TW200818376A - Substrate detecting mechanism and substrate storing case - Google Patents

Description

200818376 九、發明說明 【發明所屬之技術領域】 本發明是關於在以支撐構件支撐用以製造以液晶顯示 裝置（LCD )爲代表之平面顯示器（FPD )之玻璃基板等 之基板的狀態下所收容之容器中，檢測出其中有無基板之 基板檢測機構及具備有該基板檢測機構之基板收容容器。 【先前技術】 在製造以液晶顯示器（LCD)爲代表之平面顯示器（ FPD )的過程中，使用多數具備有在真空下對基板施予蝕 刻、灰化、成_膜等之特定處理之真空處理裝-置，所謂的多 腔室型之真空處理系統。 如此之真空處理系統，具有設置有搬運基板之搬運室 ，和設置在該周圍之多數製程腔室，藉由搬運室內之搬運 手臂，被處理基板被搬入至各製程腔室內，並且處理完之 基板自各真空處理裝置之製程腔室被搬出。然後，搬運室 連接有負載室，於大氣側之基板搬入搬出時，能使製程腔 室及搬運室維持真空狀態，處理多數基板。如此之多腔室 型之處理系統例如揭示於專利文獻1。 於如此之處理系統中，搬運室中，確認於在搬運手臂 上正常支撐玻璃基板之後，求出玻璃基板搬運至製程腔室 ，因此安裝有檢測在搬運室有無玻璃基板。作爲該種基板 檢測技術是如專利文獻2或專利文獻3所示般，在基板之 上方設置光感測器，接收自光感測器射出光束時之反射光 200818376 而檢測出有無基板。 〔專利文獻〕日本特開平11—340208 〔專利文獻〕日本特開平7-183361號公報 〔專利文獻3〕日本特開平10_64971號公報 【發明內容】 〔發明所欲解決之課題〕 • 於將如此技術適用於搬運室之„時，雖然在搬運室之天 井部安裝光檢測器，但是通常爲了維修搬運室之天井部爲 開啓之構造’難以執行安定之檢測，有光檢測器之位置精 度低之虞。 另外，雖然在搬運室中，在對應於玻璃基板之四角落 的位置設置光檢測器，與有無玻璃基板之同時檢測出玻璃 基板有無欠缺或支撐狀態，但是被處理之基板之厚度並非 一定，因隨著基板厚度之不同，在搬運室內支撐玻璃基板 ® 之時的基板之彎曲不同，故自光檢測器所射出之光由玻璃 基板反射之時，該反射光之方向變化，產生無法正常檢測 _ 之情形。 本發明是鑑於如此之情事所創作出者，其目的爲提供 可以以安定高精度檢測出有無被支撐構件所支撐之基板的 基板檢測機構。再者，其目的爲提供即使被支撐構件所支 撐之基板之彎曲量變化，亦可以確實容易檢測出有無基板 之基板檢測機構。並且，其目的爲提供具備有如此基板檢 測機構之基板收容容器。 -5 - 200818376 〔用以解決課題之手段〕 爲了解決上述課題，本發明之第1觀點是提供一種基 板檢測機構，檢測出在以支撐構件支撐基板之狀態下所收 容之容器中有無-基板，其特徵爲：具有被安裝於上述容器 之底部的光檢測器，藉由接收自該光檢測器所射出之光的 反射光，檢測出有無基板。 # 本發明之第2觀點是提供一種基板檢測機構，檢測出 在以支撐構件支撐基板之狀態下所收容之容器中有無基板 ，其特徵爲：具備：將光射出至容器內，接收反射光之光 感測器，和使上述光感測器之角度予以變化之致動器，因 應被上述支撐構件所支撐之基板的彎曲量，藉由上述致動 器使上述光感測器之角度變化。 本發明之第3觀點是提供一種基板檢測機構，檢測出 在以支撐構件支撐基板之狀態下所收容之容器中有無基板 • ，其特徵爲：具備：將光射出至容器內，接收反射光之光 感測器；使上述光感測器之角度變化的致動器；和因應被 上述支撐構件所支撐之基板的彎曲量而控制由上述致動器 所產生之上述光感測器之角度的控制部。 ' 在上述第3觀點中，上述控制部可以事先記憶有基板 厚度和彎曲量之關係，根據上述關係控制成上述光感測器 成爲對應於被上述支撐構件所支撐之基板的角度。 在上述第2、第3觀點中，上述光檢測器可以被設置 於上述容器之底部。 -6- 200818376 在上述第1至3之觀點中，基板可以構成矩形狀，上 述光感測器設置在對應於上述基板之四角落的位置。再者 ，上述支撐構件即使爲基板搬運用之基板支撐手臂亦可。 本發明之第4觀點是提供一種基板收容容器，具備： 收容基板之容器本體；在上述容器本體內支撐基板之支撐 構件；和檢測出有無被上述支撐構件所支撐支基板的基板 檢測機構，其特徵爲：上述基板檢測機構具有被安裝於上 Φ 述容器之底部的光檢測器，藉—由-接―言自該光檢測器所射出 之光的反射光，檢測出有無基板。 本發明之第5觀點是提供一種基板收容容器，具備： 收容基板之容器本體；在上述容器本體內支撐基板之支撐 構件；和檢測出有無被上述支撐構件所支撐支基板的基板 檢測機構，其特徵爲：上述基板檢測機構具備：將光射出 置容器內，接收反射光之光感測器，和使上述光感測器之 角度予以變化之致動器，因應被上述支撐構件所支撐之基 ^ 板的彎曲量，藉由上述致動器使上述光感測器之角度變化 〇 , 本發明之第6觀點是提供一種基板收容容器，具備： 收容基板之容器本體；在上述容器本體內支撐基板之支撐 構件；和檢測出有無被上述支撐構件所支撐支基板的基板 檢測機構，其特徵爲：上述基板檢測機構具備：將光射出 至容器內，接收反射光之光感測器；使上述光感測器之角 度變化的致動器；和因應被上述支撐構件所支撐之基板的 彎曲量而控制由上述致動器所產生之上述光感測器之角度 200818376 的控制部。 上述第6觀點中，上述控制部是可以事先記憶有基板 厚度和彎曲量之關係，根據上述關係控制成上述光感測器 成爲對應於被上述支撐構件所支撐之基板的角度。 上述第5、6觀點中，上述光檢測器可以設爲被設置 於上述容器之底部的構成。 在上述第4至6之觀點中，基板可以構成矩形狀，上 述光感~測器設置在對應於上述基板之四角落的位置。再者 ，可以又具備有：被設置於上述容器本體，連接有對基板 施予特定處理之處理容器的連接部；和被設置在上述容器 本體內，將基板搬運至上述處理容器之搬運機構，上述支 撐構件爲上述搬運機構之基板支撐手臂。 〔發明效果〕 若藉由本發明，因在以支撐構件支撐基板之狀態下所 收容之容器之底部安裝光檢測器而構成基板檢測機構，故 即使於灰容器之_上部設置蓋體之時，不需考盧光檢測器隨 著蓋體之開關而產生位置偏移等，可以執行安定檢測。 再者，因具備有將光射出至容器內，接收反射光之光 感測器，和使上述光檢測器之角度變化之致動器，因應被 支撐構件支撐之基板的彎曲量，藉由上述致動器使上述光 檢測器之角度予以變化，故即使處理彎曲不同之基板時， 由於因應該彎曲量之變化藉由以致動器變更光檢測器之角 度的簡易操作，可以接收來自基板之反射光，龙可以確實 200818376 並且容易檢測有無基板。 【實施方式】 〔用以發明之最佳形態〕 以下，一面參照附件圖面，一面針對本發明之最佳形 態予以說明。在此，以爲本發明之基板處理裝置之一實施 形態，搭載有對FPD用之玻璃基板G執行電漿蝕刻之電 漿蝕刻裝置的多腔室型之電漿蝕刻系統爲例予以說明。在 此，FPD是表示液晶顯示器（LCD )、電激發光（Electro Luminescence ; EL)顯示器、電漿顯示器面板（PDP)等 〇 第1圖是槪略性表示多腔室型之電漿鈾刻系統之斜視 圖，第2圖爲槪略性表示該內部之水平剖面圖。 該電漿蝕刻系統1在該中央部連貫設置有搬運室2 〇 和負載鎖定室3 0。在搬運室2 0之周圍連接有執行電漿敏 刻之3個處理室10。在搬運室20和負載鎖定室30之間、 搬_運室2 0和各處理室1 0之_間_，及連趾負載鎖定室3 0和 外側之大氣環境之開口部，各插入有構成以氣密方式密封 該些之間並能夠開關之閘閥22。 在負載鎖定室_ 3 0之外側，設置有兩個匣盒指示器4 1 ，在該上載置有各構成矩形狀之基板G之玻璃基板G之 厘盒4 〇。該些匣盒4 0是該一方可以收容未處理基板’另 一方可以收容處理完之基板。該些匣盒40成爲能夠藉由 升降機構40升降。 -9 - 200818376 在該些兩個匣盒40之間，於支撐台44上設置有搬運 機構43，該搬運機構43具備有被設置成上下兩段之摘取 器45、46，以及支撐成能與該些一體性進出退避及旋轉之 基座47。 搬運室20是與處理室10相同周樣保持於特定之減壓 環境，其中具有所設置之搬運裝置50(參照第2圖）。然 後，藉由該搬運裝置50,在負載鎖定室30及3個處理室 1 〇之間搬運玻璃基板G。針對搬運裝置50於後說明。 負載鎖定室30是與執行電漿蝕刻之各處理室1〇及搬 運室20相同能夠保持特定減壓環境_。再者，負載鎖定室 30爲用以在大氣肩境下之匣盒40和減壓贵境之處理室10 之間執行玻璃基板G之接收，在重複大氣環境和減壓環境 之關係上，極力將該內容積構成小。並且，負載鎖定室3 0 是上下兩段設置基板收容部3 1 (在第2圖中僅圖式上段） ，在各基板收容部31內設置有執行用以支撐玻璃基板g 之緩衝器和玻璃基板G之定位的定位器3 3。 如第2圖所示般，電__漿蝕刻系統_ 1之_各構成部爲藉由 爲具備有微處理器之製程控制器60而被控制之構成。在 該製程控制器60連接有工程管理者用以管理電漿蝕刻系 統1之指令之輸入操作等之鍵盤，或由將電漿鈾刻系統1 之動作狀況予以可視化而顯示之顯示器等所構成之使用者 介面6 1。 再者，製程控制器60連接有用以製程控制器60之控 制實現在電漿餽刻系統1所實行之各種處理之控制程式（ -10- 200818376 軟體）或儲存記錄處理條件等之處理程式之記憶部62。然 後，因應所需，以來自使用者介面61之指示自記憶部叫 出任意處理程式而使製程控制器60實行，在製程控制器 60之控制下，執行電漿蝕刻系統1中之所欲處理。上述控 制程式或處理條件資料等之處理程式可以利用能夠電腦讀 取之記憶媒體，例如利用儲存於CD-ROM、硬碟、軟碟、 快閃記憶體等之狀態者。 接著，針對搬運室2〇予以詳細說明。第圖爲搬運 室20之垂直剖面圖，第4圖爲該水平剖面圖。該搬運室 20具有搬運室本體102。該搬運室本體102被成形由表面 被耐酸鋁處理（陽極氧化處理）之鋁所構成之有底角筒形 狀，並且上部開口。搬運是本體1 02之上部之開口藉由蓋 體103被關閉，依此，搬運室本體102內部成爲密閉空間 。蓋體103於搬運室本體102內之搬運裝置50等之維修 時被打開。蓋體103設置有用以監視搬運室本體102之內 部狀況之多數窗部104。 在搬_運_皇本體1 02之4個側皇各設_置有3個處理室10 和能夠連通於負載鎖定室3 0之開口部1 2 1，該開口部1 2 1 是藉由上述閘閥22能夠開關。 再者，在搬運室本體102之底壁102a，於被設置在搬 運室本體102內之上述搬運裝置50在於主位置時，於對 應於被搬運裝置50保持之玻璃基板G之四角落的位置， 設置有4個窗部1 05。在窗部1 05嵌入有石英等之透光性 構件105a，在該透光性構件l〇5a之外側部份，藉由托架 -11 - 200818376 106及安裝構件107光檢測器被安裝成角度調節自如’自 光檢測器108朝向玻璃基板G之角落部射出光。然後’於 搬運裝置5 10在正常狀態下支撐玻璃基板G之時，自4個 光檢測器1 08之發光部所射出之光藉由玻璃基板反射，藉 由受光部檢測出該反射光。因此，判斷出於4個光檢測器 1 08檢測出反射光時，玻璃基板G在正常狀態下被支撐。 相反，爲於至少1個光檢測器1 〇8不檢測出反射光時，於 玻璃基板G不芋在時，在1Γ常狀態下不被支撐時，及有欠 缺玻璃基板G之時中之任一者。並且，在蓋體103之背面 側，設置有用以使來自光檢測器108之光予以亂反射之反 射板1 2 5，於於玻璃基板G不存在於搬運室本體1 02內之 時等，來自光檢測器108之光自基板存在預定位置又前進 時，極力減少被射入至受光部之反射光。 參照第5圖之放大圖說明光檢測器1 08之安裝狀態。 安裝構件107爲彈簧材，具有被固定於托架106之底部的 固定器107a，和自固定部107a彎曲至上方，在前端部安 裝光_檢測器108之_安_裝_部107b。在窗部1 05 8之_托_架106 和相反側部份設置有致動器1 09，自致動器1 09延伸之變 位棒1 10接觸於光檢測器108。然後，記由致動器109使 變位棒110突出，使光檢測器108變位，依此光檢測器 1〇8之角度變化。再者，當藉由致動器109使變位棒110 退入時，光檢測器108藉由由彈簧材所構成之安裝構件 1 07之彈簧例追隨著變位棒而變位。依此，可以配合玻璃 基板G之彎曲而使光檢測器1 08之角度變化。並且，光檢 -12- 200818376 測器108之角度調整因必須微細調整，故當作致動器109 則以壓電致動器爲佳。當然亦可適用使用汽缸機構或馬達 者。 藉由致動器1 09之光檢測器1 08之控制如第3圖所示 般，藉由控制部130執行。控制部130是連接於製程控制 器60，藉由製程控制器60之指令，執行光檢測器108之 角度控制。此時，於玻璃基板G之大小爲相同時，因彎曲 量由於玻璃基板G之厚度幾乎嘗由一種含義性來決定，故 事先使玻璃基板G之厚度和彎曲量之關係記憶於記憶部 1 3 1，自記憶於記憶部1 3 1之資訊，選擇對應於實際支撐 之玻璃基板&之厚度的彎曲量，根據該資訊自動性控制光 檢測器1〇8之角度。 再者，雖然若干控制系統爲複雜，但是因應玻璃基板 G之彎曲量亦可自動調諧光檢測器1 08之角度。 搬運裝置50是被安裝在設置在搬運室本體102之下 方的無圖式之旋轉機構之軸5 1，具有被設置成可旋轉之基 座構件52、可對基座構作52直線性滑動之滑動構件53、 和設置成能對滑動構件53在與滑動構件53之滑動方向相 同方向滑動之基板支撐手臂54。即是，搬運裝置50具有 直動手臂機構。滑動構件53對基座構件52之滑動是藉由 滑動機構56而執行，滑動構件對基板支撐手臂54之滑動 是藉由滑動機構57而執行。滑動機構56具有沿著滑動構 件53之長邊方向而設置之導軌56a，和被設置在基座構件 52，能夠嵌合於滑動於導軌56a之導軌構件56b。再者， -13- 200818376 滑動機構57具有沿著滑動構件53之長邊方向而設置之導 軌57a，和安裝於基板支撐手臂54，嵌合成能夠滑動於導 軌57a之引導構件57b。然後，滑動機構56、57是藉由無 圖式之驅動馬達和皮帶機構等，使滑動構件5 3及基板支 撐手臂5 4滑動。 接著，針對如此構成之電漿飩刻系統1中之處理動作 予以說明。首先，使搬運機構43之兩個摘取器45、46中 之一者進退驅動’自收谷有未處理基板之一方的匣盒將玻 璃基板G搬入致負載鎖定室30。 於摘取器45、46退避後，醞閉負載鎖定室3 0之大氣 側之閘閥22。之後，排氣負載鎖定室3 0內，使內部減壓 致特定真空度。於完成抽真空後，藉由定位器33推壓基 板，執行玻璃基板G之定位。 於如此定位之後，打開搬運室20和負載室3 0之間之 閘閥2 2，接收藉由搬運室本體1 〇 2內之搬運裝置5 0被收 容至負載鎖定室30之玻璃基板G。具體而言，搬運裝置 50之基板支撐手臂54成爲支撐玻璃基板G之狀態。 然後，搬運裝置50是在搬運室本體102內成爲第2 圖所示之主位置，在該狀態下，藉由被設置在搬運室本體 102之底壁之光檢測器1〇8，檢測玻璃基板是否存在於基 板支撐手臂54上，及玻璃基板G之位置偏移或是否有無 欠缺。 在搬運室本體1 〇2中，執行如此之玻璃基板G之檢測 ，在玻璃基板G爲正常之狀態下，若檢測出貧支撐手臂 -14- 200818376 54支撐之情形，搬運機構50則將玻璃基板G搬運至任一 處理室1 〇，其中執行玻璃基板G之蝕刻處理。另外，於 玻璃基板G之狀態有異常時，停止處理。 於飩刻處理後，藉由搬運機構50之基板支撐手臂54 ，接收蝕刻處理後之玻璃基板G，搬運至負載鎖定室30。 在處理完之玻璃基板G被搬入至負載鎖定室30之狀態下 ，使負載鎖定室30回至大氣狀態，藉由摘取器45、46中 之任一者將玻璃基板從負載鎖定室30搬運至玻璃基板。 然後，僅對匣盒40內之晶圓數量重複以上之順序，完成 處理。 在以上之處理中，對於檢測在搬邏室20中有無基板 G，是如上述般，若藉由以往之技術，雖然在搬運室20之 天井部安裝光檢測器，但是搬運室20具有以蓋體103開 關腔室102之上部開口之構造，不得不在開關之蓋體103 安裝光檢測器。因此，難以執行安定之檢測，具有光檢測 器之位置精度變低之虞。 對此，本實施形態中，因在搬運本體102之底部設置 有光檢測器1 08，故隨著蓋體之開關產生光檢測器之位置 偏移，可以執行安定之檢測。 另外，因玻璃基板G —邊爲lm以上之大型，故被搬 運裝置50之基板支撐手臂54所支撐之狀態是如第6圖所 示般，產生彎曲。然後，該彎曲量於玻璃基板G之大小相 同時藉由厚度產生變化，當厚度變薄時，彎曲變大，從第 / 6圖之位置移行至B之位置。以往因光檢測器固定被設置 -15- 200818376 ，故於玻璃基板G位於A之位置時’以接收到反射光之 方式，定位光檢測器時，對位於B位置之玻璃基板不接收 反射光，產生無法檢測玻璃基板G之事態。然後，當對應 於如此之事態時，必須依處理之玻璃基板之厚度不同調整 光檢測器之安裝位置或角度，極爲繁雜。 對此，本發明即使於處理彎曲不同之玻璃基板G時， 藉由因應該彎曲之變化藉由致動器1〇9變更光檢測器108 • 之角度之簡易操作，可以接收來自玻璃基板G之反射光， 故可以確實並且檢測有無玻璃基板G等。 此時，上述般之彎曲量」因於坡璃基板G之大小相同 時，由於玻璃基板G之厚度幾乎僅由一種含義1生來決定， 故事先使玻璃基板G之厚度和彎曲量之關係記憶於記憶部 1 3 1，自記憶於記憶部1 3 1之資訊’選擇對應於實際支撐 之玻璃基板G之厚度的彎曲量，根據該資訊自動性控制光 檢測器108之角度。 0 例如，第7圖~所不般，於將基板支撐手臂（間距 710mm)插入—至1 3 0 0 x 1 5 0 0 ( mm )之玻璃基板之短―邊—側時 ，玻璃基板端部之彎曲量是厚度〇.7mm爲8mm左右，厚 度0.5mm則爲16mm，可以正常接受反射光之光檢測器之 角度差爲2°。因此，對每使用如此關係之基板之厚度予以 表格化事先記億於記憶部1 31，依此能夠對應於處理任何 基板之時。再者，玻璃基板之彎曲量因也藉由玻璃基板之 種類變化，故因應玻璃基板之種類之彎曲量之關係也事先 記憶於記憶部1 3 1，能夠對應於處理不同種類之玻璃基板 -16- 200818376 之情形。 並且，本發明並不限定於上述實施形態，亦可作各種 變形。例如上述實施形態中，雖然表示檢測出被搬運室20 之基板支撐手臂54上所支撐之基板的例，但是若爲在基 板產生彎曲之態樣下支撐之時，則並不限定於此，例如即 使爲單支撐基板之支撐台亦可。因此，即使在負載鎖定室 30中，若基板支撐形態爲產生彎曲者，亦可適用。再者， 本實施形態中雖然表示電漿上述蝕刻系統適用本發明之時 ，但是若爲收容基板而支撐之容器時亦可以適用。並且， 上述實施形態中，雖然舉出對應於基板-之四角落而設_置4 個光檢測器108之例，但是若爲1個以上即可。 再者，上述實施形態中，雖然藉由控制部1 3 0，因應 基板之彎曲自動性使光檢測器之角度變化，但是並不限定 於此。 並且，上述實施形態中，雖然使用FPD用玻璃基板之 例當作基板，但是並不限定於此若爲彎曲成爲問題之基板 亦可適用。 〔產業上之利用可行性〕 本發明是針對具有彎曲問題之大型基板，在容器內產 生彎胁之形態下支撐基板，檢測有無該基板。 【圖式簡單說明】 第1圖是槪略性表示具備有本發明之一實施形態的搬 -17- 200818376 運室之多腔室型之電漿蝕刻系統之斜視圖。 第2圖爲槪略性表示第1圖之電漿蝕刻系統之內部的 水平剖面圖。 第3圖爲表示本發明之一實施形態所涉及之搬運室之 垂直面圖。 第4圖爲表示本發明之一實施形態所示搬運室之水平 剖面圖。 # 第5圖爲表示搬運室中之光檢測之安裝狀態的放大葡 〇 第6圖爲表示玻璃基板之彎曲大小不同所導致自光撿 測器所射出之光之反射方向偏移的圖式。 第7圖爲使用本發明實際控制光檢測器之角度之例的 模式圖。 【主要元件符號說明】 • 1 :電漿鈾刻 1 〇 :處理室 . 20 :搬運室 22 :閘閥 3 0 :負載鎖定室· 50 :搬運裝置 54:基板支撐手臂（支撐構件） 60 :製程控制器 102 :搬運室本體 -18- 200818376

102a :底壁 108 :光檢測器 1 0 9 :致動器 1 3 0 :控制部 131 :記憶部 G :玻璃基板 -19-

Claims (1)

1. 200818376 十、申請專利範圍 1. 一種基板檢測機構，檢測出在以支撐構件支撐基 板之狀態下所收容之容器中有無基板，其特徵爲： 具有被安裝於上述容器之底部的光檢測器，藉由接收 自該光檢測器所射出之光的反射光，檢測出有無基板。 2· —種基板檢測機構，檢測出在以支撐構件支撐基 板之狀態下所收容之容器中有無基板，其特徵爲： # 具備： 將光射出至容器內，接收反射光之光感測器，和 使上述光感測器之角度予以變化之致動器， 因應被上述支撐構件所支撐之基板的彎曲量，藉-由上 述致動器使上述光感測器之角度變化。 3 . —種基板檢測機構，檢測出在以支撐構件支撐基 板之狀態下所收容之容器中有無基板，其特徵爲： 具備： ^ 將光射出至容器內，接收反射光之光感測器； 使上述光感測器之角度變化的致動器；和 . 因應被上述支撐構件所支撐之基板的彎曲量而控制由 上述致動器所產生之上述光感測器之角度的控制部。 4. 如申請專利範圍第3項所記載之基板檢測機構’ 其中，上述控制部事先記憶有基板厚度和彎曲量之關係’ 根據上述關係控制成上述光感測器成爲對應於被上述支撐 構件所支撐之基板的角度。 5. 如申請專利範圍第2至4項中之任一項所記載之 -20- 200818376 基板檢測機構，其中，上述光檢測器是被設置於上述容器 之底部。 6·如申請專利範圍第1至5項中之任一項所記載之 基板檢測機構，其中，基板構成矩形狀，上述光感測器設 置在對應於上述基板之四角落的位置。 7.如申請專利範圍第1至6項中之任一項所記載之 基板檢測機構，其中，上述支撐構件爲基板搬運用之基板 支撐手臂。 8· —種基板收容容器，具備： 收容基板之容器本體； 在上述容器本體內支撐基板之支-撐構件；和 檢測出有無被上述支撐構件所支撐之基板的基板檢測 機構，其特徵爲： 上述基板檢測機構具有被安裝於上述容器之底部的光 檢測器，藉由接收自該光檢測器所射出之光的反射光，檢 測出有無基板。 9. 一種基板收容容器，具備： 收容基板之容器本體； 在上述容器本體內支撐基板之支撐構件；和 檢測出有無被上述支撐構件所支撐之基板的基板檢測 機構，其特徵爲： 上述基板檢測機構具備： 將光射出至容器內，接收反射光之光感測器，和 使上述光感測器之角度予以變化之致動器， -21 - 200818376 因應被上述支撐構件所支撐之基板的彎曲量，藉由上 述致動器使上述光感測器之角度變化。 10. —種基板收容容器，具備： 收容基板之容器本體； 在上述容器本體內支撐基板之支撐構件；和 檢測出有無被上述支撐構件所支撐支基板的基板檢測 機構，其特徵爲： • 上述基板檢測機構具備： 將光射出至容器內，接收反射光之光感測器； 使上述光感測器之角度變化的致軌器；和 因應被上述支撐-構件所支撐之基板的彎曲量而控制由 上述致動器所產生之上述光感測器之角度的控制部。 11. 如申請專利範圍第1 〇項所記載之基板收容容器 ，其中，上述控制部事先記憶有基板厚度和彎曲量之關係 ，根據上述關係控制成上述光感測器成爲對應於被上述支 β 撐構件所支撐之基板的角度。 12·如申請專利:龜凰第9至_ 11項中之任一項所J己載 之基板收容容器，其中，上述光檢測器是被設置於上述容 器之底部。 1 3 ·如申請專利範圍第8至1 1項中之任一項所記載 之基板收容容器，其中，基板構成矩形狀，上述光感測器 設置在對應於上述基板之四角落的位置。 14.如申請專利範圍第8至1 3項中之任一項所記載 之基板收容容器，其中，又具備有：被設置於上述容器本 -22- 200818376 體，連接有對基板施予特定處理之處理容器的連接部；和 被設置在上述容器本體內，將基板搬運至上述處理容器之 搬運機構，上述支撐構件爲上述搬運機構之基板支撐手臂

   -23-