TW455745B

TW455745B - Chemical-sensitization resist composition

Info

Publication number: TW455745B
Application number: TW086110338A
Authority: TW
Inventors: Katsumi Oomori; Hideo Hada; Fumitake Kaneko; Mitsuru Sato; Kazufumi Sato
Original assignee: Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd
Priority date: 1996-07-24
Filing date: 1997-07-21
Publication date: 2001-09-21
Also published as: EP0821274A1; EP0821274B1; KR980010622A; US6245930B1; JP3665166B2; US5976760A; HK1002463A1; KR100209472B1; DE69708220T2; DE69708220D1; JPH1090901A

Description

4 5 5 7 4 5 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 A7 B7_五、發明説明（1 ) 發明背景本發明係有關一種新穎的化學增感光阻組成物或，更特定言之，有關可經正型操作或負型操作，能夠產生具有優良正交的，有高敏感性和髙圖樣鑑別率之横截面輪廓的經造圖光阻層之化學增感光阻組成物。最近數年內，在半導體裝置，液晶顯示板和類似者的製造中所用影印石版造圖操作有經由使用化學增感光阻組成物來進行之趙勢》化學增感光阻組成物的操作原理爲光阻層在鹼性顯像劑溶液中的溶解行爲會在其經圖樣狀曝光部位內被光阻組成物所含酸產生劑經曝光所產生的酸所具催化活性而改變。化學增感光阻組成物在其所含酸產生劑對輻射誘導酸產生作用具有高效率時會因爲即使用低曝光劑量也可以形成良好的潛像而具有高敏感度之優點。化學增感光阻組成物可分類成正型操作和負型操作兩種組成物，每種都包含一酸產生劑，其能夠在用光化射線照射之下釋出酸，及一膜形成性樹脂成分，其在鹸水溶液中的溶解度會因與酸的交互作用而變化。於正型操作性化學增感光阻組成物中，目前最廣泛使用的膜形成性樹脂成分爲聚羥基苯乙烯，其一部份羥基經可被酸解離的溶解度減低性基所取代，例如第三丁氧羰基，四氫哌喃基和類似者以促成在鹼水溶液中的不可溶性。另一方面，負型操作性化學增感光阻組成物係用鹼可溶性樹脂例如線型酚醛樹脂和聚羥基苯乙烯樹脂其視情況 ---.-----.丨裝------訂-----.線 ί諳先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張尺度逍用中國®家揉率（CNS } Α4规格（210Χ297公釐） -4 - 9 4%^67丨辦號專利申請案中文說明書修正頁 Α7 Β7 90. 4. 年 fi S正痛充民國90年4月修正五、發明說明（2 ) , 將一部份的羥基以上述溶解性減低基予以取代，及一酸可交聯性化合物例如三聚氰胺樹脂，脲樹脂和類似者的組合調配成膜形成性樹脂成分。在化學增感光阻組成物中使用肟磺酸酯化合物作爲酸產生劑係已知者，如日本專利公開1 一 1 2 4 8 4 8， 2-154266，2- 16 1 444 和 6 —17433 中所揭示者。其中所揭示的肟磺酸酯化合物包括分子中有氰基者例如 ’ α — （對一甲苯磺醯氧亞胺基）苯基乙腈， α -（對-氯苯磺醯氧亞胺基）苯基乙腈，（4 -硝基苯磺醯氧亞胺基）苯基乙腈 α_ (4 —硝基-2-三氟甲基苯磺醯氧亞胺基）苯基乙腈，〇:—(苯磺醯氧亞胺基）_4_氯苯基乙腈， α -（苯磺醯氧亞胺基）_2，4 —二氯苯基乙腈， α —(苯磺醯氧亞胺基）_2，6 —二氯苯基乙腈， α —(苯擴醒氧亞胺基）—4 一甲氧基本基乙睛， α — (2 —氯苯磺醯氧亞胺基）一 4_甲氧基苯基乙腈， α —（苯磺醯氧亞胺基）_ 2 _噻吩基乙腈’ α 一（ 4_十二烷基苯磺醯氧亞胺基）苯基乙腈， α — (4_甲苯磺醯氧亞胺基）一 4 —甲氧基苯基乙腈，. α_ (4_十二烷基苯磺醯氧亞胺基）一4 一甲氧基苯基乙腈， α_ (4_甲苯磺醯氧亞胺基）—3 —噻吩基乙腈，本紙張尺度適用中國國家標準（CNSM.1規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) iilln — ------ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製經濟部中央樣準局貝工消費合作社印聚 455745 A7 _____B7_______五、發明説明（3 ) 和類似者。如日本専利公開2 — 1 5 4 2 6 6中所述及者，這些在分子中具有氰基的肟磺酸酯化合物可經由各種光化射線例如深紫外光，電子束*離子束，X·射線等的能量釋出酸且，當包含彼等肟磺酸酯化合物和膜形成性樹脂成分的組合之陽型操作性化學增感光阻組成份接受電子束掃描造圖處理時，可以得到具有約〇 . 3 5微米直徑孔洞圇樣的圖樣化光阻層。此外*用包含肟磺酸酯化合物及樹脂 /酸交聯性化合物組合的負型操作性化學增感光阻組成物經由深紫外光造圖處理時可以得到經光硬化的圖樣化光阻層。最近數年內在半導體裝置的製造方法中，於朝向需要超精密影印石版術造圖操作的愈來愈高積體度之快速進展趨勢之下，上述光阻組成物在數方面已不再十分地令人滿意，因而亟需一種進一步改良的，能夠產生具有優良截面輪廓的圖樣化光阻層，有進一步改良的圖樣鑑別率及更有高敏感度，之化學增感光阻組成物。發明槪述綜上所述，基於上述先前技藝光阻組成物的問題和缺點，本發明的一項目的爲提出一種新穎且改良的化學增感光阻組成物，其可爲正型操作或負型操作者’其能夠產生具有高圖樣鑑別率的圖樣化光阻層，其中含有具有高敏感度之優良正交截面輪廓。 --------^ ί裝------訂-----"線 (讀先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家揉率（CNS ) Α4规格（210X297公釐） -6- 455745 經濟部中央榇準局貝工消费合作杜印装 A7 ____B7_______五、發明説明（4 ) 依此，本發明所提出的化學-增感光阻組成物，於呈現在有機溶劑內的均勻溶液形式中，包含： (A) 1 〇 0重量份數的膜形成性樹脂成分，其會經由與酸的交互作用而改變在鹼水溶液中的溶解度；及 (B1) 0 . 5至20重量份數的酸一產生劑，其能夠經由曝光到光化射線而釋出酸，其爲通式（I)所表在分子內具有一氰基之肟磺酸酯化合物 R1-C(CN) = N-0-S〇2-R2 ----(1) 其中R1爲惰性有機基且R2爲未經取代或經取代的多環一價烴基包括多環芳族烴基和多環非芳族烴基，作爲酸產生劑。於本發明第二部份中，在該化學增感光阻組成物中作爲成份（B2 )的酸產生劑爲上文所定義的通式（I )肟磺酸酯化合物與一織鹽化合物的組合》於本發明第三部份中，作爲該化學增感光阻組成物中的成份（B3 )之酸產生劑爲上述通式（I )肟磺酸酯化合物與通式（Π)所表分子內具有一氰基的第二肟磺酸酯化合物 R3-C(CN) = N-0*S〇2-R4 « (II) 其中R3爲選自不飽和或飽和非芳族烴基和芳族環烴基之 ---------------ir----- f請先Mtt背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張尺度適用中國國家揉半（CNS ) A4规格（210X297公釐） 455745 經濟部中央標隼局貝工消費合作社印製 A7 ____B7__五、發明説明（5 ) 中的未經取代或經取代一價烴基且R*爲未經取代或經取代，不飽和或飽和一價非芳族烴基：或與通式（III )所表在分子內具有二或三個氰基的第三肟磺酸酯化合物 A—[-C (CN) =N-0-S02 -R5 ] η- ...... (ΙΠ) 式中η爲2或3，R5 爲未經取代或經取代一價烴基且A 在η爲2或3時分別爲二價或三價有機基。較佳寅施例之詳細說明如上文所說明者，本發明光阻組成物的最特性點在於使用一或多種非常特定的肟磺酸酯化合物，視情況組合著鎌鹽化合物作爲輻射敏感性酸產生劑》爲本發明化學增感光阻組成物中的必要成分之一的成分（Α)爲沒有特別限制的膜形成性樹脂物質。亦即，此成分可爲傳統調配在先前技藝正型操作或負型操作化學增感光阻組成物之中者。當本發明光阻組成物爲正型操作性時，成分（Α)爲鹼溶性含羥基樹脂，其可經由用酸可解離保護基取代至少一部份的羥基而成爲鹼不可溶者。當本發明光阻組成物爲負型操作者時，該成分（Α)爲視情況以酸可溶離性保護基取代一部份羥基的鹼溶性含羥基樹脂與能夠經由與酸交互作用被交聯的酸可交聯性化合物之組合。當一層包含上述作爲成分（Α)的經鹸不溶化樹脂成 --------- 裝------1Τ------^ (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度遢用中US家棣準（CNS > Α4规格（210><297公釐） -8 - 4 5 5 7 4 5 經濟部中央標準局負工消费合作社印製 A7 B7五、發明説明（6 ) 分與作爲成分（B)的酸產生劑之本發明正型操作性化學增感光阻組成物圖樣方式地曝光於光化射線時，於曝光區內會從酸產生劑釋出酸使得曝光區內的樹脂成分因該酸可解離性保護基解離再生成羥基的結果變成鹼溶性且在該用鹼性顯像劑水溶液顯像處理中會選擇地溶解掉而得經正型地造圖過之光阻層。於樹脂成分含有酸交聯性化合物的本發明負型操作光阻組成物中|光阻層會經由該酸交聯性化合物與成份（B)酸產生劑所釋出的酸之交聯反應而在圖樣式曝光區中不溶化而使未曝光區內的光阻層會在顯像處理中選擇性地溶解掉而得負型圖樣化的光阻層〇上述含羥基鹼溶性樹脂的例子有經由酚化合物例如酚，間-和對一甲酚，二甲酚，三甲酚等與醛化合物例如甲醛等在酸觸媒存在中進行縮合反應製成的線型酚醛樹脂；以羥基苯乙烯爲基質的聚合物包括羥苯乙烯同元聚合物，羥苯乙烯與其他苯乙烯單體的共聚物，羥苯乙烯與丙烯酸系單體例如（甲基）丙烯酸和其衍生物的共聚物；（甲基）丙烯酸系聚合物包括（甲棊）丙烯酸與可與其共聚合的其他共單體的共聚物，等。經由用酸可溶離性保護基取代羥基使呈鹼不溶性之含羥基樹脂的例子有羥苯乙烯系聚合物包括羥苯乙烯同元聚合物，羥苯乙烯與其他苯乙烯單體的共聚物，羥苯乙烯與丙烯酸系單體例如（甲基）丙烯酸和其衍生物的共聚物及（甲基）丙烯酸系聚合物包括（甲基）丙烯酸與可與 ----------^、裝------訂------:Jk (诗先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國闺家標準（CNS > A4規格（210X297公釐） 455745 經濟部中央樣準局貝工消費合作杜印製 A7 _ B7五、發明説明（7 ) 其共聚合的其他共單體的共聚物經由用酸解離性保護基取代一部份酚或羧羥基者。上述可與羥苯乙烯共聚合的苯乙烯單體包括苯乙嫌，£T-甲基苯乙烯，對一和鄰一甲基苯乙烯，對一甲氧基苯乙烯，對一氯苯乙烯等。上述（甲基）丙烯酸的衍生物包括（甲基）丙烯酸甲酯，（甲基）丙烯酸乙酯，C甲基 )丙烯酸2—羥基乙酯，（甲基）丙烯酸2—羥基丙酯， (甲基）丙烯醯胺，（甲基）丙烯腈等》上述酸可溶離性保護基之例子有第三烷氧羰基例如第三丁氧羰基，第三戊氧羰基，第三烷基如第三丁基等，烷氧烷基如乙氧乙基，甲氧丙基等：縮醛基如四氫哌喃基，四氫呋喃基等，笮基，三甲基矽烷基等等。較佳者該含羥基樹脂的羥基有1至6 0%，或更佳者，1 0至5 0 %係經由上述酸可解離基的取代而被保護住。爲本發明組成物一類的正型操作化學增感光阻組成物含有，較佳者，作爲成分（Α)的經用酸可解離基取代羥基使呈鹼不溶化的含羥基樹脂或，特定言之，經用第三丁氧羰基或烷氧烷基，如乙氧乙基和甲氧丙基，取代一部份羥基之聚羥苯乙烯樹脂。特別者，該成分（Α)爲經第三丁氧羰基取代10至50%或，較佳者，15至40% 羥基的第一聚羥苯乙烯樹脂及經烷氧烷基，如乙氧乙基或甲氧丙基取代1 0至5 0%或，較佳者1 5至4 0%羥基的第二聚羥苯乙烯樹脂，以該第一樹脂對第二樹脂的重量本紙張尺度逍用中國國家梂準（CNS ) Α4规格< 210X297公釐) _ )〇 - (讀先閱讀背面之注意事項再填舄本頁) IK · 訂. 455745 A7 B7 五、發明說明（8 ) . 比例在5 : 95至50 : 50或，較佳者，10 : 90至 30:70範圍內組合而成者。於另一方面，爲本發明組成物另一類的負型操作化學增感光阻組成物含有，作爲成份（A )的鹼溶性樹脂，如線型酚醛樹脂，羥苯乙烯系聚合物，（甲基）丙烯酸系聚合物等’視情況經以酸可解離'基取代一部份羥基者，及酸交聯性化合物之組合。特定言之，該鹼溶性樹脂較佳者爲甲酚線型酚醛樹脂，聚羥苯乙烯樹脂或羥苯乙烯/苯乙烯共聚物，視情況經以第三丁氧羰基取代一部份羥基者。調配在本發明負型操作化學增感光阻組成物中的酸交聯性化合物可以，但未特別限制地，選自先前技藝中相同類型光阻組成物中慣用者。適當的酸交聯性化合物之例子包括具有羥基或烷氧基的胺基樹脂 > 例如三聚氰胺樹脂，脲樹脂，胍胺樹脂（g u a n a m i n e r e s i η )，乙酷胍胺樹脂，苯并胍胺樹脂，二醇脲-甲醛樹脂，丁二醯胺-甲醛樹脂，伸乙基脲-甲醛樹脂等。這些胺基樹脂可經由將三聚氰胺，脲，胍胺，乙醯胍胺，苯并胍胺，二醇脲，丁二醯胺，伸乙基脲等與甲醛在沸水中進行甲醇基化反應，視情況接著用低級醇將甲醇基予以烷氧基化而便利地製成。各種市售這些類別的樹脂產品皆可取得且以其本身用在本發明中作爲酸交聯性化合物。彼等市售產品的例子包括 Nikalacs Mx — 7 5 0，Mw-30 和 Mw-IOOLM，爲二聚氰胺樹脂及Nikalac Mx-290爲眠樹脂（各爲Sanwa Chemical Co.的產品）。此外也可取得市售苯并胍胺樹脂產品，本纸張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -----------------^ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製 -11 - 經濟部中央標奉局貝工消费合作杜印策 455745 A7 _B7______ 五、發明说明（9 ) 商品名爲 Cymel 1123 和 1128 (各爲 Mitsui Cya namide Co·的產品）。除了上述胺基樹脂之外，具有烷氧基的苯化合物例如 1 ，3，5 —三（甲氧甲氧基）苯，1，2，4 —三（異丙氣甲氧基）苯和1，4_二一（第二丁氧甲氧基）苯；及具有羥基或烷氧基的酚化合物例如2 ’ 6 -二羥基甲基對甲酚和2，6 —二羥甲基一對一第三丁基酚，也可在本發明負型操作光阻組成物中用爲酸交聯性化合物。上述各種酸交聯性化合物可單獨使用或根據需要以兩種或更多種的組合使用。本發明負型操作化學增感光阻組成物含有上述鹼溶性樹脂和酸交聯性化合物的組合其重量比例係在1 0 0 :3 至 100:70 較佳者，100:5 至 100:50 的範圍內。當該酸交聯性化合物的量太小時，該光阻組成物即不能被賦與足夠高的敏感度而，當其量太大時，很難從該光阻組成物形成均勻的光阻層且伴隨著可顯像性的減低而不能得到高品質的圖樣化光阻層。在本發明光阻組成物中用爲成份（A)的鹼溶性樹脂較佳者具有2 0 0 0至2 0 0 0 0範圍內的重置平均分子量。其分子量分佈必須較佳者儘可能地窄且作爲分子置分佈的量度之重量平均分子量對數一平均分子量的比例對於線型酚醛樹脂必須不超過5 . 0或，較佳者，3 . 0 且對於以羥苯乙烯爲主的樹脂必須不超過5 . 0，較佳者 ’2. 5或更隹者，1.5· 本紙張尺度適用中國國家標率（CNS ) A4规格（210X297公釐） -12 - --------：i------IT-----« ^ (婧先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局負工消費合作社印製 455745 A7 B7 1 _ ^ 1 1 11 1 五、發明説明（10 ) 本發明化學增感光阻組成物基本上含有作爲輻射敏 <感性酸產生劑的肟磺酸酯化合物，其可用通式（I)表之 R'-C(CN) = N-0-S〇2-R2 * ----(1) 其中R1爲一價惰性有機基且R2的選自芳族多環烴基及不飽和或飽和非芳族多環烴基之中的未經取代或經取代一價烴基。上述通式（I)中R1所表惰性有機基爲與本發明光阻組成物所含各種成份不具反應性之基。雖則未予特別的限制，不過該Ri基就相對於深紫外光，電子束和X —射線而言較佳者爲一芳族環狀基。此處的芳族環狀基意指具有芳族化合物所內稟的物理和化學性質之基包括，例如，苯基，萘基，呋喃基和噻吩共，視情況含有惰性取代基例如鹵素原子，如氯，溴和碘原子，烷基，烷氧基和硝基者-爲通式（ΐί7)中R2所表一類基的芳族多環烴基之例子有芳族縮合多環烴基例如2 —茹基，1_萘基，2_萘基和2 -蒽基，及芳族非縮合多環烴基例如聯苯基和聯參苯基。這些烴基可另含取代基例如鹵素原子，如氯，溴和碘，硝基，胺基，羥基，烷基和烷氧基，如在5 —羥基一 1 一萘基和4 一胺基一 1 一萘基之中者。爲通式（I)中R:所表另一類基的不飽和或飽和非芳族多環烴基較佳者爲多環烴基例如多環萜殘基和金剛烷 --------•裝------訂------奸 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國鬮家揉率（CNS > A4规搞·（ 210X297公釐） · 13 · 455745 A7 ___ Β7_ 五、發明說明（11 ) - 基，彼等可在環上另含取代基例如鹵素原子，如氯，溴和 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 碘，硝基，胺基，羥基，氧基，烷基或烷氧基。適合爲 R:的基之例子包括樟腦_ 3 —基’樟腦_ 8 -基，樟腦— 1 〇 —基和3 -溴樟腦一 1 0 -基。該R 2基就良好圖樣鑑別率而言較佳者爲萘基或樟腦- 1 0 -基或，更佳者， 1 —萘基。 ' 經苽部智慧財產局員工消費合作社印製本發明的最特性點在於使用上述非常特殊的肟磺酸酯化合物作爲酸產生劑，其可賦與化學增感光阻組成物高敏感性和高圖樣鑑別率以及圖樣化光阻層的截面輪廓之優良正交性。此特徵大異於用產生酸如對-甲苯磺酸或苯磺酸之傳統肟磺酸酯化合物所調配成的化學增感光阻組成物。這些磺酸具有一項問題，那就是彼等在光阻層之後一曝光烘培處理中的擴散會大得使在陽型操作光阻層中，洞圖樣化中所得圖樣化洞所具直徑大於光罩圖樣中的直徑而不能得到所欲圖樣鑑別率。本發明光阻組成物在這方面的優點可能是來自於下述事實 > 亦即經由曝光到深紫外光，電子束，X -射線等而從R2基釋出的酸分子會太龐大而促使該等酸分子在後曝光烘焙處理中不致於快速擴散因而導致圖樣鑑別率的改良。在此方面先前技藝的一項問題爲，當圖樣化處理係用紫外光或深紫外光例如365 nm波長的丨-線光和激生分子雷射束進行時，從酸產生劑產生的酸分子所具太大體積性會導致該等酸分子無法充分地擴散經過光阻層，使得曝射光的駐波所具不良影響增加如此地多且使圖樣化光阻 -14 - 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） 455745 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 _B7五、發明説明（12 ) 層可能具有波浪狀截面輪廓。此爲嘗試使用所產生的酸具有相當小的分子體積之酸產生劑的理由"於本發明中，舆此相異者，不論通式（I)肟磺酸酯化合物所產生的酸分子所具體積性爲何，都可以在圖樣式曝光到電子束和X -射線之中得到高圇樣鑑別率。再者，用含有通式（I )時磺酸酯化合物組合著通式〔II)或（III)磺酸酯化合物之本發明光阻組成物，甚至於曝光到深紫外光例如激生分子雷射光束，也可以得到具有優良截面輪廓的圖樣化光阻層β這個優點在本發明光阻組成物爲負型操作時特別地顯著。上述通式（I)肟磺酸酯化合物可經由已知方法製備成》例如，將分子內有肟基的化合物與分子內有磺醯氯基的化合物置於有機溶劑內例如四氫呋喃，Ν,Ν —二甲基甲醯胺，Ν，Ν —二甲基乙醯胺和Ν —甲基毗咯酮，在驗性觸媒例如吡啶，三乙胺等存在中進行酯化反應。上述含肟基化合物可用文獻中所載方法製成，包括：The Systematic Identification of Organic Compounds, page 181( John Wiley & Sons, 1980);Die Makromoleculare Chemie, Volume 108,papgl70(1967);0rganic Syntheses, Volume 59,page 95(1979);和其他。通式（I)所表且適合在本發明化學增感光阻組成物中作爲成分（B)的肟磺酸酯化合物之例子包括 (1—萘磺醯氧亞胺基）一4一甲氧基苄基腈，下式所表者本紙張尺度遑用中國困家揉率（CNS ) Α4规格（210X297公釐) 「15- ---,---^---^ Ϊ裝------訂-----risfc (諳先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 4557 4 5 A7 B7 五、發明说明（13 )

Op

CN

S02-O^N=C y- OCH α —（ 2 -萘磺醢氧亞胺基）_4_甲氧基笮基腈，下式所表者

CQ

S02-0-N=C-^^- OCH3 · CN α —（ 1 0_樟腦磺醯氧亞胺基）_4_甲氧基笮基腈下式所表者

H3C CH V

ch2-so2-o-n=c OCHg 0 CN α -（1 一萘磺醯氧亞胺基）韦基腈，下式所表者 --------1-、裝------訂------,Λ, (請先閲讀背面之注意事項再填w本頁) 經濟部中央榡準局員工消费合作社印製

(2 -萘磺醯氧亞胺基）苄基腈，下式所表者本紙張尺度適用中國國家揉準{ CNS ) A4規格（210X297公釐） -16 - 45574b A7 B7 五、發明説明（14) οα

S〇2-0-NsC I CN a -( 0 _樟腦磺醯氧亞胺基）苄基腈，下式所表# H3C CHi

'4Λ .

ch2-so2-o-n=c- \ , CN 及 _ ( 3 —樟腦磺醯氧亞胺基）一4 一甲氧基笮基腈’下式所表者

H3C CH

Ξ〇2 —0—n^c I CN

〇CHa 經濟部中央標率局舅工消费合作社印裝上述通式（i)所表各種肟磺酸酯化合物可單獨使用或根據成分（B)用爲本發明光阻組成物中的酸產生劑之需要以兩種或多種的組合使用。較佳者，於本發明光阻組成物的敏感度和圖樣鑑別率有需要進一步改良時，或特別是在本發明陽型操作光阻組成物之情況中者，該酸產生劑爲通式（I)肟磺酸酯化合物與錤鹽化合物之組合。適當錨鹽化合物的例子包括：四氟硼酸二苯基碘；三氟甲烷磺酸二苯基鎮；六氟銻酸二苯基錤；六氟銻酸（4 _甲氧基苯基）苯基錤； ----------" >裝------訂------.綵 <諳先«讀背面之注^I*項再填寫本頁) 本紙張尺度速用中國國家棣準（CNS ) A4规格（210X297公嫠） .\η . 經濟部中央標準局負工消費合作社印輦 45574b A7 _B7____ 五、發明説明（15 ) 三氟甲烷磺酸（4 一甲氧基苯基）苯基錤；三氟甲烷磺酸二-（對一第三丁基苯基）鍈：三氟甲烷磺酸三苯基鋲：六氟銻酸（4 一甲氧基苯基）二苯基锍；三氟甲烷碘酸（4 —甲氧基苯基）二苯基锍；三氟甲烷磺酸（4 一甲基苯基）二苯基锍：及三氟甲烷磺酸（4_第三丁基苯基）二苯基锍。當該酸產生劑爲通式（I)肟磺酸酯化合物與銳鹽化合物的組合時，該錤鹽化合物的重量比例較佳者不超過兩者總量的8 0 %。當該化學增感光阻組成物意欲用爲要圖樣式曝光到深紫外光例如激生分子雷射光束的陽型操作光阻組成物時，該酸產生劑可視情況更包括重氮甲烷化合物，其例子有二磺醢基重氮甲烷化合物例如二一（對一甲苯磺醢基）重氮甲烷，二一（1，1_二甲基乙基磺醢基）重氮甲烷，二—（環己基磺醯基）重氮甲烷，二（2，4 一二甲基苯基磺醣基）重氮甲烷等。再者，本發明化學增感光阻組成物中的酸產生劑可爲通式（I)所表肟磺酸酯化合物與通式（II)所表第二肟磺酸酯化合物 R 3 -C(CN) = N-0-S〇2-R4 . · · (II) 式中R3爲未經取代或經取代，不飽和或飽和非芳族一價本紙張尺度遑用中國·家標準（CNS ) Μ規格（210X297公嫠} 7Ζ -------1 ------1Τ------、、線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作杜印製 45574b A7 _______B7_____ 五 '發明説明（16) 烴基或芳族一價烴基且V爲未經取代或經取代，不飽和和或飽和非芳族一價烴基；及/或通式（II.I )所表第三肟磺酸酯化合物之組合 A+C (CM) =N-0-S02-Rs ] n, ...... (111) 其中下附字η爲2或3，各R5爲未經取代或經取代的一價烴基且當下附字η爲2時，A爲二價有機基，或當下附字 η爲3時，爲三價有機基。當其酸產生劑爲上述二或三種不同肟磺酸酯化合物的組合時，本發明化學增感光阻組成物可爲適合圖樣式曝光到深紫外光例如激生分子雷射光束之陰型操作光阻組成物。上述二價或三價有機基爲所含兩個或三個氫原子被脫除掉留下二或三個可供化學鍵形成的自由鍵之有機化合物殘基。上述通式（II)所表第二肟磺酸酯化合物較佳者係選自通式（V )所表者

Rb-C(CN) = N-0-S〇2-R 9 · . (V) 其中R8和R9各爲非芳族一價烴基：及通式（VI )所表者之中 R,0-C(CN)=N-O-S〇2 - R11 · · _ (VI) 其中V爲芳族一價環狀基且RU爲未經取代或經鹵素取一 _^.n I *~1T-,^ (請先W讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸浪尺度適用中國國家標準（CNS > A4规格（210X297公釐） .<|g 4 5 5 7 α 經濟部中央標聿局貝工消费合作社印製 Α7 Β7 五、發明说明（17) 代的低級烷基。 f 上述非芳族一價烴基的例子有烷基，鹵烷基’烯基’ 環烷基，環烯基，烷氧基，環烷氧基和金剛烷基。烷基較佳者爲具有1至12個碳原子的直鏈或分枝烷基例如甲基，乙基，正丙基，異丙基，正丁基，異丁基，第二丁基，第三丁基，正戊基，正辛基和正十二烷基。鹵烷基包括 _鹵烷基和多鹵烷基1沒有特別限制。鹵烷基的鹵素可爲氟，氯，溴或碘。鹵烷基較佳者具有1至4個碳原子例如氯甲基，三氯甲基，三氟甲基和2 _溴丙基。上述烯基較佳者爲具有2至6個碳原子的直鏈或分枝烯基例如乙烯基，1 -丙烯基，異丙烯基和2 - 丁烯基。環烷基較佳者具有5至1 2個碳原子例如環戊基，環己基，環辛基和環十二烷基。環烯基較佳者具有4至8個碳原子例如1 —環丁烯基，1 一環戊烯基，1 -環己烯基， 1一環庚烯基和1一環辛烯基β烷氧基較佳者具有1至8 個碳原子例如甲氧基，乙氧基，丙氧基，丁氧基和戊氧基。環烷氧基較佳者具有5至8個碳原子例如環戊氧基和環己氧基。通式（V) V所表基較佳者係選自烷基，環烷基和環烯基之中者，或更佳者爲選自環烯基之中者。通式〔V )中V所表基較佳者係選自下列所成組合之中者：具有 1至4個碳原子的直鏈或分枝烷基，具有1至4個碳原子的鹵烷基，具有1至4個碳原子的烷氧基和具有2至4個碳原子的烯基。鹵烷基中的鹵素原子數目沒有特別的限制 --------1 裝------訂-------線 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度逍用中國困家標率（CNS ) Α4规格（2丨ΟΧ297公釐） .20 - 455745 經濟部中央標準局貝工消费合作社印製 A7 B7五、發明説明（18 ) 且可爲1或大於1。鹵烷基的鹵素元素可爲氟，氯，溴和碘中任何一者。R9所表基爲具有1至4個碳原子的烷基或鹵烷基或，較佳者，具有1至4個碳原子的烷基。更佳者爲通式（V)化合物中R8爲環烯基且R9爲具有1至4 個碳原子的烷基者。通式（V)所表肟磺酸酯化合物的例子包括： (甲基磺醯氧亞胺基）一 1_環戊烯基乙腈， (甲基磺醯氧亞胺基）一1 一環己烯基乙腈， α —（甲基磺醯氧亞胺基）一 1—環庚烯基乙腈 α —（甲基磺醯氧亞胺基）一 1—環辛烯基乙腈， α -(三氟甲基磺醯氧亞胺基）-1 _環戊烯基乙腈， α —(三氟甲基磺醯氧亞胺基）環己基乙腈 (乙基磺醯氧亞胺基）乙基乙腈， α — C丙基磺醯氧亞胺基）丙基乙腈， α -(乙基磺醢氧亞胺基）一1 一環戊烯基乙腈， α —(異丙基磺醯氧亞胺基）—1 一環戊烯基乙腈， α—(正丁基磺醯氧亞胺基）一1一環戊烯基乙腈， α —（乙基磺醢氣亞胺基）_ 1 -環己烯基乙腈， α ~ (異丙基磺醯氧亞胺基）一 1 一環己烯基乙腈， α -（正丁基磺醯氧亞胺基）一 1 —環己烯基乙睛，和類似者。於上述通式（V I )中，R115所表芳族環狀基包括苯基，萘基，呋喃基和噻吩基*其可更含—或多個某種取代基例如_素原子，烷基，烷氧基，硝基等。R11所表 (谇先閲讀背面之注意事項再填努本頁) 本紙張尺度逍用中國國家揉準（CNS ) Α4规格（2丨0X297公釐） -21 - 455745 經濟部中央標準局貝工消費合作衽印製 A7 _______B7___五、發明説明（19 ) 烷基爲具有1至4個碳原子的直鏈或分枝烷基例如甲基，乙基，正丙基，異丙基，正丁基，異丁基，第二丁基和第三丁基。爲R11所表一類基的鹵化低級烷基爲具有i 至4個碳原子的鹵化低級烷基例如氯甲基，三氯甲基，三氟甲基和2 —溴丙基。上述通式（VI)所表肟磺酸酯化合物的例子包括： α —（甲基磺醯氧亞胺基）苯基乙腈； α —（甲基磺醯氧亞胺基）一4 一甲氧基苯基乙腈； α —（甲基磺醢氧亞胺基）一4_甲基苯基乙腈： α -（三氟甲基磺醯氧亞胺基）苯基乙腈： α —(三氟甲基磺醯氧亞胺基）一4 一甲氧基苯基乙睛； α —（乙基磺醯氧亞胺基）一4 一甲氧基苯基乙腈： α —（丙基磺醯氧亞胺基）一 4_甲基苯基乙腈： α -（甲基磺醯氧亞胺基）一 4_溴苯基乙腈；和類似者。爲上述通式（I I I )中R5所表一類基的烴基之例子較佳者爲具有1至4個碳原子的直鏈或分枝烷基及具有2至4個碳原子的直鏈或分枝烯基。烷基的例子包括甲基，乙基，丙基，異丙基，正丁基，第二丁基和第三丁基，而烯基的例子包括乙烯基，丙烯基，丁烯基和丁二烯基〇爲R 5所表一類基的具有取代基之烯基爲例如上述烷基和烯基更被取代基如齒素原子如氯，溴和氟，羥基，烷氧基和醯基取代至少一個氫原子者。R5所表經取代烴 ---------'^------^------务 (諳先聞讀背面之注f項再填寫本頁) 本紙張尺度逍用中國國家搮準（CNS ) A4规格（210X297公釐） -22- 4 5 5 7 ^ V. A7 B7 五、發明説明（2〇 ) 基較隹者爲鹵烷基例如氯甲基，三氯甲基，三氟甲基和2 一溴丙基。通式（I I I )中的A所表二價或三價有機基之例子爲二價或三價脂族烴基和芳族烴基。上述通式（III)所表肟磺酸酯化合物之例子包括下列諸式所表的化合物，其中ρΡ η爲1，4_伸苯基， mPm爲1，3 —伸苯基，Me爲甲基，E t爲乙基， B u爲丁基且FMe爲三氟甲基：

Me-S02-0-N = C(CN)-pPn-C (CN)=N-0-S0z-Me;

Me-S02-0-N=C(CN)-mPn-C(CN)=N-0-S02-Me;

Et-S02-0-N=C (CN)-pPn-C (CN)=N-0-S02-Et;

Bu-S02-0-N = C(CN)-mPn-C (CN)=N-0-S02-Bu;

Bu-S02-0-N=C(CN)-pPn-C (CN)=N-0-S02-Bu; FMe-S02-0-N=C(CN)-pPn-C (CN)=N-0-S02-FMe;和 FMe-SOj-0-N=C(CN)-mPn-C (CN)=N-0-S02-FMe. • 一通式（I I )和（I I I )所表肟磺酸酯化合物可單獨使用或根據需要以兩種或更多種的組合使用。通式（I )所表肟磺酸酯化合物在受到光化射線照射時會釋出高分子體積度的酸使得彼等肟磺酸酯單獨用於深紫外光陰型操作光阻組成物中作爲酸產生劑時，於後曝光烘焙處理過程中從其釋出的酸分子透過光阻層的擴散會不夠快速使得圔樣化光阻層的截面輪廓具有波狀邊線且會向上呈梯形般漸窄*另一方面，當作爲酸產生劑的肟本紙張尺度逍用中國國家橾準（CNS > A4規格（210X297公釐） --------------ίτ-----k 人請先聞讀背面之注意事項再填tr本頁) 經濟部中央榇準局貝工消费合作社印製 •23- 45 5'/ . A7 __ B7______ 五、發明说明（21 ) 磺酸酯化合物爲通式（I I )或（I I 1 )所表化合物時，經由光化射線照射從其中釋出的酸具有較小的分子體積度可以在後一曝光供焙處理中快速擴散使得圖樣化光阻層的截面輪廊會向上呈反梯形地漸寬但邊線上沒有波狀。因此，較佳的本發明光阻組成物配方爲將通式（I ) 肟磺酸酯化合物與通式（I I )或（I I I )肟磺酸酯化合物以恰當比例組合使得可以得到具有優良截面輪廓的圖樣化光阻層。經濟部中央輮率局員工消費合作社印褽 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 雖然沒有特別的限制，不過上述組合調配的兩類肟磺酸酯化合物之重量比例係在2:8至8:2或，較隹者4 :6至6:4範圔內以使該兩類化合物的特性點得以分別展現。爲了促使兩類肟磺酸酯化合物組合調配成的光阻組成物所具敏感度獲得充分地調定，該兩類肟磺酸酯化合物較佳者具有彼此接近的光吸收特性，如紫外光吸收譜帶的波長範圍和吸光係數*該兩類肟磺酸酯化合物的較佳組合例子包括a—(1—萘磺醯氧亞胺基）一4一甲氧基笮基腈爲通式（I)化合物與(甲基磺醯氧亞胺基）一 1 一苄基腈爲通式（I I )或（I I I )化合物之組合，及 a — ( 1 0 —樟腦磺醯氧亞胺基）一4 一甲氧基苄基腈爲通式（I )化合式與α-(甲基磺醯氧亞胺基）一 4 一甲基芊基腈爲通式（I I)或（I I I)化合物之組合》於本發明光阻組成物的調配中通式（I)肟磺酸酯化合物及/或通式（I I )或（I I I )肟磺酸酯化合物可視情況根據需要組合一或多種其他肟磺酸酯化合物。彼等本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4规格（210χ2ί>7公釐）〇4 - 455 / 455 / 經濟部中央祥準局貝工消费合作社印装 A7 ___B7__________ 五、發明説明（22 ) 選用的肟磺酸酯化合物之例子爲上述通式（V)所表者’ 其中R4所表非芳族烴基的烷基，鹵烷基，烯基，環烷基，環烯基，烷氧基或具有5至12個碳原子的環烷氧基。彼等基的特殊例子包括正戊基，正辛基，正十二烷基，己烯基，環戊基，環己基，環辛基，環十二烷基，1_環戊烯基，1-環己烯基，1一環庚烯基，1一環辛烯基，戊氧基，環戊氧基和環己氧基。彼等肟磺酸酯化合物的特殊例子包括α —（環己基磺醯氧亞胺基）環戊基乙腈，α —(環己基磺醢氧亞胺基）環己基乙腈和α —（環己基磺醯氧亞胺基）一1 一環戊烯基乙腈8 此外可視情況使用上述通式（III)所表肟磺酸酯化合物其中R 5所表未經取代或經取代烴基係選自芳族環狀基和具有5至12個碳原子的烷基，烯基，環烷基與環烯基以及經由將上述烴基所含一或個氫原子以鹵素原. 子，烴基，烷氧基或醯基予以取代所得基之中者·上述芳族環狀基較佳者具有6至14個碳原子包括芳族烴基例如苯基，甲苯基，甲氧苯基，二甲苯基，聯苹基，萘基和蒽基，及雜環基例如呋喃基，吡啶基和嗜琳基。具有5至 12個碳原子的烷基，烯基，環烷基和環烯基之例子包括正戊基，正辛基，正十二烷基，己烯基，辛二烯基，環戊基，環己基，環辛基，環十二烷基，1_環戊烯基，1一環己烯基，1一環庚烯基和1一環辛烯基。彼等肟磺酸酯化合物的特殊例子包括下列諸式所表本紙張尺度逍用中國國家標準（CNS ) A4H格（2丨0X297公釐) :25- -t 裝------1T--1--厂線 (谇先《讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局貝工消費合作社印装 4557 A7 B7 五、發明説明（23 ) 者，其中pPn爲1，4 —伸苯基，mPn爲1 ’3 —伸苯基，Me爲甲基，Ch爲環己基且ph爲苯基：

Ch-S02-0-N=C(CN)-pPn-C(CN) =N-0-S02-Ch;

Ph-S02-0-N=C(CN)-pPn-C(CN)=N-0-S02-Ph;

Me-pPn-S02-0-N=C(CN)-pPn-C(CN)=N-0-S02-pPn-Me;

Me-pPn-S〇2-O-N^C(CN)-mPn-C(CN)=N-0-S〇2-pPn-Me;和

Me0-pPn-S02-〇-N=C(CN)-mPn-C (CN)=N-0-S02-pPn-OMe. 有關本發明光阻組成物中個別成分的調配比例，有利者，該酸產生劑的用置就性質平衡例如影像形成，光阻膜形成和顯像能力之考慮下，係在0 . 5至2 0重量份數，或較佳者，1·0至10·0重量份數的肟磺酸酯化合物每1 0 0重量份數的成分（A)膜形成性組成份。當該酸產生劑的量太小時，不能完成完整的影像形成而，當其量太大時，從該組成物不能形成良好的光阻膜且顯像能力減低而不能得到優良圖樣化的光阻層。爲了改良在圖樣式曝光到光化射線之後，於後一曝光烘焙處理之前在光阻層內形成的潛像之安定性，可視情況將本發明光阻組成物混合一胺化合物包括脂族胺例如三甲胺，乙胺*二乙胺，三乙胺，正丙胺，二一正丙胺及三一正丙胺：芳族胺例如笮胺，苯胺，N —甲基苯胺和N， N —二甲基苯胺，及雜環胺例如吡啶，2 —甲基吡啶，2 —乙基吡啶和2，3 —二甲基吡啶；其中以三乙胺爲特別較佳者，因爲此胺化合物可使光阻組成物所形成的圖樣化本紙張尺度逍用中國國家標率（CNS ) A4規格（210X297公釐） -26- ii 、裝 —訂 I" (請先閩讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央揉準局貝工消费合作社印製 455745 A7 ____B7___ 五、發明説明（24 ) 光阻層所具截面輪廓有優良的正交性體同在光阻層圖樣式曝光到光化射線所形成的潛像之良好安定性。再者，本發明光阻組成物可根據需要視情況混合一羧酸包括飽和或不飽和脂族羧酸例如丁酸，異丁酸，草酸，丙二酸，丁二酸，丙烯酸，巴豆酸，異巴豆酸，3_丁烯酸，甲基丙烯酸和4_戊烯酸；脂環族羧酸例如1，1 一環己烷二羧酸，1，2—環己烷二羧酸，1，3—環己烷二羧酸，1，4—環己烷二羧酸及1，1_環己基二乙酸 :及具有羥基，硝基，羧基或乙烯基爲其取代基的芳族羧酸例如對一羥基苯甲酸，鄰一羥基苯甲酸，2 -羥基_3 一硝基苯甲酸，3，5 —二硝基苯甲酸，2 —硝基苯甲酸，2，4 一二羥基苯甲酸，2，5 —二羥基苯甲酸，2， 6 —二羥基苯甲酸，3，4 一二羥基苯甲酸，3，5 —二羥基苯甲酸，2 —乙烯基苯甲酸，4 —乙烯基苯甲酸，酞酸，對酞酸和異酞酸。於上列羧酸之中，從酸的充足強度來看以芳族羧酸較爲佳。特別者，更佳的是柳酸，因爲此酸在光阻組成物所用溶劑內具有良好溶解度且用其調配成的光阻組成物有優良的圖樣化行爲之故。有關這些胺化合物和羧酸化合物的添加量’以成分（ A)的用量爲基準，胺化合物的量係在〇.〇1至1重量 %，或較佳者，0 . 0 5至0 . 5重量％範圍之內且羧酸化合物的量係在0.01至10重量％或’較佳者’ 0 . 0 5至2 . 0重置％範圍之內。 {諳先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度逍用中國國家標準（CNS ) A4规格（2丨0X297公釐） · 27 · 455745 經濟部中央梯準局負工消費合作杜印裝 A7 _ B7五、發明説明（25 ) 通常較佳者，本發明光阻組成物係溶液形式，係經由將上述諸成分溶解在適當有機溶劑內而製備成者。適當有機溶劑的例子包括酮溶劑例如丙酮，丁酮，環己酮，甲基異戊基酮和2 —庚酮：多羥基醇和其衍生物例如乙二醇，乙二醇一乙酸酯，二乙二醇，二乙二醇一乙酸酯，丙二醇，丙二醇一乙酸酯，二丙二醇和二丙二醇一乙酸酯及彼等的一甲醚，一乙醚，一丙醚，一丁醚和一苯基醚；環醚溶劑例如二氧陸圜；酯溶劑例如乳酸甲酯，乳酸乙酯，乙酸甲酯，乙酸乙酯，乙酸丁酯，丙酮酸甲酯，丙酮酸乙酯，甲氧基丙酸甲酯乙氧基丙酸乙酯；及醯胺溶劑例如N，N 一二甲基甲醯胺，N，N —二甲基乙醢胺和N —甲基一 2 -吡咯酮。這些有機溶劑可單獨使用或根據需要以兩種或多種的混合物使用。當然根據需要本發明光阻組成物可混合光阻組成物中慣用的各種已知添加劑例如輔助樹脂以改變膜性質，增塑劑，安定劑，著色劑，界面活性劑等，各皆以在限童使用。使用本發明光阻組成物進行影印石版術造圖之程序可爲先前技藝光阻組成物所慣用者。亦即，在一基材例如半導體矽晶圓上，使用適當的塗被機例如旋塗機均勻地塗被光阻組成物接著予以乾燥形成乾光阻層，其經圖樣式地曝光到光化射線例如深紫外光，X —射線，電子束及類似者，再施以後一曝光烘焙處理》其後，用鹼性顯像劑水溶液，其典型地爲1至1 0重量％的氫氧化四甲銨水溶液， ---------、裝------訂------^k (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家標導（CNS) A4规格（210X297公釐） -28 - 455745 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 _____B7____五、發明説明（26 ) 對該光阻層進行顯像處理以溶解掉圚樣光阻層。如此所得圖樣化光阻層具有優良的圖樣鑑別率且具有正交截面輪廓。本發明也提出一類可用於化學增慼光阻組成物中作爲一成分的新穎輻射敏感性酸產生化合物。該新穎化合物爲通式dg)所表的肟磺酸酯化合物 R 6 -C(CN) = N-0-S〇2-R 7 _ · · ( I V) 其中Re爲芳族環狀基且R7爲萘基或樟腦殘基。通式（ I V)中的R6所表芳族環狀基之例子爲對通式（I )中 R 1所表芳族環狀基的例子所述者相同之基。藉著通式（I V )肟磺酸酯化合物中的R7基所衍生的酸分子之龐大性及經由將光阻層曝光到光化射線而釋出到光阻層內的酸分子例如萘磺酸或樟腦磺酸，含有該肟磺酸酯化合物作爲酸產生劑的本發明化學增感光阻組成物具有高圖樣鑑別率之優點。於下文中，要經由實施例更詳細地闡述本發明化學增感光阻組成物，不過該等實施例絕不是用來對本發明範圍有任何方面的限制，在其之前爲幾種用於光阻組成物調配中的肟磺酸酯化合物的合成程序說明。製備例1 a _ ( 1 -萘基磺醸氧亞胺基）一4_甲氧基韦基腈，如本紙張尺度逍用中國國家標準（CNS > Α4规格（210X297公嫠) .29 - (讀先閱讀背面之注$項再填寫本Κ ) 裝訂 455745 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製 A7 _____B7________五、發明説明（27 ) 下面構造式所表者0Q 八 S〇2 -0-N=C-^y- 〇CH3 , CN 係以下面的方式合成的》依此，將51 . 〇克（0 · 29莫耳）α -羥亞胺基 )一 4 一甲氧基苄基腈和44 · 0克C0 . 43莫耳）的三乙胺溶解在一反應容器內的4 0 0毫升四氫呋喃內並將溶液冷卻至及保持在一5t。其後，將72.3克（ 0 _ 3 2莫耳）1 _萘磺醯氣於二小時期間逐滴加到該溶液內並將反應混合物置於- 5 °C再攪拌3小時及接著在約1 0°C攪拌2小時。其後，將反應混合物置於3 or下減壓蒸餾脫除掉四氫呋喃得到1 0 1 . 1克固體產物，其用乙腈重複再結晶純化得到74. 5克在1 2 1°C熔化的白色結晶產物。假定此產物爲所欲的上述肟磺酸酯化合物時，產物的產率相當於理論値的7 0%。上面所得產物化合物的紅外線吸收光譜具有譜峰在 711cm·1，838cm 1186cm-1， 1606cm μ和2237cm·1的吸收譜帶，其質子 NMR吸收光譜（1H — NMR，溶劑：丙酮一 d6)的譜峰在 5 : 3 . 80ppm，6 _ 91ppm，7 . 54 ppm，7 .60 至 7.87ppm，8.05ppm， 8 37 ppm* 8 . 50ppm和 8 . 72ppm。此外，該化合物在丙二醇一甲醚溶劑內的紫外線吸收光譜的本纸張尺度適用中國固家揉準（CNS ) A4規格（210X297公釐) 「30- ---------裝------1T----- (請先M讀背面之注意事項再填寫本頁) 455745 A7 B7 五、發明説明（2S ) 吸收譜帶在又max = 229nro’ £ = 31700在在 λ max = 321nm，£ = 15600 。製備例2 下面構造式所表的α —（ 2 —萘基磺醯氧亞胺基）一4 — 甲氧基苄基臃 οα

S〇2-0-N=C CN OCHi 經濟部中央標率局貝工消费合作社印裝實質地係以與上述製備例1相同的方式合成者，不同處在於用相同量的2 —萘磺醯氯取代72 . 3克（0 . 32莫耳）的1 一萘磺醯氯得到6 9 . 1克在1 0 8°C熔化的白色結晶產物。假設此產物爲所欲的上述肟磺酸酯化合物* 則產物的產率相當於理論値的6 5%。上面所得產物化合物的紅外線吸收光譜具有譜峰在波數爲 709cm °，860cm·1，1186cm·1， 1 6 0 6 c ΙΠ+1和2 2 3 7 c 的吸收譜帶*其質子 NMR吸收光譜（lH-NMR，溶劑：丙酮一 de)的譜峰在 5 : 3 . 85ppm，6 · 99ppm，7· 69 史 8.27口口111，及8-80?口111»此外該化合物在丙二醇一甲醚溶劑中的紫外線吸收光譜向吸收譜帶在 λ max = 23 lnm，e = 57600 及在 λ max = 326nm，e = 14000。 --------- t裝------訂------ (讀先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度遥用中國國家標準（CNS ) A4洗格（210X297公釐） 31 - 45574^ A7 ________B7_五、發明説明（29 ) 製備例3 下面構造式所表的α—（10—樟腦磺醯氧亞胺基） - 4 —甲氧基苄基腈 h3 c ch3

經濟部中央橾準局貝工消费合作社印12. 實質地係以上述製備例1中的相同方式合成的，不同處在於用84 . 5克（0 . 32莫耳）的（+ ) 10 —槔腦磺醯氯取代72 . 3克（0 . 32莫耳）的1_萘磺醯氯而得5 8 . 7克在1 3 0t熔化的白色結晶產物。假設此產物爲所欲的上述肟磺酸酯化合物*則產物的產率相當於理論値的5 0 . 0 %。上面所得產物化合物的紅外線吸收光譜具有譜峰在波數爲 838cm·1，1180cm1，1265cm·1 ，1606cm 1和1749cm·1的吸收譜帶》其質子 NMR吸收光譜C 'H-NMR，溶劑：丙酮一（16)的譜峰在 5 : 0 . 90ppm，1 . 15ppm，1 .40 至 2 . 60ppm，3 . 90ppm，7 . OOppm 和 7 . 8 5 p pn^此外，該化合物在丙二醇一甲醚溶劑中的紫外線吸收光譜所具吸收譜帶係在λ max == 2 2 9 nm， e=8300 及在 λ max = 324nm， £ = 1 3 5 0 0 » ---------\ .装------1T------Μ (請先Μ讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度通用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） -32 - 455745 A7 B7 五、發明説明（30 ) 製備例4 下面構造式所表的α~(3 —溴一 1 0 —樟腦磺醯氧亞胺基）一4_甲氧基笮基腈 h3c ch,

係以下述方式合成的。其合成程序實質地係與製備例1相同，不同處在於將羥亞胺基—4 —甲氧基苄基腈的量從5 1.0克增加到63 . 3克（0 . 36莫耳）並用141 . 5克（ 0 _ 4 3莫耳）的3 -溴一 1 〇 —樺腦磺醯氯取代 72 3克（0 . 32莫耳）的1 一萘磺醢氯而得到 1 0 1 . 5克的在1 2 1°C熔化之白色結晶產物》假定此產物爲上述標的化合物，則其產率相當於理論値的 6 0.0%。經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 (讀先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 上面所得產物化合物的紅外線吸收光譜具有譜峰在波數爲 8 3 8 cm1，1 1 80 cm·1 * 1 26 5 cm」，1 6 0 6 cm1和1 7 4 9 cm-1的吸收譜帶。其質子 NMR吸收光譜（^H_NMR，溶劑：丙酮一 d6)的譜峰在 d:0.90ppm，1 · 15ppm，1 .40 至 2 . 60ppm，3 . 90ppm，7· OOppm 和 7 . 8 5 p pm。此外，該化合物在丙二醇一甲醚溶劑內的紫外線吸收光譜所具吸收譜帶係在；I max — 2 2 9 本紙張尺度適用中國國家棵準（CNS > A4规格（210X297公釐} -33- 4 5 5 7 4 〇 A7 B7 五、發明説明（31 ) nm，¢ = 8300 及在 λ max = 3 2 4 n m 1 3 5 0 0。 £ 製備例5 下面構造式所表的α —（ 3 —溴一1 0 —樟腦擴酿氧亞胺基）—4 一溴芊基腈

H3 C CH, V CH2-S〇2-0-N=C Br 0 CN

經濟部中央標準局負工消费合作杜印製係以下面的方式合成的。其合成程序係實質地與製備例1相同，不同處在於用 8 1 · 0克（0 · 36莫耳）的α —羥亞胺基—4 一溴笮基腈取代α —羥亞胺基一 4 一甲氧基苄基腈並用 141 .5克（0.43奠耳）3 —溴一 10 —樟腦磺醯氯取代72 3克（0 . 32莫耳）1 一萘磺醯氣而得 1 0 0 . 8克在1 1 5°C熔化的白色結晶產物。假設此產物爲上述標的化合物，則此產率相當於理論値的5 4 . 0 上面所得產物化合物的紅外線吸收光譜具有譜峰在波數爲 838cm·1，1180cm·1，1265cm1 ，1606cm—1和1749cm ^的吸收譜帶。其質子 NMR吸收光譜（’Η — NMR，溶劑：丙酮一 d6)所具譜峰係在5:0.90ppm .1 5 p p m I I I I 装 I I I I ^ 訂 I I I —'^. (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度逍用中國®家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） -34- 經濟部中央標车局員工消费合作社印装 45574 5 A7 ____B7_____五、發明説明（32 ) 1-40至2.60?〇111，7.80??111和7.88 p pm。此外，此化合物在丙二醇—甲醚溶劑內的紫外線吸收光譜所具吸收譜帶係在λ max = 226nm，其ε = 3 ◦ Ο 0 及在 λ max = 292nm，其 ε = 1 1000。實施例1 在4 Ο 0重量份數的丙二醇一甲醚乙酸酯中溶解2 5重量份數的第一聚羥苯乙烯樹脂，其重量平均分子量爲 1 2000，分子量分佈Mw:Mn爲4 . 6，其羥基有 3 9 %係被第三丁氧羰基所取代；7 5重量份數的第二聚羥苯乙烯樹脂，其重量平均分子量爲1 2 0 0 0，分子置分佈Mw:Mn爲4 . 6，且其羥基有39%係被乙氣乙基所取代；3重量份數上述製備例1所製肟磺酸酯化合物，亦即(1—萘基磺醯氧亞胺基）一4一甲氧基苄基腈，作爲酸產生劑‘，0 . 06重量份數的三乙胺和 0 . 0 6重量份數的柳酸，接著將該溶液濂過0 . 2微米孔洞直徑的薄膜濾器以製備成化學增感正型操作性光阻組成物。將一半導體矽晶圓置於旋塗器上用如此製備成的正型操作光阻組成物溶液予以塗被，接著在1 0 o°c熱板上乾燥9 0秒而得厚度爲1 . 5微米的乾光阻層。將此光阻層置於電子束曝射機（Model H L - 7 5 0 D，Hitachi Ltd. 所製）上用電子束進行圖樣式照射後緊接著在 1 2 Ot施以後一曝光烘焙處理9 0秒且於其後置於本紙張尺度適用中國11家橾準（CNS)A4规格（210X297公釐） _ 35 . -------------iT------ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央糅準局兵工消费合作社印製 455745 A7 _B7_ 彡、發明説明（33 ) 2 3 °C下的2. 3 8重量％氫氧化四甲銨水溶液內進行顯像處理6 5秒鐘’再用水沖洗3 0秒並乾燥。用不同曝射劑量進行電子束曝射，以々°C / cm 2爲單位記錄出光阻層在曝光區經顯像處理可完全溶解掉的最低劑量作爲敏感度之量度。於此情況中的敏感度爲7 . 〇ii°C / cm 3 ο 在經孔洞圖樣化的光阻層中之圖樣鑑別率爲Ο . 3 Ο 微米。在掃描電子顯微相片上檢驗圖樣化光阻層所具截面輪廓爲優良地正交直立於基材表面上者。實施例2 依實施例1中的光阻組成物之相同配方製備第二化學增感正型操作光阻組成物，不同處在於用3重量份數的製備例2所製α—（2—萘磺醯氧亞胺基）一4一甲氧基苄基腈取代酸產生劑。以實施例1的相同方式對如此製備成的光阻組成物進行評估而發現其敏感度和圖樣鑑別率分別爲7.0 "C i/cm2和0 · 30微米。在掃描電子顯微相片上檢驗經孔洞圖樣化的光阻層所具截面輪廓也爲優良地正交直立於基材表面上者。實施例3 依實施例1中的光阻組成物之相同配方製備第三化學增感正型操作光阻組成物，不同處在於用3重量份數的 I I I I * 裝 I I I I I 訂 I I ί诗先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中固國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐) .36 - 455745 經濟部中央標率局貝工消费合作社印装 A7 B7五、發明説明（34 ) 製備例3所製α_(1〇_樺腦磺醯氧亞胺基）_4一甲氧基苄基腈取代酸產生劑。以實施例1的相同方式對如此製備成的光阻組成物進行評估而發現其敏感度和圖樣鑑別率分別爲9.0 ί/C i/cm2和0 . 30微米。在掃描電子顯微相片上檢驗經孔洞圖樣化的光阻層所具截面輪廓也爲優良地正交直立於基材表面上者。實施例4 實驗程序恰與實施例1相同，不同處在於該光阻層係圖樣式曝於X—射線而非用電子束圖樣式地掃描。該光阻組成物的敏感度和圖樣鑑別率分別爲8 〇m J /c m2 和2 5微米。在掃描電子顯微相片上檢驗經孔洞圖樣化的光阻層所具截面輪廊亦爲優良正交直立於基材表面之上者。比較例依實施例1中的光阻組成物之相同配方製備比較化學增感正型操作光阻組成物，不同處在於用3重量份數的 α —（苯磺醯氧亞胺基）_4 —甲氧基苄基腈取代酸產生劑。以賁施例1的相同方式對如此製備成的比較光阻組成物進行評估而發現其敏感度和圖樣鑑別率分別爲 1 0 . OjtiC i/cm2和0 . 36微米。在掃描電子顯 --------1^------ΐτ-----A {請先«讀背面之Vi意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家搮準（CNS ) A4规格（210X297公釐） _ 37 · ^ -7 Η 〇 Α7 Β7 經濟部中央標隼局負工消費合作飪印裝五、發明説明（35 ) 微相片上檢驗經孔洞圖樣化的光阻餍所具截面輪廓不是正交者而爲向上呈梯形地漸窄者。賓施例5 在4 0 0重置份數的丙二醇—甲醚乙酸酯中溶解1 0重量份數的第一聚羥苯乙烯樹脂，其重量平均分子量爲 1 2000，分子量分佈Mw:Mn爲4 . 6，其羥基有 2 8%係被第三丁氧羰基所取代；9 0重量份數的第二聚羥苯乙烯樹脂，其重量平均分子量爲1 2 0 0 0，分子量分佈Mw : Μη爲4 . 6，且其羥基有2 8%係被乙氧乙基所取代；3重量份數上述製備例1所製α —（ 1 一萘基磺醯氧亞胺基）-4-甲氧基苄基腈；5重量份數的三氟甲烷磺酸二—（對一第三丁基苯基）錤：0 . 06重量份數的三乙胺和0 . 0 6重量份數的柳酸，接著將該溶液濾過0.2微米孔洞直徑的薄膜濾器以製備成化學增感正型操作性光阻組成物。將一半導體矽晶圓置於旋塗器上用如此製備成的正型操作光阻組成物溶液予以塗被，接著在9 0°C熱板上乾燥9 0秒而得厚度爲0 . 7微米的乾光阻厝。將此光阻層置於電子束曝射機（Model H L — 7 5 0 D，Hitachi Ltd .所製）上用電子束進行圖樣式照射後緊接著在1 1 〇*C 施以後一曝光烘焙處理9 0秒且於其後置於2 3 °C下的 2 . 38重量％氫氧化四甲銨水溶液內進行顯像處理 6 5秒鐘，再用水沖洗3 0秒並乾燥。用不同曝射劑量進 .裝丨丨—丨—訂 ^ ^k (锖先閲讀背面之注意事項再填寫本百) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） -38- 4 5 5 7 4 Α7 Β7 經濟部中央栋準局員工消費合作社印製五、發明説明（36 ) 行電子束曝射，以#°C/ cm2爲單位記錄出光阻層在曝光區經顯像處理可完全溶解掉的最低劑量作爲敏感度之童度。於此情況中的敏感度爲7 . 〇jut/cm2。在經孔洞圖樣化的光阻層中之圖樣鑑別率爲0. 1 4 微米。在掃描電子顯微相片上檢驗B樣化光阻層所具截面輪廓爲優良地正交直立於基材表面上者。實施例6 實驗程序恰與實施例5實質地相同，不同處在於該光阻層係圖樣式曝於X -射線而非用電子束圖樣式地掃描。於此情況中的敏慼度爲7 0m J /c m 2而圖樣鑑別率和0 . 1 5微米•在掃描電子顯微相片上檢驗經孔洞圖樣化的光阻層所具截面輪廓亦爲優良正交直立於基材表面之上者。實施例7 在5 8 5重量份數的丙二酵-甲醚乙酸酯中溶解 1 0 0重量份數的對一羥基苯乙烯和苯乙烯以8 5 : 1 5 莫耳比形成的共聚物樹脂，其重量平均分子量爲 25000，Mw:Mn所表分子量分佈爲1 . 23 :及 1 0重量份數的三聚氣胺樹脂（Nikalac Mw-30, Sanwa Chemical Co. 的產品）而得一溶液，將其混合4重量份數的上述製備例1所製cr 一（ 1 一萘磺醯氧亞胺基）~4一甲氧基苄基腈和2重量份數的α -（甲基磺醢氧亞胺基） ---------i------.IT------L. <請先閱讀背由之注意事項再填寫本頁) 本紙張尺度適用中國國家榡準（CNS ) A#坑格（210X297公釐） 39 - 4557 4 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 A7 ___B7_____五、發明説明（37 ) 一 1 一苄基腈及接著2重量份數的2，2’，4，4’ 一四羥基二苯甲酮而製備成化學增感負型操作光阻組成物。將一半導體矽晶圓置於旋塗器上用如此製備成的負型操作光阻組成物溶液予以塗被，接著在1 0 0°C熱板上乾燥9 0秒而得厚度爲0 . 7 3微米的乾光阻層*將此光阻層置於縮減投射曝光機（Model NSR-2005GX8A，Nikon Co.所製）上用激生分子雷射光束進行圖樣式照射後緊接著在1 2 0°C施以後一曝光烘焙處理9 0秒且於其後將光阻層置於2 3 °C下的 2 · 3 8重量％氫氧化四甲銨水溶液內進行顯像處理6 5 秒鐘，再用水沖洗3 0秒並乾燥》用不同曝光劑量進行激生分子雷射光束曝光，以毫焦耳/平方公分（in J / cm2)爲單位記錄出可以在1:1線對空間比例形成 ◦ . 3 5微米線寬的線-和-空間光阻圖樣之最低劑量作爲敏感度之量度。以在複製0 . 3 5微米線寬的線一和一空間光罩圖樣所用曝光劑量下之臨界鑑別率表出之圖樣鑑別率爲0.23微米。用0 . 3 5微米線寬的圖樣化光阻層所得掃描電子顯微相片檢驗其截面輪廓發現爲優良地正交直立於基材表面上者。雖然在截面輪廓的邊線上發現輕微的波狀，但該截面並不向上呈梯形地漸窄。實施例8 在5 0 0重童份數的丙二酵一甲醚乙酸酯中溶解 <諳先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 本纸張尺度適用中國國家揉率（CNS ) A4规格（210X297公釐） 4557 4 A7 B7 經濟部中央標準局貝工消費合作社印製五、發明説明（38) 1 〇 0重量份數的對一羥基苯乙烯和苯乙烯以8 5 : 1 5 莫耳比形成的共聚物樹脂，其重量平均分子量爲2 5 0 0 ，Mw:Mn所表分子量分佈爲1.23;及10重量份數的二聚氣胺樹脂（Nika丨ac Mw — 1 〇〇 LM，Sanwa Chemical Co.的產品）而得一溶液，於其中溶入2重量份數上述製備例3所製a_(1〇_樟腦磺醯氧亞胺基） ~ 4 _甲氣基苄基腈和2重量份數的α -（甲基磺醯氧亞胺基）-4 一甲基苄基腈，接著溶解入1重量份數的2， 2’，4，4’ 一四羥基二苯甲酮，0 · 2 5重量份數的三乙胺’ 0 . 2 5重量份數的三丁胺和〇 . 5重量份數的柳酸而製成化學增感負型操作光阻組成物。將一半導體矽晶圖置於旋塗器上用如此製備成的負型操作光阻組成物溶液予以塗被，接著在1 〇〇t熱板上乾燥9 0秒而得厚度爲0 . 7 3微米的乾光阻層》將此光阻層置於縮減投射曝光機（Model NSR_ 2005EX8A，Nikon Co,所製）上用激生分子雷射光束進行圖樣式照射後緊接著在1 2 0°C施以後一曝光烘焙處理9 0秒且於其後將光阻厝置於2 3 t下的 2，3 8重置％氫氧化四甲銨水溶液內進行顯像處理6 5 秒鐘，再用水沖洗3 0秒並乾燥。對應於光阻組成物所具敏感度的曝光劑量爲3 7毫焦耳/平方公分且其圖樣鑑別率爲0 . 2 2微米。用0 . 3 5微米線寬的圖樣化光阻層所得掃描電子顯微相片檢驗其截面輪廓發現其如同實施例7中一般爲優 I— <铐先W讀背面之注意寧項再填寫本頁) 訂本紙張尺度適用中國蠲家標準（CNS)A4*tfr( 210X297公釐） _4·| . 經濟部中央梯率局員工消费合作杜印製 4557 ι A7 __________B7_ 五、發明説明（39 ) 良地正交直立於基材表面上者。實施例9 在4 0 0重量份數的丙二醇一甲醚乙酸酯中溶解 3 0重量份數的第一聚羥苯乙烯樹脂，其重董平均分子量爲1 0000,其羥基有40%係被四氫哌喃基所取代： 7 0重量份數的第二聚羥苯乙烯樹脂•其重量平均分子量爲1 0 0 0 0,且其羥基有4 0%係被1 一乙氧基乙基所取代：5重置份數的二=(環己磺醯基）重氮甲烷，1重量份數的三氟甲烷磺酸二一（對-第三丁基苯基）錤和一重量份數上述製備例1所製的α _( 1 —萘基磺醯氧亞胺基）一 4 一甲氧基；基腈接著將該溶液以0 . 2微米孔洞直徑的薄膜濾器過濾而製成化學增感正型光阻組成物* 將一半導體矽晶圓置於旋塗器上用如此製備成的正型操作光阻組成物溶液予以塗被，接著在1 0 〇t熱板上乾燥9 0秒而得厚度爲1 . 5微米的乾光阻層》將此光阻層置於縮減投射曝光機（Model NSR-2005EX8A，Nikon Co.所製）上用激生分子雷射光束進行圖樣式照射後緊接著在1 10 °C施以後一曝光烘焙處理9 0秒且於其後將光阻層置於2 3 °C下的 2 . 3 8重量％氫氧化四甲銨水溶液內進行顯像處理6 5 秒鐘，再用水沖洗3 0秒並乾燥。光阻層的曝光區完全溶解掉，相當於光阻組成物的敏感度之曝光劑置爲5毫焦耳 /平方公分。 (請先閲請背面之注意事項再填寫本頁> 本紙張尺度逍用中國困家標率（CNS ) A4規格（210x297公釐> -42- A7 __B7_______ 五、發明説明（4〇 ) 用0 . 2 5微米線寬的圖樣化光阻層所得掃描電子顯微相片檢驗其截面輪廓發現其係優良地正交者，沿邊緣上沒有波狀起伏且雖有稍微呈梯形但沒有向上漸窄化。 (請先閲讀背面之注意事項再瑱窝本頁) 裝· 經濟部中央標準局—工消费合作社印震本紙張尺度逍用中國國家標準（CNS ) A4规格（210X297公釐） -43-

Claims

公 ^ / Μ „ Λ8 90. 4. -9 :.f王 -告本 BS C8 ； D8 年 f.' %南充六、申請專利範圍 ^ 附件一 A :第8 6 1 1 03 3 8號專利申請案中文申請專利範圍修正本民國90年4月修正 1 . 一種化學增感光阻組成物，其以在有機溶劑中的均勻溶液形式，包含： (A ) 1 〇〇重量份數的膜形成性樹脂成分，其係選自線 I 型酚醛樹脂、羥基苯乙烯爲底的聚合物以及（甲基）丙烯酸爲底的聚合物所組成之群，且爲經由用酸可解離基取代 1至6 0 %的羥基而呈不溶於鹼水溶液中；以及 (B ) 〇 , 5至2 0重量份數的酸一產生劑，其能夠經由曝於光化射線而釋出酸，其爲下式所表在分子內具有一氰基之肟磺酸酯化合物 R,-C(CN) = N-0-S0^R2 其中R1爲惰性有機基且R2爲選自多環芳族烴基和多環非芳族烴基所組成之群的未經取代或經取代的多環一價烴基。 2 . —種化學增感光阻組成物，其以在有機溶劑中的均勻溶液形式，包含：（A ) 1 0 0重量份數的膜形成性樹脂成分，其爲鹼可溶性樹脂與酸可交聯性化合物之組合，該鹼可溶性樹脂係選自線型酚醛樹脂、羥基苯乙烯爲底的聚合物以及（甲基）丙烯酸爲底的聚合物所組成之群，木紙乐尺度適用中國國家標準（CMS ) A4規格（2丨Ox 297公嫠） ---------^ II -- ί請先閱讀背面之注意事項再填寫本f) 、1T 45 5 7 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍其選擇性地經酸可解離基取代一部份之羥基，該酸可交聯性化合物係爲具有經基或院氧基之胺基樹脂，該鹼可溶性樹脂對該酸可交聯性化合物之重量比例係在1 Q Q : 3至 1 0 ◦ : 7 0之範圍；以及 (B ) 0 . 5至2 0重量份數的酸一產生劑，其能夠經由曝於光化射線而釋出酸，其爲’下式所表在分子內具有—氛基之肟磺酸酯化合物 R'CtCNhN-O-SCh-R2 ' 其中R1爲惰性有機基且R2爲選自多環芳族烴基和多環非芳族烴基所組成之群的未經取代或經取代的多環一價烴基° 3 .根據申請專利範圍第1或2項之化學增感光阻組成物，其中R1所表基爲芳族環狀基。 4 根據申請專利範圍第3項之化學增感光阻組成物，其中該芳族環狀基爲未經取代或經取代的苯基。 5 .根據申請專利範圍第1或2項之化學增感光阻組成物，其中R 2所表基爲芳族縮合多環烴基。 6 .根據申請專利範圍第5項之化學增感光阻組成物，其中該縮合多環烴基爲萘基。 7 .根據申請專利範圍第1或2項之化學增感光阻組成物，其中R2所表基爲多環萜烯殘基。 8 .根據申請專利範圍第7項之化學增感光阻組成物尺度邊用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X 297公藿）.2 - (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝· .1T 經濟部ly.liNi.iq-iw工4f合作社印製 45574b A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 ^ ，其中該多環萜烯殘基爲樟腦殘基。 9 . 一種化學增感光阻組成物，其以在有機溶劑中的 (詩先間讀背而之注意事項再填寫本頁) 均勻溶液形式，包含： (A ) ]_ 〇〇重量份數的膜形成性樹脂成分，其係選自線型酚醛樹脂、羥基苯乙烯爲底的聚合物以及（甲基）丙烯酸爲底的聚合物所組成之群’且爲經酸可解離基取代1至 6 0 %的羥基而呈不溶於鹼水溶液中； (B )酸產生劑，其能夠經由曝於光化射線而釋出酸，’其爲下列成分之組合 (B1)下面通式所表分子中具有一氰基之肟磺酸酯化合物 R'-C(CN) = N-0-S〇2-R2 其中R1爲惰性有機基且R2爲選自多環芳族烴基和多環非芳族烴基所組成之群的未經取代或經取代多環一價烴基、與經"部智"財4-:?:"工消費合作社印絮 (B 2 )鑰鹽化合物，作爲成分（B 1 )的肟磺酸酯化合物之用量爲〇 . 5至 2 0重量份數且成分（B 1 )對成分（b 2 )的重量比例係在10:0至2:8的範圍。 1 0 . —種化學增感光阻組成物，其以在有機溶劑中的均勻溶液形式，包含： (A ) 1 〇〇重量份數的膜形成性樹脂成分，其爲鹼可溶尺度ϋ用中國國家標聿（cNS) A4規格（210x 297公釐）- 45574 5 A8 B8 C8 D8 六、申靖專利範圍性樹脂與酸可交聯性化合物之組合，該鹼可溶性樹脂係選自線型酚醛樹脂、羥基苯乙烯爲底的聚合物以及（甲基）丙烯酸爲底的聚合物所組成之群，其選擇性地經酸可解離基取代一部份的羥基，該酸可交聯性化合物係爲具有羥基或烷氧基之胺基樹脂’該鹼可溶性樹脂對該酸可交聯性化合物之重量比例係在1 〇〇 :’3至1 〇〇 : 70之範圍；以及 (B )酸產生劑，其能夠經由曝於光化射線而釋出酸，.其爲下列成分之組合 (B 1 )下面通式所表分子中具有一氰基之肟磺酸酯化合物 R1-C(CN) = N-0-S〇2-R2 其中V爲惰性有機基且R2爲選自多環芳族烴基和多環非芳族烴基所組成之群的未經取代或經取代多環一價烴基，與 (B 2 )鑰鹽化合物，作爲成分（B 1 )的肟磺酸酯化合物之用量爲〇 . 5至 2 0重量份數且成分（B 1 )對成分（B 2 )的重量比例係在1 0 : 0至2 : 8的範圍。 11.根據申請專利範圍第9或10項之化學增感光阻組成物，其中作爲成分（B 2 )的鎗鹽化合物係選自下列所成組合之中者： I - 1 - 1^1 1 _ - ---- I —j I - - I - - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 夂兑張尺度適用中國國家標嗥（CNS ) A4規格（21〇x：297公釐） • 4 - 4 5 5 7 4 5 A8 B8 C8 D8 六'申靖專利範圍四氟硼酸二苯基碘；三氟甲烷磺酸二苯基鎭；六氟銻酸二苯基銚；六氟銻酸（4 -甲氧基苯基）苯基鎭：三氟甲烷磺酸（4 -甲氧基苯基）苯基鏔；三氟甲烷磺酸二一（對—第三了基苯基）碘；三氟甲烷磺酸三苯基銚； . 六氟銻酸（4 _甲氧基苯基）二苯基锍； ^ 三氟甲烷碘酸（4 -甲氧基苯基）二苯基锍；三氟甲烷磺酸（4 -甲基苯基）二苯基锍；及三氟甲烷磺酸（4 -第三丁基苯基）二苯基锍。 1 2 .根據申請專利範圍第9或1 0項之化學增感光阻組成物，其中R !所表基爲芳族環狀基。 1 3 .根據申請專利範圍第1 2項之化學增感光阻組成物，其中該芳族環狀基爲未經取代或經取代的苯基。 1 4 ·根據申請專利範圍第9或1 0項之化學增感光阻組成物’其中R 2所表基爲芳族縮合多環烴基。 1 5 ·根據申請專利範圍第1 4項之化學增感光阻組成物，其中該芳族縮合多環烴基爲萘基a 1 6 根據申請專利範圍第9或1 0項之化學增感光阻組成物，其中R 2所表基爲多環萜烯殘基。 1 7 ·根據申請專利範圍第1 6項之化學增感光阻組成物，其中該多萜烯殘基爲樟腦殘基。 1 8 . —種化學增感光阻組成物，其以在有機溶劑內 (請先聞讀背面之ii意^項再填寫本頁) 裝 -II 本紙法尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（：Π0χ 297公釐） 4 5 5 7、 A8 BS C8 D8 ____ 六、申請專利範圍 - 的均句溶液形式，包含： (A ) 1 〇〇重量份數的膜形成性樹脂成分’其係選自線型酚醛樹脂、羥基苯乙烯爲底的聚合物以及（甲基）丙烯酸爲底的聚合物，且爲經酸可解離基取代1至6 0 %的羥基而呈不溶於鹼水溶液中；以及 (B) 〇 . 5至20重量份數的酸產生劑，其能夠經由曝於光化射線而釋出酸，其爲下列成分之組合 (B 1 )下面通式所表分子中具有一氰基之第一肟磺酸酯化合物 R 丨-C(CN):N-0-SCh-R2 其中R1爲惰性有機基且爲選自多環芳族烴基和多環非芳族烴基之中的未經取代或經取代多環一價烴基，與在分子中具有一氰基的第二肟磺酸酯化合物’其係選自下列所組成之群： C B 3 )下面通式所表肟磺酸酯化合物 R . - C (C N) = N - 〇 - s 〇 2 _ r ...丨，其中R爲未經取代或經取代的非芳族烴基或芳族環狀基且R 1爲未經取代或經取代的非芳族烴基’及 (B 4 )下面通式所表肟磺酸酯化合物 (2S0X297公釐）.0 . ----------裝------訂------^ <請先閲讀背面之注項再填寫本f} 455 A8 B8 C8 D8 六、申請專利範圍 f A—[―C (CN) =N-0-S〇2-R5 ] η ί 其中下標η爲2或3，當η爲2時，Α爲二價有機基，或當η爲3時，A爲三價有機基，且R 5爲未經取代或經取代的烴基，該第一肟磺酸酯化合物對該第二肟磺酸酯化合物的重量比係在2 : 8至8 : 2的範圍。 1 9 · 一種化學增感光阻組成物，其以在有機溶劑內的均勻溶液形式，包含： (A ) 1 〇〇重量份數的膜形成性樹脂成分，其爲鹼可溶性樹脂與酸可交聯性化合物之組合，該鹼可溶性樹脂係選自線型酚醛樹脂、羥基苯乙烯爲底的聚合物以及（甲基）丙烯酸爲底的聚合物，其選擇性地經酸可解離基取代一部份的羥基，該酸可交聯性化合物係爲具有羥基或烷氧基之胺基樹脂，該鹼可溶性樹脂對該酸可交聯性化合物之重量比例係在100 : 3至100 : 7 ◦之範圍；以及 (B)0.5至20重量份數的酸產生劑，其能夠經由曝於光化射線而釋出酸，其爲下列成分之組合 (B1)下面通式所表分子中具有一氰基之第一肟磺酸酯化合物 R'-C(CN) = N-0-S〇2-R2 其中R1爲惰性有機基且R2爲選自多環芳族烴基和多環非束氓&尺度邊用中國國家標嗥（CNS ) A4规格（2!0Χ297公釐）-7 · (請先閲讀背面之注^^項再填寫本頁> 裝 -a 經濟部智.^Ηί,ΐτ-^9工^費合作社印紫 9 4%^67丨辦號專利申請案中文說明書修正頁 Α7 Β7 90. 4. 年 fi S正痛充民國90年4月修正五、發明說明（2 ) , 將一部份的羥基以上述溶解性減低基予以取代，及一酸可交聯性化合物例如三聚氰胺樹脂，脲樹脂和類似者的組合調配成膜形成性樹脂成分。在化學增感光阻組成物中使用肟磺酸酯化合物作爲酸產生劑係已知者，如日本專利公開1 一 1 2 4 8 4 8， 2-154266，2- 16 1 444 和 6 —17433 中所揭示者。其中所揭示的肟磺酸酯化合物包括分子中有氰基者例如 ’ α — （對一甲苯磺醯氧亞胺基）苯基乙腈， α -（對-氯苯磺醯氧亞胺基）苯基乙腈，（4 -硝基苯磺醯氧亞胺基）苯基乙腈 α_ (4 —硝基-2-三氟甲基苯磺醯氧亞胺基）苯基乙腈，〇:—(苯磺醯氧亞胺基）_4_氯苯基乙腈， α -（苯磺醯氧亞胺基）_2，4 —二氯苯基乙腈， α —(苯磺醯氧亞胺基）_2，6 —二氯苯基乙腈， α —(苯擴醒氧亞胺基）—4 一甲氧基本基乙睛， α — (2 —氯苯磺醯氧亞胺基）一 4_甲氧基苯基乙腈， α —（苯磺醯氧亞胺基）_ 2 _噻吩基乙腈’ α 一（ 4_十二烷基苯磺醯氧亞胺基）苯基乙腈， α — (4_甲苯磺醯氧亞胺基）一 4 —甲氧基苯基乙腈，. α_ (4_十二烷基苯磺醯氧亞胺基）一4 一甲氧基苯基乙腈， α_ (4_甲苯磺醯氧亞胺基）—3 —噻吩基乙腈，本紙張尺度適用中國國家標準（CNSM.1規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) iilln — ------ 經濟部智慧財產局員工消費合作社印製公 ^ / Μ „ Λ8 90. 4. -9 :.f王 -告本 BS C8 ； D8 年 f.' %南充六、申請專利範圍 ^ 附件一 A :第8 6 1 1 03 3 8號專利申請案中文申請專利範圍修正本民國90年4月修正 1 . 一種化學增感光阻組成物，其以在有機溶劑中的均勻溶液形式，包含： (A ) 1 〇〇重量份數的膜形成性樹脂成分，其係選自線 I 型酚醛樹脂、羥基苯乙烯爲底的聚合物以及（甲基）丙烯酸爲底的聚合物所組成之群，且爲經由用酸可解離基取代 1至6 0 %的羥基而呈不溶於鹼水溶液中；以及 (B ) 〇 , 5至2 0重量份數的酸一產生劑，其能夠經由曝於光化射線而釋出酸，其爲下式所表在分子內具有一氰基之肟磺酸酯化合物 R,-C(CN) = N-0-S0^R2 其中R1爲惰性有機基且R2爲選自多環芳族烴基和多環非芳族烴基所組成之群的未經取代或經取代的多環一價烴基。 2 . —種化學增感光阻組成物，其以在有機溶劑中的均勻溶液形式，包含：（A ) 1 0 0重量份數的膜形成性樹脂成分，其爲鹼可溶性樹脂與酸可交聯性化合物之組合，該鹼可溶性樹脂係選自線型酚醛樹脂、羥基苯乙烯爲底的聚合物以及（甲基）丙烯酸爲底的聚合物所組成之群，木紙乐尺度適用中國國家標準（CMS ) A4規格（2丨Ox 297公嫠） ---------^ II -- ί請先閱讀背面之注意事項再填寫本f) 、1T