TW202135615A - 線路板及其製造方法 - Google Patents

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Abstract

一種線路板，包括增層線路層、圖案化導電層、第一附著力促進材料層、第二附著力促進材料層、第一防焊層以及第二防焊層。增層線路層具有第一表面以及與第一表面相對的第二表面。圖案化導電層配置於增層線路層的第二表面。第一附著力促進材料層配置於增層線路層的第一表面，且包括至少一第一開口。第二附著力促進材料層配置於增層線路層的第二表面以及圖案化導電層上，且包括至少一第二開口。第一防焊層配置於第一附著力促進材料層上，且包括至少一第三開口。第三開口對應於第一開口設置。第二防焊層配置於第二附著力促進材料層上，且包括至少一第四開口。第四開口對應於第二開口設置。

Description

線路板及其製造方法
本發明是有關於一種線路板及其製造方法，且特別是有關於一種具有附著力促進材料層的線路板及其製造方法。
目前，在印刷電路板上進行化學鍍表面處理製程時，例如是在進行化鎳浸鈀金(ENEPIG)、化鎳浸金(ENIG)或化鈀浸金(EPIG)的製程時，常會在防焊層的開孔底部側壁發現有介面滲鍍異常的情形。只是隨著印刷電路板上的線寬或線距不斷縮小時，例如是當線寬或線距小於25微米時，這樣介面滲鍍異常的情形會使得相鄰的線路電性連接，因而導致有短路問題發生，並影響良率以及焊接後的可靠度。
本發明提供一種線路板，具有較佳的良率及可靠度。
本發明提供一種線路板的製造方法，用以製造上述的線路板。
本發明的線路板包括增層線路層、圖案化導電層、第一附著力促進材料層、第二附著力促進材料層、第一防焊層以及第二防焊層。增層線路層具有第一表面以及與第一表面相對的第二表面。圖案化導電層配置於增層線路層的第二表面。第一附著力促進材料層配置於增層線路層的第一表面，且包括至少一第一開口。第二附著力促進材料層配置於增層線路層的第二表面以及圖案化導電層上，且包括至少一第二開口。第一防焊層配置於第一附著力促進材料層上，且包括至少一第三開口。第三開口對應於第一開口設置。第二防焊層配置於第二附著力促進材料層上，且包括至少一第四開口。第四開口對應於第二開口設置。
在本發明的一實施例中，上述的第一開口以及第三開口暴露出增層線路層的一部分，且第二開口以及第四開口暴露出圖案化導電層的接墊。
在本發明的一實施例中，上述的第一附著力促進材料層以及第二附著力促進材料層的材料包括氯化聚烯烴以及烯烴基嵌段共聚物。
在本發明的一實施例中，上述的第一附著力促進材料層以及第二附著力促進材料層的厚度小於1微米。
在本發明的一實施例中，上述的第一附著力促進材料層以及第二附著力促進材料層的厚度小於圖案化導電層的厚度。
在本發明的一實施例中，上述的第一附著力促進材料層配置於第一防焊層與增層線路層之間的界面，且第二附著力促進材料層配置於第二防焊層與圖案化導電層之間的界面。
在本發明的一實施例中，上述的增層線路層包括線路層。線路層暴露於增層線路層的第一表面，且第一附著力促進材料層配置於第一防焊層與線路層之間的界面。
在本發明的一實施例中，上述的線路板更包括：金屬表面處理層。金屬表面處理層配置於第一開口、第二開口、第三開口以及第四開口內。
本發明的線路板的製造方法包括以下步驟。首先，形成增層線路層以及圖案化導電層。增層線路層具有第一表面以及與第一表面相對的第二表面，且圖案化導電層位於增層線路層的第二表面。而後，形成第一附著力促進材料層於增層線路層的第一表面，並形成第二附著力促進材料層於增層線路層的第二表面以及圖案化導電層上。而後，形成第一防焊層於第一附著力促進材料層上，並形成第二防焊層於第二附著力促進材料層上。第一防焊層包括至少一第三開口，且第二防焊層包括至少一第四開口。然後，移除部分第一附著力促進材料層，以形成至少一第一開口。第一開口對應於第三開口設置。接著，移除部分第二附著力促進材料層，以形成至少一第二開口。第二開口對應於第四開口設置。
在本發明的一實施例中，上述的線路板的製造方法更包括以下步驟：形成金屬表面處理層於第一開口、第二開口、第三開口以及第四開口內。
基於上述，本發明的實施例的線路板中，由於將第一附著力促進材料層配置於第一防焊層與線路層之間的界面，且將第二附著力促進材料層配置於第二防焊層與圖案化導電層之間的界面，因而增加第一附著力促進材料層與線路層之間的結合力，並增加第二附著力促進材料層與圖案化導電層之間的結合力。因此，相較於習知，本實施例的線路板在進行化學鍍表面處理製程時，可避免有介面滲鍍異常以及短路的情形發生，進而達到良好的焊接效果與電氣導通特性。藉此，使得本實施例的線路板可具有較佳的良率及可靠度。
為讓本發明的上述特徵和優點能更明顯易懂，下文特舉實施例，並配合所附圖式作詳細說明如下。
圖1A至圖1D繪示為本發明一實施例的線路板的製造方法的剖面示意圖。
請先參照圖1A，首先，形成增層線路層110。增層線路層110具有第一表面110a以及與第一表面110a相對的第二表面110b。增層線路層110包括至少一線路層111、112、至少一介電層113、114以及至少一導電孔115、116。介電層113覆蓋線路層111，以使線路層111內埋於介電層113且使線路層111的接墊111a暴露於介電層113的表面(即增層線路層110的第一表面110a)。線路層112與介電層114依序疊置於介電層113的表面113a上。第三表面113a與第一表面110a彼此相對。導電孔115貫穿介電層113，以電性連接線路層111與線路層112。導電孔116貫穿介電層114，以電性連接不同層的線路層112。在一些實施例中，線路層111與線路層112的材料例如是銅，但不以此為限。
接著，形成圖案化導電層120於增層線路層110的第二表面110b，以使圖案化導電層120覆蓋部分的增層線路層110。圖案化導電層120包括導電圖案間隙121與接墊122。圖案化導電層120遠離線路層111，但鄰近於線路層112。圖案化導電層120的接墊122可透過導電孔116與線路層112電性連接。圖案化導電層120的導電圖案間隙121暴露出增層線路層110的介電層114。在一些實施例中，圖案化導電層120的材料例如是銅，但不以此為限。
接著，請參照圖1B，形成第一附著力促進材料層130於增層線路層110的第一表面110a，並形成第二附著力促進材料層131於增層線路層110的第二表面110b以及圖案化導電層120上。形成第一附著力促進材料層130與第二附著力促進材料層131的方法包括旋轉塗佈(spin coating)或濺鍍(sputter)等方式，但不以此為限。在本實施例中，第一附著力促進材料層130覆蓋線路層111以及介電層113的表面(即增層線路層110的第一表面110a)。第二附著力促進材料層131覆蓋圖案化導電層120、導電圖案間隙121的側壁以及導電圖案間隙121的底部(即增層線路層110的第二表面110b)。也就是說，第二附著力促進材料層131覆蓋由導電圖案間隙121暴露出的增層線路層110的介電層114。在本實施例中，第一附著力促進材料層130以及第二附著力促進材料層131的材料包括氯化聚烯烴以及烯烴基嵌段共聚物，但不以此為限。第一附著力促進材料層130以及第二附著力促進材料層131分別利用例如是配位化學(cordination chemistry)、化學鍵結(chemical bonding)、擴散作用力或偶極作用力的方式附著於線路層111或圖案化導電層120上，以增加第一附著力促進材料層130與線路層111之間的結合力，並增加第二附著力促進材料層131與圖案化導電層120之間的結合力。
此外，在本實施例中，第一附著力促進材料層130的厚度T1以及第二附著力促進材料層131的厚度T2皆小於圖案化導電層120的厚度T3。第一附著力促進材料層130的厚度T1以及第二附著力促進材料層131的厚度T2皆小於線路層111的厚度T4以及線路層112的厚度T5。在一些實施例中，第一附著力促進材料層130的厚度T1以及第二附著力促進材料層131的厚度T2例如是小於1微米，但不以此為限。
接著，請參照圖1C，形成第一防焊層140於第一附著力促進材料層130上，並形成第二防焊層141於第二附著力促進材料層131上。第一防焊層140包括至少一第三開口140a，且第二防焊層141包括至少一第四開口141a。第三開口140a暴露出部分的第一附著力促進材料層130，且第四開口141a暴露出部分的第二附著力促進材料層131。
在本實施例中，第一附著力促進材料層130可與第一防焊層140形成永久的共價鍵，以增加第一附著力促進材料層130與第一防焊層140之間的結合力。第二附著力促進材料層131可與第二防焊層141形成永久的共價鍵，以增加第二附著力促進材料層131與第二防焊層141之間的結合力。
接著，請參照圖1D，移除部分第一附著力促進材料層130以形成至少一第一開口130a，並移除部分第二附著力促進材料層131以形成至少一第二開口131a。具體來說，移除由第三開口140a暴露出的部分的第一附著力促進材料層130，且移除由第四開口141a暴露出的部分的第二附著力促進材料層131。藉此，使第一開口130a對應於第三開口140a設置，且使第二開口131a對應於第四開口141a設置。在本實施例中，第一開口130a以及第三開口140a暴露出增層線路層110的一部分(即線路層111的接墊111a)，且第二開口131a以及第四開口141a暴露出圖案化導電層120的接墊122。至此，已製造完成本實施例的線路板100。
簡言之，本實施例的線路板100包括增層線路層110、圖案化導電層120、第一附著力促進材料層130、第二附著力促進材料層131、第一防焊層140以及第二防焊層141。增層線路層110具有第一表面110a以及與第一表面110a相對的第二表面110b。圖案化導電層120配置於增層線路層110的第二表面110b。第一附著力促進材料層130配置於增層線路層110的第一表面110a，且包括至少一第一開口130a。第二附著力促進材料層131配置於增層線路層110的第二表面110b以及圖案化導電層120上，且包括至少一第二開口131a。第一防焊層140配置於第一附著力促進材料層130上，且包括至少一第三開口140a。第三開口140a對應於第一開口130a設置。第二防焊層141配置於第二附著力促進材料層131上，且包括至少一第四開口141a。第四開口141a對應於第二開口131a設置。
此外，在本實施例中，第一附著力促進材料層130配置於第一防焊層140與增層線路層110之間的界面；第二附著力促進材料層131配置於第二防焊層141與圖案化導電層120之間的界面，且配置於第二防焊層141與增層線路層110之間的界面。在一些實施例中，第一附著力促進材料層130配置於第一防焊層140與線路層111之間的界面。在一些實施例中，第一附著力促進材料層130配置於第一防焊層140與接墊111a之間的界面，且第二附著力促進材料層131配置於第二防焊層141與接墊122之間的界面。也就是說，第一附著力促進材料層130的兩側分別接觸第一防焊層140與接墊111a，且第二附著力促進材料層131的兩側分別接觸第二防焊層141與接墊122。
在本實施例的線路板100中，由於將第一附著力促進材料層130配置於第一防焊層140與線路層111之間的界面，且將第二附著力促進材料層131配置於第二防焊層141與圖案化導電層120之間的界面，因而增加第一附著力促進材料層130與線路層111之間的結合力，並增加第二附著力促進材料層131與圖案化導電層120之間的結合力。因此，相較於習知，本實施例的線路板100在進行化學鍍表面處理製程時，可避免有介面滲鍍異常以及短路的情形發生，進而達到良好的焊接效果與電氣導通特性。藉此，使得本實施例的線路板100可具有較佳的良率及可靠度。
以下將列舉其他實施例以作為說明。在此必須說明的是，下述實施例沿用前述實施例的元件標號與部分內容，其中採用相同的標號來表示相同或近似的元件，並且省略了相同技術內容的說明。關於省略部分的說明可參考前述實施例，下述實施例不再重複贅述。
圖2繪示為本發明另一實施例的線路板的剖面示意圖。請同時參考圖1D與圖2，本實施例的線路板100a與圖1D中的線路板100相似，惟二者主要差異之處在於：本實施例的線路板100a更包括金屬表面處理層150、151。
具體來說，請參照圖2，金屬表面處理層150形成於第一開口130a及第三開口140a內，以覆蓋由第一開口130a以及第三開口140a暴露出的增層線路層110的該部分(即線路層111的接墊111a)。金屬表面處理層151形成於第二開口131a以及第四開口141a內，以覆蓋由第二開口131a以及第四開口141a暴露出的圖案化導電層120的接墊122。
此外，在本實施例中，金屬表面處理層150與金屬表面處理層151具有導電性。金屬表面處理層150與金屬表面處理層151可包括由不同材料形成的多個子層的複合層。金屬表面處理層150與金屬表面處理層151的材料例如是鎳、鈀、金、銀、錫等或其組合，但不以此為限。
綜上所述，本發明的實施例的線路板中，由於將第一附著力促進材料層配置於第一防焊層與線路層之間的界面，且將第二附著力促進材料層配置於第二防焊層與圖案化導電層之間的界面，因而增加第一附著力促進材料層與線路層之間的結合力，並增加第二附著力促進材料層與圖案化導電層之間的結合力。因此，相較於習知，本實施例的線路板在進行化學鍍表面處理製程時，可避免有介面滲鍍異常以及短路的情形發生，進而達到良好的焊接效果與電氣導通特性。藉此，使得本實施例的線路板可具有較佳的良率及可靠度。
雖然本發明已以實施例揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何所屬技術領域中具有通常知識者，在不脫離本發明的精神和範圍內，當可作些許的更動與潤飾，故本發明的保護範圍當視後附的申請專利範圍所界定者為準。
100、100a:線路板 110:增層線路層 110a:第一表面 110b:第二表面 111、112:線路層 111a:接墊 113、114:介電層 113a:表面 115、116:導電孔 120:圖案化導電層 121:導電圖案間隙 122:接墊 130:第一附著力促進材料層 130a:第一開口 131:第二附著力促進材料層 131a:第二開口 140:第一防焊層 140a:第三開口 141:第二防焊層 141a:第四開口 150、151:金屬表面處理層 T1、T2、T3、T4、T5:厚度
圖1A至圖1D繪示為本發明一實施例的線路板的製造方法的剖面示意圖。 圖2繪示為本發明另一實施例的線路板的剖面示意圖。
100:線路板
110:增層線路層
110a:第一表面
110b:第二表面
111、112:線路層
111a:接墊
113、114:介電層
115、116:導電孔
120:圖案化導電層
122:接墊
130:第一附著力促進材料層
130a:第一開口
131:第二附著力促進材料層
131a:第二開口
140:第一防焊層
140a:第三開口
141:第二防焊層
141a:第四開口

Claims (10)

  1. 一種線路板，包括： 一增層線路層，具有一第一表面以及與該第一表面相對的一第二表面； 一圖案化導電層，配置於該增層線路層的該第二表面； 一第一附著力促進材料層，配置於該增層線路層的該第一表面，包括至少一第一開口； 一第二附著力促進材料層，配置於該增層線路層的該第二表面以及該圖案化導電層上，包括至少一第二開口； 一第一防焊層，配置於該第一附著力促進材料層上，包括至少一第三開口，且該第三開口對應於該第一開口設置；以及 一第二防焊層，配置於該第二附著力促進材料層上，包括至少一第四開口，且該第四開口對應於該第二開口設置。
  2. 如請求項1所述的線路板，其中該第一開口以及該第三開口暴露出該增層線路層的一部分，且該第二開口以及該第四開口暴露出該圖案化導電層的接墊。
  3. 如請求項1所述的線路板，其中該第一附著力促進材料層以及該第二附著力促進材料層的材料包括氯化聚烯烴以及烯烴基嵌段共聚物。
  4. 如請求項1所述的線路板，其中該第一附著力促進材料層以及該第二附著力促進材料層的厚度小於1微米。
  5. 如請求項1所述的線路板，其中該第一附著力促進材料層以及該第二附著力促進材料層的厚度小於該圖案化導電層的厚度。
  6. 如請求項1所述的線路板，其中該第一附著力促進材料層配置於該第一防焊層與該增層線路層之間的界面，且該第二附著力促進材料層配置於該第二防焊層與該圖案化導電層之間的界面。
  7. 如請求項1所述的線路板，其中該增層線路層包括線路層，該線路層暴露於該增層線路層的該第一表面，且該第一附著力促進材料層配置於該第一防焊層與該線路層之間的界面。
  8. 如請求項1所述的線路板，更包括： 一金屬表面處理層，配置於該第一開口、該第二開口、該第三開口以及該第四開口內。
  9. 一種線路板的製造方法，包括： 形成一增層線路層，該增層線路層具有一第一表面以及與該第一表面相對的一第二表面； 形成一圖案化導電層於該增層線路層的該第二表面； 形成一第一附著力促進材料層於該增層線路層的該第一表面，並形成一第二附著力促進材料層於該增層線路層的該第二表面以及該圖案化導電層上； 形成一第一防焊層於該第一附著力促進材料層上，並形成一第二防焊層於該第二附著力促進材料層上，其中該第一防焊層包括至少一第三開口，該第二防焊層包括至少一第四開口； 移除部分該第一附著力促進材料層，以形成至少一第一開口，且該第一開口對應於該第三開口設置；以及 移除部分該第二附著力促進材料層，以形成至少一第二開口，且該第二開口對應於該第四開口設置。
  10. 如請求項9所述的線路板的製造方法，更包括： 形成一金屬表面處理層於該第一開口、該第二開口、該第三開口以及該第四開口內。
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