TW200828308A - Semiconductor memory device - Google Patents

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TW200828308A
TW200828308A TW096130028A TW96130028A TW200828308A TW 200828308 A TW200828308 A TW 200828308A TW 096130028 A TW096130028 A TW 096130028A TW 96130028 A TW96130028 A TW 96130028A TW 200828308 A TW200828308 A TW 200828308A
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Takashi Ohsawa
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Toshiba Kk
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200828308 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 本發明係關於半導體記憶裝置’且有關例如藉由流於源 極與汲極間之電流來寫入資料之半導體記憶裝置。 【先前技術】 近年來,作為被期待取代DRAM(Dynamic Random Access Memory :隨機存取記憶體)之記憶體之半導體記憶 裝置有FBC(Floating Body Cell :浮動基胞)記憶體、MRAM (Magnetic Random Access Memory ··磁性隨機存取記憶體) 及PRAM(Phase Change Random Access Memory :相變隨機 存取記憶體)等。DRAM係於資料寫入時,不於記憶胞流入 電流,而FBC記憶體、MRAM及PRAM係藉由於記憶胞流 入電流來寫入資料。例如FBC記憶體係於SOI(Silicon On Insulator:絕緣層上覆石夕)基板上,形成具備浮動基體(以 下亦稱基體)之FET(Field Effect Transistor ··場效電晶 體),並於該基體流入電流。藉此,FBC記憶體控制儲存於 基體之許多載體之數目,藉由增減許多載體之數目,來記 憶資料"1”或資料。 如此,FBC會於資料寫入時消耗電流。於以往之FBC記 憶體進行叢發模式等串流存取之情況時,進行該串列存取 之期間中,感測放大器根據閂鎖資料,持續於記憶胞施加 寫入偏壓。因此,以往之FBC記憶體具有消耗電流大之問 題。 為了處理此問題,可採取僅將資料寫入時所選擇之行之 123512.doc 200828308 位70線連接於感測放大器,僅於連接在該位元線之選擇記 k胞流入電流之方式。然而,由於此方式為了僅將選擇位 兀線連接於感測放大器而需要追加之電路,因此產生感測 放大器之電路規模增大之問題。 【發明内容】 按照本發明相關實施型態之半導體記憶裝置係包含:複 數記憶胞,其係具有閘極、源極及汲極,藉由流於前述源 極與前述汲極間之電流來寫入資料;複數字元線,其係連 接於Ml述記憶胞之閘極;複數位元線,其係連接於前述記 憶胞之汲極;複數感測放大器,其係經由前述位元線來檢 測前述記憶胞之資料,經由前述位元線來對於前述記憶胞 寫入資料,並且閂鎖被讀出之資料或應寫入之資料;及轉 移閘’其係從前述感測放大器連接或切斷前述位元線之複 數轉移閘,且在對於複數前述記憶胞連續地寫入資料之串 列存取期間,在與該複數記憶胞相對應之複數前述感測放 大器閃鎖資料後,前述複數轉移閘連接該複數感測放大器 及與該複數感測放大器相對應之複數前述位元線,該複數 前述記憶胞連接於前述字元線中被活化之字元線。 【實施方式】 以下’參考圖式來說明本發明之相關實施型態。本實施 型態不限定本發明。 (第一實施型態) 圖1係表示按照本發明之相關實施型態之FBC記憶體裝 置結構之方塊圖。FBC記憶體裝置具備感測放大器s/a及 123512.doc 200828308 設置於感測放大器S/Α兩側之記憶胞陣列MCAL、MCAR。
列解碼器RD選擇記憶胞陣列MCA之字元線,行解碼器CD 選擇記憶胞陣列MCA之位元線。列位址緩衝器RAB從外部 領取列位址,暫時儲存其並對於列解碼器RD輸出。行位 .址解碼器CAB從外部領取行位址,暫時儲存其並對於行解 碼器CD輸出。DQ緩衝器dqB連接於感測放大器sA與輸出 入部間。DQ緩衝器DQB係為了將來自感測放大器之讀 出資料作為輸出入資料1/0,往外部輸出而暫時儲存,或 _ I為了將來自外部之寫人資料送往感測放AMA而暫時儲 存。感測放大器控制器SAC控制感測放大器S/A。記憶體 控制器MC係接受來自外部之指令信號來控制FB(:記憶體 裝置内之各部。 根據本實施型態之FBC記憶體裝置係於感測放大器控制 器SAC與記憶胞控制器MC間進一步具備叢發長計數器 财。叢發長計數器BLC係構成計算叢發模式中對於行之 • #取次數。於此’叢發模式係藉由指定某行位址,從該位 址進入連續之複數行位址,串列地讀出/寫入資料之模 式。串列存取係指於叢發模式中,對於連接於被活化之字 ‘ &線之複數記憶胞(複數行)連續地存b叢發長係於某叢 ^ ㈣式中,對於感測放大器S/A連續寫入之資料數,或從 感測放大器S/Α連續讀出之資料數。 叢發長計數訊c係於存取讀μ先設定之叢發長相 荨之情況時,使作為第-信號之最終行信號lastc〇u 化。換言之,叢發長計數器BLC係在對於與連續行相對應 123512.doc 200828308 之感測放大器S/Α連續寫入資料之次數,或從感測放大器 S/A連續讀出資料之次數,與叢發長相等之情況時,使最 終行信號LASTCOL活化。 於不活化最終行信號LASTCOL時,資料係由與被選擇 之行相對應之感測放大器S/Α閂鎖。此時,被選擇之行之 位元線仍然與感測放大器S/Α切斷。到存取次數成為叢發 長止,位元線與感測放大器S/Α切斷,且感測放大器S/Α維 持閂鎖資料之狀態。 _ 若最終行信號LASTCOL活化,叢發長計數器BLC控制感 測放大器控制器SAC,將包含對應於由串列存取所選擇之 行之複數位元線之位元線,連接在與其等相對應之複數感 測放大器S/Α。藉此,可將藉包含由串列存取所閂鎖之資 料之資料,對於與此等行相對應之複數記憶胞寫入或寫 回。 及(AND)閘極G10係輸入叢發開始信號BST及時脈(clock) 信號CLK,並將此等信號之邏輯積作為叢發時脈BCLK而 輸出。若叢發模式開始,叢發開始信號BST上升,及閘極 G10係使時脈信號CLK作為叢發時脈BCLK而通過叢發長計 ’ 數器BLC。叢發長計數器BLC係藉由計算某叢發模式下之 • 叢發時脈BCLK,可得知串列存取之次數。關於叢發長計 數器BLC之結構,於後面會參考圖5來詳細說明。 此外,活化係意味開啟或驅動70件或電路,不活化係意 味關閉或停止元件或電路。因此,應注意有高(HIGH)(高 電位位準)之信號為活化信號之情況,亦有低(LOW)(低電 123512.doc 200828308 位位準)之信號為活化信號之情況。例如NMOS電晶體係藉 由使閘極成為高來活化。另一方面,PMOD電晶體係藉由 使閘極成為低來活化。 圖2係表示記憶胞陣列MCAL、MCAR之内部結構之電路 圖。FBC記憶體裝置係具備:記憶胞MC ;第一虛擬胞 DC0 ;第二虛擬胞DC1;字元線WLLi,WLRi(i為整數)(以 下亦稱為WL);虛擬字元線DWLL,DWLR(以下亦稱為 DWL);位元線BLLi,BLRi(以下亦稱為BL);感測放大器 S/Ai(以下亦稱為S/A);等化線EQLL,EQLR(以下亦稱為 EQL);等化電晶體TEQL,TEQR(以下亦稱為TEQ);均化 線AVGL,AVGR(以下亦稱為AVG);及均化電晶體TAVL, TAVR(以下亦稱為TAV)。 記憶胞MC排列為矩陣狀,其構成記憶胞陣列MCAL、 MCAR(以下亦稱為MCA)。字元線WL延伸於列(row)方 向,且連接於記憶胞MC之閘極。字元線係於感測放大 器S/A之左右各設有256條’圖2中表示出〜WLL255及 WLR0〜WLR255。位元線BL延伸於行方向,且連接於記憶 胞MC之源極或汲極。位元線61"係於感測放大器S/A之左右 各設有1024條。圖2中表示出BLL0〜BLL1023及 BLR0〜BLR1023 °字元線WL與位元線BL互相正交’於其 各交點設有記憶胞MC °此係稱為交叉點型胞。此外’列 方向與行方向互相置換亦無妨。 於資料之讀出/寫入動作前,虛擬胞DC0及DC1分別記憶 互為相反極性之資料"0"及資料”1"。對於虛擬胞〇<:0及 123512.doc 200828308 DC 1之資料寫入通常於電源導入後立即進行。極性係表示 資料之邏輯值π〇”或n 1”。虛擬胞DC0及DC1係於檢測記憶 胞MC之資料時,為了產生基準電位Vref而使用。基準電 位Vref係資料之檢測電位與資料” 1”之檢測電位之約略 中間之電位。感測放大器S/A内之電流鏡電路(參考圖4)係 經由位元線BL而使電流流往記憶胞MC。藉此,記憶胞MC 之資料會傳達至感測放大器S/A内之感測節點。依感測放 大器S/A内之感測節點電位比基準電位Vref高或低,感測 放大器S/A識別資料邏輯值"0"或"Γ’。 虛擬胞DC0及虛擬胞DC1係朝向字元線WL所延伸之方向 (列方向)交互排列。虛擬胞DC0及虚擬胞DC1設置有相同 數目。 虛擬字元線DWL延伸於列方向,且連接於虛擬胞DC之 閘極。虛擬字元線DWL係於感測放大器S/A之左右各設有1 條,圖2中表示出DWLL及DWLR。 等化線EQL連接於等化電晶體TEQ之閘極。等化電晶體 TEQ連接於位元線BL與接地間。於等化中,藉由將位元線 BL連接於接地,以使各位元線BL之電位與接地電位相 等。 均化線AVG連接於均化電晶體TAV之閘極。均化電晶體 TAV連接於相鄰2條位元線BL間,且互相串聯地連接。均 化電晶體TAV係於資料讀出時,使虛擬胞DC0及虛擬胞 DC1分別以相同數目短路,藉此使流於虛擬胞DC0及DC1 之電流均化,以產生基準電位Vref。藉由使用基準電位 123512.doc -10- 200828308
Vref ’電流鏡電路可精度良好地產生資料”丨π之電流與資料 之電流間之中間電流。 圖3係表示記憶胞MC及虛擬胞DC之構造之剖面圖。此 外,虛擬胞130具有與記憶胞MC相同之結構。記憶胞MC設 置於包含支持基板10、盒體(BOX)層20及SOI層30之SOI基 板上。於SOI層3〇内,設有源極6〇及汲極4〇。浮動基體5〇 形成於源極60與汲極4〇間之SOI層30。基體50係與源極60 及汲極40逆向之導電型半導體。本實施型態中,記憶胞 MC為N型FET。基體50係藉由源極6〇、汲極4〇、盒體層 20 閑極絕緣膜 70及 STI(Shallow Trench Isolation :淺溝 槽絕緣)(未圖示)包圍其一部分或全部,從而在電性上成為 洋游狀態。FBC記憶體可藉由基體5〇内之許多載體之數目 來記憶資料。 例如設定記憶胞^1(:為>^型]^181^丁。而且,儲存於基體 50之電洞多之狀態定義為資料”1”,電洞少之狀態定義為 資料"0"。 為了於記憶胞MC寫入資料”丨”,於飽和狀態使記憶胞 動作例如將子元線WL偏移至1·5 V,將位元線bl偏 移至1·5 V。源極為接地GND(〇 ν)。藉此,於汲極附近發 生衝擊離子化,大量產生電子·電洞對。藉由衝擊離子^ 所產生電子流人汲極’電洞儲存於位能低之基體。因衝擊 離子化產生電洞時所流動之電流、與基體-源極間之卯接 合之順向電流抗衡時,基體電壓會達到平衡狀態。此基體 電壓約為0.7 V。 123512.doc • 11 - 200828308 寫入資料”〇”時,使位元線BL降低至負電壓。例如使位 元線BL之電位降低至」·5 v。藉由此動作,基體5〇•汲極4〇 間之ρη接合會大幅往順向偏移。儲存於基體5〇之電洞往汲 極40排出,資料”〇"記憶於記憶胞Mc。 於資料之讀出動作中,於資料寫入時相同地活化字元線 WL,但位元線Bl設定比資料”"之寫入時低。例如字元線 WL設為1·5 V,位元線BL設為〇·2 v。使記憶胞1^〇在線性 區域動作。記憶資料”之記憶胞與記憶資料"丨”之記憶 胞MC係藉由儲存於基體50之電洞數之差異,於記憶胞 之S品限值電壓呈現差異。藉由檢測此臨限值電壓之差,以 識別資料”1”與資料”〇”。於讀出時設定位元線BL在低電壓 之理由在於’因為若升高位元線BL之電壓,將記憶胞MC 偏移至飽和狀態,則於讀出資料”〇”之情況時,由於衝擊 離子化,資料Π0Π會有變化為資料”丨”之危險性。 圖4係表示感測放大器s/Ai(以下亦稱為S/A)之結構之電 路圖。感測放大器S/A連接於左右各設有1條之位元線BLLi 及BLRi(以下亦稱為BL),並與各位元線BLLi及BLRi相對 應地設置。如此,於本實施型態採用開放位元線結構。 故,於資料讀出時,位元線BLLi及位元線對BLRi中之一 方傳達資料,另一方傳達基準電位。 感測放大器S/A包含1對感測節點SNLi(以下亦稱為SNL) 及SNRi(以下亦稱為SNR)。感測節點SNL係經由轉移閘 TGL1而連接於位元線BLLi,並經由轉移閘TGR2而連接於 位元線BLRi。感測節點SNR係經由轉移閘TGL2而連接於 123512.doc -12- 200828308 位元線BLL ’並經由轉移閘TGR1而連接於位元線BLR。 轉移閘TGL1及TGR1係藉由信號0>t來控制開啟/關閉。轉 移閘TGL2係藉由信號FBL及BFBL來控制開啟/關閉。轉移 閘TGR2係藉由信號FBR及BFBR來控制開啟/關閉。 例如於資料1買出動作中,感測放大器S/A讀出記憶胞MC 之資料’並經由E>q緩衝器DQB而對於外部輸出該資料, 並且將該資料寫回記憶胞MC。讀出位元線BLL上之資料 ”1”之情況,由於N型記憶胞MC之臨限值電壓比基準電位 低’因此感測節點SNL之電位比感測節點SNR之電位低。 另一方面,為了對於記憶胞MC寫回資料"1",須對位元線 BLL賦予高電位。因此,藉由開啟轉移閘TGL2,將高電位 之感測節點SNR連接於位元線BLL。 感測放大器S/A係包含交叉耦合型動態閂鎖電路(以下稱 為閂鎖電路)RC1及RC2。閃鎖電路RC1係由串聯連接於感 測節點SNL與SNR間之2個p型電晶體TP1及TP2所組成。電 晶體TP1之閘極連接於感測節點SNR,電晶體TP2之閘極連 接於感測節點SNL。亦即,電晶體TP1及TP2之各閘極係對 於感測節點SNL及SNR交叉耦合。閂鎖電路RC2係由串聯 連接於感測節點SNL與SNR間之2個η型電晶體TN1及TN2所 組成。電晶體ΤΝ1之閘極連接於感測節點SNR,電晶體 ΤΝ2之閘極連接於感測節點SNL。亦即,電晶體ΤΝ1及ΤΝ2 之各閘極亦對於感測節點SNL及SNR交叉耦合。閂鎖電路 RC1及RC2係分別藉由信號SAP及BSAN之活化來驅動。 感測放大器S/A進一步包含p型電晶體TP3〜TP8。電晶體 123512.doc -13- 200828308 TP3〜TP8構成電流鏡型電流負載電路,並構成如於感測節 點SNL與SNR流有相等電流。電晶體TP3及TP4係藉由負載 信號BLOADON來控制,並作為切換於電源VBLH與上述電 流鏡間之切換元件而作用。於此,VBLH係表示於記憶胞 MC寫入資料"1”時,賦予位元線BL之高電位。電晶體TP7 及TP8分別藉由信號CML及CMR來控制,以將電晶體TP5 及TP6之閘極分別連接於感測節點SNL及SNR。藉此,電 晶體TP 5及TP 6可將根據基準電位之電流,相等地流入感 測節點SNL與SNR。 η型電晶體TN3連接於感測節點SNL與SNR間,並藉由信 號SHORT來控制。電晶體ΤΝ3係藉由於讀出/寫入動作前, 使感測節點SNL與SNR短路,以使感測節點SNL與SNR等 化。 η型電晶體TN4連接於DQ線與感測節點SNL間,η型電晶 體ΤΝ5連接於BDQ線與感測節點SNR間。電晶體ΤΝ4及ΤΝ5 之各節點連接於行選擇線CSLi(以下亦稱為CSL)。DQ線及 BDQ線連接於DQ缓衝器DQB。DQ緩衝器DQB係如圖1所說 明而連接於I/O墊,為了於資料讀出時對於外部輸出來自 記憶胞MC之資料而暫時地儲存,而且為了於資料寫入時 對於感測放大器S/A傳達來自外部之資料而暫時地儲存。 因此,行選擇線CSL係於對外部讀出資料或從外部寫入資 料時活化,感測節點SNL及SNR可連接於DQ緩衝器。於更 新時,行選擇線CSL維持非活化狀態。 圖5及圖6係表示叢發長計數器BLC之内部結構之電路 123512.doc -14- 200828308 圖。圖5所示之加法電路AC計算叢發時脈信號BCLK之上 升次數(脈波數)。加算電路AC係藉由連結複數個圖8所示 之半加法器HA而構成。加法電路AC係將來自各半加法器 HA之進位Ck(k=2, 4, 6,16, 32, 64)作為信號ACTi輸出。 通電重設信號BPRST在導入電源之初始為低位準(低: LOW),並將所有半加法器HA及進位Ci初始化為低位準。 電源導入後經過片刻,通電重設信號BPRST成為高位準 (高:HIGH),使半加法器HA内之閃鎖功能成為活化狀 態。 圖6所示之閘電路GC係構成如使用來自加算電路AC之信 號ACTi,來輸出最終行信號LASTCOL。閘電路GC具有設 定叢發長之功能。 由及閘極所組成之閘群GG1係輸入信號ACTi,並輸出信 號BLj(j=4, 8,16, 32, 64)。信號ACTi與信號BLj之關係如 下。ACT2及ACT4為1(高位準)之情況,BL4成為1(高位 準)。ACT2〜ACT8為1(高位準)之情況,BL4及BL8成為 1(高位準)。ACT2〜ACT16為1(高位準)之情況,BL4〜BL16 成為1(高位準)。ACT2〜ACT32為1(高位準)之情況, BL4〜BL32成為1(高位準)。ACT2〜ACT64為1(高位準)之情 況,BL4〜BL64成為1(高位準)。 由及閘極所組成之閘群GG2係輸入信號BLj及信號 BLjSEL,並輸出其等之邏輯積。信號BLjSEL係由熔絲fj所 產生之信號。熔絲fj之結構表示於圖7。節點Nf係經由高電 阻元件而連接於電源VBLH,並經由光學熔絲接地。光學 123512.doc -15- 200828308 熔絲之電阻比高電阻元件之電阻低甚多。因此,熔斷熔絲 f]前,信號BLjSEL為低位準。另一方面,若熔斷熔絲fj, 則信號BLjSEL成為高位準。由於信號BLjSEL成為高位 準,分別對應之信號BLj成為有效。例如熔斷熔絲F16之情 況時,信號BL16SEL成為高位準,其他BLjSEL則維持低位 準。因此,信號BL16成為有效,信號BL4,BL8,BL32及 BL64成為無效。此係意味叢發長設定在”16”(4位元)。此 情況下,於行存取數小於16時,閘群GG2之任一均輸出低 位準。若行存取數達到16,則閘群GG2中僅有輸入信號 BL16之及閘極輸出高位準信號。藉此,或(OR)閘極20輸 出高位準信號,及閘極G30使信號BCLK成為有效。此時, 輸出自閘極G30之信號BCLK成為最終行信號LASTCOL。 圖5及圖6所示之叢發長計數器BLC可將叢發長設定於 π2(1位元)〜64(6位元)π。然而,藉由增加圖5所示之半加法 器ΗΑ之個數,且伴隨於其來增加圖6所示之閘群GG1,GG2 内之閘極數及熔絲數,叢發長可設定在128(7位元)以上。 圖8係表示半加法器ΗΑ之内部結構圖。NAND閘極G40 係於電源導入後通電重設信號BPRST成為高位準後,作為 變頻器作用。半加法器ΗΑ係於來自前段之半加法器之進 位Ci-Ι成為高位準時不動作。半加法器ΗΑ係於進位Ci-Ι成 為低位準時,使進位Ci上升或下降。載體條BCi為進位Ci 之反轉信號。 圖9係表示按照第一實施型態之FBC記憶體裝置之資料 寫入時之動作之時序圖。本實施型態中,對於4個行0〜3之 123512.doc -16- 200828308 感測放大器S/A0〜S/A3,以叢發模式連續寫入資料。因 此,由於叢發長之設定為"4(2位元)’’,因此僅熔斷圖6之熔 絲F4。叢發長之設定係於FBC記憶體裝置之製造時預先進 行。亦可採用由非揮發性記憶體或揮發性記憶體所進行之 程式化方式,來取代由圖7所示之溶絲所進行程式化方 式。藉此,叢發長之設定可在對於製品組裝FBC記憶體裝 置時,或該類製品之使用前設定。 於資料寫入動作中,對於感測放大器S/A讀出記憶胞MC 之資料,將該資料更新為來自DQ缓衝器DQB之寫入資 料,並且從感測放大器S/A對於記憶胞MC寫入此寫入資 料。本實施型態中,假定字元線WLL0被活化。感測放大 器S/A係經由位元線BLL,將寫入資料對於記憶胞MC寫 入0 首先,由於列有效信號BRAS成為活化(LO W :低),預 充電結束,可選擇字元線WLL及虛擬字元線D WLR。於 tl,藉由使信號EQLL及EQLR成為低,以關閉圖2所示之 等化電晶體TEQL,TEQR。藉此,於接地(VSL)短路之位元 線BLLi及BlRi全部成為高阻抗狀態。與此同時,藉由使 信號SHORT成為低,以切斷感測節點對SNLi及SNRi。並 且,於tl,藉由將信號AVGL降低至低,以使圖2所示之均 化電晶體TAVL成為關閉狀態。藉此,記憶胞陣列MCAL内 之位元線BLLi互相分離。另一方面,由於信號AVGR維持 高(HIGH),因此均化電晶體TAVR為開啟狀態。藉此,記 憶胞陣列MCAR内之位元線BLRi維持連接。 123512.doc -17· 200828308 藉由使信號CML成為高位準,電晶體TP7關閉。藉由將 信號CMR維持在低位準,以維持感測節點SNRi與電晶體 TP6之閘極之連接。 於tl,信號FBL,FBR為低。故,電晶體閘極TGL2, TGR2關閉。位元線BLLi與感測節點SNRi被切斷,位元線 BLRi與感測節點SNLi亦被切斷。然而,由於信號Φί為 高,因此位元線BLLi及感測節點SNLi維持連接,位元線 BLRi及感測節點SNRi亦維持連接。 • 由於信號BLOADON為低,因此電流鏡係從電源VBLH經 由感測節點SNRi,SNRi及位元線BLLi,BLRi,而對於記憶 胞M C及虛擬胞D C流入相等電流。措由此電流’於感測節 點對SNLi及SNRi間出現電位差(信號差)。 於該信號之電位超過一定值時(t2),使信號(Dt成為低。 藉此切斷位元線BLLi,BLRi與感測節點SNLi,SNRi。 於t2,信號SAP及BSAN活化。藉此,閂鎖電路RC1及 RC2放大傳達至感測節點SNLi及SNRi之信號,並於感測節 _ 點SNLi及SNRi閂鎖此經放大之信號。如此,資料之讀出 係針對行〇〜3同時執行。 - 於t3,於閂鎖剛結束後,立即於行0活化行選擇線 - CSL0。藉此,於t3〜t4,寫入資料傳達至感測放大器 S/A0,並更新感測放大器S/A0内所閂鎖之資料。例如於行 0,選擇記憶胞MC儲存有資料”0”,寫入資料為”1”。因 此,於t3〜t4,感測節點SNL0之信號位準及感測節點SNR0 之信號位準逆轉。感測放大器S/A0閃鎖寫入資料後,於 123512.doc -18 - 200828308 t4,行選擇線CSL0不活化。 於t4〜t5選擇行1,與t3〜t4之行0相同,感測放大器S/A1 閂鎖寫入資料。於t5〜t6選擇行2,感測放大器S/A2閂鎖寫 入資料。並且,於t6〜t8選擇行3,感測放大器S/A3閂鎖寫 入資料。 於此,注意點為到行3被選擇為止,信號FBL及BFBL維 持不活化狀態。於信號FBL及BFBL維持不活化狀態之期間 之間,感測放大器S/A0〜S/A3分別不與位元線BLL0〜BLL3 連接,並維持問鎖有寫入資料之狀態。 於t7〜t8,信號FBL及BFBL活化。藉此,感測放大器 S/A0〜S/A3係與對應於其等之位元線BL連接,並將寫入資 料對於記憶胞MC寫入。 藉由來自圖1之叢發長計數器BLC之最終行信號 LASTCOL活化,感測放大器控制器SAC活化信號FBL及 BFBL 〇 以往之FBC記憶體裝置係於叢發模式中,從行〇之選擇 時點(t3)至行3之選擇時點(t8)為止活化信號FBL及BFBL。 此情況下,於所有行,在t3〜t8之期間之間持續從感測放大 器S/A往位元線流有電流。 另一方面,本實施型態中,僅於行3剛被選擇後之t7〜t8 活化信號FBL及BFBL。亦即,於感測放大器S/A0〜S/A3保 持寫入資料後,轉移閘TGL2分別連接感測放大器 S/A0〜S/A3與位元線BLL0〜BLL3。故,用於資料寫入之偏 壓電流僅於t7〜t8之期間内,從所有行之感測放大器流往位 123512.doc -19- 200828308 元線即足夠。其結果,若根據本實施型態,可減低叢發模 式中資料寫入時之消耗電流。 圖1〇係表示叢發模式中之叢發長計數器BLC之動作之時 序圖。參考圖10來說明有關計算對於行〇〜3之串列存取次 數之方法。時脈信號CLK決定FBC記憶體裝置之存取動 作。叢發模式中活化叢發開始信號BST。若活化叢發開始 信號BST,則圖及閘極G1〇係將時脈信號€£&作為時脈 BKLC而送往叢發長計數器BLC。叢發長計數器BLC計算 時脈信號BCLK之脈波數。於本實施型態,由於叢發長為 ”4(2位元)”,因此叢發長計數器BLC係於計算時脈信號 BCLK之第四個脈波時,活化最終行信號laStc〇l。 右活化最終行信號LASTCOL,感測放大器控制器SAC控 制感測放大器S/A,以活化信號FBL,BFBL。藉此,圖4之 轉移閘TGL2係將所有行之位元線連接於與其等對應之感 測節點。此時,閂鎖於感測節點之資料被寫入連接於位元 線之記憶胞MC。 此外,最終行信號LASTCOL活化後至信號FBL,BFBL·活 化為止之期間,係藉由於叢發長計數器blc與感測放大器 控制器SAC間設置延遲電路而可變更。藉此,可於行^之 資料寫入之同時,使轉移閘TGL2成為開啟狀態。其結 果,不/肖耗多餘功率,即可於行Q〜行3之記憶胞MC同時寫 入資料。 ” 如此,本實施型態中,於叢發模式下,感測放大器之轉 移閘TGL2僅將感測節點與位元線連接極短時間。故,根 123512.doc •20- 200828308 據本實施型態之FBC記憶體裝置可減低叢發模式中資料寫 入時之消耗電流。而且,於本實施型態中,由於不需要用 以將選擇位元線連接於感測放大器之電路,因此可抑制感 測放大器S/A之電路規模增大。 本實施型態中,藉由使用圖6所示之熔絲及閘群GG2, 可將叢發長程式化。於已知叢發長之製品,亦可藉由省略 熔絲及閘群GG2之閘極數來固定叢發長。此情況下,藉由 閘群GG1之閘極數來決定叢發長。 此叢發長之程式化方式亦可使用非揮發性或揮發性記憶 元件。此情況下,將FBC記憶體裝置組裝於製品時,或剛 導入記憶體電源後使用製品前,於該非揮發性記憶元件記 憶所需之叢發長亦可。 (第二實施型態) 第一實施型態中,於串列存取次數達到特定值時,活化 轉移閘TGL2。第二實施型態係不受叢發模式下之串列存 取次數影響,於對於感測放大器S/A之資料寫入結束之時 點,活化轉移閘TGL2。資料寫入結束之時點係作為第二 4吕號之#號BRAS不活化之時點。感測放大器控制琴sac 係於信號BRAS不活化時,活化信號fbL5 BFBL即可。因 此,按照第二實施型態之FBC記憶體裝置不需要圖i之叢 發長計數器BLC及閘極G10。 圖11係表示按照第二實施型態之FB C記憶體裝置之料 寫入時之動作之時序圖。第二實施型態中,於信號 不活化時活化信號FBL,BFBL,因此叢發長為任咅亦了 123512.doc •21- 200828308 並且’叢發長亦可於讀出/寫入動作之各循環變更。信號 BRAS之不活化係意味資料之讀出/寫入結束而成為預充電 狀態。 第二實施型態之tl〜t6之動作亦可與第一實施型態之 tl〜t6之動作相同。接著,於tl7,最後行3之感測放大器 S/A3閃鎖寫入資料後,不活化列位址信號bras。 於tl8 ’隨著不活化列位址信號bras而活化信號FBL, BFBL。藉此,於叢發模式中,所有行之感測放大器之轉 移閘TGL2可同時分別連接所有行之感測節點與所有行之 位元線。故,第二實施型態可獲得與第一實施型態相同之 效果。並且,於第二實施型態,由於不需要叢發長計數器 BLC及閘極,因此可縮小FBC記憶體裝置全體尺寸。 此外,信號BRAS不活化後至活化信號FBL,BFBL之期 間,可藉由於記憶體控制器MC設置延遲電路來變更。 第二實施型態可適用於信號BRAS不活化後,不立即活 化字元線WLL0,於對於記憶胞MC之資料寫入結束後,活 化字元線WLL0之裝置。 (第三實施型態) 圖12係表示按照關於本發明之第三實施型態之感測放大 器S/A之電路圖。按照第三實施型態之感測放大器S/Ai係 具備由PMOS電晶體TP10〜TP13所構成之第一閂鎖電路 RC10及第二閂鎖電路RC11,來取代閂鎖電路RC1,並具 備由NMOS電晶體ΤΝ10〜ΤΝ13所構成之第三閂鎖電路RC12 及第四問鎖電路RC13,來取代閃鎖電路RC2。按照第三實 -22- 123512.doc ri 200828308 施型態之感測放大器S/Α之其他結構與按照第一實施型態 之感測放大器S/A之結構相同即可。 電晶體TP10及TP11串聯地連接於感測節點SNL與SNR 間。電晶體ΤΡ12及ΤΡ13串聯地連接於感測節點SNL與SNR 間。電晶體ΤΡ10及ΤΡ12之閘極共同地連接於感測節點 SNR。電晶體ΤΡ11及ΤΡ13之閘極共同地連接於感測節點 SNL。亦即,電晶體ΤΡΙΟ, ΤΡ12及電晶體ΤΡ11,ΤΡ13之各 閘極係對於感測節點SNL及SNR交叉耦合。
• 電晶體ΤΝ10及ΤΝ11串聯地連接於感測節點SNL與SNR 間。電晶體ΤΝ12及ΤΝ13串聯地連接於感測節點SNL與SNR 間。電晶體ΤΝ10及ΤΝ12之閘極共同地連接於感測節點 SNR。電晶體ΤΝ11及ΤΝ13之閘極共同地連接於感測節點 SNL。亦即,電晶體ΤΝ10, ΤΝ12及電晶體ΤΝ11,ΤΝ13之各 閘極係對於感測節點SNL及SNR交叉耦合。 於電晶體ΤΡ10與ΤΡ11間之節點,輸入有信號SAP — READ。於電晶體TP 12與TP 13間之節點,輸入有信號SAP ® — WRITE。於電晶體TNI 0與TN11間之節點,輸入有信號 BSAN—READ。於電晶體TN12與TN13間之節點,輸入有 ’ 信號 BSAN_WRITE。 . 通常,由感測節點所閂鎖之資料電壓係因閂鎖電路内之 電晶體而電壓下降,並對於記憶胞MC傳達。為了避免被 閂鎖之資料之電壓下降,必需增大閂鎖電路内之電晶體之 尺寸(W/L)。閂鎖電路内之電晶體之尺寸(W/L)越大,該電 晶體之電流驅動能力增大。然而,另一方面,若閂鎖電路 123512.doc -23- 200828308 内之電日日體之尺寸(w/ , 閃鎖來自記憶胞MC之讀出資 枓之枯間及閂鎖來自〇Γ)縷&取 y 目Q緩命15之寫入資料之時間變長。 此係使讀出/寫入動竹低 乍之循衣日守間長期化。並且,讀出資 料之閂鎖時間變長,係音 、、 係^未對於記憶胞MC之貫通電流增 夕。於此,W及L分別表示通道寬及通道長。
因此,第三實施型態係於感測放大器s/a閂鎖資料時, 僅=用閃鎖電路RC1GURC12)。於此,感測放大器s/a係 於°貝出動作中’閃鎖來自記憶胞MC之資料,於寫入動作 中,閃鎖來自DQ緩衝器DQB之資料。藉此,於資料閃鎖 時’可縮短循環時間’而且可壓低貫通電流。並且,於寫 入動作中,感測放大器S/A能以高速關㈣。此外,可 縮小電晶體TN4, TN5之尺寸(W/L)。由於對於感測放大器 S/A之寫人速度提兩,因此FBC記憶體裝置可對應高速叢 發模式。 另方面,感測放大器S/A係在對於記憶胞Mc寫入資料 牯,使用作為寫入電路之閂鎖電路RC1〇&RC:11雙方(或 RC12及RC13雙方)。藉此,對於記憶胞MC寫入資料時, 感測放大器S/A能以充分大之電流驅動能力,來對於記憶 胞MC寫入資料,並且縮短循環時間。 此外’電晶體TP10與TP11之尺寸相等,電晶體TP12與 ΤΡ13之尺寸亦相等。另一方面,電晶體τρι〇,ΤΡ11與電晶 體TP 12,TP 13之尺寸相等或不同亦無妨。為了提高上述效 果’電晶體TP12及TP13之尺寸(W/L)宜比電晶體TP10及 ΤΡ11之尺寸(W/L)大。此外,電晶體1^10與1^11之尺寸相 123512.doc -24- 200828308 等,電晶體TN12與TN13之尺寸亦相等。另一方面,電晶 體TN10, TN11與電晶體TN12, TN13之尺寸相等或不同均無 妨。為了提高上述效果,電晶體TN12及TN13之尺寸(W/L) 宜比電晶體TN10及TN11之尺寸(W/L)大。 圖13係表示按照第三實施型態之FBC記憶體裝置之資料 寫入時之動作之時序圖。於第三實施型態中,叢發長係預 先設定。 對於感測放大器S/A讀出資料時,活化信號SAP—READ 及BSAN—READ(t22)。藉此,僅利用閂鎖電路RC10及 RC12來閂鎖資料。於t23〜t24,對於感測放大器S/A寫入來 自DQ緩衝器DQB之資料時,僅閂鎖電路RC10及RC12閂鎖 資料。藉此,感測放大器S/A能以小消耗電流高速地寫入 資料。 於t27,從感測放大器S/A對於記憶胞MC寫入資料時, 不僅活化信號SAP—READ及BSAN—READ,亦活化信號 SAP—WRITE及BSAN—WRITE。藉此,不僅經由閂鎖電 路RC10及RC12,亦經由閂鎖電路RC11及RC13來寫入電 路。藉此,感測放大器S/A能以充分大之電流驅動能力, 來對於記憶胞MC寫入資料。 由於第三實施型態之其他動作與第一實施型態之其他動 作相同,因此省略其說明。 此外,信號SAP—WRITE及BSAN—WRITE係與信號 FBL·,BFBL·相同,使其根據最終行信號LASTCOL·之活化來 動作即可。 123512.doc -25- 200828308 (第四實施型態) 第四實施型態係第二實施型態與第三實施型態之組合。 第四實施型態係與第二實施型態相同,不受叢發模式下串 列存取之次數影響,於對於感測放大器S/Α之資料寫入結 束之時點(信號BRAS不活化之時點),活化轉移閘TGL2。 因此,按照第四實施型態之FBC記憶體裝置不需要叢發長 計數器BLC及閘極G10。第四實施型態之其他結構與第三 實施型態之結構相同即可。信號SAP—WRITE及BSAN — WRITE係與信號FBL,BFBL相同,於信號BRAS不活化時 活化。 圖14係表示按照第四實施型態之FBC記憶體裝置之資料 寫入時之動作之時序圖。於第四實施型態中,由於在信號 BRAS不活化時活化信號FBL, BFBL,因此叢發長為任意 亦可。並且,叢發長亦可於讀出/寫入動作之各循環變 更。 第四實施型態之t21〜t26之動作與第三實施型態之 t21〜t26之動作相同即可。接著,於t37,最後行3之感測放 大器S/A3閂鎖寫入資料後,列位址信號BRAS不活化。 於t38,隨著列位址信號BRAS不活化,信號FBL,BFBL 及信號SAP—WRITE及BS AN—WRITE活化。由於藉此可 變更閂鎖電路内之電晶體之尺寸,因此第四實施型態可獲 得與第三實施型態相同之效果。 (第五實施型態) 第一至第四實施型態係使用虛擬胞及電流鏡電路,產生 123512.doc -26· 200828308 基準電位及根據個別之電流。第五實施型態係無虛擬胞及 電流鏡電路之實施型態。基準電位係供給自記憶胞陣列之 外部。 圖1 5係表示按照第五實施型態之記憶胞陣列MCAL、 MCAR之内部結構之電路圖。於第五實施型態無均化電晶 體 TAVL,TAVR、信號線 AVGL,AVGR、虛擬胞 DC1,DC0, ^ 追加有基準電晶體TREF、信號線VFEF。第五實施型態之 其他結構係與圖2所示之第一實施型態之結構相同即可。 • 信號線VREF係傳遞於記憶胞陣列外部產生之基準電位
Vref。基準電晶體TREF連接於信號線VREF與位元線BL 間,可對於位元線BL傳達基準電位Vref。 圖16係表示按照第五實施型態之感測放大器S/A之結構 之電路圖。第五實施型態係於感測放大器S/A内省略電流 鏡電路。第五實施型態之其他結構與圖4所示之第一實施 型態之結構相同即可。 按照第五實施型態之FBC記憶體裝置係與第一實施型態 β 之動作約略相同。其中,由於第五實施型態無電流鏡電 路,因此無信號BLOADON。而且,未有使均化電晶體動 , 作之信號AVGL,AVGR。 . 第五實施型態可容易適用於第二至第四實施型態。此 時,省略均化電晶體TAVL,TAVR、信號線AVGL,AVGR、 虛擬胞DC 1,DC0,並追加基準電晶體TREF、信號線VFEF 即可。 第五實施型態係藉由與第一至第四實施型態之任一組 123512.doc -27- 200828308 合,可獲得其分別之效果。並且,由於第五實施型態無電 流鏡電路及虛擬胞DC ’因此可縮小記憶體裝置之尺寸。 (第六實施型態) 第六實施型態係將所謂雙胞(Twin Cell)方式適用於第一 實施型態之實施型態。雙胞方式亦稱為2胞/位元方式。此 方式係於成對之2個記憶體MC儲存相反極性之資料,藉此 記憶1位元資料之方式。感測放大器S/A係以互為相反極性 之資料之一方為基準’來檢測另一方資料。因此,於雙胞 方式中,不需要虛擬胞DC、基準電位線VREF、基準電晶 體TREF。本實施型恶中,如圖17所示,儲存資料” 1"之記 憶胞MC與儲存資料"〇”之記憶胞MC係設置於感測放大器 S/A之兩側。 由於按照第六實施型態之感測放大器S/A之結構與圖16 所示之結構相同,因此省略其說明。其中,如圖16以括弧 所示,於雙胞方式中變更位元線及感測節點之稱呼方式。 圖1 8係表示按照第六實施型態之fbc記憶體裝置之動作 之時序圖。第六實施型態中,於讀出/寫入時,為了讀出 互為相反極性之資料,於t41之後立即起動字元線wll〇, WLR0。而且,於寫入時,須對於位元線及傳達 互為相反極性之資料。因此’信號肌,Bfbl及信號服, BFBR均於t47〜t48活化。 —第=實施型態可獲得與第一實施型態相同之效果。可將 只靶3L恶所示之雙胞方式直接適用於第二至第四實施 型態。因A ’第六實施型態可藉由與第二至第四實施型態 I23512.doc •28- 200828308 之任一組合,來獲得其分別之效果。 (第七實施型態) 圖19係表示按照第七實施型態之FBC記憶體之結構之電 路圖。第七實施型態為雙胞方式之其他實施型態,其為折 疊位元線類型之實施型態。折疊位元線類型之情況,如以 虛線圓形所示,成對之記憶胞MC構成如互相鄰接。 圖20係表示按照第七實施型態之感測放大器S/Ai之結構 之電路圖。折疊位元線類型之情況,轉移閘係左右各增加 _ 2個。轉移閘TGL10, TGR10分別連接於感測節點SN與位元 線BLLi,BLRi間。轉移閘TGL11、TGR11分別連接於感測 節點BSN與位元線BBLLi,BBLRi間。轉移閘TGL12、 TGR12分別連接於感測節點BSN與位元線BLLi,BLRi間。 轉移閘TGL13、TGR13分別連接於感測節點SN與位元線 BBLLi,BBLRi間。位元線BLLi與BBLLi之一方為另一方之 基準,位元線BLRi及BBLRi之一方為另一方之基準。 於第七實施型態,成對之記憶胞MC可構成如互相鄰 0 接。若成對之記憶胞MC之距離近,則由於其等之電性特 定一致,因此可更正確讀出資料。第七實施型態可適用於 * 第一至第四實施型態。因此,第七實施型態可藉由與第一 . 至第四實施型態之任一組合,來獲得其分別之效果。 (第八實施型態) 圖21係表示按照第八實施型態之FBC記憶體裝置之結構 之電路圖。第八實施型態亦為折疊位元線類型之記憶體裝 置。然而,感測放大器S/Ai係於每一位元線對(1行),交互 1235l2.doc -29 - 200828308 配置於,己憶胞陣列之左右。此結構稱為所謂雙端型感測放 大器。 於第八只靶型悲,由於鄰接之感測放大器間之間隔大, 因此容易設計感測放大器電路之佈局。
• 上述實施型態不僅可適用於資料寫入時之動作,亦可適 用於資料讀出時所執行、從感測放大器S/A對於記憶胞MC •之寫回動作。此外,資料之”寫人”不僅包含資料寫入時之 ”寫入’’,亦包含資料讀出時之,,寫回,,。 • 於上述實施型態,對於電荷泵(charge pumping)現象之 對束係於叢發模式中最後行之選擇時,於外觀上已進行。 藉此不而要於資料讀出後立即執行之用以對付電荷栗現 象之電洞補給(replenish)。 電荷泵現象係於讀出/寫人時,儲存於非選擇記憶胞之 電洞逐漸減少之現象。若電荷泵現象重複出現,則非選擇 記憶胞之資料T,之狀態會變化為資料”0”。為了應付此, φ 而要對於資料1 ’’之非選擇記憶胞補給電洞之動作。 於上述實施型態,作為電荷泵對策之電洞補給係於叢發 模式中最後行之選擇時,對於叢發模式中被選擇之所有行 同時進行。因此,上述實施型態係比資料讀出時亦進行充 • 電泵對策之方式,更減低消耗電流。 上述實施型態不僅可適用於FBC記憶體裝置,亦可適用 於貧料寫入時,藉由於源極-汲極間流入電流,來對於纪 憶胞寫入資料之記憶體裝置。可適用於例如 MRAM(Magnetic Random Access Memory:磁性隨機存取 123512.doc -30 - 200828308 石己 fe 體)、PRAM(Phase Change Random Access Memory ·· 相變隨機存取記憶體)。 此外’為了實現高速之行存取,於MRAM等,必須於感 測放大器閂鎖沿著字元線之記憶胞之資料。此係稱為所謂 感測放大器快取。感測放大器快取可使對於某頁面内之資 料存取(行位址變更)變得高速。於感測放大器快取打開頁 面之期間’若記憶胞與感測放大器連接,則DC電流會持 績流入記憶胞。因此,將某列(頁面)之資料傳輸往感測放 大為後,為了減低消耗電流,宜切斷記憶胞與感測放大 器。 Π貝出動作之情況時,一旦讀出頁面後,記憶胞與感測放 大器維持切斷亦無妨。然而,寫入動作之情況時,必須連 接各循環中被選擇之行之記憶胞與感測放大器,並於每次 在°己饫胞寫入資料(策略1 ),或如上述實施型態,必須於叢 發榼式之串列存取時,僅重寫感測放大器,於串列存取結 束後’連接所有行之記憶胞與感測放大器(策略2)。考量到 消耗電力及高速動作,以採取策略2為宜。 【圖式簡單說明】 圖1係表示按照本發明相關實施型態之FBc記憶體裝置 之結構之區塊圖。 圖2係表示記憶胞陣列MCAL、MCAR之内部結構之電路 圖。 圖3係表示記憶胞]^^及虛擬胞dc之構造之剖面圖。 圖4係表示感測放大器S/Ai之結構之電路圖。 123512.doc -31 - 200828308 圖5係表不叢發長計數器BLC之内部結構之電路圖。 圖6係表示叢發長計數器ΒΙχ之内部結構之電路圖。 圖7係表示熔絲Fj之結構之圖。 圖8係表示半加法器HA之内部結構之圖。 圖9係表示按照第一實施型態之服記憶 寫入時之動作之時序圖。 <貝# 圖1〇係表示叢發模式中之叢發長計數器BLC之動作之時 序圖。 守 圖11係表不按照第二實施型態之FBC記憶體裝置之資料 寫入時之動作之時序圖。 抑圖12係表示按照關於本發明之第三實施型態之感測放大 器S/A之電路圖。 圖13係表不按照第三實施型態之FBC記憶體裝置之資料 寫入時之動作之時序圖。 圖14係表示按照第四實施型態之FBC記憶體裝置之資料 寫入時之動作之時序圖。 圖15係表示按照第五實施型態之記憶胞陣列MCAL、 MCAR之内部結構之電路圖。 圖16係表示按照第五實施型態之感測放大器S/A之結構 之電路圖。 圖17係表示按照第六實施型態之FBC記憶體之結構之電 路圖。 圖18係表示按照第六實施型態之FBC記憶體裝置之動作 之時序圖。 123512.doc -32- 200828308 圖19係表示按照第七實施型態之FBC記憶體之結構之電 路圖。 圖20係表示按照第七實施型態之感測放大器S/Ai之結構 之電路圖。 圖21係表示按照第八實施型態之FBC記憶體裝置之結構 之電路圖。 【主要元件符號說明】 10 支持基板 20 盒體(BOX)層 30 SOI層 40 >及極 50 浮動基體 60 源極 70 閘極絕緣膜 AC 加法電路 ACT2, ACT4, ACT8, 信號
ACT16, ACT32, ACT64, BSAN,BSAN—WRITE, BSAN—READ,SAP, SAP_WRITE,BRAS SAP_READ,SHORT, BFBL, BFBR,BL4, BL8,BL16, BL32, BL64, BL4SEL,BL8SEL, 123512.doc -33- 200828308 BL16SEL, BL32SEL, BL64SEL,BLOADON, CML,CMR,FBL,FBR, ΦΙ
AVGL,AVGR BCLK
BLC BCi BBLO〜BBL1023, BBLi BBLLO, BBLL1,BBLLi BBLRO〜BBLR511,BBLRi BL,BLi,BLLi,BLRi BLLO 〜BLL1023, BLRO〜BLR1023
BPRST
BST
CAB
CD
CO〜C5, Ci,Ci-1 CLK CSLi,CSLO〜CSL3
DCO DC1 均化線 叢發時脈、叢發時脈信 號 叢發長計數器 載體條 位元線 通電重設信號 叢發開始信號 行位址解碼器 行解碼器 進位 時脈信號 行選擇線 第一虛擬胞 弟二虛擬胞 123512.doc -34 200828308
DQB DQ緩衝器 DWLL5 dwlr 虛擬字元線 EQLL,EQLR 等化線 F4, F8, F16, F32, 熔絲 F64 G10, G20, G30 閘極 G40 NAND閘極 GC 閘電路 GG1,GG2 閘群 GND 接地 HA 半加法器 I/O 輸出入資料 LASTCOL 最終行信號 MC 記憶體控制器、記憶胞 MCAL,MCAR 記憶胞陣列 Nf 節點 RAB 列位址緩衝器 RC1,RC2 閂鎖電路 RC10 第一閂鎖電路 RC11 第二閂鎖電路 RC12 第三閂鎖電路 RC13 第四閂鎖電路 RD 列解碼器 SAC 感測放大器控制器 123512.doc -35- 200828308
S/A,S/Ai 感測放大器 S/AO 〜S/A1023 SNLi,SNLO〜SNL3 感測節點 SNRi,SNRO〜SNR3 TAVL,TAVR 均化電晶體 TEQL,TEQR 等化電晶體 TGL1,TGL2, 轉移閘 TGL10 〜TGL13 TGR1,TGR2, TGR10 〜TGR13 TNI 〜TN5 η型電晶體 TN10〜TNI 3 NMOS電晶體 TP1〜TP8 ρ型電晶體 TP10〜TP 13 PMOS電晶體 TREF 基準電晶體 VBLH 電源 VREF 基準電位線 WL, WLLO〜WLL255, 字元線 WLRO〜WLR255 1235I2.doc -36-

Claims (1)

  1. 200828308 十、申請專利範圍: 1 · 一種半導體記憶裝置,其包含: 複數記憶胞,其係具有閘極、源極及汲極,藉由流於 前述源極與前述汲極間之電流來寫入資料; 複數字元線,其係連接於前述記憶胞之閘極; 複數位元線,其係連接於前述記憶胞之沒極;
    複數感測放大器,其係經由前述位元線來檢測前述記 憶胞之資料,經由前述位元線來對於前述記憶胞寫入資 料’並且閂鎖被讀出之資料或應寫入之資料;及 轉移閘,其係從前述感測放大器連接或切斷前述位元 線之複數轉移閘,且在對於複數前述記憶胞連續地寫入 貝料之串列存取期間,在與該複數記憶胞相對應之複數 前述感測放大器問鎖資料後,連接該複數感測放大器及 與該複數感測放大器相對應之複數前述位元線,該複數 則述S己憶胞連接於前述字元線中被活化之字元線。 2.如請求項丨之半導體記憶裝置,其中進一步包含計數 器,/係料前料列存取期間巾料前述複數感測放 /之=貝料寫入-人數,於該寫入次數達到特定值時,使 第一信號活化; 根據則述第一#號之活化,前述轉移閘成為開啟狀 ’其中前述計數器係藉由 計算控制讀出動作及寫入 ’來計算對於前述複數感 3.如請求項2之半導體記憶裝置 從前述串列存取期間之開始, 動作之時脈(clock)信號之脈波 123512.doc 200828308 測放大器之資料寫入次數。 4·如請求項2之半導體記憶裝置, ^ ^ 其中前述計數芎句人· 加法電路,其係計算前述寫入次數;及 包3 . 閘電路,其係設定前述特定值、 受前述寫人次數,於該寫人 /從前述加法電路接 述第-信號活化。 ―人數相前述特定值時使前 5.如=項4之半導體記憶裝置,其中前述閉電路包含.
    電路’其係具有經由電阻連接於電源且你由 熔絲接地之節,點,並藉由熔斷 ’、,二 之it、 不垃斷該禝數熔絲電路 刚述溶、、、糸來決定前述特定值;及 閘群,其係運算前述寫入次 々# 人默及則述稷數熔絲電路之 各卽點之信號,並輸出前述第一信號。 6·如請求項1之半導體記憶裝置,々 生一一 1 其中則述轉移閘係根據 表示資料寫入動作或資料讀出私 了叶貝出動作結束之第二信號而成 為開啟狀態。 r欠項1之半導體記憶裝置,其中前述感測放大器之 各個包含閂鎖電路,該閂鎖電路包含·· 感、i節點對,其係與連接於前述感測放大器之成對之 位元線相對應而設置; 第門鎖部’其係連接於前述感測節點對之間,於該 感測節點對問鎖資料之閂鎖電路,且於前述感測放大器 严-1鎖貝料時’以及從前述感測放大器對於前述記憶胞寫 入資料時動作;及 第一岡鎖部,其係於前述感測放大器閂鎖資料時不動 123512.doc 200828308 作’攸θ述感測放大器對於前述記憶胞寫入資料時動 作。 8·如凊求項2之半導體記憶裝置,其中前述感測放大器之 各個包含閂鎖電路,該閂鎖電路包含: 感測即點對’其係與連接於前述感測放大器之成對之 位元線相對應而設置; 第一閃鎖部,其係連接於前述感測節點對之間,於該 感測節點對閃鎖資料之閂鎖電路,且於前述感測放大器 閃鎖貝料時’以及從前述感測放大器對於前述記憶胞寫 入資料時動作;及 第一閃鎖部’其係於前述感測放大器閂鎖資料時不動 作’彳文Α述感測放大器對於前述記憶胞寫入資料時動 作。 9·如喷求項3之半導體記憶裝置,其中前述感測放大器之 各個包含閂鎖電路,該閂鎖電路包含·· & >則_點對’其係與連接於前述感測放大器之成對之 位元線相對應而設置; $ —卩-1鎖部’其係連接於前述感測節點對之間,於該 感測即點對閂鎖資料之閂鎖電路,且於前述感測放大器 閃鎖資料時,以及從前述感測放大器對於前述記憶胞寫 入賓料時動作;及 第二閃鎖部,其係於前述感測放大器閂鎖資料時不動 作’從前述感測放大器對於前述記憶胞寫入資料時動 作0 123512.doc 200828308 10 ·如請求jg。 、之半導體記憶裝置,其中前述感測放大器之 各個包令_ β & 、 i鎖電路,該閂鎖電路包含: =、1點對,其係與連接於前述感測放大器之成對之 位元線相對應而設置; 第一 声 、 ’鎖部,其係連接於前述感測節點對之間,於該 感測即點對閂鎖資料之閂鎖電路,且於前述感測放大器 閃鎖資料時,以及從前述感測放大器對於前述記憶胞寫 入資料時動作;及
    第一閃鎖部,其係於前述感測放大器閂鎖資料時不動 作’彳足前述感測放大器對於前述記憶胞寫入資料時動 作0 11·如請求項1之半導體記憶裝置,其中從前述感測放大器 對於前述記憶胞寫入資料時供給至前述記憶胞之電流係 由外部之基準電位所供給。 12. 如請求項〗之半導體記憶裝置,其中前述感測放大器係 以互為相反極性之資料之一方為基準,來檢測另一方之 資料。 13. 如請求項1之半導體記憶裝置,其中前述感測放大器係 每一位元線對,交互配置於記憶胞陣列之左右。 123512.doc
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007207358A (ja) * 2006-02-02 2007-08-16 Toshiba Corp 半導体記憶装置
KR20090113560A (ko) * 2008-04-28 2009-11-02 삼성전자주식회사 안정적인 동작을 보장하는 반도체 장치
KR101507122B1 (ko) * 2008-04-29 2015-04-01 삼성전자주식회사 반도체 메모리 장치 및 그것의 액세스 방법
US8369177B2 (en) * 2010-03-05 2013-02-05 Micron Technology, Inc. Techniques for reading from and/or writing to a semiconductor memory device
US8411524B2 (en) 2010-05-06 2013-04-02 Micron Technology, Inc. Techniques for refreshing a semiconductor memory device
JP6097775B2 (ja) * 2015-02-16 2017-03-15 力晶科技股▲ふん▼有限公司 半導体記憶装置及び半導体集積回路装置
JP2018129109A (ja) 2017-02-10 2018-08-16 東芝メモリ株式会社 磁気メモリ装置
US10311919B2 (en) * 2017-07-27 2019-06-04 Micron Technology, Inc. Apparatuses and methods for calibrating sense amplifiers in a semiconductor memory

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5241503A (en) * 1991-02-25 1993-08-31 Motorola, Inc. Dynamic random access memory with improved page-mode performance and method therefor having isolator between memory cells and sense amplifiers
JP2664810B2 (ja) * 1991-03-07 1997-10-22 株式会社東芝 メモリセルアレイ分割型半導体記憶装置
JP3759645B2 (ja) * 1995-12-25 2006-03-29 三菱電機株式会社 同期型半導体記憶装置
US5748547A (en) * 1996-05-24 1998-05-05 Shau; Jeng-Jye High performance semiconductor memory devices having multiple dimension bit lines
JP3930074B2 (ja) * 1996-09-30 2007-06-13 株式会社ルネサステクノロジ 半導体集積回路及びデータ処理システム
JPH10125067A (ja) * 1996-10-21 1998-05-15 Hitachi Ltd ダイナミック型ramと情報処理システム
KR100274591B1 (ko) * 1997-07-29 2001-01-15 윤종용 동기형 버스트 매스크 롬 및 그것의 데이터 독출 방법
JP3386705B2 (ja) * 1997-12-25 2003-03-17 株式会社東芝 半導体記憶装置およびそのバーストアドレスカウンタ
JP3878573B2 (ja) * 2003-04-16 2007-02-07 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置
JP2005190626A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Sharp Corp 半導体読み出し回路
JP4729861B2 (ja) * 2004-04-02 2011-07-20 株式会社日立製作所 半導体記憶装置
JP4149961B2 (ja) 2004-05-20 2008-09-17 株式会社東芝 半導体記憶装置

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