JPH10321706A - キャリア載置機構 - Google Patents

キャリア載置機構

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JPH10321706A
JPH10321706A JP14577297A JP14577297A JPH10321706A JP H10321706 A JPH10321706 A JP H10321706A JP 14577297 A JP14577297 A JP 14577297A JP 14577297 A JP14577297 A JP 14577297A JP H10321706 A JPH10321706 A JP H10321706A
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JP
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carrier
wafer
light
mounting
holder
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JP14577297A
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Inventor
Hiroaki Saeki
弘明 佐伯
Teruo Asakawa
輝雄 浅川
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 ウエハ検出装置の設置スペースの削減を図っ
てキャリア搬送の邪魔にならず、しかもキャリアの光学
的精度の出来具合に左右されることなくウエハの有無を
高精度で確実に検出することができるキャリア載置機構
を提供すること。 【解決手段】 キャリア載置機構10は、キャリア載置
台11上のキャリア本体21内の各ウエハを検出するウ
エハ検出手段14をキャリア載置台11に設け、ウエハ
検出手段14は、ウエハを上下から挟む位置にそれぞれ
配置された発光素子14A及び受光素子14Bと、これ
ら両素子14A、14Bを保持する保持体14Cと、こ
の保持体14Cを体ウエハを挟む位置とキャリア本体2
1外との間で駆動させるエアシリンダ14Eとを有する
ことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工程で
用いられるキャリア載置機構に関し、更に詳しくは半導
体ウエハ(以下、単に「ウエハ」と称す。)の各種処理
装置に付帯するキャリア載置機構に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体製造工程では各半導体製造装置や
検査装置間で半導体ウエハを搬送する場合にはキャリア
が用いられる。キャリア内には例えば25枚あるいは1
3枚ずつ収納することができ、例えばウエハをロット単
位でキャリア内に収納し、ウエハに各種の処理を施し、
検査するようにしている。また、各種の処理に際し、例
えばキャリアを半導体製造装置のキャリア載置機構に載
置し、キャリア内のウエハマップを作成し、このウエハ
マップに即して各種の処理を施し、処理データを記録す
るようにしている。このウエハマップを作成するに当た
り、あるいは全てのウエハがキャリアから取り出された
か否かを調べるに当たり、キャリア内の各スロットにウ
エハが存在するか否かを検出する必要がある。
【0003】そのため、従来からキャリア載置機構には
例えば発光素子及び受光素子を用いて光学的にウエハを
検出するウエハ検出装置が装備されている。このような
ウエハ検出装置の一機種は、例えばキャリアの上下ある
いは左右に互いに対峙させて配置された発光素子及び受
光素子を有し、両素子間にキャリアを設置してキャリア
内のウエハを検出するタイプのものがある(以下、「対
峙型ウエハ検出装置」と称す)。この対峙型の場合に
は、発光素子から相対する受光素子に向けて光線を照射
し、受光素子における照射光線の検出の有無でキャリア
内の各スロットにおけるウエハの有無を検出している。
また、他の機種は、例えば同一側に配置された発光素子
及び受光素子と、これら両者と対向する位置に配置され
た反射鏡とを備えたものがある(以下、「反射型ウエハ
検出装置」と称す)。この反射型の場合には、発光素子
から反射鏡に向けて光線を照射し、受光素子における反
射鏡からの反射光線の検出の有無でキャリア内のウエハ
の有無を検出している。
【0004】また、現在のところ、ウエハは6インチあ
るいは8インチが主流であるが、いずれ一気に12イン
チ(300mm)のウエハに移行する傾向にある。これ
に伴って半導体製造装置は12インチウエハ対応したも
のが開発されつつある。この場合、単にウエハが大口径
化、大重量化するばかりではなく、ウエハに形成される
集積回路の線幅がサブクォータミクロン以下の超微細構
造になるため、各半導体製造工場ではクリーンルームの
超清浄化技術やウエハの自動搬送化技術、更には各半導
体製造装置や検査装置の省スペース化が益々重要になっ
て来る。このようにウエハが大口径化するに伴って半導
体製造の自動化が益々促進され、オペレータの介在する
場面が軽減されると、従来にもましてキャリア載置部上
のキャリア内のウエハ検出が益々重要になる。
【0005】そして、キャリア自体も従来のものをその
まま適用できなくなって来る。例えば、8インチのウエ
ハまでは各工程間でウエハを搬送する時にはウエハを立
てた状態でキャリアを搬送し、各工程の半導体製造装置
に対する搬出入を行う時にはウエハを水平にするのが一
般的であった。ところが、12インチ(300mm)の
ウエハの場合にはウエハを立てたまま搬送すると自重や
搬送時の振動等でウエハの下端部が損傷することがある
ため、ウエハを水平にした状態でキャリアを搬送し、各
工程の半導体製造装置に対する搬出入を行う時にはその
ままの水平状態で行うようになって来ている。現在のと
ころ、12インチ(300mm)ウエハ用のキャリアと
しては、例えば大きく分けてオープン方式のキャリア
と、キャリアをポッド内に収納して蓋をする密閉方式の
ポッド(例えば、ユニファイド・ポッド)が考えられて
いる。
【0006】いずれのキャリアを用いるにしても、ウエ
ハに伴ってキャリアが大型化すると、それに伴ってウエ
ハ単価が飛躍的に上がり、ウエハに対する処理を過誤な
く実施するためにも、キャリア載置機構におけるキャリ
ア内のウエハマップを正確に把握し、あるいはキャリア
内のウエハの有無を確実に検出する必要がある。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
キャリア載置機構の場合には、対峙型あるいは反射型ウ
エハ検出装置によってキャリア内のウエハを検出してい
るため、種々の課題があった。例えば対峙型ウエハ検出
装置を用いてキャリア内のウエハを検出する場合には、
発光素子及び受光素子がキャリアの搬送路あるいは設置
場所の上下あるいは左右において対峙して配置されてい
るため、キャリアを搬送する際にウエハ検出装置が邪魔
になることがあった。また、キャリアが光学的に高精度
に成形されている訳ではなく、発光素子からの光線はキ
ャリアを透過する際に光軸が歪む可能性があり、キャリ
アの大型化と相俟って発光素子からの照射光をキャリア
を挟んで配置された受光素子で精度良く受光できるとい
う保証はない。更に、発光素子及び受光素子を対峙して
配置するため、発光素子及び受光素子それぞれに固有の
スペースを割かざるを得ず、今後の省スペース化を勘案
すれば各素子に固有のスペースを割くことは好ましくな
い。他方、反射型ウエハ検出装置を用いてキャリア内の
ウエハを検出する場合には、反射鏡からの反射光かウエ
ハからの反射光かを識別することができず、ウエハの有
無を誤って検出する虞がある。
【0008】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、ウエハ検出装置の設置スペースの削減を図
ってキャリア搬送の邪魔にならず、しかもキャリアの光
学的精度の出来具合に左右されることなくウエハの有無
を高精度で確実に検出することができるキャリア載置機
構を提供することを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
のキャリア載置機構は、半導体ウエハに所定の処理を施
すために複数の半導体ウエハをキャリア単位で載置部に
載置するキャリア載置機構において、上記載置部上のキ
ャリア内の各半導体ウエハを検出するウエハ検出手段を
上記載置部に設け、上記ウエハ検出手段は、上記半導体
ウエハの検出時にその両面を挟む位置にそれぞれ配置さ
れた発光素子及び受光素子と、これら両素子を保持する
保持体と、この保持体を上記半導体ウエハを挟む位置と
上記キャリア外との間で駆動させる駆動機構とを有する
ことを特徴とするものである。
【0010】また、本発明の請求項2に記載のキャリア
載置機構は、半導体ウエハに所定の処理を施すために複
数の半導体ウエハをキャリア単位で載置部に載置するキ
ャリア載置機構において、上記載置部上のキャリア内の
各半導体ウエハを検出するウエハ検出手段を上記載置部
に設け、上記ウエハ検出手段は、上記半導体ウエハの検
出時にその周面を挟む位置にそれぞれ配置された発光素
子及び受光素子と、これら両素子を保持する保持体と、
この保持体を上記半導体ウエハを挟む位置と上記キャリ
ア外との間で駆動させる駆動機構とを有することを特徴
とするものである。
【0011】また、本発明の請求項3に記載のキャリア
載置機構は、半導体ウエハに所定の処理を施すために複
数の半導体ウエハをキャリア単位で載置部に載置するキ
ャリア載置機構において、上記載置部上のキャリア内の
各半導体ウエハを検出するウエハ検出手段を上記載置部
に設け、上記ウエハ検出手段は、上記半導体ウエハの検
出時にその周面と対向する位置にそれぞれ配置された発
光素子及び受光素子と、これら両素子を保持する保持体
と、この保持体を上記半導体ウエハの検出位置と上記キ
ャリア外との間で駆動させる駆動機構とを有することを
特徴とするものである。
【0012】また、本発明の請求項4に記載のキャリア
載置機構は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載
の発明において、上記保持体は上記各半導体ウエハに対
応する発光素子及び受光素子を有することを特徴とする
ものである。
【0013】また、本発明の請求項5に記載のキャリア
載置機構は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載
の発明において、上記駆動機構は上記発光素子及び受光
素子を上記各半導体ウエハ間で走査する走査機構を有す
ることを特徴とするものである。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、図1〜図5に示す実施形態
に基づいて本発明を説明する。本実施形態のキャリア載
置機構10は、例えば図1、図2に示すように、ウエハ
Wをキャリア20に収納した状態で載置し、半導体製造
装置30におけるウエハWの所定の処理に備えるように
構成されている。即ち、キャリア載置機構10は半導体
製造装置30のコントローラ(図示せず)の制御下で駆
動するようにしてある。また、キャリア20は、例えば
12インチ(300mm)のウエハを13枚あるいは2
5枚収納する、ポリカーボネート、PEEK(ポリエー
テルエーテルケトン)等の合成樹脂によって形成された
密閉式のポッドとして構成されている。このキャリア2
0は、例えば図1、図2に示すように、13枚のウエハ
Wをそれぞれ一定の間隔を空けて収納するキャリア本体
21と、このキャリア本体21のウエハ取出口に着脱可
能に装着された蓋22とを有している。また、キャリア
本体21の上壁21Aには被把持部23が取り付けら
れ、天井に配置されたキャリア搬送装置(図示せず)に
よって被把持部23を把持して各半導体製造装置間でキ
ャリア20を自動搬送するようにしてある。更に、この
キャリア20内には例えば窒素ガスが封入され、ウエハ
の自然酸化を極力防止すると共に内部をクリーンな環境
にしている。尚、キャリア本体21の側壁21Bの内面
には図2に示すように溝21Cが形成され、各溝21C
でウエハWを水平に支持するようにしてある。
【0015】また、図1に示すように半導体製造装置3
0のフロントパネル31にはキャリア20の蓋22が嵌
入する開口部32が形成され、この開口部32に対応さ
せて本実施形態のキャリア載置機構10が配設されてい
る。キャリア載置機構10の奥(図1では右側)にはウ
エハWの中継室(図示せず)が配置され、この中継室内
に配設されたウエハ搬送機構を介して蓋21が取り外さ
れた状態でキャリア本体21内の全ウエハWを一括して
中継室内へ移載するようにしてある。そして、ウエハW
はウエハ搬送機構によって保持された状態で所定の処理
を待機し、処理後のウエハWをウエハ搬送機構によって
保持するようにしてある。
【0016】次いで、本実施形態のキャリア載置機構1
0について説明する。このキャリア載置機構10は、図
1、図2に示すように、キャリア20を載置すると共に
フロントパネル31の開口部32に対して図1の矢印A
方向に往復移動するキャリア載置台11と、このキャリ
ア載置台11を往復移動可能に支持する基台12と、こ
の基台12の内側(フロントパネル31の内面側)に配
設されたオープナ13とを備えている。キャリア載置台
11の上面には図1に示すように位置決め突起11Aが
例えば4箇所に形成され、また、キャリア本体21の底
面にはこれらの位置決め突起11Aに対応させた位置決
め凹部21Dが形成されている。従って、位置決め凹部
21Bを位置決め突起11Aに合わせてキャリア10を
キャリア載置台11上に載置すると、キャリア20をキ
ャリア載置台11上で位置決めできるようになってい
る。また、オープナ13は、キャリア20の蓋22を吸
着、保持する蓋保持体13Aと、この蓋保持体13Aを
支持する支持体13Bと、この支持体13Bを昇降させ
るエアシリンダ13Cとを備えている。支持体13Bは
僅かに図1の矢印B方向に揺動しキャリア本体21から
傾斜するようにしてある。また、図示してないが保持体
13A内には蓋22のロック機構を操作するロック操作
機構が内蔵されている。
【0017】また、図1に示すように上記基台12の内
側にはキャリア本体21内に収納されたウエハWを検出
するウエハ検出装置14が配設され、このウエハ検出装
置14はオープナ13の支持体13Bの横に偏倚させて
配置されている。このウエハ検出装置14は、図3から
も明きらかなように、キャリア本体21内に所定間隔を
空けて収納された各ウエハWの両面を上下から挟む位置
にそれぞれ配置された光学センサである発光素子14A
及び受光素子14Bと、これら両素子14A、14Bを
保持する保持体14Cと、この保持体14Cに連結され
たシリンダロッド14Dと、このシリンダロッド14D
をウエハWを挟む位置(検出位置)とキャリア20外の
退避位置との間で往復移動させるエアシリンダ14Eと
を有している。また、上記保持体14Cは例えばシリン
ダロッド14C上端でモータを介して例えば90°正逆
回転可能(首振り可能)に構成されている。
【0018】ところで、上記保持体14Cは櫛歯状に形
成された複数の突起14Fを有し、各突起14Fが各ウ
エハWの上下に入り込めるように形成されている。そし
て、各突起14Fが各ウエハW間に入り込んだ状態で、
発光素子14AとウエハWとの間及び受光素子14Bと
ウエハWとの間に僅かな隙間ができるようになってい
る。各発光素子14Aは例えば各突起14Fの下面にそ
れぞれ配設され、各受光素子14Aに対応する受光素子
14Bは各突起14Fの上面にそれぞれ配設されてい
る。そして、保持体14Cの各突起14Fが各ウエハW
間に入り込んだ状態で各発光素子14A及び各受光素子
14Bがセンサコントローラ(図示せず)の制御下で作
動し、図4に示すように各発光素子14Aが光線Lを照
射し、それぞれの発光素子14Aに対応する受光素子1
4Bで光線Lを検出するか否かでそれぞれのウエハWの
存否を検出することでウエハWのマッピング動作を行う
ようにしてある。尚、最上段の突起14Fには下面にの
み発光素子14Aが配設され、最下段の突起14Fには
上面にのみ受光素子14Bが配設されている。
【0019】従って、ウエハ検出装置14で各ウエハW
を検出する時には、例えば保持体14Cがエアシリンダ
14Eを介して図2の一点鎖線で示す退避位置から実線
で示す検査位置の高さまで上昇した後、モータを介して
90°回転して図1に示すように各突起14Fが各ウエ
ハW間に入り込み、それぞれの発光素子14A及び受光
素子14BがウエハWを挟むようになっている。検査終
了後には保持体14Cは逆の動作で検査位置から退避位
置まで戻るようになっている。
【0020】次に、動作について説明する。例えば図示
しないキャリア搬送機構が半導体製造装置30までキャ
リア20を搬送し、キャリア載置機構10の位置決め突
起11Aを基準にしてキャリア20をキャリア載置台1
1上に載置する。その後、コントローラの制御下で半導
体製造装置30が駆動する。即ち、キャリア載置台11
が駆動機構を介して移動しフロントパネル31の開口部
32と嵌合すると、キャリア載置台11がその位置で停
止する。
【0021】次いで、オープナ13のエアシリンダ13
Cが駆動し、蓋保持体13Aが支持体13Bを介して上
昇しキャリア20の蓋22に吸着する。この状態でロッ
ク操作機構が駆動して蓋22のロック機構を解除する
と、再びエアシリンダ13Cが駆動し、蓋保持体13A
が蓋22を保持したまま下降し、蓋22をキャリア本体
21から外し、図1、図2で示す位置に達し、ウエハW
の検出動作及び移載動作が終了するまで待機する。
【0022】その後、ウエハ検出装置14のエアシリン
ダ14Eが駆動し、保持体14Aが図2の一点鎖線で示
す退避位置から実線で示す検査位置まで上昇して停止す
る。停止直後に首振り用のモータが駆動して保持体14
Aが図2に示す位置から90°回転し、図1に示すよう
に保持体14Aの各突起14Fがキャリア本体21内に
収納された各ウエハWの間に入り込み、各突起14Fそ
れぞれの発光素子14Aと受光素子14Bで各ウエハW
を挟む。この状態で、センサコントローラが作動し、各
発光素子14Aから光線Lを照射する。この時、両素子
14A、14B間にウエハWが介在すれば受光素子14
Bは発光素子14Aからの光線Lを受光せず、ウエハW
の存在を検出する。また、両素子14A、14B間にウ
エハWが介在しなければ受光素子14Bは発光素子14
Aからの光線Lを受光し、ウエハWが不存在を検出す
る。この一連の動作によりキャリア本体21の各スロッ
トにおけるウエハWの存否を検出してウエハのマッピン
グ動作を終了する。
【0023】マッピング動作が終了すると、ウエハ検出
装置14の保持体14Cがモータを介して90°逆方向
に回転した後、エアシリンダ14Eが駆動して保持体1
4Cが元の退避位置に戻る。保持体14Cがキャリア本
体21から退避すると、図示しない中継室内のウエハ搬
送機構が駆動し、ウエハWを一括してキャリア本体21
内から中継室内へ移載する。ウエハWの移載後にはオー
プナ13が駆動してキャリア本体21に蓋22を取り付
けてウエハ取出口を閉止する。しばらくして各ウエハW
に対する処理が終了すると、上述した場合とは逆の動作
でウエハWをキャリア本体21内へ戻し、ウエハ取出口
を閉止する。
【0024】以上説明したように本実施形態によれば、
ウエハ検出装置14をキャリア載置機構10の内側に設
置したため、ウエハ検出装置14の設置スペースとして
オープナ13のデッドスペースを有効に利用することが
でき、ウエハ検出装置14の設置スペースを削減するこ
とができ、しかも、キャリア20の搬送経路と干渉しな
いため、ウエハ検出装置14がキャリア搬送の邪魔にな
らない。また、ウエハ検出装置14の発光素子14Aの
光線Lを直接ウエハWに照射するため、キャリア20の
合成樹脂による光学的精度の出来具合に左右されること
なくウエハWの有無を精度良く、確実に検出することが
できる。
【0025】また、本発明のキャリア載置機構のウエハ
検出装置14は、図5または図6に示すものであっても
良い。尚、以下の説明では上記実施形態と同一または相
当部分には同一符号を附して各構成部位について説明す
る。図5に示すウエハ検出装置14は、例えばキャリア
本体(図示せず)内に収納された各ウエハWに対応する
発光素子14A及び受光素子14Bと、これら両素子1
4A、14Bを保持する保持体14Cと、この保持体1
4Cを昇降する図示しないエアシリンダと、このエアシ
リンダにより上昇した保持体14Cをキャリア本体21
に対して図5の矢印方向に進退動させる駆動機構とを備
えている。保持体14Cは、同図に示すように、左右に
一対の突起14F、14Fを有する略コ字状に形成さ
れ、左右の突起14F、14FによってウエハWの周面
を左右両側から挟むように構成されている。そして、各
突起14F、14Fの内側に発光素子14A及び受光素
子14Bが互いに対向して配設され、両素子14A、1
4BによってウエハWの有無を検出するようにしてあ
る。また、保持体14Cを進退動させる駆動機構は、例
えば保持体14C及びエアシリンダを一体的にキャリア
載置機構の基台に対して図5の矢印方向に進退動作させ
たり、保持体14Cのみを図5の矢印方向に揺動させる
ように構成されたものであれば良い。本実施形態のウエ
ハ検出装置14の場合には、保持体14Cが検査位置に
あって発光素子14Aから光線Lを照射した時、受光素
子14Bで光線Lを受光すればウエハWの不存在を検出
することができ、受光素子14Bで光線Lを受光しなけ
れば光線LがウエハWで遮断されたことになりウエハW
の存在を検出することができる。従って、本実施形態に
おいても上記実施形態と同様の作用効果を期することが
できる。
【0026】また、図6に示すウエハ検出装置14は、
例えばキャリア本体(図示せず)内に収納された各ウエ
ハWに対応する発光素子14A及び受光素子14Bと、
これら両素子14A、14Bを保持する保持体14C
と、この保持体14Cを昇降する図示しないエアシリン
ダとを備えている。保持体14Cは、同図に示すよう
に、一対の発光素子14A及び受光素子14Bが横方向
に並べて縦列にキャリア本体内の各ウエハWに対応させ
て配設され、各発光素子14Aから照射した光線Lのウ
エハWの周面からの反射光を対応する受光素子14Bに
より受光するようにしてある。本実施形態の場合には、
保持体14Cが検査位置にあって発光素子14Aから光
線Lを照射した時、受光素子14Bで光線Lを受光すれ
ばウエハWの存在を検出し、受光素子14Bで光線Lを
受光しなければウエハWの不存在を検出することにな
る。従って、本実施形態においても上記各実施形態と同
様の作用効果を期することができる。
【0027】上記各実施形態ではキャリア本体内の各ウ
エハに対応した発光素子及び受光素子を保持体に設けた
ものについて説明したが、本発明では、発光素子及び受
光素子を一対だけ保持体に設けると共に保持体の走査機
構を設け、保持体を下方から上方へ、あるいは上方から
下方へ走査する間にキャリア本体内のウエハを検出する
ようにしたものであっても良い。この場合には走査機構
を設けるため、保持体の駆動機構が複雑になる反面、一
対の発光素子及び受光素子を設けるだけで良いため、光
センサ部分の構成を簡素化することができる。また、保
持体14Cの駆動機構としてエアシリンダ14Eについ
て説明したが、エアシリンダ以外の駆動機構を用いても
良いことは云うまでもない。
【0028】
【発明の効果】本発明の請求項1〜請求項5に記載の発
明によれば、ウエハ検出装置の設置スペースの削減を図
ってキャリア搬送の邪魔にならず、しかもキャリアの光
学的精度の出来具合に左右されることなくウエハの有無
を高精度で確実に検出することができるキャリア載置機
構を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のキャリア載置機構の一実施形態を示す
図で、ウエハ検出装置を用いてキャリア本体内のウエハ
を検出する状態を示す要部断面図である。
【図2】図1に示すウエハ検出装置の保持体がウエハの
検査位置まで上昇した状態をキャリア載置機構の内側か
ら見た正面図である。
【図3】図1に示したウエハ検出装置を取り出して要部
を示す斜視図である。
【図4】図3に示すウエハ検出装置の発光素子及び受光
素子の動作を説明する動作説明図である。
【図5】本発明のキャリア載置機構の他の実施形態の要
部を示す平面図である。
【図6】本発明のキャリア載置機構の更に他の実施形態
を示す図5に相当する平面図である。
【符号の説明】
10 キャリア載置機構 11 キャリア載置台(載置部) 14 ウエハ検出装置(ウエハ検出手段) 14A 発光素子 14B 受光素子 14C 保持体 14E エアシリンダ(駆動機構) 14F 突起 W ウエハ L 光線

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハに所定の処理を施すために
    複数の半導体ウエハをキャリア単位で載置部に載置する
    キャリア載置機構において、上記載置部上のキャリア内
    の各半導体ウエハを検出するウエハ検出手段を上記載置
    部に設け、上記ウエハ検出手段は、上記半導体ウエハの
    検出時にその両面を挟む位置にそれぞれ配置された発光
    素子及び受光素子と、これら両素子を保持する保持体
    と、この保持体を上記半導体ウエハを挟む位置と上記キ
    ャリア外との間で駆動させる駆動機構とを有することを
    特徴とするキャリア載置機構。
  2. 【請求項2】 半導体ウエハに所定の処理を施すために
    複数の半導体ウエハをキャリア単位で載置部に載置する
    キャリア載置機構において、上記載置部上のキャリア内
    の各半導体ウエハを検出するウエハ検出手段を上記載置
    部に設け、上記ウエハ検出手段は、上記半導体ウエハの
    検出時にその周面を挟む位置にそれぞれ配置された発光
    素子及び受光素子と、これら両素子を保持する保持体
    と、この保持体を上記半導体ウエハを挟む位置と上記キ
    ャリア外との間で駆動させる駆動機構とを有することを
    特徴とするキャリア載置機構。
  3. 【請求項3】 半導体ウエハに所定の処理を施すために
    複数の半導体ウエハをキャリア単位で載置部に載置する
    キャリア載置機構において、上記載置部上のキャリア内
    の各半導体ウエハを検出するウエハ検出手段を上記載置
    部に設け、上記ウエハ検出手段は、上記半導体ウエハの
    検出時にその周面と対向する位置にそれぞれ配置された
    発光素子及び受光素子と、これら両素子を保持する保持
    体と、この保持体を上記半導体ウエハの検出位置と上記
    キャリア外との間で駆動させる駆動機構とを有すること
    を特徴とするキャリア載置機構。
  4. 【請求項4】 上記保持体は上記各半導体ウエハに対応
    する発光素子及び受光素子を有することを特徴とする請
    求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のキャリア載置
    機構。
  5. 【請求項5】 上記駆動機構は上記発光素子及び受光素
    子を上記各半導体ウエハ間で走査する走査機構を有する
    ことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に
    記載のキャリア載置機構。
JP14577297A 1997-05-08 1997-05-20 キャリア載置機構 Pending JPH10321706A (ja)

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TW087106996A TW444316B (en) 1997-05-08 1998-05-06 Carrier for carrying semiconductor wafers and method of detecting wafers on carrier
KR1019980016403A KR100304468B1 (ko) 1997-05-08 1998-05-08 반도체 웨이퍼 반송용의 캐리어 및 캐리어내의 웨이퍼 검출방법

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