . 2 // m膜厚來形成於該表面上。 將此基板置於加熱板上,以8 0 °C來乾燥5分鐘,之 後藉由旋轉塗佈法將光阻層形成於金屬層表面上。於此基 板表面上,將描繪著所要的矩陣圖案形狀的光罩薄膜加以 密著,並以紫外線進行曝光。接下來,將此浸入於具有8 個重量百分比的氫氧化鉀的鹼性顯影液中,將未曝光部分 的光阻層加以去除,以得到光阻層所形成的佈線圖案。接 下來,將曝光的金屬層,以鹽酸爲主要成分的蝕刻液進行 鈾刻來加以去除。如此,可以得到具有所定的矩陣圖案的 遮光層(遮蔽矩陣)16 (第3圖:S1)。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於此基板上,再以旋轉塗佈法將負片型的透明壓克力 系列的感光性樹脂組成物加以塗佈。於將此基板以1 〇 〇 C預先烘烤之後,採用描繪著所要的矩陣圖案形狀的光罩 薄膜,並進行紫外線曝光。將未曝光部分的樹脂以鹼性顯 影液加以顯影,以純水加以沖洗之後在進行旋轉乾燥。做 爲最後乾燥,以2 0 0 °C進行3 0分鐘之後烘烤,藉由將 樹脂部分充分硬化,以形成堆積層1 7,並形成由遮光層 16及堆積層17所構成的區隔14 (第3圖:S2)。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(21〇χ297公釐) -10- 536477 A7 B7 五、發明説明(8 ) (3 - 2、反射層及散射層形成工程) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 接下來,於藉由區隔1 4來隔開所形成的所有畫素區 域中,藉由液滴吐出法,尤其在此是藉由噴墨方式將A g 膠體分散液加以塗佈。於噴墨頭中,採用了應用Piezo壓電 效果之精密磁頭,以將微小的液滴,例如各1 0滴,注入 於各個畫素區域中。塗佈之後,藉由烘烤以加以乾燥,以 形成反射層22(第3圖:S3)。 在此,於第1實施型態的彩色濾光片(第2圖(a ) )的製造方法中,於A g膠體分散液的塗佈、乾燥及烘烤 之後,將以T i 0 2及F e 2 0 3等之金屬氧化物加以塗佈 之白雲母做爲分散質之分散液,藉由噴墨法將其塗佈於所 有的畫素區域上。塗佈之後,藉由烘烤以乾燥’來形成散 射層21(第3圖:S4)。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 而於第2實施型態的彩色濾光片(第2圖(b ))的 製造方法中,在進行做爲反射層形成之A g膠體分散液的 塗佈之前,先將氧化鋁或是二氧化鈦等之小圓球,藉由噴 墨法等先將其注入於所有的畫素區域上。藉由此’將A g 膠體分散液加以噴墨吐出,於烘烤之後會因爲小圓球的影 響,而形成因具有凹凸而使其具備散射特性的反射層2 2 。此外,亦可以預先將小圓球注入於A g膠體分散液來加 以噴墨吐出。.此外,亦可以於將A g膠體分散液噴墨吐出 之後,將上述小圓球注入於畫素區域內。於此第2實施型 態中,並不形成散射層2 1 ( S 4 )。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 536477 A 7 B7 五、發明説明(9 ) (3 - 3、油墨導入工程) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 接下來,於反射層2 2或散射層2 1上,將上述紅( R )、綠(G )、藍(B )的各種油墨,藉由液滴吐出法 ,尤其在此是藉由噴墨方式將之導入。紅、綠、藍的3種 油墨依循著預先設定的程式來同時塗佈並形成所定的配色 圖案。 做爲油墨,例如於將無機顏料分散於聚尿素酯寡聚合 體之後,加入做爲低沸點溶劑之環己酮及丁基醋酸,以及 做爲高沸點溶劑之丁基乙酸卡必醇酯,再添加做爲分散劑 之0 · 0 1重量百分比的非離子系列之界面活性劑,其黏 度爲6〜8厘泊(Centipoise)。 接下來,將所塗佈的油墨加以乾燥。首先,於自然環 境中放置3小時使油墨層固定之後,於8 0 °C的加熱板上 加熱4 0分鐘,最後於烤箱中以2 0 0 °C加熱3 0分鐘進 行油墨的硬化處理,以得到色層2 0 (第3圖:S 5 ) (4、顯示裝置的構成) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第4圖爲顯示採用由本發明之製造方法所製造的彩色 濾光片來加以製成之彩色液晶顯示裝置的剖面圖。此彩色 液晶顯示裝置3 0 0因爲是採用由上述各實施型態的方法 所製造的彩色濾光片2 0 0來加以製造,因此不需要採用 如光平版印刷工程等複雜的工程,即可以省時、低耗能、 低成本的方式來製造。 此彩色液晶顯示裝置3 0 0係藉由將彩色濾光片 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -12 - 536477 A7 B7 五、發明説明(ίο ) 2 〇 〇與對向基板3 3 8來加以組合’並於兩者之間封入 伩晶組成物3 3 7來加以構成。於顯不裝置的周圍’形成 了液晶封材3 4。於彩色濾光片的色層2 0上形成保護層 3 2 8,於保護層3 2 8上’對應於彩色濾光片的各個色 層,形成了畫素電極3 2 2。此外’與對向基板3 3 8的 彩色濾、光片互相面對的面上形成共通電極3 3 2 ’並因應 其型態形成T F T等之切換元件。 於彩色濾光片2 0 0與對向基板3 3 8互相面對的各 自的面上,形成了配向膜3 2 6與3 3 6。此配向膜 3 2 6與3 3 6經由包覆處理,可以使液晶分子以一定方 向加以配列。此外,於對向基板3 3 8外側的面上,接著 著偏光板3 3 9。於反射層2 2爲做爲具有半穿透性的半 穿透層來加以形成的情況下,於彩色濾光片的基板1 2之 一側亦接著著偏光板(圖中未顯示)。 如此形成的彩色液晶顯示裝置3 0 0,藉由加諸於液 晶3 3 7之電壓,從對向基板3 3 8側所射入的光的穿透 量,來控制並將所希望之畫像加以顯示。於反射層2 2爲 具有光穿透性之半穿透型顯示裝置中,於明亮的場所中, 利用從對向基板3 3 8側所射入的光,於昏暗的場所中, 則利用設置於彩色瀘光片2 0 0側之背光的光線,藉由液 晶3 3 7來控制光的穿透量,並將所希望之畫像加以顯示 〇 而本發明的顯示裝置並不限定於上述彩色液晶顯示裝 置’亦可以爲採用控制光的穿透量的其他元件,例如採用 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) Ψ 丁 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -13- 536477 A7 B7 五、發明説明(11 ) 光致變色元件或是電致變色元件。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) (5、主動型矩陣基板上的彩色濾光片) 第5圖爲顯示彩色濾光片的變形例的局部剖面圖。此 彩色濾光片5 0 0具有於基板5 1 2上以矩陣形狀形成的 丁 F T (薄膜電晶體)5 3 0等之主動元件。此外,將如 此的主動兀件以矩陣形狀形成的基板稱爲主動型矩陣基板 。於此T F T 5 3 0上形成絕緣膜5 4 0,而區隔5 1 4 與反射層5 2 2與色層5 2 0則一體成型於絕緣膜5 4〇 上。將如此色層等形成於T F T上並一體成型的彩色濾光 片稱爲CF〇nTFT(TFT上的彩色濾光片)。而主 動元件並不限定於T F T,亦可以爲T F D。 T F T 5 3 0具有將訊號電壓加諸於閘極絕緣膜 5 3 2之閘極5 3 1 ,以及形成於閘極絕緣膜5 3 2之矽 膜5 3 3,以及經由藉由上述訊號電壓所形成於矽膜 5 3 3之通道,將電流加以流通之源極5 3 4及汲極 5 3 5。此TFT5 3 0雖然具有所謂的逆交錯型構造, 但亦可以爲其他構造。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於絕緣膜5 4 0上,直接形成將畫素加以隔開的區隔 5 1 4。於各個畫素內,反射層5 2 2直接形成於絕緣膜 5 4 0上,而色層5 2 0與畫素電極5 5 0則依序積層於 反射層5 2 2上。畫素電極5 5 0是以I T ◦等的透明材 料來形成。爲了使T F T 5 3 0的源極5 3 4及汲極 5 3 5互相導通,因此形成貫穿絕緣膜5 4 0及色層 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 536477 A7 B7 五、發明説明(12 ) 5 2 〇的貫穿孔,於此貫穿孔內塡入了導電性物質5 5 1 〇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 接下來簡單說明此彩色濾光片5 0 0的製造方法。首 先’於玻璃等之基板5 1 2上,以金屬等之導電性材料’ 來形成閘極5 3 1以及與其接續之圖中所未顯示的訊號線 之圖案。於形成了這些閘極5 3 1等之導電性材料的基板 5 1 2全體上,形成氮化矽等之閘極絕緣膜5 3 2。而於 閘極絕緣膜5 3 2上,藉由形成非晶矽層並將之以所定形 狀加以佈線,來形成矽膜5 3 3。最後,藉由於矽膜 5 3 3及閘極絕緣膜5 3 2之所定位置上形成源極5 3 4 及汲極5 3 5,來形成TFT5 3 0全體。 接下來,以包覆住T F T 5 3 0全體的方式,以例如 聚硫亞氨來形成絕緣膜5 4 0。爲了提升之後所形成的反 射層5 2 2的品質,絕緣膜5 4 0最好爲儘可能的平坦。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於絕緣膜5 4 0上,將隔開畫素的區隔5 1 4以所定 的形狀加以形成。關於區隔5 1 4的材質,可以採用氟素 系列的樹脂。再者,於絕緣膜5 4 0上,例如藉由光平版 印刷工程來形成貫通汲極5 3 5之貫穿孔。 接下來,將包含爲反射層5 2 2之材料的液體,例如 銀膠體液,藉由液滴吐出法,尤其在此是藉由噴墨方式注 入於以區隔5 1 4加以隔開的各個畫素區域中。而注入於 各個畫素區域之液體經由烘烤及乾燥來形成反射層5 2 2 。於此反射層5 2 2中,最好是使其具有使光線加以散射 之特性。亦可以於反射層5 2 2上設置圖中未顯示的散射 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 297公釐) 536477 A7 B7 五、發明説明(13 ) j^r 〇 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 接下來,將包含爲色層5 2 0之材料的液體,特別在 此之油墨,藉由液滴吐出法,尤其在此是藉由噴墨方式注 入於各個畫素區域中。並經由烘烤及乾燥來形成色層 5 2 0 ° 再者,採用與於絕緣膜5 4 0上形成貫穿孔之際所採 用的相同光罩,來進行色層5 2 0的鈾刻,並於與設置於 絕緣膜5 4 0上的貫穿孔相同位置上,來形成色層5 2 0 的貫穿孔。並於這些貫穿孔內塡入了導電性物質5 5 1。 藉由於形成了色層5 2 0與導電性物質5 5 1之畫素內, 形成由透明材料所構成的畫素電極5 5 0,以完成本實施 型態之彩色濾光片。 於色層5 2 0、反射層5 2 2、絕緣膜5 4 0的蝕刻 可以於單一工程下完成的情況下,亦可以於形成各層之後 ,一起將貫通汲極之貫穿孔加以形成。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 此外,於本實施型態中,反射層5 2 2是以導電性材 料的銀來構成。因此,爲了達到汲極5 3 5與反射層 5 2 2之導通,以及反射層5 2 2與畫素電極5 5 〇之導 通,即使形成於絕緣膜5 4 0及色層5 2 〇之貫穿孔位於 不同位置,亦可達到導通。 (6、E L顯示裝置) 第6圖爲顯示本發明之顯示裝置當中的電致發光顯示 裝置的局部剖面圖。於第6圖中顯示了 3個晝素。顯示裝 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -16 - 536477 A7 B7 五、發明説明(14 ) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 置3 0 1是由’於基體3 0 2上形成TFT等之電路的電 路元件部3 1 4,以及形成了功能層4 1 〇的發光元件部 3 1 1,依序積層來加以構成。 此顯示裝置是以所謂的頂放射型來加以構成。亦即, 從功能層4 1 0往陰極3 1 2發出的光通過陰極3 1 2, 並從陰極3 1 2的上側射出。此外,從功能層4 1 0往基 體3 0 2側發出的光經由畫素電極4 1 1被加以反射,並 通過陰極3 1 2從陰極3 1 2的上側射出。 (6 - 1、電路元件部) 於電路元件部3 1 4中,於基體3 0 2形成由矽氧化 膜所構成之底層保護膜3 0 2 c。於此底層保護膜3 ◦ 2 c上形成由多結晶矽所組成的島狀的半導體膜4 4 1。於 此半導體膜4 4 1中,藉由打入高濃度的P離子,來形成 源區域4 4 1 a及汲區域4 4 1 b。而未注入p離子的部 分則成爲通道區域4 4 1 c。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 於電路元件部3 1 4中,形成了覆蓋住底層保護膜 3〇2 c及半導體膜4 4 1的透明的閘極絕緣膜4 4 2, 於閘極絕緣膜4 4 2上形成閘極4 4 3 (掃描線)。於_ 極4 4 3及閘極絕緣膜4 4 2上,形成了透明的第1層間 絕緣膜4 4 4 a與第2層間絕緣膜4 4 4 b。閘極4 4 3 則設置於對應於通道區域4 4 1 c的位置上。 此外,亦形成了貫通第1層間絕緣膜4 4 4 a與第2 層間絕緣膜4 4 4 b,並各自接續於源區域4 4 1 a及汲 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 536477 A7 _B7_ 五、發明説明(15 ) 區域441b的接觸孔445、446。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁} 於第2層間絕緣膜4 4 4 b上,由高反射材料所構成 之晝素電極4 1 1依所定的形狀加以佈線來形成,並且接 觸孔4 4 5接續於此畫素電極4 1 1。 此外,另一個接觸孔接續於電源線4 0 3。 如此,於電路元件部3 1 4中,形成了接續於各個晝 素電極4 1 1之相同的薄膜電晶體4 2 3。 (6〜2、發光元件部) 發光元件部3 1 1是由,於多數的畫素電極4 1 1上 各自積層的功能層4 1 0,以及將各個畫素電極4 1 1及 功能層4 1 0與所鄰接之畫素電極4 1 1及功能層4 1 〇 加以隔開的區隔4 1 2,以及形成於功能層4 1 0上的陰 @ 3 1 2,爲主體所構成的。藉由這些畫素電極(第1電 極)4 1 1及功能層4 1 0及陰極(對向電極)3 1 2, 來構成發光元件。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 在此,畫素電極4 1 1以平面來看略成矩形的方式來 形成。此畫素電極411的長度最好在50到200nm 之間,尤其以1 5 0 n m爲最佳。因爲在此做爲陽極來使 用’因此畫素電極4 1 1是採用例如C r 、F e、C 〇、 Nl 、Cu、Ta'W、Au等之功函數較大,且反射率 較筒之金屬材料。各個畫素電極4 1 1是,藉由將含有上 述反射率高的金屬材料之液體以液滴吐出法,尤其在此是 耒昔由噴墨方式注入於由區隔4 1 2來加以隔開的各個晝素 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -18 - 536477 A7 B7 五、發明説明(16 ) 區域中,並加以乾燥及烘烤而得到。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 區隔4 1 2是由位於基體3 0 2旁的無機物堆積層( 第1堆積層)4 1 2 a ,以及位於離基體3 0 2較遠的有 機物堆積層(第2堆積層)4 1 2 b,來加以積層而構成 〇 無機物堆積層4 1 2 a最好是由例如s i〇2、 T i 〇 2等的無機材料來構成。此無機物堆積層4 1 2 a的 膜厚最好在5 0到2〇〇n m之間,尤其以1 5〇n m爲 最佳。 再者,有機物堆積層4 1 2 b是由壓克力樹脂、聚硫 亞氨等之耐熱性、耐溶劑性的材料來構成,此有機物堆積 層412b的膜厚最好在〇 · 1到3 _ 5//m之間,尤其 以2 // m爲最佳。 (6 - 3、功能層) 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 功能層4 1 0是由,積層於畫素電極4 1 1上之正孔 注入/輸送層4 1 0 a ,以及與正孔注入/輸送層4 1〇 a相鄰所形成的發光層4 1 0 b所構成。 正孔注入/輸送層4 1 0 a不僅具有將正孔注入於發 光層4 1 0 b的功能之外,還具有將正孔於正孔注入/輸 送層4 1 0 a.內部加以輸送的功能。藉由將如此的正孔注 入/輸送層4 1 0 a設置於畫素電極4 1 1與發光層 4 1 Ob之間,可以提升發光層4 1 〇b的發光效率、壽 命等元件之特性。此外,於發光層4 1 〇 b中,從正孔注 本纸張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) _ 536477 A7 B7 五、發明説明(彳7) (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 入/輸送層4 1 0 a所注入之正孔與從陰極3 1 2所注入 之電子,於發光層上進行再結合,以產生發光。此外,正 孔注入/輸送層4 1 0 a除了具有畫素電極4 1 1上之平 坦部4 1 0 a i之外,亦可以具有沿著區隔4 1 2所形成的 周圍部4 1 0 a 2。 而發光層4 1 0 b具有發出紅色光的紅色發光層 4 1 Obi,以及發出綠色光的綠色發光層4 1 0b2,以 及發出藍色光的藍色發光層4 1 0 b 3的3種類,這些例如 是以長條形狀來排列。 (6 — 4、陰極) 陰極3 1 2全體形成於發光元件3 1 1上,具有與畫 素電極4 1 1形成配對,使電流流過功能層4 1 0之功能 。此陰極3 1 2例如是以I T〇等之透明導電體所構成。 此際,於發光層附近處最好是設置功函數低的材料。 於陰極3 1 2上形成保護膜,而平坦形成於保護膜上 面的原因是爲了使發光特性達到均一。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (7、電子機器的構成) 接下來,針對具有上述顯示裝置的電子機器的具體例 子加以說明。.這些電子機器因爲是以上述實施型態的顯示 裝置來做爲顯示部來加以製造,因此可以達成不需要採用 如光平版印刷工程等複雜的工程,即可達到省時、低耗能 、低成本之製造。 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) ' -20- 536477 A7
五、發明説明(18 ) 第7圖(a )是顯示行動電話的例子的斜視圖。符號 6 〇 0顯示行動電話的本體,符號6 〇 1顯示採用上述顯 示裝置的顯示部。 第7圖(b )是顯示文書處理機、筆記型電腦等之可 攜式資訊處理裝置的例子的斜視圖。 如圖所示’採用上述顯示裝置的顯示部7 〇 2設置於 貝訊處理裝置7 0 〇。此外,資訊處理裝置7 〇 〇具有鍵 盤等之輸入部7 0 1。 此資訊處理裝置7 0 0具有,包含由顯示資訊處理電 路’時脈產生電路等之各式各樣的電路,以及將電源供給 至這些電路的電源電路等所組成的顯示訊號生成部之資訊 處理裝置本體7 0 3。於顯示裝置中,例如基於從輸入部 7 0 1所輸入的資訊等,並藉由供給由顯示訊號生成部所 產生之顯示訊號,以形成畫像。 第7圖(c )是顯示手錶型電子機器的例子的斜視圖 。符號8 0 0顯示手錶本體,符號8 〇 1顯示採用上述顯 不裝置的顯示部。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 於製造這些電子機器之際,可以將具有驅動I c (驅 動電路)之顯示裝置加以構成,並將此顯示裝置組裝入行 動電話、可攜式資訊處理裝置、手錶型電子機器即可。 做爲具有本實施型態的顯示裝置的電子機器,並不限 定於個人電腦,而例如具有行動電話、電子手冊、呼叫器 、P〇S終端、I c卡、M D再生機、液晶投影機、以及 工作站、文書處理機、電視、視窗型或是監視器直視型錄 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210Χ297公釐) -21 - 536477 A7 B7 五、發明説明(19 ) 放影機、桌上型電子計算機、車上導航裝置、觸控式面板 之裝置、手錶、遊戲機等之各式各樣的電子機器。 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 【產業上的可利用性】: 根據本發明,可以提供不需要採用如光平版印刷工程 等複雜的工程,即可達到省時、低耗能、低成本之彩色濾 光片的製造方法。 【圖面之簡單說明】: 第1圖爲顯示本發明之實施型態的製造裝置的槪略斜 視圖。 第2圖爲顯示由本發明之實施型態的製造裝置及製造 方法所製造的彩色濾光片的局部剖面圖。 第3圖爲顯示說明第1實施型態之彩色濾光片製造方 法的製造工程剖面圖。 第4圖爲顯示採用由本發明之製造方法所製造的彩色 濾光片來加以製成之彩色液晶顯示裝置的剖面圖。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 第5圖爲顯示彩色濾光片的變形例的局部剖面圖。 第6圖爲顯示本發明之顯示裝置當中的電致發光顯示 裝置的局部剖面圖。 第7圖爲顯示本發明的電子機器之例子的斜視圖。 於圖中,符號100爲製造裝置,200及500爲 彩色濾光片,3 0 0爲彩色液晶顯示裝置(顯示裝置)。 ^^ta®W(CNS)A4^(21〇X297^) 536477 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 五、發明説明(20 ) 主要元件對照表 1 2 3 4 5 6 7 8 9 16 17 21 100 300 301 302 302c 311 312 314 328 332 337 噴墨頭群 X方向驅動馬達 Y方向驅動馬達 X方向驅動軸 Y方向引導軸 控制裝置 裝載台 洗淨機構部 基座 遮光層 堆積層 散射層 製造裝置 彩色液晶顯示裝置 顯示裝置 基體 底層保護膜 發光元件部 陰極 電路元件部 保護層 共通電極 液晶 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) 536477 A7 B7 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 五、發明説明(21 ) 338 339 403 410 410a 410a! 410a2 410b 410bi 410b2 410b3 412a 412b 441 441a 441b 441c 444a 444b 533 534 535 540 551 對向基板 偏光板 電源線 功能層 正孔注入/輸送層 平坦部 周圍咅β 發光層 紅色發光層 綠色發光層 藍色發光層 無機物堆積層 有機物堆積層 半導體膜 源區域 汲區域 通道區域 第1層間絕緣膜 第2層間絕緣膜 矽膜 源極 汲極 絕緣膜 導電性物質 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) Α4規格(210X 297公釐) 536477 A7 B7 五、發明説明(22 ) 600 700 701 800 12,512 20,520 22,522 200,500 3 26,3 3 6 445,446 530,423 53 1,443 532,442 14,514,412 322,550,411 601,702,801 行動電話本體 資訊處理裝置 輸入部 手錶本體 基板 色層 反射層 彩色濾光片 配向膜 接觸孔 薄膜電晶體(T F T ) 閘極 閘極絕緣膜 區隔 畫素電極 顯示咅!5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X 公釐)

Claims (1)

  1. 536477 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 1 . 一種彩色濾光片的製造方法,爲於基板上具有由 反射層及色層所構成之多數的畫素,其具有··將上述各個 畫素所配置的各個畫素區域加以隔開之區隔加以形成的工 程,以及藉由液滴吐出法將第1液狀材料注A於上述各個 畫素區域內以形成上述反射層的工程,以及將上述色層形 成於上述各個畫素區域內的工程。 2 _如申請專利範圍第1項之彩色濾光片的製造方法 ,其中,形成上述色層的工程具有藉由液滴吐出法將第2 液狀材料加以注入之工程。 3 .如申請專利範圍第1項之彩色濾光片的製造方法 ,其中,上述反射層是做爲具有光穿透性之半穿透反射層 〇 4 ·如申請專利範圍第1項之彩色濾光片的製造方法 ,其中,上述第1液狀材料爲包含光的散射材料。 5 _如申請專利範圍第1項之彩色濾光片的製造方法 ,其中,更具有於上述反射層及上述色層之間形成散射層 的工程。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 6 ·如申請專利範圍第1項之彩色濾光片的製造方法 ,其中,於主動型矩陣基板上將上述區隔及反射層及色層 加以一體成型來形成。 7 · —種顯示裝置的製造方法,其特徵爲:採用由申 請專利範圍第1項所記載的方法所製造的彩色濾光片。 8 . —種顯示裝置的製造方法,其特徵爲·:具有以液 滴吐出法將反射層加以形成的工程,以及將E L元件形成 本紙張尺度適用中國國家標準(CNS ) A4規格(210X297公釐) -26- 536477 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 2 於上述反射層上的工程。 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 9 . 一種電子機器的製造方法,其特徵爲:採用由申 請專利範圍第7項或是第8項所.記載的方法所製造的顯示 裝置。 1 0 · —種顯示裝置的製造裝置,係於基板上具有反 射層,其具有:將用以形.成上述反射層之液狀材料,藉由 液滴吐出法注入於上述基板上的吐出部。 1 1 . 一種彩色瀘光片,屬於 於基板上具備反射層和色層所成複數之畫素的彩色濾 光片,其特徵係 具備分割配置各畫素之各畫素範圍之區隔,前述反射 層及前述色層係經由前述區隔分離爲其他之畫素之反射層 及色層。 1 2 . —種顯示裝置,其特徵爲:具有如申請專利範 圍第1 1項所記載的彩色濾光片。 1 3 · —種電子機器,其特徵爲:具有如申請專利範 圍第1 2項所記載的顯示裝置。 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 本紙張尺度適用中國國家梂準(CNS ) A4規格(21〇χ297公釐) -27-
TW091111901A 2001-06-01 2002-06-03 Color filter, display device and electronic equipment, manufacturing method thereof, and apparatus for manufacturing display device TW536477B (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001167485 2001-06-01

Publications (1)

Publication Number Publication Date
TW536477B true TW536477B (en) 2003-06-11

Family

ID=19009862

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW091111901A TW536477B (en) 2001-06-01 2002-06-03 Color filter, display device and electronic equipment, manufacturing method thereof, and apparatus for manufacturing display device

Country Status (6)

Country Link
US (3) US6933086B2 (zh)
JP (1) JP4207778B2 (zh)
KR (2) KR100630587B1 (zh)
CN (1) CN1198169C (zh)
TW (1) TW536477B (zh)
WO (1) WO2002099478A1 (zh)

Families Citing this family (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6998656B2 (en) * 2003-02-07 2006-02-14 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Transparent double-injection field-effect transistor
JP2003005168A (ja) * 2001-06-18 2003-01-08 Nec Corp 液晶表示装置の製造方法
US7897979B2 (en) 2002-06-07 2011-03-01 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light emitting device and manufacturing method thereof
JP3882794B2 (ja) * 2002-08-07 2007-02-21 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルタ基板、電気光学装置、電子機器、およびカラーフィルタ基板の製造方法、ならびに電気光学装置の製造方法
US7652359B2 (en) * 2002-12-27 2010-01-26 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Article having display device
EP1437683B1 (en) * 2002-12-27 2017-03-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. IC card and booking account system using the IC card
KR100543478B1 (ko) * 2002-12-31 2006-01-20 엘지.필립스 엘시디 주식회사 유기전계 발광소자와 그 제조방법
JP4595946B2 (ja) * 2003-01-28 2010-12-08 セイコーエプソン株式会社 発光体とその製造方法及び電気光学装置並びに電子機器
JP3966283B2 (ja) * 2003-01-28 2007-08-29 セイコーエプソン株式会社 発光体とその製造方法及び製造装置、電気光学装置並びに電子機器
KR100509763B1 (ko) * 2003-03-11 2005-08-25 엘지전자 주식회사 플라즈마 디스플레이 패널의 전면필터
JP2005044613A (ja) * 2003-07-28 2005-02-17 Seiko Epson Corp 発光装置の製造方法および発光装置
US7566001B2 (en) 2003-08-29 2009-07-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. IC card
JP2005084515A (ja) * 2003-09-10 2005-03-31 Seiko Epson Corp カラーフィルタ基板及びその製造方法、電気光学装置、並びに電子機器
JP4689159B2 (ja) * 2003-10-28 2011-05-25 株式会社半導体エネルギー研究所 液滴吐出システム
JP2005227684A (ja) * 2004-02-16 2005-08-25 Seiko Epson Corp カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ製造装置、電気光学装置、並びに電子機器
US7957379B2 (en) * 2004-10-19 2011-06-07 Nvidia Corporation System and method for processing RX packets in high speed network applications using an RX FIFO buffer
JP2006124582A (ja) * 2004-10-29 2006-05-18 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd 半透過・半反射膜形成用塗料と半透過・半反射膜およびそれを備えた物品
JP2006134624A (ja) * 2004-11-04 2006-05-25 Seiko Epson Corp 電気光学装置、及び、それを用いた電子機器
KR101122234B1 (ko) 2005-04-13 2012-06-12 삼성전자주식회사 색필터 표시판, 이를 포함하는 액정 표시 장치 및 그 제조방법
JP4738936B2 (ja) * 2005-08-05 2011-08-03 ティーピーオー、ホンコン、ホールディング、リミテッド カラーフィルタ構造体及びこれを用いた表示装置並びにその製造方法
KR20070042615A (ko) * 2005-10-19 2007-04-24 삼성전자주식회사 어레이 기판 및 이의 제조방법
WO2007089040A1 (en) * 2006-02-03 2007-08-09 Fujifilm Corporation Liquid crystal display device and color film plate, and processes for producing the same
KR101236515B1 (ko) * 2006-04-14 2013-02-21 엘지디스플레이 주식회사 액정 표시 장치용 컬러 필터 기판 및 그의 제조 방법
JP4325643B2 (ja) * 2006-06-08 2009-09-02 セイコーエプソン株式会社 電気光学装置の製造方法及び電気光学装置
TWI349117B (en) * 2007-01-03 2011-09-21 Au Optronics Corp Color filter and manufacturing method thereof
JP5006102B2 (ja) * 2007-05-18 2012-08-22 株式会社東芝 発光装置およびその製造方法
JP4636080B2 (ja) * 2007-12-25 2011-02-23 セイコーエプソン株式会社 発色構造体とその製造方法
JP4998412B2 (ja) * 2008-09-03 2012-08-15 カシオ計算機株式会社 エレクトロルミネッセンスパネルの製造方法
US20110316810A1 (en) * 2009-02-20 2011-12-29 Sharp Kabushiki Kaisha Display device with touch panel
KR20110009582A (ko) * 2009-07-22 2011-01-28 삼성전자주식회사 표시 장치 및 그 제조 방법
US20110059232A1 (en) * 2009-09-07 2011-03-10 Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. Method for forming transparent organic electrode
KR20140064328A (ko) 2012-11-20 2014-05-28 엘지디스플레이 주식회사 유기전계 발광소자 및 이의 제조 방법
DE102015102447A1 (de) * 2015-02-20 2016-08-25 Osram Oled Gmbh Organische Leuchtdiode
WO2019215538A1 (ja) * 2018-05-11 2019-11-14 株式会社半導体エネルギー研究所 表示装置、表示モジュール、及び電子機器
JP2020031070A (ja) * 2019-12-02 2020-02-27 パイオニア株式会社 発光装置

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06230364A (ja) * 1993-02-02 1994-08-19 Toppan Printing Co Ltd 反射型液晶表示装置用カラーフィルター
KR950001354A (ko) 1993-06-15 1995-01-03 이헌조 액정표시소자의 칼라필터
JPH07191211A (ja) 1993-12-27 1995-07-28 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ及びカラーフィルタの製造方法
EP1229568B1 (en) * 1996-09-18 2003-12-10 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd Production method of plasma display panel suitable for minute cell structure, the plasma display panel, and for displaying the plasma display panel
JPH1096811A (ja) 1996-09-25 1998-04-14 Sekisui Chem Co Ltd 反射型カラーフィルタ及びその製造方法
JPH10186349A (ja) * 1996-12-27 1998-07-14 Sharp Corp 液晶表示素子及びその製造方法
JPH11194212A (ja) 1998-01-07 1999-07-21 Canon Inc カラーフィルタ基板とその製造方法、該基板を用いた液晶素子
KR100640671B1 (ko) * 1998-02-18 2006-11-02 세이코 엡슨 가부시키가이샤 분포 반사형 다층막 미러의 제조방법
US6135841A (en) * 1998-08-24 2000-10-24 Candescent Technologies Corporation Use of printer head techniques to form pixel assemblies in field-emission displays
JP4504482B2 (ja) * 1998-10-05 2010-07-14 大日本印刷株式会社 カラーフィルタ
JP2000180841A (ja) 1998-12-16 2000-06-30 Asahi Glass Co Ltd 液晶表示素子の製造方法
JP2000250027A (ja) * 1999-03-02 2000-09-14 Nec Corp 反射型液晶表示装置及びその製造方法
JP4494552B2 (ja) 1999-06-03 2010-06-30 大日本印刷株式会社 透過型液晶表示装置
JP3714044B2 (ja) * 1999-07-15 2005-11-09 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置およびその製造方法ならびに電子機器
JP2001056650A (ja) * 1999-08-20 2001-02-27 Sony Corp 表示装置の製造方法及び表示装置
JP4590663B2 (ja) * 1999-10-29 2010-12-01 セイコーエプソン株式会社 カラーフィルタの製造方法
GB2356713A (en) * 1999-11-26 2001-05-30 Seiko Epson Corp Distributed Bragg reflector
JP2005084515A (ja) * 2003-09-10 2005-03-31 Seiko Epson Corp カラーフィルタ基板及びその製造方法、電気光学装置、並びに電子機器

Also Published As

Publication number Publication date
KR100630587B1 (ko) 2006-10-04
KR20050053641A (ko) 2005-06-08
US20050174513A1 (en) 2005-08-11
US20040224599A1 (en) 2004-11-11
US20030012870A1 (en) 2003-01-16
KR100510423B1 (ko) 2005-08-30
CN1463370A (zh) 2003-12-24
US7285033B2 (en) 2007-10-23
CN1198169C (zh) 2005-04-20
WO2002099478A1 (fr) 2002-12-12
US6933086B2 (en) 2005-08-23
US7052811B2 (en) 2006-05-30
JP4207778B2 (ja) 2009-01-14
KR20030020396A (ko) 2003-03-08
JPWO2002099478A1 (ja) 2004-09-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW536477B (en) Color filter, display device and electronic equipment, manufacturing method thereof, and apparatus for manufacturing display device
KR101012494B1 (ko) 반사투과형 액정표시장치
TWI287682B (en) Active matrix substrate and a manufacturing method of liquid crystal display device
US20040233359A1 (en) Transflective liquid crystal display device and fabricating method thereof
US8581252B2 (en) Active device array substrate, color filter substrate and manufacturing methods thereof
TW200528766A (en) Color filter and electro-optical device
WO2019061724A1 (zh) Bps型阵列基板及其制作方法
US20070262312A1 (en) Thin film transistor array substrate structures and fabrication method thereof
JP2003262885A (ja) 電気光学装置およびその製造方法、電子機器
US7834960B2 (en) Thin film transistor array substrate structures
JP3894261B2 (ja) カラーフィルタおよびその製造方法、電気光学装置、電子機器
JP2004094217A (ja) 液晶表示器の自己位置合わせ画素電極の製造方法
KR20030035984A (ko) 반투과형 액정표시장치 및 그 제조방법
US20060114377A1 (en) Color filter process
US6954244B2 (en) Reflection liquid crystal display device with reflection electrode region having two widths
CN112420968B (zh) 一种显示面板的制造方法、显示面板及显示装置
TWM273738U (en) LCD structure
JP2002372613A (ja) カラーフィルタの製造方法及び液晶表示装置の製造方法
KR100866082B1 (ko) 반사 또는 반사투과형 액정표시장치와 반사층 및 제조방법
US20080296566A1 (en) Making organic thin film transistor substrates for display devices
WO2019061737A1 (zh) 液晶显示面板的制作方法及液晶显示面板
KR101207892B1 (ko) 반사형 액정표시장치 및 그 제조방법
KR20070028767A (ko) 액정 표시 장치용 컬러 필터 기판 제조방법
Wen et al. ED-Litho color filter process and its application
KR20020017189A (ko) 컬러필터 기판의 제조방법

Legal Events

Date Code Title Description
GD4A Issue of patent certificate for granted invention patent
MM4A Annulment or lapse of patent due to non-payment of fees