JP2005128409A - フォトマスク、カラーフィルタ基板及びその製造方法、電気光学装置、並びに電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】 ブラックマスクの開口領域の面積を狭めることなく、バンクの幅をより一層広
くできるフォトマスクを提供する。
【解決手段】 カラーフィルタ基板のブラックマスク用のフォトマスク１Ａである。ブラ
ックマスクによって囲まれる光透過領域に対応するパターン４のコーナー部に面取り８を
設ける。面取り８を設けたことにより、製造されたブラックマスクのコーナー部が過エッ
チングによって外側へ膨らみ出ることを防止する。ブラックマスクのコーナー部の膨らみ
が無くなれば、そのブラックマスクの上に形成されるバンクの幅を広くできる。
【選択図】 図１

Description

本発明は、カラーフィルタ基板の構成要素であるブラックマスクを形成する際に用いら
れるフォトマスクに関する。また、本発明は、そのフォトマスクを用いたカラーフィルタ
基板の製造方法に関する。また、本発明は、そのカラーフィルタ基板の製造方法を用いて
製造されるカラーフィルタ基板に関する。また、本発明は、上記カラーフィルタ基板を用
いて構成される電気光学装置に関する。また、本発明は、上記電気光学装置を用いて構成
される電子機器に関する。

近年、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）等といっ
た電子機器に、液晶装置やエレクトロルミネッセンス装置等といった電気光学装置が広く
用いられている。例えば、電子機器に関する各種の情報を視覚的に表示するために電気光
学装置が用いられている。

電気光学装置として液晶装置を考えた場合、その液晶装置によってカラー表示を行うと
きには、その液晶装置の内部にカラーフィルタ基板が設けられる。カラーフィルタ基板は
、例えば図１１（ｂ）に示すように、透光性のガラス等によって形成された基材４２上に
ブラックマスク４３及びカラーフィルタ４４を形成することによって作製される。カラー
フィルタ４４は、Ｒ（赤）色、Ｇ（緑）色、Ｂ（青）色の３色の着色要素４６や、Ｃ（シ
アン）、Ｍ（マゼンタ）、Ｙ（イエロー）の３色の着色要素４６を図１１（ａ）に示すよ
うに平面内で所定の配列で並べることによって形成された光学要素である。また、ブラッ
クマスク４３は各着色要素４６を取り囲むように設けられていて遮光領域として機能する
。

また、基材４２上にカラーフィルタ４４を形成してカラーフィルタ基板４１を作製する
際、すなわち、基材４２上に複数の着色要素４６を形成する際に、従来、インクジェット
技術を利用して基材４２上に着色要素４６の材料を吐出する方法が知られている。この方
法では、基材４２の表面をバンク４７によって複数のドット領域に区分けし、それらのド
ット領域内に着色要素４６の材料を液滴状態で吐出する（例えば、特許文献１参照）。

特開２０００−２２１３１９号公報（第５頁、図１）

ところで、基材４２上にブラックマスク４３を形成する際、一般的には、フォトリソグ
ラフィ処理及びエッチング処理を用いて行っている。具体的には、基材４２上にブラック
マスク４３の材料、すなわち遮光材料を一様に塗布し、その上にレジスト材料を一様に塗
布し、そのレジスト材料をフォトマスクを介して露光してレジストパターンを形成し、そ
のレジストパターンをマスクとして上記遮光材料をエッチングすることにより、所定パタ
ーンのブラックマスク４３を形成する。

この一連の工程の中で、レジスト材料を露光する際に用いられるフォトマスクは、レジ
スト材料に光を当てる開口領域とレジスト材料に光を当てない遮光領域とによって構成さ
れるのが一般的である。図１１に示す例の場合、フォトマスクの開口領域は図１１の破線
で示すブラックマスク４３の開口領域に相当する。このフォトマスクの開口領域のコーナ
ー部は、従来、設計上は直角に、実際上は直角に近い鋭角に形成されていた。

このように、従来のフォトマスクでは開口領域のコーナー部が直角に設定されていたの
で、このフォトマスクを用いて露光処理を行い、さらにエッチングを行ってブラックマス
ク４３を形成すると、符号Ｂで示すブラックマスク４３の開口領域のコーナー部が、図１
１（ｃ）に示すように、エッチングによって外側、すなわち遮光領域側へはみ出す現象（
符号Ｃで示す）が見られた。

ここで、ブラックマスク４３上に形成するバンク４７、すなわち撥水膜は、画素の透過
領域、すなわちブラックマスク４３の内側領域にはみ出すと所定のカラーフィルタの無い
部分が存在する事になり、カラーフィルタとして満足のいく特性を確保できない為、該撥
水膜は、ブラックマスク４３の内側領域に入らないように形成する必要があるので、上記
のようにブラックマスク４３のコーナー部が外側へはみ出していると、その分だけバンク
４７の幅Ｗ０を細くしなければならない。バンク４７の幅Ｗ０は、インクジェットで液滴
を基材上へ吐出した際、その液滴が隣接する画素へ零れ落ちないようにする役割を果たし
ている。具体的には、バンク４７の撥水性及び液滴の表面張力により、バンク４７に触れ
た液滴が広がるのを防いでいる。

このように、液滴が隣接画素へ進入しないように保持するためには、バンク４７の幅Ｗ
０を広くして撥水領域を広くする方が有利であるが、上記のようにブラックマスク４３の
コーナー部Ｃが外側へはみ出すと、バンク４７の幅Ｗ０を狭くせざるを得ず、そのため、
吐出された液滴が隣接する画素内へ進入して混色を発生するおそれがあった。

本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、ブラックマスクの開口領域の
面積を狭めることなく、バンクの幅をより一層広くできるフォトマスク、カラーフィルタ
基板の製造方法、カラーフィルタ基板、電気光学装置、及び電子機器を提供することを目
的とする。

上記の目的を達成するため、本発明に係るフォトマスクは、カラーフィルタ基板のブラ
ックマスク用のフォトマスクにおいて、前記ブラックマスクによって囲まれる光透過領域
に対応するパターンのコーナー部に面取りを設けたことを特徴とする。ここで、面取りと
は、フォトマスクの開口領域のコーナー部が直角又はそれに近い鋭角とならならないよう
に処理することであり、例えば、図１（ｃ）に示すようにコーナー部の縁８を直線状に成
形したり、図２（ｃ）に示すようにコーナー部の縁１８を曲線状に成形したりすることが
考えられる。この場合の曲線としては、円の一部分の形状、楕円の一部分の形状等が考え
られる。

本発明に係るフォトマスクによれば、光透過領域と遮光領域との境界縁のコーナー部を
面取り形状、すなわち直角又はそれに近い鋭角がない形状にしたので、このフォトマスク
を使ってブラックマスクを形成したとき、そのブラックマスクによって囲まれる光透過領
域のコーナー部に図１１（ｃ）のような過エッチングによるはみ出し形状が形成されるこ
とがなくなる。この結果、ブラックマスク４３の上に形成するバンク４７の幅Ｗ０を広く
することが可能となる。バンク４７の幅Ｗ０が広くなれば、１つのドット領域へ液滴を吐
出した際、その液滴がバンク４７を越えて隣のドット領域へ進入する可能性が低くなるの
で、互いに隣接するドット領域間に色の異なる液滴が吐出される場合に、それらの液敵間
で混色が発生することを防止できる。

上記構成のフォトマスクにおいて、コーナー部の面取りが、コーナー部の縁を図１（ｃ
）のように直線状にしたり、図２（ｃ）のように曲線状にしたりすることによって達成で
きることは上記の通りであるが、フォトマスクの製造のし易さを考えれば、図１（ｃ）の
ような直線状の面取りが望ましい。

次に、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、基材上に遮光材料を塗布する工
程と、前記遮光材料上にレジスト材料を塗布する工程と、前記レジスト材料をフォトマス
クを介して露光してレジストパターンを形成する工程と、前記レジストパターンをマスク
として前記遮光材料をエッチングしてブラックマスクを形成する工程とを有し、前記フォ
トマスクは上記の構成のフォトマスクであることを特徴とする。

この構成のカラーフィルタ基板の製造方法によれば、使用するフォトマスクにおいて、
光透過領域と遮光領域との境界縁のコーナー部を面取り形状、すなわち直角又はそれに近
い鋭角がない形状にしたので、このフォトマスクを使ってブラックマスクを形成したとき
、そのブラックマスクによって囲まれる光透過領域のコーナー部に図１１（ｃ）のような
過エッチングによるはみ出し形状が形成されることがなくなる。この結果、ブラックマス
ク４３の上に形成するバンク４７の幅Ｗ０を広くすることが可能となる。バンク４７の幅
Ｗ０が広くなれば、１つのドット領域へ液滴を吐出した際、その液滴がバンク４７を越え
て隣のドット領域へ進入する可能性が低くなるので、互いに隣接するドット領域間に色の
異なる液滴が吐出される場合に、それらの液敵間で混色が発生することを防止できる。

次に、本発明に係るカラーフィルタ基板は、以上に記載した構成のフォトマスクを用い
て基板上に所定のパターンのブラックマスクを形成したことを特徴とする。このカラーフ
ィルタ基板によれば、ブラックマスクによって囲まれる光透過領域のコーナー部に図１１
（ｃ）のような過エッチングによるはみ出し形状が形成されることがなくなるので、ブラ
ックマスク４３の上に形成するバンク４７の幅Ｗ０を広くすることが可能となる。バンク
４７の幅Ｗ０が広くなれば、１つのドット領域へ液滴を吐出した際、その液滴がバンク４
７を越えて隣のドット領域へ進入する可能性が低くなるので、互いに隣接するドット領域
間に色の異なる液滴が吐出される場合に、それらの液敵間で混色が発生することを防止で
きる。それ故、本発明に係るカラーフィルタ基板は色のきれいなカラー表示を行うことが
できる。

次に、本発明に係るカラーフィルタ基板は、基材上に所定パターンのブラックマスクを
形成して成るカラーフィルタ基板において、以上に記載した構成のカラーフィルタ基板の
製造方法によって製造されたことを特徴とする。上記のカラーフィルタ基板の製造方法に
よれば、バンクの幅を広くできるので、色の異なる画素間で混色の発生を防止できる。そ
れ故、この製造方法を用いて製造されたカラーフィルタ基板は鮮明なカラー表示を行うこ
とができる。

次に、本発明に係る他のカラーフィルタ基板は、基材上に所定パターンのブラックマス
クを形成して成るカラーフィルタ基板において、前記ブラックマスクによって囲まれる光
透過領域のコーナー部は該光透過領域の各辺の延長線よりも内側に存在することを特徴と
する。この構成によれば、ブラックマスクのコーナー部が外側へはみ出すことを防止でき
るので、その分だけバンクの幅を広くでき、それ故、１つのドット領域へ向けて吐出され
た液滴が隣接するドット領域へ進入することをそのバンクによって防止できる。この結果
、カラーフィルタを構成する各色着色要素を希望通りの鮮明な色に形成できる。

次に、本発明に係る電気光学装置は、電気光学物質と、該電気光学物質の一方の側に設
けられたカラーフィルタ基板とを有し、該カラーフィルタ基板は以上に記載した構成のカ
ラーフィルタ基板であることを特徴とする。この電気光学装置によれば、色の鮮明なカラ
ーフィルタを形成できるので、きれいで鮮明なカラー表示を行うことができる。このよう
な電気光学装置としては、液晶装置、有機ＥＬ装置等が考えられる。

次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載した構成の電気光学装置を有することを特
徴とする。このような電子機器としては、携帯電話機、携帯情報端末機、ＰＤＡ等が考え
られる。

（フォトマスクの第１実施形態）
以下、本発明に係るフォトマスクを一例を挙げて説明する。図１は、本発明に係るフォ
トマスクの一実施形態を示している。ここに示すフォトマスク１Ａは、図１（ｂ）に示す
ように、ガラス、プラスチック等といった透光性の材料から成る基材２と、その基材２上
に形成された遮光部材３とを有する。遮光部材３は、例えば遮光性の金属物質を材料とし
てフォトリソグラフィ処理及びエッチング処理によって形成されるものであり、図１（ａ
）に示すように、デルタ配列で並ぶ複数の光透過領域４を区画するパターンとなっている
。

遮光部材３が存在する領域が遮光領域であり、遮光部材３が存在しない領域が光透過領
域４である。以下の説明では遮光領域を符号３を付して呼ぶことがある。このフォトマス
ク１Ａを用いて露光処理を行う際には、図１（ｂ）に示すように、紫外線等といった露光
光Ｒは基材２側からフォトマスク１Ａに照射され、その露光光Ｒは光透過領域４でフォト
マスク１Ａを透過し、遮光領域３で遮光される。

このフォトマスク１Ａは、図４（ｆ）に示す所定のパターンのブラックマスク６を形成
するために使用されるものであり、フォトマスク１Ａの遮光領域３がブラックマスク６に
対応し、光透過領域４がブラックマスク６によって囲まれる光透過領域７に対応する。よ
り具体的には、フォトマスク１Ａは、図６（ａ）に示すような、複数色、例えばＲ，Ｇ，
Ｂ３色の着色要素１２をデルタ配列して成るカラーフィルタ１１を有するカラーフィルタ
基板２１で用いられるブラックマスク６を形成するために用いられる。

図１（ｃ）は、図１（ａ）において符号Ｄで示す１つの光透過領域４を示している。図
１（ｃ）に示す通り、光透過領域４、すなわち図４（ｆ）においてブラックマスク６によ
って囲まれる光透過領域７に対応するパターンは、概ね長方形状又は正方形状に形成され
ている。そしてさらに、その光透過領域４における４つのコーナー部は、直線状で斜めの
縁８が設けられ、この縁８の存在によりコーナー部の直角は解消され、緩やかな角度とな
っている。すなわち、コーナー部は直線状で斜めの縁８によって面取りが成されている。

このように、フォトマスク１Ａの光透過領域４のコーナー部に面取りを設けたことによ
り、このフォトマスク１Ａを用いて図４（ｆ）のブラックマスク６を形成したとき、その
ブラックマスク６のコーナー部は図６（ｃ）に示すように滑らかな湾曲形状、例えば円弧
形状になり、図１１（ｃ）に示した従来のブラックマスク４３の場合のような外側へ張り
出す不規則な形状になることがない。

図６（ｃ）においてブラックマスク６の上にはバンク９が形成される。このバンク９は
カラーフィルタ１１を構成する各色、例えばＲ，Ｇ，Ｂの３色の着色要素１２を形成する
ためのドット領域を区画する要素である。各色着色要素１２をインクジェット技術、すな
わち液滴吐出技術を用いて形成するものとすると、バンク９は１つのドット領域に向けて
吐出された液滴が隣接する他のドット領域へ進入することを防止する。このような液滴の
他のドット領域への進入を防止する観点からすれば、バンク９はその幅Ｗ０が広いことが
望ましい。図６（ｃ）に示すように、ブラックマスク６のコーナー部が滑らかに形成され
て外側へ張り出すことがなくなれば、バンク９の幅Ｗ０を広くしてもそのバンク９の縁が
ブラックマスク６の縁に重なるか又はブラックマスク６の内側領域へ張り出してしまう可
能性が低くなる。

以上のことから、図１（ｃ）のようにフォトマスク１Ａの光透過領域４のコーナー部に
面取り８を形成することによって、そのフォトマスク１Ａを用いて形成した図６（ｃ）の
ブラックマスク６のコーナー部を張り出し部のない滑らかな湾曲形状とすれば、ブラック
マスク６の上に形成するバンク９の幅Ｗ０を図１１（ｃ）に示した従来の場合よりも広く
することができ、それ故、液滴吐出によって形成される各色着色要素１２の間で混色が発
生することを防止できる。

なお、図１（ｃ）において、フォトマスク１Ａの光透過領域４のコーナー部に設ける面
取り８の大きさを縦寸法Ｌ０及び横寸法Ｌ１で決めることにすれば、Ｌ０及びＬ１は、光
透過領域４の各辺のうちの短辺の長さの５％以上であることが望ましい。本発明者の実験
によれば、５％未満であると、実用上看過できない図１１（ｃ）に示すようなコーナー部
の過エッチングによる張り出し部Ｃが形成されることが観察されたからである。

また、図１（ａ）のフォトマスク１Ａでは、図６のブラックマスク６に対応して遮光領
域３を設け、図６においてブラックマスク６で囲まれる光透過領域７に対応して光透過領
域４を設けた。これは、フォトリソグラフィ処理を行う際にポジ型のレジスト材料を使用
することを前提としている。レジスト材料としてネガ型の材料を使用するのであれば、フ
ォトマスク１Ａにおいて遮光領域３のパターンと光透過領域４のパターンとが入れ替わる
ことに留意する。

（フォトマスクの第２実施形態）
図２は、本発明に係るフォトマスクの他の実施形態を示している。このフォトマスク１
Ｂが図１に示した先のフォトマスク１Ａと異なる点は、図２（ｃ）に示すように、フォト
マスク１Ｂの光透過領域４のコーナー部に設ける面取りとして、図１（ｃ）に示すような
直線状で斜めの縁８を設けることに代えて、湾曲形状の縁１８を設けたことである。この
ようにしても、光透過領域４のコーナー部が直角又はそれに近い鋭角になることを防止で
き、それ故、図６（ｃ）に示すように、ブラックマスク６のコーナー部に外側へはみ出す
過エッチング部Ｃ（図１１（ｃ）参照）が形成されることを防止できる。

（カラーフィルタ基板の製造方法の実施形態）
以下、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法を一実施形態を挙げて説明する。図
３〜図５は本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を工程図によって示
している。また、図６はその製造方法によって製造されるカラーフィルタ基板２１を示し
ている。

図６（ａ）及び図６（ｂ）において、カラーフィルタ基板２１は、透光性のガラス、プ
ラスチック等によって形成された基材２２上にブラックマスク６及びカラーフィルタ１１
を形成することによって作製される。カラーフィルタ１１は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３色や、Ｃ、
Ｍ、Ｙの３色の着色要素１２を平面内に所定の配列で並べることによって形成された光学
要素である。本実施形態では、所定の配列パターンとして図６（ａ）に示すようなデルタ
配列が選択されており、ここで、“Ｒ”は赤色の着色要素を示し、“Ｇ”は緑色の着色要
素を示し、“Ｂ”は青色の着色要素を示している。また、ブラックマスク６は各着色要素
１２を取り囲むように設けられていて遮光領域として機能する。

以下、上記カラーフィルタ基板２１の製造方法について説明する。まず、図３（ａ）に
おいて、基材２２上にスパッタリングその他の成膜技術によってクロム等といった金属膜
６ａを一様な厚さで形成する。この金属膜６ａが後述のようにしてブラックマスクとなる
。なお、金属膜６ａとしてクロムを採用するとき、この金属膜６ａと基材２２との間に酸
化クロム膜を形成するようにしても良い。金属膜６ａの表面は、その後、適宜の洗浄剤に
よって洗浄される。

次に、図３（ｂ）において、金属膜６ａの上にレジスト材１３ａを一様な厚さに塗布す
る。塗布方法としては、例えば、ロールコート法、スピンコート法等を用いることができ
る。このレジスト材１３ａは、例えば、感光性でポジ型の樹脂材料によって形成される。
次に、図３（ｃ）において露光工程を行う。すなわち、例えば図１に示したフォトマスク
１Ａを基材２２のレジスト材１３ａ側の表面に対向して配置し、そのフォトマスク１Ａを
介して露光光、例えば紫外線Ｒを照射する。紫外線Ｒは、光透過領域４に対向する領域の
レジスト材１３ａを露光して当該部分のレジスト材１３ａを可溶化する。

この状態の基材２２を公知の現像液を用いて現像すれば、図４（ｄ）に示すように、所
定パターンのレジストパターン１３が形成される。次に、公知のエッチング液を用いてエ
ッチング処理を行うことにより、図４（ｅ）に示すように、不要な金属膜６ａが除去され
、さらに、レジストパターン１３を除去することにより、図４（ｆ）に示すように、所定
パターンのブラックマスク６が形成される。このブラックマスク６は、図６（ａ）に示す
ようにデルタ配列に対応した配列で形成される。

図３の工程（ｃ）で用いるフォトマスク１Ａは、図１（ｃ）に示したように、光透過領
域４のコーナー部に面取り８を設けてあるので、このフォトマスク１Ａを用いてブラック
マスク６を形成したとき、そのブラックマスク６のコーナー部は図６（ｃ）に示すように
、外側へはみ出すことのない滑らかな曲線状態となる。より具体的には、ブラックマスク
６によって囲まれる光透過領域７のコーナー部は該光透過領域７の隣接する２辺の延長線
Ｌｘよりも内側に存在していて、それらの延長線Ｌｘの外側へは張り出していない。

その後、図４（ｇ）において、撥液性を有する感光性樹脂を材料としてフォトリソグラ
フィ処理を用いて、ブラックマスク６の上にブラックマスク６と同じパターンでバンク９
を形成する。このバンク９は後述する着色要素を形成するための領域を区画する。従来の
カラーフィルタ基板では、図１１（ｃ）に示したようにブラックマスク４３のコーナー部
に張出し部Ｃが形成されてしまうので、バンク４７の幅Ｗ０を広くできなかった。これに
対し、本実施形態では図６（ｃ）に示したように、ブラックマスク６のコーナー部が滑ら
かな湾曲形状で、しかも隣接２辺の延長線Ｌｘの内側に収まる形状に形成されるので、バ
ンク９の縁を可能な限りブラックマスク６の縁に近付けることができるようになり、それ
故、バンク９の幅Ｗ０を広くすることができる。

次に、図５（ｈ）において、バンク９によって区画された領域であって、Ｇ色着色要素
を形成すべき領域へ、インクジェット装置のノズル１４からＧ色の着色要素材料１２ａを
液滴状態で吐出する。吐出された着色要素材料１２ａはバンク９の上に張り出す山形形状
となる。この状態の基材２２をホットプレート等といった加熱装置で焼成して乾燥するこ
とにより、着色要素材料１２ａから溶剤を除去して図５（ｉ）に示すように着色要素１２
を形成する。

なお、インクジェット装置は広く知られた構造のものを用いることができ、例えば、圧
電素子によって液状材料の容積を変化させてノズル、すなわち微小な穴からその液状材料
を液滴状態で吐出する構造のものや、熱膨張によって液状材料の容積を変化させてその液
状材料を液滴状態でノズルから吐出する構造のもの、その他希望に応じて種々の構造のも
のを選択して採用できる。

次に、図５（ｉ）及び図５（ｊ）に示すように、その他の色の着色要素材料、すなわち
Ｒ色着色要素材料及びＢ色着色要素材料に対して同様の液滴吐出処理及び乾燥処理を行い
、最終的に図５（ｋ）及び図６に示すカラーフィルタ基板２１が製造される。

（電気光学装置の実施形態）
以下、電気光学装置をその一実施形態を例示して説明する。図７は、電気光学装置の一
例である液晶装置６１を示している。この液晶装置６１は、スイッチング素子を用いない
単純マトリクス方式であり、且つ、反射型表示と透過型表示を選択的に行うことができる
半透過反射型の液晶装置である。

この液晶装置６１は、液晶パネル６２に照明装置６６及び配線基板６４を付設すること
によって形成されている。液晶パネル６２は、矢印Ｆ方向から見て長方形状又は正方形状
の第１基板６７ａと、矢印Ｆ方向から見て同じく長方形状又は正方形状の第２基板６７ｂ
とを、矢印Ｆ方向から見て環状のシール材６８によって貼り合わせることによって形成さ
れている。

第１基板６７ａと第２基板６７ｂとの間には間隙、いわゆるセルギャップが形成され、
そのセルギャップ内に電気光学物質としての液晶が注入されて液晶層６５を形成している
。符号７９はセルギャップを維持するためのスペーサを示している。なお、観察者は矢印
Ｆ方向から液晶装置６１を観察する。

第１基板６７ａは、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によって形成された第１
基材７１ａを有する。この第１基材７１ａの液晶側の表面には、反射膜７２が形成され、
その上に絶縁膜７３が形成され、その上に第１電極７４ａが形成され、その上に配向膜７
６ａが形成されている。また、第１基材７１ａの照明装置６６側の表面には第１偏光板７
７ａが、例えば貼着によって装着されている。

第１基板６７ａに対向する第２基板６７ｂは、透光性のガラス、透光性のプラスチック
等によって形成された第２基材７１ｂを有する。この第２基材７１ｂの液晶側の表面には
、カラーフィルタ７８が形成され、その上に第２電極７４ｂが形成され、その上に配向膜
７６ｂが形成されている。また、第２基材７１ｂの外側の表面には第２偏光板７７ｂが、
例えば貼着によって装着されている。

第１基板６７ａ側の第１電極７４ａは図７の左右方向へ延びる線状電極である。また、
第１電極７４ａは複数本形成されていて、それらは紙面垂直方向へ互いに平行に並べられ
ている。つまり、複数の第１電極７４ａは、矢印Ｆ方向から見てストライプ状に形成され
ている。

また、第２基板６７ｂ側の第２電極７４ｂは、図７の紙面垂直方向に延びる線状電極で
ある。また、第２電極７４ｂは複数本形成されていて、それらは図７の左右方向へ互いに
平行に並べられている。つまり、複数の第２電極７４ｂは、第１電極７４ａに直交する方
向へ延びるストライプ状に形成されている。

第１電極７４ａと第２電極７４ｂとは矢印Ｆ方向から見て多数のマトリクス状に並ぶ点
で交差しており、これらの交差点が表示のためのドット領域を構成している。Ｒ，Ｇ，Ｂ
の３色や、Ｃ，Ｍ，Ｙの３色の着色要素から成るカラーフィルタを用いてカラー表示を行
う場合には、上記のドット領域の１つずつにそれら３色のうちの１つずつが対応して配置
され、３色の集まりが１つのユニットになって１画素を構成する。そして、その画素の多
数が矢印Ｆ方向から見てマトリクス状に並ぶことにより、有効表示領域Ｖが形成され、こ
の有効表示領域Ｖの領域内に文字、数字、図形等といった像が表示される。

表示の最小単位である表示用ドット領域に対応して、反射膜７２に開口８１が形成され
ている。これらの開口８１は、照明装置６６から供給される面状の光を透過させて、透過
型の表示を実現する。なお、透過型の表示を行うにあたっては、反射膜７２に開口８１を
設けることだけに限られず、例えば、反射膜７２の膜厚を薄くすることによっても透過型
の表示を実現できる。

第１基材７１ａは第２基材７１ｂを越えて外側へ張り出す張出し部８０を有している。
第１基板６７ａ側の第１電極７４ａはシール材６８を横切ってその張出し部８０上に延び
出て配線７５となっている。また、張出し部８０の辺縁には外部接続端子５７が形成され
ている。配線基板６４は、その外部接続端子５７に導電接続されている。第２基板６７ｂ
側の第２電極７４ｂは、シール材６８の内部に分散された導通材６９を介して第１基板６
７ａ側の配線７５に接続されている。なお、導通材６９は、図７ではシール材６８の幅寸
法とほとんど同じ寸法で描いてあるが、実際は、導通材６９はシール材６８の幅よりも小
さくなっており、そのため、シール材６８の幅方向には複数の導通材６９が存在するのが
普通である。

張出し部８０の表面において、配線７５と外部接続端子５７との間には駆動用ＩＣ６３
がＡＣＦ（Anisotropic Conductive Film：異方性導電膜）５８によって接着されている
。そして、このＡＣＦ５８により、駆動用ＩＣ６３のバンプが配線７５及び外部接続端子
５７に導電接続している。この実装構造により、配線基板６４から駆動用ＩＣ６３へ信号
及び電圧が供給される。一方、駆動用ＩＣ６３からの走査信号及びデータ信号が第１電極
７４ａや第２電極７４ｂへ伝送される。

図７において、照明装置６６は、観察側から見て液晶パネル６２の背面に緩衝材８８を
挟んで配設され、バックライトとして機能する。この照明装置６６は、ＬＥＤ基板８７に
支持された光源としてのＬＥＤ（Light Emitting Diode）８６と、導光体８２とを有する
。導光体８２の観察側の表面には拡散シート８３が設けられ、その反対側の面には反射シ
ート８４が設けられる。ＬＥＤ８６を点状光源とする光は、導光体８２の受光面８２ａか
ら導光体８２の内部に取り込まれ、その内部を伝播する間に光出射面８２ｂから面状光と
なって出射する。

上記構成より成る液晶装置６１において反射型の表示が行われる場合には、太陽光、室
内光等といった外部光が第２基板６７ｂを通して液晶層６５の内部に取り込まれ、反射膜
７２で反射した後、再び液晶層６５へ供給される。一方、透過型の表示が行われる場合に
は、照明装置６６のＬＥＤ８６が発光し、導光体８２の光出射面８２ｂから面状の光が出
射し、反射膜７２に設けた複数の開口８１を通過した光が液晶層６５へ供給される。

液晶層６５に光が供給されたとき、第１電極７４ａ及び第２電極７４ｂの一方に走査信
号が与えられ、それらの他方にデータ信号が与えられると、当該データ信号が与えられた
部分の表示用ドットに所定電圧が印加されて液晶が駆動され、当該表示用ドットに供給さ
れた光が変調される。このような変調が、有効表示領域Ｖ内の表示用ドットごと、換言す
れば画素ごとに行われ、文字、数字、図形等といった希望する像がその有効表示領域Ｖ内
に形成され、観察者によって矢印Ｆ方向から観察される。

本実施形態の液晶装置６１において、第２基材７１ｂ上にカラーフィルタ７８を形成し
て成るパネル体は、図６のカラーフィルタ基板２１によって構成される。このカラーフィ
ルタ基板２１は、図６（ｃ）に関連して既に説明したように、ブラックマスク６のコーナ
ー部が外側に張り出さない滑らかな曲線となっているので、そのブラックマスク６の上に
形成されるバンク９はその幅Ｗ０を広くとることができる。それ故、色の異なる着色要素
１２間で混色が発生することを防止でき、そのため、本実施形態の液晶装置６１は鮮明な
カラー表示を行うことができる。

（変形例）
図７の実施形態では、半透過反射型で単純マトリクス方式の液晶装置に本発明を適用し
た。しかしながら、本発明は、これ以外に、反射型表示機能を持たない半透過型の単純マ
トリクス方式の液晶装置や、透過型表示機能を持たない反射型の単純マトリクス方式の液
晶装置や、ＴＦＤ（Thin Film Diode）等といった２端子型のスイッチング素子を用いた
アクティブマトリクス方式の液晶装置や、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）等といった３
端子型のスイッチング素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶装置等といった各種
の液晶装置に適用できる。

（電子機器の実施形態）
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発
明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。

図８は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、表
示情報出力源１０１、表示情報処理回路１０２、電源回路１０３、タイミングジェネレー
タ１０４及び液晶装置１０５によって構成される。そして、液晶装置１０５は液晶セル１
０７及び駆動回路１０６を有する。

表示情報出力源１０１は、ＲＡＭ(Random Access Memory)等といったメモリや、各種デ
ィスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等
を備え、タイミングジェネレータ１０４により生成される各種のクロック信号に基づいて
、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１０２に供給する
。

次に、表示情報処理回路１０２は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ
補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を
実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０６へ供給する。ここで、駆
動回路１０６は、走査線駆動回路（図示せず）やデータ線駆動回路（図示せず）と共に、
検査回路等を総称したものである。また、電源回路１０３は、上記の各構成要素に所定の
電源電圧を供給する。液晶装置１０５は、例えば、図７に示した液晶装置６１と同様に、
図６のカラーフィルタ基板２１を有する液晶装置によって構成できる。

図９は、本発明を電子機器の一例である携帯電話機に適用した場合の一実施形態を示し
ている。ここに示す携帯電話機１２０は、本体部１２１と、これに開閉可能に設けられた
表示体部１２２とを有する。液晶装置によって構成された表示装置１２３は、表示体部１
２２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部１２２にて表示画面１２
４によって視認できる。本体部１２１の前面には操作ボタン１２６が配列して設けられる
。

表示体部１２２の一端部からアンテナ１２７が出没自在に取付けられている。受話部１
２８の内部にはスピーカが配置され、送話部１２９の内部にはマイクが内蔵されている。
表示装置１２３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制御を司る制御部
の一部として、又はその制御部とは別に、本体部１２１又は表示体部１２２の内部に格納
される。

図１０は、本発明に係る電子機器のさらに他の実施形態であるデジタルカメラであって
、液晶装置をファインダとして用いるものを示している。このデジタルカメラ１３０にお
けるケース１３１の背面には液晶表示ユニット１３２が設けられる。この液晶表示ユニッ
ト１３２は、被写体を表示するファインダとして機能する。この液晶表示ユニット１３２
は、例えば図７に示した液晶装置６１を用いて構成できる。

ケース１３１の前面側（図においては裏面側）には、光学レンズやＣＣＤ等を含んだ受
光ユニット１３３が設けられている。撮影者が液晶表示ユニット１３２に表示された被写
体像を確認して、シャッタボタン１３４を押下すると、その時点におけるＣＣＤの撮像信
号が、回路基板１３５のメモリに転送されてそこに格納される。

ケース１３１の側面には、ビデオ信号出力端子１３６と、データ通信用の入出力端子１
３７とが設けられている。ビデオ信号出力端子１３６にはテレビモニタ１３８が必要に応
じて接続され、また、データ通信用の入出力端子１３７にはパーソナルコンピュータ１３
９が必要に応じて接続される。回路基板１３５のメモリに格納された撮像信号は、所定の
操作によって、テレビモニタ１３８や、パーソナルコンピュータ１３９に出力される。

（変形例）
電子機器としては、以上に説明した携帯電話機や、デジタルカメラの他に、パーソナル
コンピュータ、腕時計型電子機器、ＰＤＡ（Personal Digital Assistant）、液晶テレビ
、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナビゲーション装
置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話機
、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。

（その他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定さ
れるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。

本発明に係るフォトマスクは、カラーフィルタ基板を構成するブラックマスクを製造す
る際に好適に用いられる。また、本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法は、液晶装
置、有機ＥＬ装置等といった電気光学装置に用いられるカラーフィルタ基板を製造する際
に好適に用いられる。また、本発明の電気光学装置は、携帯電話機、携帯情報端末機等と
いった電子機器において情報を映像として表示する際に好適に用いられる。また、本発明
に係る電子機器は、携帯電話機、携帯情報端末機等において鮮明なカラー表示が必要とな
る場合に好適である。

本発明に係るフォトマスクの一実施形態を示す図であり、（ａ）はその平面断面図、（ｂ）はＧ−Ｇ線に従った断面図、（ｃ）は矢印Ｄに従った拡大図である。 本発明に係るフォトマスクの他の実施形態を示す図であり、（ａ）はその平面断面図、（ｂ）はＧ−Ｇ線に従った断面図、（ｃ）は矢印Ｄに従った拡大図である。 本発明に係るカラーフィルタ基板の製造方法の一実施形態を示す工程図である。 図３の工程図に続く工程図である。 図４の工程図に続く工程図である。 本発明に係るカラーフィルタ基板の一実施形態を示す図であり、（ａ）はその平面図、（ｂ）はＨ−Ｈ線に従った断面図、（ｃ）は矢印Ｅに従った拡大図である。 本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶装置の断面図である。 本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。 本発明に係る電子機器の一実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。 本発明に係る電子機器の他の実施形態であるデジタルカメラを示す斜視図である。 従来のフォトマスクを用いて製造した従来のカラーフィルタ基板の一例を示す図であり、（ａ）はその平面図、（ｂ）はＡ−Ａ線に従った断面図、（ｃ）は矢印Ｂに従った拡大図である。

符号の説明

１Ａ，１Ｂ．フォトマスク、 ２．フォトマスクの基材、 ３．遮光部材（遮光領域）、
４．光透過領域、 ６．ブラックマスク、 ６ａ．金属膜、
７．カラーフィルタ基板の光透過領域、 ８．斜めの縁、 ９．バンク、
１１．カラーフィルタ、 １２．着色要素、 １２ａ．着色要素材料、
１３．レジストパターン、 １３ａ．レジスト材、 １４．ノズル、
１８．湾曲形状の縁、 ２１．カラーフィルタ基板、 ２２．基材、
６１．液晶装置（電気光学装置）、 ６２．液晶パネル、
６５．液晶（電気光学物質）層、 ７８．カラーフィルタ、
１２０．携帯電話機（電子機器）、 １３０．デジタルカメラ（電子機器）、
Ｌ０．面取りの縦寸法、 Ｌ１．面取りの横寸法、 Ｌｘ．辺の延長線、 Ｒ：紫外線

Claims (8)

1. カラーフィルタ基板のブラックマスク用のフォトマスクにおいて、
   前記ブラックマスクによって囲まれる光透過領域に対応するパターンのコーナー部に面
   取りを設けたことを特徴とするフォトマスク。
2. 請求項１において、前記面取りは直線状で斜めの線を縁とする面取りであることを特徴
   とするフォトマスク。
3. 基材上に遮光材料を塗布する工程と、
   前記遮光材料上にレジスト材料を塗布する工程と、
   前記レジスト材料をフォトマスクを介して露光してレジストパターンを形成する工程と
   、
   前記レジストパターンをマスクとして前記遮光材料をエッチングしてブラックマスクを
   形成する工程と
   を有し、
   前記フォトマスクは請求項１又は請求項２に記載のフォトマスクであることを特徴とす
   るカラーフィルタ基板の製造方法。
4. 請求項１又は２記載のフォトマスクを用いて基板上に所定のパターンのブラックマスク
   を形成したことを特徴とするカラーフィルタ基板。
5. 基材上に所定パターンのブラックマスクを形成して成るカラーフィルタ基板において、
   請求項３記載のカラーフィルタ基板の製造方法によって製造されたことを特徴とするカラ
   ーフィルタ基板。
6. 基材上に所定パターンのブラックマスクを形成して成るカラーフィルタ基板において、
   前記ブラックマスクによって囲まれる光透過領域のコーナー部は該光透過領域の各辺の延
   長線よりも内側に存在することを特徴とするカラーフィルタ基板。
7. 電気光学物質と、該電気光学物質の一方の側に設けられたカラーフィルタ基板とを有し
   、該カラーフィルタ基板は請求項４から請求項６のいずれか１つに記載のカラーフィルタ
   基板であることを特徴とする電気光学装置。
8. 請求項７記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
   
   

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