JPH10321706A - Carrier placing mechanism - Google Patents

Carrier placing mechanism

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JPH10321706A
JPH10321706A JP14577297A JP14577297A JPH10321706A JP H10321706 A JPH10321706 A JP H10321706A JP 14577297 A JP14577297 A JP 14577297A JP 14577297 A JP14577297 A JP 14577297A JP H10321706 A JPH10321706 A JP H10321706A
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JP
Japan
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carrier
wafer
light
mounting
holder
Prior art date
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Application number
JP14577297A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Saeki
弘明 佐伯
Teruo Asakawa
輝雄 浅川
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Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a carrier placing mechanism which does not hinder a carrier transfer by reducing a space for installation of a wafer detecting unit and can surely detect the presence or absence of a wafer with high accuracy, irrespective of the optical accuracy of a carrier. SOLUTION: In this mechanism 10, wafer-detecting means 14 for detecting each wafer in a carrier main body 21 on a carrier rest 11 is provided on the carrier rest 11. In the wafer-detecting means 14, a light-emitting element 14A and a lightreceiving element 14B are disposed above and below a wafer. A holding body 14C holds these elements 14A, 14B and is driven by an air cylinder 14E between the position, where the wafer is sandwiched and the outside of the carrier body 21.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造工程で
用いられるキャリア載置機構に関し、更に詳しくは半導
体ウエハ(以下、単に「ウエハ」と称す。)の各種処理
装置に付帯するキャリア載置機構に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a carrier mounting mechanism used in a semiconductor manufacturing process, and more particularly, to a carrier mounting mechanism attached to various processing apparatuses for semiconductor wafers (hereinafter, simply referred to as "wafers"). About.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体製造工程では各半導体製造装置や
検査装置間で半導体ウエハを搬送する場合にはキャリア
が用いられる。キャリア内には例えば25枚あるいは1
3枚ずつ収納することができ、例えばウエハをロット単
位でキャリア内に収納し、ウエハに各種の処理を施し、
検査するようにしている。また、各種の処理に際し、例
えばキャリアを半導体製造装置のキャリア載置機構に載
置し、キャリア内のウエハマップを作成し、このウエハ
マップに即して各種の処理を施し、処理データを記録す
るようにしている。このウエハマップを作成するに当た
り、あるいは全てのウエハがキャリアから取り出された
か否かを調べるに当たり、キャリア内の各スロットにウ
エハが存在するか否かを検出する必要がある。
2. Description of the Related Art In a semiconductor manufacturing process, a carrier is used when a semiconductor wafer is transferred between semiconductor manufacturing apparatuses or inspection apparatuses. For example, 25 or 1 in the carrier
Three wafers can be stored. For example, wafers are stored in carriers in lot units, and various processing is performed on the wafers.
I am going to inspect. In various processes, for example, a carrier is mounted on a carrier mounting mechanism of a semiconductor manufacturing apparatus, a wafer map in the carrier is created, various processes are performed according to the wafer map, and process data is recorded. Like that. In preparing this wafer map or in checking whether all wafers have been removed from the carrier, it is necessary to detect whether or not a wafer exists in each slot in the carrier.

【0003】そのため、従来からキャリア載置機構には
例えば発光素子及び受光素子を用いて光学的にウエハを
検出するウエハ検出装置が装備されている。このような
ウエハ検出装置の一機種は、例えばキャリアの上下ある
いは左右に互いに対峙させて配置された発光素子及び受
光素子を有し、両素子間にキャリアを設置してキャリア
内のウエハを検出するタイプのものがある(以下、「対
峙型ウエハ検出装置」と称す)。この対峙型の場合に
は、発光素子から相対する受光素子に向けて光線を照射
し、受光素子における照射光線の検出の有無でキャリア
内の各スロットにおけるウエハの有無を検出している。
また、他の機種は、例えば同一側に配置された発光素子
及び受光素子と、これら両者と対向する位置に配置され
た反射鏡とを備えたものがある(以下、「反射型ウエハ
検出装置」と称す)。この反射型の場合には、発光素子
から反射鏡に向けて光線を照射し、受光素子における反
射鏡からの反射光線の検出の有無でキャリア内のウエハ
の有無を検出している。
For this reason, the carrier mounting mechanism has conventionally been equipped with a wafer detecting device for optically detecting a wafer using, for example, a light emitting element and a light receiving element. One type of such a wafer detecting device has, for example, a light emitting element and a light receiving element arranged to face each other on the upper and lower sides or on the left and right sides of the carrier, and installs the carrier between the two elements to detect a wafer in the carrier. Type (hereinafter, referred to as a “confronting wafer detection device”). In the case of the confronting type, a light beam is emitted from a light emitting element toward a light receiving element facing the light emitting element, and the presence or absence of a wafer in each slot in the carrier is detected by the presence or absence of the detection of the emitted light by the light receiving element.
Other models include, for example, a light-emitting element and a light-receiving element arranged on the same side, and a reflecting mirror arranged at a position facing both of them (hereinafter referred to as a "reflective wafer detecting apparatus"). ). In the case of the reflection type, a light beam is emitted from the light emitting element toward the reflecting mirror, and the presence or absence of the wafer in the carrier is detected by detecting whether or not the light receiving element detects the reflected light from the reflecting mirror.

【0004】また、現在のところ、ウエハは6インチあ
るいは8インチが主流であるが、いずれ一気に12イン
チ(300mm)のウエハに移行する傾向にある。これ
に伴って半導体製造装置は12インチウエハ対応したも
のが開発されつつある。この場合、単にウエハが大口径
化、大重量化するばかりではなく、ウエハに形成される
集積回路の線幅がサブクォータミクロン以下の超微細構
造になるため、各半導体製造工場ではクリーンルームの
超清浄化技術やウエハの自動搬送化技術、更には各半導
体製造装置や検査装置の省スペース化が益々重要になっ
て来る。このようにウエハが大口径化するに伴って半導
体製造の自動化が益々促進され、オペレータの介在する
場面が軽減されると、従来にもましてキャリア載置部上
のキャリア内のウエハ検出が益々重要になる。
At present, 6 inches or 8 inches of wafers are the mainstream, but there is a tendency to shift to 12 inches (300 mm) wafers at a stretch. Along with this, a semiconductor manufacturing apparatus corresponding to a 12-inch wafer is being developed. In this case, not only does the wafer increase in diameter and weight but also the line width of the integrated circuit formed on the wafer becomes an ultra-fine structure of sub-quarter microns or less. It is becoming more and more important to use technology for making semiconductor devices and technology for automatically transporting wafers, and to save space in semiconductor manufacturing equipment and inspection equipment. In this way, as the diameter of wafers increases, automation of semiconductor manufacturing is further promoted, and the situation in which an operator intervenes is reduced. As a result, detection of wafers in a carrier on a carrier mounting portion is more important than ever. become.

【0005】そして、キャリア自体も従来のものをその
まま適用できなくなって来る。例えば、8インチのウエ
ハまでは各工程間でウエハを搬送する時にはウエハを立
てた状態でキャリアを搬送し、各工程の半導体製造装置
に対する搬出入を行う時にはウエハを水平にするのが一
般的であった。ところが、12インチ(300mm)の
ウエハの場合にはウエハを立てたまま搬送すると自重や
搬送時の振動等でウエハの下端部が損傷することがある
ため、ウエハを水平にした状態でキャリアを搬送し、各
工程の半導体製造装置に対する搬出入を行う時にはその
ままの水平状態で行うようになって来ている。現在のと
ころ、12インチ(300mm)ウエハ用のキャリアと
しては、例えば大きく分けてオープン方式のキャリア
と、キャリアをポッド内に収納して蓋をする密閉方式の
ポッド(例えば、ユニファイド・ポッド)が考えられて
いる。
[0005] The conventional carrier itself cannot be applied as it is. For example, up to an 8-inch wafer, it is common practice to transport the carrier with the wafer upright when transporting the wafer between each process, and to level the wafer when loading and unloading the semiconductor manufacturing equipment in each process. there were. However, in the case of a 12-inch (300 mm) wafer, if the wafer is transported while standing, the lower end of the wafer may be damaged due to its own weight or vibration during transport, so the carrier is transported while the wafer is horizontal. However, when carrying in and out of the semiconductor manufacturing apparatus in each process, it is performed in a horizontal state as it is. At present, as a carrier for a 12-inch (300 mm) wafer, for example, an open type carrier and a closed type pod (for example, a unified pod) in which the carrier is housed in a pod and covered with a lid are roughly divided. It is considered.

【0006】いずれのキャリアを用いるにしても、ウエ
ハに伴ってキャリアが大型化すると、それに伴ってウエ
ハ単価が飛躍的に上がり、ウエハに対する処理を過誤な
く実施するためにも、キャリア載置機構におけるキャリ
ア内のウエハマップを正確に把握し、あるいはキャリア
内のウエハの有無を確実に検出する必要がある。
Regardless of which carrier is used, as the size of the carrier increases with the wafer, the unit cost of the wafer increases dramatically, and the processing for the wafer is performed without error. It is necessary to accurately grasp the wafer map in the carrier or to reliably detect the presence or absence of a wafer in the carrier.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
キャリア載置機構の場合には、対峙型あるいは反射型ウ
エハ検出装置によってキャリア内のウエハを検出してい
るため、種々の課題があった。例えば対峙型ウエハ検出
装置を用いてキャリア内のウエハを検出する場合には、
発光素子及び受光素子がキャリアの搬送路あるいは設置
場所の上下あるいは左右において対峙して配置されてい
るため、キャリアを搬送する際にウエハ検出装置が邪魔
になることがあった。また、キャリアが光学的に高精度
に成形されている訳ではなく、発光素子からの光線はキ
ャリアを透過する際に光軸が歪む可能性があり、キャリ
アの大型化と相俟って発光素子からの照射光をキャリア
を挟んで配置された受光素子で精度良く受光できるとい
う保証はない。更に、発光素子及び受光素子を対峙して
配置するため、発光素子及び受光素子それぞれに固有の
スペースを割かざるを得ず、今後の省スペース化を勘案
すれば各素子に固有のスペースを割くことは好ましくな
い。他方、反射型ウエハ検出装置を用いてキャリア内の
ウエハを検出する場合には、反射鏡からの反射光かウエ
ハからの反射光かを識別することができず、ウエハの有
無を誤って検出する虞がある。
However, in the case of the conventional carrier mounting mechanism, there are various problems since the wafer in the carrier is detected by the facing or reflection type wafer detecting device. For example, when detecting a wafer in a carrier using a confronting wafer detection device,
Since the light-emitting element and the light-receiving element are arranged to face each other on the upper and lower sides or on the right and left of the carrier transport path or the installation location, the wafer detecting device may sometimes hinder the transport of the carrier. Further, the carrier is not optically molded with high precision, and the light axis from the light emitting element may be distorted when the light passes through the carrier. There is no guarantee that the irradiation light from the light receiving device can be accurately received by the light receiving element disposed with the carrier interposed therebetween. Furthermore, since the light-emitting element and the light-receiving element are arranged to face each other, a unique space must be allocated to each of the light-emitting element and the light-receiving element, and in consideration of future space saving, a space specific to each element must be allocated. Is not preferred. On the other hand, when a wafer in a carrier is detected using a reflection type wafer detection device, it is not possible to distinguish between light reflected from a reflecting mirror and light reflected from a wafer, and the presence or absence of a wafer is erroneously detected. There is a fear.

【0008】本発明は、上記課題を解決するためになさ
れたもので、ウエハ検出装置の設置スペースの削減を図
ってキャリア搬送の邪魔にならず、しかもキャリアの光
学的精度の出来具合に左右されることなくウエハの有無
を高精度で確実に検出することができるキャリア載置機
構を提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-mentioned problems, and does not hinder the carrier conveyance by reducing the installation space for the wafer detection device, and is influenced by the optical precision of the carrier. It is an object of the present invention to provide a carrier mounting mechanism capable of reliably detecting the presence or absence of a wafer without high accuracy.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
のキャリア載置機構は、半導体ウエハに所定の処理を施
すために複数の半導体ウエハをキャリア単位で載置部に
載置するキャリア載置機構において、上記載置部上のキ
ャリア内の各半導体ウエハを検出するウエハ検出手段を
上記載置部に設け、上記ウエハ検出手段は、上記半導体
ウエハの検出時にその両面を挟む位置にそれぞれ配置さ
れた発光素子及び受光素子と、これら両素子を保持する
保持体と、この保持体を上記半導体ウエハを挟む位置と
上記キャリア外との間で駆動させる駆動機構とを有する
ことを特徴とするものである。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a carrier mounting mechanism for mounting a plurality of semiconductor wafers on a mounting unit in a carrier unit in order to perform a predetermined process on a semiconductor wafer. In the mounting mechanism, wafer detecting means for detecting each semiconductor wafer in the carrier on the mounting part is provided on the mounting part, and the wafer detecting means is located at a position sandwiching both surfaces of the semiconductor wafer when detecting the semiconductor wafer. It is characterized by having a light emitting element and a light receiving element arranged, a holder for holding both elements, and a drive mechanism for driving the holder between a position sandwiching the semiconductor wafer and the outside of the carrier. Things.

【0010】また、本発明の請求項2に記載のキャリア
載置機構は、半導体ウエハに所定の処理を施すために複
数の半導体ウエハをキャリア単位で載置部に載置するキ
ャリア載置機構において、上記載置部上のキャリア内の
各半導体ウエハを検出するウエハ検出手段を上記載置部
に設け、上記ウエハ検出手段は、上記半導体ウエハの検
出時にその周面を挟む位置にそれぞれ配置された発光素
子及び受光素子と、これら両素子を保持する保持体と、
この保持体を上記半導体ウエハを挟む位置と上記キャリ
ア外との間で駆動させる駆動機構とを有することを特徴
とするものである。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a carrier mounting mechanism for mounting a plurality of semiconductor wafers on a mounting unit in a carrier unit in order to perform a predetermined process on a semiconductor wafer. A wafer detection unit for detecting each semiconductor wafer in the carrier on the mounting unit is provided on the mounting unit, and the wafer detection unit is disposed at a position sandwiching the peripheral surface when the semiconductor wafer is detected. A light-emitting element and a light-receiving element, and a holder for holding both of these elements,
A drive mechanism for driving the holder between a position sandwiching the semiconductor wafer and the outside of the carrier is provided.

【0011】また、本発明の請求項3に記載のキャリア
載置機構は、半導体ウエハに所定の処理を施すために複
数の半導体ウエハをキャリア単位で載置部に載置するキ
ャリア載置機構において、上記載置部上のキャリア内の
各半導体ウエハを検出するウエハ検出手段を上記載置部
に設け、上記ウエハ検出手段は、上記半導体ウエハの検
出時にその周面と対向する位置にそれぞれ配置された発
光素子及び受光素子と、これら両素子を保持する保持体
と、この保持体を上記半導体ウエハの検出位置と上記キ
ャリア外との間で駆動させる駆動機構とを有することを
特徴とするものである。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a carrier mounting mechanism for mounting a plurality of semiconductor wafers on a mounting unit in units of carriers in order to perform a predetermined process on the semiconductor wafer. A wafer detecting means for detecting each semiconductor wafer in the carrier on the mounting part, the wafer detecting means being arranged at a position facing the peripheral surface when detecting the semiconductor wafer; A light-emitting element and a light-receiving element, a holder for holding both elements, and a drive mechanism for driving the holder between a detection position of the semiconductor wafer and the outside of the carrier. is there.

【0012】また、本発明の請求項4に記載のキャリア
載置機構は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載
の発明において、上記保持体は上記各半導体ウエハに対
応する発光素子及び受光素子を有することを特徴とする
ものである。
According to a fourth aspect of the present invention, there is provided a carrier mounting mechanism according to any one of the first to third aspects, wherein the holder is configured to emit light corresponding to each of the semiconductor wafers. And a light receiving element.

【0013】また、本発明の請求項5に記載のキャリア
載置機構は、請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載
の発明において、上記駆動機構は上記発光素子及び受光
素子を上記各半導体ウエハ間で走査する走査機構を有す
ることを特徴とするものである。
According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a carrier mounting mechanism according to any one of the first to third aspects, wherein the driving mechanism includes the light emitting element and the light receiving element. It has a scanning mechanism for scanning between each semiconductor wafer.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】以下、図1〜図5に示す実施形態
に基づいて本発明を説明する。本実施形態のキャリア載
置機構10は、例えば図1、図2に示すように、ウエハ
Wをキャリア20に収納した状態で載置し、半導体製造
装置30におけるウエハWの所定の処理に備えるように
構成されている。即ち、キャリア載置機構10は半導体
製造装置30のコントローラ(図示せず)の制御下で駆
動するようにしてある。また、キャリア20は、例えば
12インチ(300mm)のウエハを13枚あるいは2
5枚収納する、ポリカーボネート、PEEK(ポリエー
テルエーテルケトン)等の合成樹脂によって形成された
密閉式のポッドとして構成されている。このキャリア2
0は、例えば図1、図2に示すように、13枚のウエハ
Wをそれぞれ一定の間隔を空けて収納するキャリア本体
21と、このキャリア本体21のウエハ取出口に着脱可
能に装着された蓋22とを有している。また、キャリア
本体21の上壁21Aには被把持部23が取り付けら
れ、天井に配置されたキャリア搬送装置(図示せず)に
よって被把持部23を把持して各半導体製造装置間でキ
ャリア20を自動搬送するようにしてある。更に、この
キャリア20内には例えば窒素ガスが封入され、ウエハ
の自然酸化を極力防止すると共に内部をクリーンな環境
にしている。尚、キャリア本体21の側壁21Bの内面
には図2に示すように溝21Cが形成され、各溝21C
でウエハWを水平に支持するようにしてある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below based on the embodiments shown in FIGS. The carrier mounting mechanism 10 of the present embodiment mounts the wafer W in a state housed in the carrier 20 as shown in FIGS. 1 and 2, for example, so as to prepare for a predetermined processing of the wafer W in the semiconductor manufacturing apparatus 30. Is configured. That is, the carrier mounting mechanism 10 is driven under the control of a controller (not shown) of the semiconductor manufacturing apparatus 30. The carrier 20 is composed of, for example, 13 or 2 wafers of 12 inches (300 mm).
It is configured as a closed pod formed of a synthetic resin such as polycarbonate or PEEK (polyetheretherketone) for accommodating five sheets. This carrier 2
Reference numeral 0 denotes a carrier body 21 for accommodating thirteen wafers W at regular intervals, as shown in FIGS. 1 and 2, for example, and a lid detachably attached to a wafer outlet of the carrier body 21. 22. A grasped portion 23 is attached to the upper wall 21A of the carrier body 21, and the grasped portion 23 is grasped by a carrier transport device (not shown) arranged on the ceiling to transfer the carrier 20 between the semiconductor manufacturing apparatuses. It is automatically transported. Further, for example, nitrogen gas is sealed in the carrier 20 to prevent natural oxidation of the wafer as much as possible and to make the inside clean. A groove 21C is formed on the inner surface of the side wall 21B of the carrier body 21 as shown in FIG.
To support the wafer W horizontally.

【0015】また、図1に示すように半導体製造装置3
0のフロントパネル31にはキャリア20の蓋22が嵌
入する開口部32が形成され、この開口部32に対応さ
せて本実施形態のキャリア載置機構10が配設されてい
る。キャリア載置機構10の奥(図1では右側)にはウ
エハWの中継室(図示せず)が配置され、この中継室内
に配設されたウエハ搬送機構を介して蓋21が取り外さ
れた状態でキャリア本体21内の全ウエハWを一括して
中継室内へ移載するようにしてある。そして、ウエハW
はウエハ搬送機構によって保持された状態で所定の処理
を待機し、処理後のウエハWをウエハ搬送機構によって
保持するようにしてある。
Further, as shown in FIG.
An opening 32 into which the lid 22 of the carrier 20 is fitted is formed in the front panel 31 of the “0”, and the carrier mounting mechanism 10 of the present embodiment is disposed corresponding to the opening 32. A relay chamber (not shown) for the wafer W is disposed at the back (right side in FIG. 1) of the carrier mounting mechanism 10, and the lid 21 is removed via a wafer transfer mechanism disposed in the relay chamber. , All the wafers W in the carrier body 21 are collectively transferred into the relay room. Then, the wafer W
The device waits for a predetermined process while being held by the wafer transfer mechanism, and holds the processed wafer W by the wafer transfer mechanism.

【0016】次いで、本実施形態のキャリア載置機構1
0について説明する。このキャリア載置機構10は、図
1、図2に示すように、キャリア20を載置すると共に
フロントパネル31の開口部32に対して図1の矢印A
方向に往復移動するキャリア載置台11と、このキャリ
ア載置台11を往復移動可能に支持する基台12と、こ
の基台12の内側(フロントパネル31の内面側)に配
設されたオープナ13とを備えている。キャリア載置台
11の上面には図1に示すように位置決め突起11Aが
例えば4箇所に形成され、また、キャリア本体21の底
面にはこれらの位置決め突起11Aに対応させた位置決
め凹部21Dが形成されている。従って、位置決め凹部
21Bを位置決め突起11Aに合わせてキャリア10を
キャリア載置台11上に載置すると、キャリア20をキ
ャリア載置台11上で位置決めできるようになってい
る。また、オープナ13は、キャリア20の蓋22を吸
着、保持する蓋保持体13Aと、この蓋保持体13Aを
支持する支持体13Bと、この支持体13Bを昇降させ
るエアシリンダ13Cとを備えている。支持体13Bは
僅かに図1の矢印B方向に揺動しキャリア本体21から
傾斜するようにしてある。また、図示してないが保持体
13A内には蓋22のロック機構を操作するロック操作
機構が内蔵されている。
Next, the carrier mounting mechanism 1 of the present embodiment
0 will be described. As shown in FIGS. 1 and 2, the carrier mounting mechanism 10 mounts the carrier 20 and, with respect to the opening 32 of the front panel 31, uses an arrow A in FIG.
Mounting table 11 that reciprocates in the direction, a base 12 that supports the carrier mounting table 11 so as to be able to reciprocate, and an opener 13 that is disposed inside the base 12 (the inner side of the front panel 31). It has. As shown in FIG. 1, positioning protrusions 11A are formed at, for example, four places on the upper surface of the carrier mounting table 11, and positioning recesses 21D corresponding to these positioning protrusions 11A are formed on the bottom surface of the carrier main body 21. I have. Accordingly, when the carrier 10 is mounted on the carrier mounting table 11 with the positioning recess 21B aligned with the positioning projection 11A, the carrier 20 can be positioned on the carrier mounting table 11. The opener 13 includes a lid holder 13A that sucks and holds the lid 22 of the carrier 20, a support 13B that supports the lid holder 13A, and an air cylinder 13C that moves the support 13B up and down. . The support 13B slightly swings in the direction of arrow B in FIG. Although not shown, a lock operation mechanism for operating the lock mechanism of the lid 22 is built in the holding body 13A.

【0017】また、図1に示すように上記基台12の内
側にはキャリア本体21内に収納されたウエハWを検出
するウエハ検出装置14が配設され、このウエハ検出装
置14はオープナ13の支持体13Bの横に偏倚させて
配置されている。このウエハ検出装置14は、図3から
も明きらかなように、キャリア本体21内に所定間隔を
空けて収納された各ウエハWの両面を上下から挟む位置
にそれぞれ配置された光学センサである発光素子14A
及び受光素子14Bと、これら両素子14A、14Bを
保持する保持体14Cと、この保持体14Cに連結され
たシリンダロッド14Dと、このシリンダロッド14D
をウエハWを挟む位置(検出位置)とキャリア20外の
退避位置との間で往復移動させるエアシリンダ14Eと
を有している。また、上記保持体14Cは例えばシリン
ダロッド14C上端でモータを介して例えば90°正逆
回転可能(首振り可能)に構成されている。
As shown in FIG. 1, a wafer detector 14 for detecting a wafer W stored in the carrier body 21 is provided inside the base 12. The support 13B is disposed so as to be deviated laterally. As is apparent from FIG. 3, the wafer detecting device 14 is an optical sensor which is an optical sensor disposed at a position sandwiching both sides of each wafer W stored at a predetermined interval in the carrier main body 21 from above and below. Element 14A
And a light receiving element 14B, a holder 14C for holding the two elements 14A and 14B, a cylinder rod 14D connected to the holder 14C, and a cylinder rod 14D.
Has an air cylinder 14E that reciprocates between a position sandwiching the wafer W (detection position) and a retreat position outside the carrier 20. Further, the holding body 14C is configured to be rotatable (for example, swinging forward and backward) by 90 ° at the upper end of the cylinder rod 14C via a motor, for example.

【0018】ところで、上記保持体14Cは櫛歯状に形
成された複数の突起14Fを有し、各突起14Fが各ウ
エハWの上下に入り込めるように形成されている。そし
て、各突起14Fが各ウエハW間に入り込んだ状態で、
発光素子14AとウエハWとの間及び受光素子14Bと
ウエハWとの間に僅かな隙間ができるようになってい
る。各発光素子14Aは例えば各突起14Fの下面にそ
れぞれ配設され、各受光素子14Aに対応する受光素子
14Bは各突起14Fの上面にそれぞれ配設されてい
る。そして、保持体14Cの各突起14Fが各ウエハW
間に入り込んだ状態で各発光素子14A及び各受光素子
14Bがセンサコントローラ(図示せず)の制御下で作
動し、図4に示すように各発光素子14Aが光線Lを照
射し、それぞれの発光素子14Aに対応する受光素子1
4Bで光線Lを検出するか否かでそれぞれのウエハWの
存否を検出することでウエハWのマッピング動作を行う
ようにしてある。尚、最上段の突起14Fには下面にの
み発光素子14Aが配設され、最下段の突起14Fには
上面にのみ受光素子14Bが配設されている。
The holding body 14C has a plurality of protrusions 14F formed in a comb shape, and is formed so that each protrusion 14F can be inserted into the upper and lower sides of each wafer W. Then, in a state where each projection 14F enters between the wafers W,
A slight gap is formed between the light emitting element 14A and the wafer W and between the light receiving element 14B and the wafer W. Each light emitting element 14A is disposed, for example, on the lower surface of each projection 14F, and a light receiving element 14B corresponding to each light receiving element 14A is disposed on the upper surface of each projection 14F. Then, each projection 14F of the holder 14C is connected to each wafer W
In the interposed state, each light emitting element 14A and each light receiving element 14B operate under the control of a sensor controller (not shown), and each light emitting element 14A emits a light beam L as shown in FIG. Light receiving element 1 corresponding to element 14A
The mapping operation of the wafer W is performed by detecting the presence or absence of each wafer W by detecting the light beam L at 4B. The uppermost projection 14F has a light emitting element 14A disposed only on the lower surface, and the lowermost projection 14F has a light receiving element 14B disposed only on the upper surface.

【0019】従って、ウエハ検出装置14で各ウエハW
を検出する時には、例えば保持体14Cがエアシリンダ
14Eを介して図2の一点鎖線で示す退避位置から実線
で示す検査位置の高さまで上昇した後、モータを介して
90°回転して図1に示すように各突起14Fが各ウエ
ハW間に入り込み、それぞれの発光素子14A及び受光
素子14BがウエハWを挟むようになっている。検査終
了後には保持体14Cは逆の動作で検査位置から退避位
置まで戻るようになっている。
Therefore, each wafer W is detected by the wafer detecting device 14.
1 is detected, for example, after the holding body 14C rises from the retracted position shown by the dashed line in FIG. 2 to the height of the inspection position shown by the solid line via the air cylinder 14E, and is rotated 90 ° via the motor, as shown in FIG. As shown, each projection 14F enters between each wafer W, and each light emitting element 14A and each light receiving element 14B sandwich the wafer W. After the inspection is completed, the holder 14C returns from the inspection position to the retracted position by performing the reverse operation.

【0020】次に、動作について説明する。例えば図示
しないキャリア搬送機構が半導体製造装置30までキャ
リア20を搬送し、キャリア載置機構10の位置決め突
起11Aを基準にしてキャリア20をキャリア載置台1
1上に載置する。その後、コントローラの制御下で半導
体製造装置30が駆動する。即ち、キャリア載置台11
が駆動機構を介して移動しフロントパネル31の開口部
32と嵌合すると、キャリア載置台11がその位置で停
止する。
Next, the operation will be described. For example, a carrier transport mechanism (not shown) transports the carrier 20 to the semiconductor manufacturing apparatus 30, and transports the carrier 20 with reference to the positioning protrusion 11 </ b> A of the carrier mounting mechanism 10.
1 on top. After that, the semiconductor manufacturing apparatus 30 is driven under the control of the controller. That is, the carrier mounting table 11
Is moved via the drive mechanism and fitted into the opening 32 of the front panel 31, the carrier mounting table 11 stops at that position.

【0021】次いで、オープナ13のエアシリンダ13
Cが駆動し、蓋保持体13Aが支持体13Bを介して上
昇しキャリア20の蓋22に吸着する。この状態でロッ
ク操作機構が駆動して蓋22のロック機構を解除する
と、再びエアシリンダ13Cが駆動し、蓋保持体13A
が蓋22を保持したまま下降し、蓋22をキャリア本体
21から外し、図1、図2で示す位置に達し、ウエハW
の検出動作及び移載動作が終了するまで待機する。
Next, the air cylinder 13 of the opener 13
C is driven, and the lid holder 13A rises via the support 13B and is attracted to the lid 22 of the carrier 20. In this state, when the lock operation mechanism is driven to release the lock mechanism of the lid 22, the air cylinder 13C is driven again, and the lid holder 13A is driven.
Is lowered while holding the lid 22, the lid 22 is removed from the carrier main body 21, and reaches the position shown in FIGS.
It waits until the detection operation and the transfer operation are completed.

【0022】その後、ウエハ検出装置14のエアシリン
ダ14Eが駆動し、保持体14Aが図2の一点鎖線で示
す退避位置から実線で示す検査位置まで上昇して停止す
る。停止直後に首振り用のモータが駆動して保持体14
Aが図2に示す位置から90°回転し、図1に示すよう
に保持体14Aの各突起14Fがキャリア本体21内に
収納された各ウエハWの間に入り込み、各突起14Fそ
れぞれの発光素子14Aと受光素子14Bで各ウエハW
を挟む。この状態で、センサコントローラが作動し、各
発光素子14Aから光線Lを照射する。この時、両素子
14A、14B間にウエハWが介在すれば受光素子14
Bは発光素子14Aからの光線Lを受光せず、ウエハW
の存在を検出する。また、両素子14A、14B間にウ
エハWが介在しなければ受光素子14Bは発光素子14
Aからの光線Lを受光し、ウエハWが不存在を検出す
る。この一連の動作によりキャリア本体21の各スロッ
トにおけるウエハWの存否を検出してウエハのマッピン
グ動作を終了する。
Thereafter, the air cylinder 14E of the wafer detecting device 14 is driven, and the holder 14A rises from the retracted position shown by the alternate long and short dash line in FIG. 2 to the inspection position shown by the solid line and stops. Immediately after stopping, the motor for swinging is driven to hold the holder 14.
A rotates 90 degrees from the position shown in FIG. 2, and each projection 14F of the holder 14A enters between the wafers W accommodated in the carrier main body 21 as shown in FIG. 14A and the light receiving element 14B each wafer W
Sandwich. In this state, the sensor controller operates and emits a light beam L from each light emitting element 14A. At this time, if the wafer W is interposed between the two devices 14A and 14B, the light receiving device 14
B does not receive the light beam L from the light emitting element 14A,
To detect the presence of If the wafer W does not intervene between the two devices 14A and 14B, the light receiving device 14B
The light beam L from A is received, and the absence of the wafer W is detected. Through this series of operations, the presence or absence of the wafer W in each slot of the carrier main body 21 is detected, and the wafer mapping operation ends.

【0023】マッピング動作が終了すると、ウエハ検出
装置14の保持体14Cがモータを介して90°逆方向
に回転した後、エアシリンダ14Eが駆動して保持体1
4Cが元の退避位置に戻る。保持体14Cがキャリア本
体21から退避すると、図示しない中継室内のウエハ搬
送機構が駆動し、ウエハWを一括してキャリア本体21
内から中継室内へ移載する。ウエハWの移載後にはオー
プナ13が駆動してキャリア本体21に蓋22を取り付
けてウエハ取出口を閉止する。しばらくして各ウエハW
に対する処理が終了すると、上述した場合とは逆の動作
でウエハWをキャリア本体21内へ戻し、ウエハ取出口
を閉止する。
When the mapping operation is completed, the holder 14C of the wafer detecting device 14 is rotated in the reverse direction by 90 ° via a motor, and then the air cylinder 14E is driven to rotate the holder 1C.
4C returns to the original evacuation position. When the holder 14C retracts from the carrier main body 21, the wafer transfer mechanism in the relay chamber (not shown) is driven to collectively transfer the wafers W.
Transfer from inside to the relay room. After the transfer of the wafer W, the opener 13 is driven to attach the lid 22 to the carrier body 21 and close the wafer outlet. After a while, each wafer W
Is completed, the wafer W is returned to the inside of the carrier main body 21 by the operation reverse to the above-described case, and the wafer outlet is closed.

【0024】以上説明したように本実施形態によれば、
ウエハ検出装置14をキャリア載置機構10の内側に設
置したため、ウエハ検出装置14の設置スペースとして
オープナ13のデッドスペースを有効に利用することが
でき、ウエハ検出装置14の設置スペースを削減するこ
とができ、しかも、キャリア20の搬送経路と干渉しな
いため、ウエハ検出装置14がキャリア搬送の邪魔にな
らない。また、ウエハ検出装置14の発光素子14Aの
光線Lを直接ウエハWに照射するため、キャリア20の
合成樹脂による光学的精度の出来具合に左右されること
なくウエハWの有無を精度良く、確実に検出することが
できる。
According to the present embodiment as described above,
Since the wafer detection device 14 is installed inside the carrier mounting mechanism 10, the dead space of the opener 13 can be effectively used as the installation space for the wafer detection device 14, and the installation space for the wafer detection device 14 can be reduced. In addition, the wafer detection device 14 does not interfere with the carrier conveyance because the wafer detection device 14 does not interfere with the carrier path of the carrier 20. In addition, since the light beam L of the light emitting element 14A of the wafer detection device 14 is directly applied to the wafer W, the presence / absence of the wafer W can be accurately and reliably determined without being affected by the optical precision of the synthetic resin of the carrier 20. Can be detected.

【0025】また、本発明のキャリア載置機構のウエハ
検出装置14は、図5または図6に示すものであっても
良い。尚、以下の説明では上記実施形態と同一または相
当部分には同一符号を附して各構成部位について説明す
る。図5に示すウエハ検出装置14は、例えばキャリア
本体(図示せず)内に収納された各ウエハWに対応する
発光素子14A及び受光素子14Bと、これら両素子1
4A、14Bを保持する保持体14Cと、この保持体1
4Cを昇降する図示しないエアシリンダと、このエアシ
リンダにより上昇した保持体14Cをキャリア本体21
に対して図5の矢印方向に進退動させる駆動機構とを備
えている。保持体14Cは、同図に示すように、左右に
一対の突起14F、14Fを有する略コ字状に形成さ
れ、左右の突起14F、14FによってウエハWの周面
を左右両側から挟むように構成されている。そして、各
突起14F、14Fの内側に発光素子14A及び受光素
子14Bが互いに対向して配設され、両素子14A、1
4BによってウエハWの有無を検出するようにしてあ
る。また、保持体14Cを進退動させる駆動機構は、例
えば保持体14C及びエアシリンダを一体的にキャリア
載置機構の基台に対して図5の矢印方向に進退動作させ
たり、保持体14Cのみを図5の矢印方向に揺動させる
ように構成されたものであれば良い。本実施形態のウエ
ハ検出装置14の場合には、保持体14Cが検査位置に
あって発光素子14Aから光線Lを照射した時、受光素
子14Bで光線Lを受光すればウエハWの不存在を検出
することができ、受光素子14Bで光線Lを受光しなけ
れば光線LがウエハWで遮断されたことになりウエハW
の存在を検出することができる。従って、本実施形態に
おいても上記実施形態と同様の作用効果を期することが
できる。
The wafer detecting device 14 of the carrier mounting mechanism of the present invention may be the one shown in FIG. 5 or FIG. In the following description, the same or corresponding parts as those of the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals, and each component will be described. The wafer detecting device 14 shown in FIG. 5 includes, for example, a light emitting element 14A and a light receiving element 14B corresponding to each wafer W stored in a carrier main body (not shown),
4A and 14B, and a holder 1C
An air cylinder (not shown) for raising and lowering the 4C and a holding body 14C raised by the air cylinder
And a drive mechanism for moving forward and backward in the direction of the arrow in FIG. As shown in the drawing, the holding body 14C is formed in a substantially U-shape having a pair of left and right protrusions 14F, 14F, and is configured to sandwich the peripheral surface of the wafer W from the left and right sides by the left and right protrusions 14F, 14F. Have been. A light-emitting element 14A and a light-receiving element 14B are provided inside each of the projections 14F, 14F so as to face each other.
The presence or absence of the wafer W is detected by 4B. The driving mechanism for moving the holding body 14C forward and backward is, for example, integrally moving the holding body 14C and the air cylinder in the direction of the arrow in FIG. 5 with respect to the base of the carrier mounting mechanism, or moving only the holding body 14C. What is necessary is just to be able to swing in the direction of the arrow in FIG. In the case of the wafer detection device 14 of the present embodiment, when the holder 14C is at the inspection position and emits the light beam L from the light emitting element 14A, if the light receiving element 14B receives the light beam L, the absence of the wafer W is detected. If the light beam L is not received by the light receiving element 14B, the light beam L is blocked by the wafer W, and the wafer W
Can be detected. Therefore, in the present embodiment, the same operation and effect as in the above embodiment can be expected.

【0026】また、図6に示すウエハ検出装置14は、
例えばキャリア本体(図示せず)内に収納された各ウエ
ハWに対応する発光素子14A及び受光素子14Bと、
これら両素子14A、14Bを保持する保持体14C
と、この保持体14Cを昇降する図示しないエアシリン
ダとを備えている。保持体14Cは、同図に示すよう
に、一対の発光素子14A及び受光素子14Bが横方向
に並べて縦列にキャリア本体内の各ウエハWに対応させ
て配設され、各発光素子14Aから照射した光線Lのウ
エハWの周面からの反射光を対応する受光素子14Bに
より受光するようにしてある。本実施形態の場合には、
保持体14Cが検査位置にあって発光素子14Aから光
線Lを照射した時、受光素子14Bで光線Lを受光すれ
ばウエハWの存在を検出し、受光素子14Bで光線Lを
受光しなければウエハWの不存在を検出することにな
る。従って、本実施形態においても上記各実施形態と同
様の作用効果を期することができる。
The wafer detecting device 14 shown in FIG.
For example, a light emitting element 14A and a light receiving element 14B corresponding to each wafer W stored in a carrier body (not shown),
Holder 14C holding both elements 14A, 14B
And an air cylinder (not shown) for raising and lowering the holder 14C. As shown in the figure, the holder 14C is provided with a pair of light emitting elements 14A and light receiving elements 14B arranged in a horizontal direction and corresponding to each wafer W in the carrier main body, and irradiates from each light emitting element 14A. The light beam L reflected from the peripheral surface of the wafer W is received by the corresponding light receiving element 14B. In the case of this embodiment,
When the holder 14C is at the inspection position and emits a light beam L from the light emitting element 14A, the light receiving element 14B detects the presence of the wafer W if the light receiving element 14B receives the light beam L, and if the light receiving element 14B does not receive the light beam L, the wafer W The absence of W will be detected. Therefore, in this embodiment, the same operation and effect as those of the above embodiments can be expected.

【0027】上記各実施形態ではキャリア本体内の各ウ
エハに対応した発光素子及び受光素子を保持体に設けた
ものについて説明したが、本発明では、発光素子及び受
光素子を一対だけ保持体に設けると共に保持体の走査機
構を設け、保持体を下方から上方へ、あるいは上方から
下方へ走査する間にキャリア本体内のウエハを検出する
ようにしたものであっても良い。この場合には走査機構
を設けるため、保持体の駆動機構が複雑になる反面、一
対の発光素子及び受光素子を設けるだけで良いため、光
センサ部分の構成を簡素化することができる。また、保
持体14Cの駆動機構としてエアシリンダ14Eについ
て説明したが、エアシリンダ以外の駆動機構を用いても
良いことは云うまでもない。
In each of the above embodiments, the case where the light emitting element and the light receiving element corresponding to each wafer in the carrier main body are provided on the holder, but in the present invention, only the light emitting element and the light receiving element are provided on the holder only in a pair. In addition, a scanning mechanism for the holder may be provided to detect a wafer in the carrier body while scanning the holder from below to above or from above to below. In this case, since a scanning mechanism is provided, the driving mechanism of the holder becomes complicated. On the other hand, it is only necessary to provide a pair of light emitting elements and light receiving elements, so that the configuration of the optical sensor portion can be simplified. Further, although the air cylinder 14E has been described as a driving mechanism of the holding body 14C, it goes without saying that a driving mechanism other than the air cylinder may be used.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明の請求項1〜請求項5に記載の発
明によれば、ウエハ検出装置の設置スペースの削減を図
ってキャリア搬送の邪魔にならず、しかもキャリアの光
学的精度の出来具合に左右されることなくウエハの有無
を高精度で確実に検出することができるキャリア載置機
構を提供することができる。
According to the first to fifth aspects of the present invention, it is possible to reduce the installation space of the wafer detecting device so as not to hinder the carrier conveyance and to improve the optical accuracy of the carrier. It is possible to provide a carrier mounting mechanism that can reliably detect the presence or absence of a wafer with high accuracy without being affected by the condition.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明のキャリア載置機構の一実施形態を示す
図で、ウエハ検出装置を用いてキャリア本体内のウエハ
を検出する状態を示す要部断面図である。
FIG. 1 is a view showing one embodiment of a carrier mounting mechanism of the present invention, and is a cross-sectional view of a main part showing a state where a wafer in a carrier main body is detected by using a wafer detection device.

【図2】図1に示すウエハ検出装置の保持体がウエハの
検査位置まで上昇した状態をキャリア載置機構の内側か
ら見た正面図である。
FIG. 2 is a front view of a state in which a holder of the wafer detection apparatus shown in FIG. 1 has been raised to a wafer inspection position, as viewed from the inside of a carrier mounting mechanism.

【図3】図1に示したウエハ検出装置を取り出して要部
を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing a main part of the wafer detection device shown in FIG. 1 taken out.

【図4】図3に示すウエハ検出装置の発光素子及び受光
素子の動作を説明する動作説明図である。
4 is an operation explanatory diagram illustrating operations of a light emitting element and a light receiving element of the wafer detection device shown in FIG.

【図5】本発明のキャリア載置機構の他の実施形態の要
部を示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a main part of another embodiment of the carrier mounting mechanism of the present invention.

【図6】本発明のキャリア載置機構の更に他の実施形態
を示す図5に相当する平面図である。
FIG. 6 is a plan view corresponding to FIG. 5, showing still another embodiment of the carrier mounting mechanism of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 キャリア載置機構 11 キャリア載置台(載置部) 14 ウエハ検出装置(ウエハ検出手段) 14A 発光素子 14B 受光素子 14C 保持体 14E エアシリンダ(駆動機構) 14F 突起 W ウエハ L 光線 Reference Signs List 10 Carrier mounting mechanism 11 Carrier mounting table (mounting section) 14 Wafer detecting device (wafer detecting means) 14A Light emitting element 14B Light receiving element 14C Holder 14E Air cylinder (drive mechanism) 14F Projection W Wafer L Light beam

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体ウエハに所定の処理を施すために
複数の半導体ウエハをキャリア単位で載置部に載置する
キャリア載置機構において、上記載置部上のキャリア内
の各半導体ウエハを検出するウエハ検出手段を上記載置
部に設け、上記ウエハ検出手段は、上記半導体ウエハの
検出時にその両面を挟む位置にそれぞれ配置された発光
素子及び受光素子と、これら両素子を保持する保持体
と、この保持体を上記半導体ウエハを挟む位置と上記キ
ャリア外との間で駆動させる駆動機構とを有することを
特徴とするキャリア載置機構。
1. A carrier mounting mechanism for mounting a plurality of semiconductor wafers on a mounting unit for each carrier in order to perform predetermined processing on the semiconductor wafers, wherein each semiconductor wafer in the carrier on the mounting unit is detected. A wafer detecting means is provided on the mounting portion, and the wafer detecting means includes a light emitting element and a light receiving element which are respectively arranged at positions sandwiching both surfaces of the semiconductor wafer when detecting the semiconductor wafer, and a holder for holding both of these elements. A carrier mechanism for driving the holder between a position sandwiching the semiconductor wafer and the outside of the carrier.
【請求項2】 半導体ウエハに所定の処理を施すために
複数の半導体ウエハをキャリア単位で載置部に載置する
キャリア載置機構において、上記載置部上のキャリア内
の各半導体ウエハを検出するウエハ検出手段を上記載置
部に設け、上記ウエハ検出手段は、上記半導体ウエハの
検出時にその周面を挟む位置にそれぞれ配置された発光
素子及び受光素子と、これら両素子を保持する保持体
と、この保持体を上記半導体ウエハを挟む位置と上記キ
ャリア外との間で駆動させる駆動機構とを有することを
特徴とするキャリア載置機構。
2. A carrier mounting mechanism for mounting a plurality of semiconductor wafers on a mounting unit in carrier units in order to perform predetermined processing on the semiconductor wafers, wherein each of the semiconductor wafers in the carrier on the mounting unit is detected. A light-emitting element and a light-receiving element disposed at positions sandwiching a peripheral surface of the semiconductor wafer when the semiconductor wafer is detected, and a holder for holding both of these elements. And a drive mechanism for driving the holder between a position sandwiching the semiconductor wafer and the outside of the carrier.
【請求項3】 半導体ウエハに所定の処理を施すために
複数の半導体ウエハをキャリア単位で載置部に載置する
キャリア載置機構において、上記載置部上のキャリア内
の各半導体ウエハを検出するウエハ検出手段を上記載置
部に設け、上記ウエハ検出手段は、上記半導体ウエハの
検出時にその周面と対向する位置にそれぞれ配置された
発光素子及び受光素子と、これら両素子を保持する保持
体と、この保持体を上記半導体ウエハの検出位置と上記
キャリア外との間で駆動させる駆動機構とを有すること
を特徴とするキャリア載置機構。
3. A carrier mounting mechanism for mounting a plurality of semiconductor wafers on a mounting unit for each carrier in order to perform a predetermined process on the semiconductor wafer, wherein each semiconductor wafer in the carrier on the mounting unit is detected. A light-emitting element and a light-receiving element, each of which is disposed at a position facing a peripheral surface of the semiconductor wafer when the semiconductor wafer is detected, and a holding unit that holds both of these elements. A carrier mounting mechanism comprising: a body; and a drive mechanism for driving the holding body between a position where the semiconductor wafer is detected and the outside of the carrier.
【請求項4】 上記保持体は上記各半導体ウエハに対応
する発光素子及び受光素子を有することを特徴とする請
求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のキャリア載置
機構。
4. The carrier mounting mechanism according to claim 1, wherein the holder has a light emitting element and a light receiving element corresponding to each of the semiconductor wafers.
【請求項5】 上記駆動機構は上記発光素子及び受光素
子を上記各半導体ウエハ間で走査する走査機構を有する
ことを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に
記載のキャリア載置機構。
5. The carrier mounting apparatus according to claim 1, wherein the driving mechanism has a scanning mechanism for scanning the light emitting element and the light receiving element between the semiconductor wafers. Mounting mechanism.
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