JP2005084515A - カラーフィルタ基板及びその製造方法、電気光学装置、並びに電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基材9a上の平面内に複数の表示用ドットDが並べられて成るカラーフィルタ基板4aである。このカラーフィルタ基板4aは、表示用ドットDのそれぞれの内部に反射部R及び透過部Tを形成する反射膜12と、基材9a上の平面を表示用ドットDに対応して区分けする第1バンク15aと、反射部Rと透過部Tとの境界に設けられる第2バンク15bと、第1バンク15a及び第2バンク15bによって区分けされた領域内に設けられた着色要素16とを有する。反射部Rと透過部Tとの間で、着色要素16、反射膜12、樹脂層11等の条件を種々に変化させることができる。
【選択図】 図1
Description
以下、本発明に係るカラーフィルタ基板をそれが用いられる電気光学装置と共に一例を挙げて説明する。なお、以下の説明では、2端子型のスイッチング素子であるTFD(Thin Film Diode)を用いたアクティブマトリクス型の液晶装置であって、半透過反射型の液晶装置を例に挙げるものとする。なお、本発明がその実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。
以上の実施形態では、図1(b)において、反射部R内の着色要素16r,16g,16bと、透過部T内の着色要素16r’,16g’,16b’との間で、同じ色材で膜厚を異ならせた。これに代えて、反射部R内の着色要素16r,16g,16bと、透過部T内の着色要素16r’,16g’,16b’との間で、同じ色相であって光透過率に関して異なる色材を用いることもできる。例えば、反射部R内の着色要素16rと透過部T内の着色要素16r’との間で、色相は「赤」で同じであるが、光透過率が反射部Rで高く透過部Tで低いという色材を用いることができる。
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を図1に示したカラーフィルタ基板4aを製造する場合を例に挙げて説明する。
以上の実施形態では、2端子型のスイッチング素子であるTFD素子を用いたアクティブマトリクス方式で半透過反射型の液晶装置を製造する場合に本発明を適用したが、本発明の方法は、3端子型のスイッチング素子であるTFT(Thin Film Transistor)を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置を製造する場合にも適用できる。また、スイッチング素子を用いない単純マトリクス方式の液晶装置を製造する場合にも適用できる。また、本発明は、反射型の液晶装置を製造する場合にも適用できる。さらに、本発明は,液晶装置以外の電気光学装置、例えば、有機EL装置、プラズマディスプレイ装置等を製造する場合にも適用できる。
図11は、本発明に係るカラーフィルタ基板の他の実施形態を示している。この実施形態が図1に示した先の実施形態と異なるのは樹脂層11の構成であり、その他の構成は図1の実施形態の場合と同じである。
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の他の実施形態を図11に示したカラーフィルタ基板4aを製造する場合を例に挙げて説明する。
次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法のさらに他の実施形態を図1に示したカラーフィルタ基板4aを製造する場合を例に挙げて説明する。
図20は、本発明に係るカラーフィルタ基板のさらに他の実施形態を示している。この実施形態が図1に示した先の実施形態と異なるのは、主に、樹脂層11が設けられず、反射膜12がインクジェット技術を用いて基材9a上に直接に形成されていることである。図20におけるその他の構成は図1の実施形態の場合と同じである。本実施形態では、反射膜12の材料の中に多数のビーズ38を混入したものをインクジェット技術によって、第1バンク15aと第2バンク15bとによって囲まれる反射部R内に吐出し、さらに焼成する。焼成後、ビーズ38に対応した凹凸パターンを表面に有する反射膜12が反射部R内に形成される。この実施形態によれば、図1の樹脂層11が不要になるので、工程がさらに一層簡略化され、材料費もさらに安くなる。
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。
電子機器としては、以上に説明した携帯電話機や、デジタルカメラの他に、パーソナルコンピュータ、腕時計型電子機器、PDA(Personal Digital Assistant)、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機、POS端末器等が挙げられる。
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定されるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。
4a,4b.基板、 6.シール材、 7.スペーサ、 8.液晶層、
9a,9b.基材、 11.樹脂層、 12.反射膜、 13.遮光部材、
14.撥インク層、 15a.第1バンク、 15b.第2バンク、 16.着色要素、
17.オーバーコート層、 18a.透明電極、 18b.ドット電極、
19a,19b.配向膜、 21a,21b.偏光板、 22.ライン配線、
23.TFD素子、 24.開口、 29.基板の張出し部、 31.配線、
32.端子、 33a,33b.駆動用IC、 36.導光体、 37.LED、
38.ビーズ、 39.レジスト、41.インクジェットヘッド、 43.ノズル、
58.圧電素子、 120.携帯電話機(電子機器)、
130.デジタルカメラ(電子機器)、 D.表示用ドット、 G.セルギャップ、
R.反射部、 T.透過部
Claims (17)
- 基材上の平面内に複数の表示用ドットが並べられて成るカラーフィルタ基板において、
前記表示用ドットのそれぞれの内部に反射部及び透過部を形成する反射膜と、
前記基材上の平面を前記表示用ドットに対応して区分けする第1バンクと、
前記反射部と前記透過部との境界に設けられる第2バンクと、
前記第1バンク及び前記第2バンクによって区分けされた領域内に設けられた着色要素と
を有することを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 請求項1において、前記着色要素は液滴吐出によって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 請求項1又は請求項2において、前記第2バンクを境にして隣り合う2つの着色要素は、同じ色相であって光透過率に関して異なる色材であることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 請求項1又は請求項2において、前記第2バンクを境にして隣り合う2つの着色要素は、同じ色材であって膜厚が異なることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 請求項1又は請求項2において、前記第2バンクを境にして隣り合う2つの着色要素は、異なる色材であって膜厚も異なることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 請求項1から請求項5のいずれか1つにおいて、
前記第2バンクによって区分けされた領域であって前記基材と前記反射膜との間に設けられた樹脂層を有し、該樹脂層は液滴吐出によって形成され、その表面に凹凸パターンを有することを特徴とするカラーフィルタ基板。 - 請求項6において、前記凹凸パターンは、ビーズ入りの樹脂を液的吐出によって吐出することによって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 請求項6において、前記凹凸パターンは、液滴吐出した樹脂材料に焼成によってしわを付けることによって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 請求項1から請求項8のいずれか1つにおいて、前記反射膜は前記第2バンクによって区画される領域内に液滴吐出によって形成されることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 請求項9において、前記反射膜の中には複数のビーズが含まれることを特徴とするカラーフィルタ基板。
- 基材上の平面内に複数の表示用ドットが平面的に並べられて成るカラーフィルタ基板を製造するカラーフィルタ基板の製造方法において、
前記表示用ドットのそれぞれの内部に反射膜を形成する反射膜形成工程と、
前記基材上の平面を前記表示用ドットに対応して区分けする第1バンクを形成する第1バンク形成工程と、
前記反射部と前記透過部との境界に第2バンクを形成する第2バンク形成工程と、
前記第1バンク及び前記第2バンクによって区分けされた領域内に着色要素を液滴吐出によって形成する着色要素形成工程と
を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 請求項11において、
前記基材上に樹脂層をその表面に凹凸パターンができるように形成する樹脂層形成工程を有し、
前記第1バンク形成工程と前記第2バンク形成工程とを同時に行うバンク形成工程を前記樹脂層形成工程の後に行い、
前記反射膜形成工程は前記バンク形成工程の後に液滴吐出によって行われ、
前記着色要素形成工程は前記反射膜形成工程の後に行われる
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 請求項11において、
前記第1バンク形成工程と前記第2バンク形成工程とを同時に行うバンク形成工程を有し、
前記基材上に樹脂層をその表面に凹凸パターンができるように液滴吐出によって形成する樹脂層形成工程を前記バンク形成工程の後に行い、
前記反射膜形成工程は前記樹脂層形成工程の後に液滴吐出によって行われ、
前記着色要素形成工程は前記反射膜形成工程の後に行われる
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 請求項11において、
前記基材上に樹脂層をその表面に凹凸パターンができるように形成する樹脂層形成工程を有し、
前記反射膜形成工程は前記樹脂層形成工程の後に行われ、
前記第1バンク形成工程と前記第2バンク形成工程とを同時に行うバンク形成工程を前記反射膜形成工程の後に行い、
前記着色要素形成工程は前記バンク形成工程の後に行われる
ことを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 前記第1バンク形成工程及び前記第2バンク形成工程は、
熱硬化性の遮光膜材料を一様な厚さで形成する工程と、
その遮光膜材料の上に感光性の撥インク材料を一様な厚さで形成する工程と、
前記遮光膜材料を露光及び現像する工程と
を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。 - 請求項1から請求項10のいずれか1つに記載のカラーフィルタ基板と、該カラーフィルタ基板上に設けられた電気光学物質の層とを有することを特徴とする電気光学装置。
- 請求項16記載の電気光学装置と、該電気光学装置の動作を制御する制御手段とを有することを特徴とする電子機器。
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