JP2008249993A - ポジ型フォトレジスト組成物 - Google Patents
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Abstract
Description
(式(I)中、R1は、水素またはメチル基を表す。R2は、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数5〜10の環式炭化水素基、または式(II)で示される基を表す。)
(式(II)中、R3は、炭素数1〜6のアルキレン基を表す。R4は、炭素数1〜6のアルキル基を表す。nは1〜30の整数を表す。)
(式(I)中、R1は、水素またはメチル基を表す。R2は、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数5〜10の炭化水素環、または式(II)を表す。)
(式(II)中、R3は、炭素数1〜6のアルキレン基を表す。R4は、炭素数1〜6のアルキル基を表す。nは1〜30の整数を表す。)
また、式(I)においてR2が式(II)で示される基であるものが好ましく、より好ましくはnが2〜16の範囲のものである。
アルカリ可溶性重合体としては、ノボラック重合体およびヒドロキシスチレンの重合単位とスチレンの重合単位を含有する共重合体が挙げられる。
(式中、P1〜P3は、互いに独立に、水酸基、炭素数1〜6のアルキル基又は炭素数1〜6のアルコキシ基を表す。a、b、cは、互いに独立に0〜3の整数である。aが2以上のとき、複数のP1は、互いに同一でも異なってもよい。bが2以上のとき、複数のP2は、互いに同一でも異なってもよい。cが2以上のとき、複数のP3は、互いに同一でも異なってもよい。Z-は、有機対イオンを表す。)
式(Vb)におけるP4及びP5が、アルキル基又はアルコキシ基である場合に、炭素数3以上のときは直鎖でも分岐していてもよい。
P1、P2、P3、P4及びP5の具体的なアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられ、アルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。
P6、P7、P9がアルキル基の場合には、具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などが挙げられ、またシクロアルキル基の場合には具体的にはシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基などが挙げられる。
(式中、Q1、Q2、Q3、Q4及びQ5は、互いに独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルデヒド基、炭素数1〜16個の分岐していてもよいアルキル基、炭素数1〜16個の分岐していてもよいアルコキシ基、炭素数1〜8個のハロゲン化アルキル基、炭素数6〜12個のアリール基、炭素数7〜12のアラルキル基、シアノ基、炭素数1〜4個のアルキルチオ基、炭素数1〜4個のアルキルスルホニル基、ヒドロキシ基、ニトロ基又は式(VII)で示される基を表す。
式中、Xは、酸素原子又は硫黄原子を含んでも良い直鎖アルキレン基を表し、Cy1は、炭素数3〜20個の脂環式炭化水素基を表す。)
炭素数1〜16の分岐していてもよいアルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、tert−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、イソペンチルオキシ基、デシルオキシ基、ドデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基などが挙げられる。
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
炭素数6〜12個のアリール基としては、フェニル基、トリル基、メトキシフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。
炭素数7〜12のアラルキル基としては、ベンジル基、クロロベンジル基、メトキシベンジル基などが挙げられる。
炭素数1〜4個のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、イソプロピルチオ基、ブチルチオ基などが挙げられる。
炭素数1〜4個のアルキルスルホニル基としては、メチルスルホニル基, エチルスルホニル基, プロピルスルホニル基, イソプロピルスルホニル基, ブチルスルホニル基などが挙げられる。
上記式において、好ましくはシクロヘキシル基(b−4)、2−ノルボルニル基(b−21)、2−アダマンチル基(b−23)、1−アダマンチル基(b−24)が挙げられる。
(式中、Q6は、炭素数1〜20の分岐していてもよいパーフルオロアルキル基又は炭素数10〜20の置換されていてもよいナフチル基又はアントリル基を表す。)
(式中、Q7、Q8は、互いに独立に、炭素数1〜20の分岐していてもよいパーフルオロアルキル基を表すか又は炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい炭素数6〜20の芳香環基を表す。)
ここで、4級炭素原子とは、水素原子以外の置換基と結合していて水素とは結合していない炭素原子を意味し、酸に不安定な基としては、エーテル結合のα位の炭素原子が3つの炭素原子と結合した4級炭素原子であることが好ましい。
T3、T4及びT5は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアルコキシ基を表す。該アルキル基の水素原子、シクロアルキル基の水素原子、アリール基の水素原子、又はアルコキシ基の水素原子は、それぞれ独立に、水酸基、アミノ基、又は炭素数1〜6のアルコキシ基、で置換されていてもよい。該アミノ基の水素原子は、炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい。また、該アルキル基は、炭素数1〜6程度が好ましく、該シクロアルキル基は、炭素数5〜10程度が好ましく、該アリール基は、炭素数6〜10程度が好ましく、該アルコキシ基は、炭素数1〜6程度が好ましい。
T6は、アルキル基又はシクロアルキル基を表す。該アルキル基の水素原子又はシクロアルキル基の水素原子は、それぞれ独立に、水酸基、アミノ基、炭素数1〜6のアルコキシ基、で置換されていてもよい。該アミノ基の水素原子は、炭素数1〜4のアルキル基で置換されていてもよい。また、該アルキル基は、炭素数1〜6程度が好ましく、該シクロアルキル基は、炭素数5〜10程度が好ましい。
Aは、アルキレン基、カルボニル基、イミノ基、スルフィド基又はジスルフィド基を表す。該アルキレン基は、炭素数2〜6程度であることが好ましい。
また、T1〜T7において、直鎖構造と分岐構造の両方をとり得るものについては、そのいずれでもよい。
本発明の組成物は、また、必要に応じて、増感剤、溶解抑止剤、他の樹脂、界面活性剤、安定剤、染料など、各種の添加物を少量含有することもできる。
例えば、エチルセロソルブアセテート、メチルセロソルブアセテート及びプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートのようなグリコールエーテルエステル類;乳酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル及びピルビン酸エチルのようなエステル類;アセトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン及びシクロヘキサノンのようなケトン類;γ−ブチロラクトンのような環状エステル類などを挙げることができる。これらの溶剤は、それぞれ単独で、又は2種以上組み合わせて用いることができる。
得られたパターンは、トップ形状が矩形であり、垂直な側壁を有するものとなり、バンプ形成用に好適なパターンである。
例中、含有量ないし使用量を表す%および部は、特記ないかぎり重量基準である。また重量平均分子量は、ポリスチレンを標準品として、ゲルパーミュエーションクロマトグラフィー(東ソー製HLC−8120GPC、カラム:東ソー製MultiporeHXL−M)により求めた値である。
攪拌器、還流冷却管、温度計を備えた四つ口フラスコに、ジオキサン118gを仕込み77℃まで昇温した。そこへメタクリル酸tert−ブチル 42.7g、メタクリル酸メトキシポリエチレングリコール(共栄社化学(株)製ライトエステル130MA、式(II)におけるnがおおよそ9である。) 29.8g、メタクリル酸メトキシジエチレングリコール 45.2g、アゾビスイソブチロニトリル 0.4gをジオキサン 59gに溶解した溶液を1時間かけて滴下した。その後さらに77℃で10時間撹拌を継続した。冷却後ジオキサン130gで希釈し、メタノール600g、水900gの混合溶液に注ぎ沈殿を得た。得られた沈殿をプロピレングリコールメチルエーテルアセテートに溶解後濃縮を行い固形分含量40%の樹脂溶液を得た。得られた樹脂の重量平均分子量は160000であった。
メタクリル酸tert−ブチルに代えてメタクリル酸エチルシクロペンチル 54.7gを用いたほかは樹脂合成例1と同様の操作を行い、重量平均分子量160000の樹脂を得た。
メタクリル酸tert−ブチルに代えてメタクリル酸2−エチル−2−アダマンチル 74.5gを用いたほかは樹脂合成例1と同様の操作を行い、重量平均分子量51000の樹脂を得た。
攪拌器、還流冷却管、温度計を備えた四つ口フラスコに、2,5−キシレノール413.5g、サリチルアルデヒド103.4g、p−トルエンスルホン酸20.1g、メタノール826.9gを仕込み、還流状態まで昇温し、4時間保温した。冷却後メチルイソブチルケトン1320gを仕込み常圧で1075g留去した。そこにm−クレゾール762.7gと2−tert−ブチル−5−メチルフェノール29.0を加え65℃まで昇温し、37%ホルマリン678gを滴下終了時に87℃になるように温調しながら1.5時間かけて滴下した。87℃で10時間保温した後メチルイソブチルケトン1115gを加え、イオン交換水で3回分液水洗を行った。得られた樹脂液にメチルイソブチルケトン500gを加えて全量が3435gになるまで減圧濃縮を行った。得られた樹脂液にメチルイソブチルケトン3796gとn−ヘプタン4990gを加え60℃に昇温して1時間攪拌した後、分液を行い下層の樹脂液をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート3500gで希釈し1690gになるまで濃縮を行った。得られた樹脂の重量平均分子量は7000であった。
S1:N−トリフルオロメチルスルホニルオキシ−1,8−ナフタルイミド
S2:(2−(4−メチルフェニル)スルホニルオキシイミノ−2H−チオフェン−3−イリデン)−(2−メチルフェニル)アセトニトリル
<クェンチャー>
Q:ジシクロヘキシルメチルアミン
<溶剤>
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 25部
以下の各成分を混合して溶解し、さらに孔径5μmのフッ素樹脂製フィルターで濾過して、レジスト液を調製した。
光酸発生剤(種類及び量は表1記載)
クェンチャー(量は表1記載)
露光後は、ホットプレート上にて100℃で5分間ポストエキスポジャーベークを行い、さらに2.38重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で100秒間のパドル現像を3回行った。
現像後のダークフィールドパターンを走査型電子顕微鏡で観察し、その結果を表2に示した。なお、ここでいうダークフィールドパターンとは、外側にクロム層(遮光部)をベースとしてライン状にガラス層(透光層)が形成されたレチクルを介した露光及び現像によって得られ、したがって露光現像後は、ラインアンドスペースパターンの周囲のレジスト層が残されるパターンである。
20μmのラインアンドスペースパターンが1:1となる露光量で表示した。
・解像性:
20μmのラインアンドスペースパターンが1:1となる露光量において4μmのラインアンドスペースパターンが解像したものを○、解像しなかったものを×で表記した。
・形状:
20μmのラインアンドスペースパターンにおいてライン部分のトップ形状が矩形であるものを○、トップ形状が丸くなるものを×で表記した。
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例No. 樹脂 光酸発生剤 クェンチャー
実施例1 R1/7.425部 R4/6.075部 S1/0.30部 Q/0.07部
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比較例1 R2/7.425部 R4/6.075部 S1/0.30部 Q/0.07部
比較例2 R3/7.425部 R4/6.075部 S1/0.30部 Q/0.07部
比較例3 R2/7.425部 R4/6.075部 S2/0.34部 Q/0.07部
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例No. 実効感度 解像性 形状
実施例1 410mJ/cm2 ○ ○
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比較例1 400mJ/cm2 ○ ×
比較例2 420mJ/cm2 × ○
比較例3 400mJ/cm2 × ○
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Claims (8)
- (A)t−ブチル(メタ)アクリレートから導かれる重合単位を10〜70モル%含有し、式(I)で示される化合物から導かれる重合単位群から選ばれる1種以上の重合単位を30〜90モル%含有し、ポリスチレン換算の重量平均分子量が50000〜300000である重合体と、(B)アルカリ可溶性重合体と、(C)光酸発生剤とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。
(式(I)中、R1は、水素またはメチル基を表す。R2は、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数5〜10の環式炭化水素基、または式(II)で示される基を表す。)
(式(II)中、R3は、炭素数1〜6のアルキレン基を表す。R4は、炭素数1〜6のアルキル基を表す。nは1〜30の整数を表す。) - 式(I)におけるR2が、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数5〜10の環式炭化水素基である請求項1に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
- 式(I)におけるR2が、式(II)で示される基である請求項1に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
- (B)成分が、ノボラック重合体である請求項1〜3のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物。
- (B)成分が、ヒドロキシスチレンの重合単位とスチレンの重合単位を含有する共重合体である請求項1〜3に記載のポジ型フォトレジスト組成物。
- さらに(D)塩基性化合物を含有し、成分(A)および成分(B)の合計量100重量部に対して、該塩基性化合物の含有量が0.001〜1重量部の範囲である請求項1〜6のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物。
- 請求項1〜7のいずれかに記載のポジ型フォトレジスト組成物を用いることを特徴とする導電膜の表面に厚さが5〜50μmである厚膜を形成する方法。
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